JP3986438B2 - 原子遊離型水溶液生成装置、原子遊離型水溶液生成方法及び原子遊離型水溶液 - Google Patents

Description

技術分野
本発明は、機能水の生成装置、生成方法及びその生成方法により生成された機能水に関する。
背景技術
「水」には、その性質や製法により色々な種類があり、それぞれの特性や機能に応じて、様々な方法により製造され使用されている。主なものとして、通常の飲料水、工業用水の他、純水、機能水等がある。
純水は、水の中の不純物を出来るだけ取り除いて純度を向上させた水である。生成は、濾過、脱気、イオン交換等により溶解している塩類、有機物、微粒子、菌類、溶存ガス、イオン類を取り除くことにより行う。純水は、主な用途は、半導体プロセスでの各種洗浄液、薬品の溶媒、原子力プラントでの循環水、医用製薬での洗浄・製造用、病院において薬剤調合・手術用などである。
機能水は、主に通常の飲料水に様々な処理を施し、その水の特性を変化させた水である。処理の方法としては、磁気的処理方法、電気的処理方法、物質添加処理方法、物質除去処理方法などがある。純水は、物質除去処理方法による機能水の一種ともいえる。
電気的処理方法の例として、アルカリイオン水がある。アルカリイオン水とは、水道水を前処理後に電気分解した時、その陰極側から得られるアルカリ性の電気分解水のことであり、ＯＨ⁻イオンを多く含み、ｐＨは約１０程度である。生体におけるカルシウムの吸収促進や腸内細菌の活性化等、生体活動向上に効果があるとされている。
磁気的処理方法の例として、磁気処理水がある。図８にその製法の概略を示す。磁気処理装置は、磁気処理管１０１、磁石１０２、磁石１０３を具備する。水は、濾過、脱塩素処理等の前処理の後、磁気処理管１０１へ入る。磁気処理管１０１には、２つの磁石１０２及び１０３が平行して存在する。水は、それら磁石の間の空間を通過することにより、磁気処理される。この磁気処理水により育成された植物は、通常よりも成長が早くなる、磁気処理水を使用したコンクリートは強度が向上する等の効果が報告されている。
物質添加処理方法の例として、ミネラル添加水がある。マグネシウムやカルシウム等のイオンを増量した水である。方法は、コーラルサンド（珊瑚の一種：主成分は炭酸カルシウム）等を含むフィルターに水を通すことにより、水にミネラル分を吸収させる方法である。ミネラルは生体に必要であり、かつ、水をおいしくする効果もあるとされている。
発明の開示
従って、本発明の目的は、殺菌・消毒作用を有する水又は水溶液の生成装置及び生成方法を提供することである。
本発明の別の目的は、機器設備に対する強い洗浄力を有する水又は水溶液の生成装置及び生成方法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、活性水素を豊富に含む水又は水溶液の生成装置及び生成方法を提供することにある。
本発明の更に別の目的は、生物の育成に有効に作用する水又は水溶液の生成装置及び生成方法を提供することである。
本発明の更に別の目的は、生物の蘇生力の向上に有効に作用する水又は水溶液の生成装置及び生成方法を提供することにある。
従って、上記課題を解決するために、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、水を導入する導入口と、前記水の塩素化合物を分解して第１水を生成する脱塩素処理部と、前記第１水に磁場を印加する処理を施した第２水を生成する磁気処理部と、前記第２水に放射線を照射する処理を施した第３水を生成する放射線処理部と、前記第３水とイオン交換する処理を施した第４水を生成するイオン交換部と、前記第４水に高電界を印加する処理を施した第５水を生成する電界印加部（図１、５）と、前記第５水を取り出し可能な第５水取出口とを具備する。
また、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、水を導入する導入口と、前記水の塩素化合物を分解して第１水を生成する脱塩素処理部と、前記第１水に磁場を印加する処理を施した第２水を生成する磁気処理部と、前記第２水に放射線を照射する処理を施した第３水を生成する放射線処理部と、前記第３水とイオン交換する処理を施した第４水を生成するイオン交換部と、前記第４水に高電界を印加する処理を施した第５水を生成する電界印加部と、前記第５水に酸素を添加する処理を施した第６水を生成する酸素添加部と、前記第６水を取り出し可能な第６水取出口とを具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、前記磁気処理部が、前記第１水を流す磁気処理管と、前記磁気処理管を挟んで、異なる種類の磁極を前記磁気処理管へ向けて向い合い、互いに離れて設置された、複数の組の磁石とを具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、前記放射線処理部が、自身を通過する前記第２水に効率良く放射線が照射されるように放射線物質を含む材料を有する鉱石セラミック層と、前記鉱石セラミック層を保持するセラミック充填容器とを具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、前記放射線処理部が、前記鉱石セラミック層が、前記鉱石セラミック層を通過する前記第２水に効率良く遠赤外線が照射されるように遠赤外線を発する材料とを更に具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、前記電界印加部が、前記第４水中で、コロナ放電を行なう。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、前記酸素添加部が、前記第５水中で、酸素を泡状にして前記第５水に添加するバブラーを具備する。
上記課題を解決するために、本発明の原子遊離型水溶液生成方法は、水の塩素化合物を分解して得られる第１水を生成するステップと、前記第１水に磁場を印加する処理を施して得られる第２水を生成するステップと、前記第２水に放射線を照射する処理を施して得られる第３水を生成するステップと、前記第３水とイオン交換する処理を施して得られる第４水を生成するステップと、前記第４水に高電界を印加する処理を施して得られる第５水を生成するステップとを具備する。
また、本発明の原子遊離型水溶液生成方法は、前記第５水に酸素を添加する処理を施して得られる第６水を生成するステップとを更に具備する。
また、本発明の原子遊離型水溶液生成方法は、前記第２水を生成するステップが、前記第１水に、方向の違う磁場を交互に与えるステップとを具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成方法は、前記第３水を生成するステップが、前記第２水に放射線及び遠赤外線が、同時に、３ｍｍ以下の粒径の鉱石により照射されるステップとを具備する。
更に、本発明の原子遊離型水溶液生成方法は、前記第５水を生成するステップが、前記第４水中で、コロナ放電を行なう。
上記課題を解決するために、本発明の原子遊離型水溶液は、酸化還元電位が、９８０ｍＶ以上である。
また、本発明の原子遊離型水溶液は、ｐＨは、概ね６である。
発明を実施するための最良の形態
本発明である原子遊離型水溶液生成装置の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、水の酸素と水素等の原子成分を、自然界の環境に近い状態で分離・遊離させながら、水自身の界面活性効果（洗浄力）や活性酸素効果（殺菌力）、活性水素効果（蘇生力）を引き出させた従来の水とは異なる水である「原子遊離型水溶液」の生成システムである。
まず、原子遊離型水溶液について説明する。
自然界には、高い洗浄力や殺菌力、蘇生力を有する様々な機能水が存在する。これらの機能水が自然界において形成される過程は、以下のような５つの段階を経て完成されると考えられる。
第１段階：雨水等は、大気中や地中の不純物や有機物を多分に含んでいる。それらは地上に降り注ぎ、やがて地下へ浸透する。その過程において、水は、自然界の土壌により濾過されると共に、土壌中の鉱物からミネラルを吸収し、ミネラル水となる。
第２段階：ミネラル水として地中深く貯えられた水は、地中の鉄鉱石等の鉱物や地磁気等による磁力により原子遊離が起き、原子が活性化され、ラジカルや活性水素等を含むようになる。
第３段階：活性化された水は、地中の放射性元素を含む天然石等の自然界による放射線や遠赤外線により原子の遊離や活性化が促進され、活性水素やその他のラジカルを多く含むようになる。そして、更なるミネラル吸収を行い、活性水素等やミネラルを多く含有した自然水となる。
第４段階：活性水素等やミネラルを多く含有した自然水となった水は、地下深くから地表に向かい涌き出る。この時、土壌の濾過作用によりミネラル分が調整され、あるものはミネラルが豊富に含まれた水となり、あるものは、ミネラルが少ない水となる。
第５段階：地表に涌き出たそれらの水は、あるものは大気中のオゾン等を吸収して高い洗浄力や殺菌力を有し、あるものは活性水素等による蘇生力を有する自然水となる。
従って、上記５つの段階は、原則的には、その順番で、連続的に、全て実行されることが、自然界の「機能水」を生成する為に望ましいと考えられる。そこで、上記５つの段階を人工的に作り出し、それらの段階を経た機能水を生成することができれば、非常に機能的な水となることが予測される。そのような水を「原子遊離型水溶液」と呼ぶ（以下「本水溶液」という）。本水溶液は、通常の水とは、成分やその状態（活性水素等の各成分量や各分子がモノマーの状態である等）が異なることから、敢えて水溶液と呼んでいる。上記５つの自然界段階を経て生成されることから、極めてエコロジカルな方法により生成された機能水であると理解される。
本発明の原子遊離型水溶液生成装置は、上記５つの段階を人工的に作り出し、その順番で連続的に全て実行することにより、本水溶液（原子遊離型水溶液）を生成できる装置である。本装置により、高い洗浄力や殺菌力を持った水や、蘇生力を持った水等を生成することが出来る。
なお、上記５つの段階を経た本水溶液に、酸素を添加する第６のプロセスを加えると、本水溶液中での酸素移動が活発化される。それにより、洗浄力や殺菌力が更に向上した水や、蘇生力が更に向上した水等を生成することが出来る。
（実施例１）
次に本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第１の実施の形態における構成について、図１〜６を用いて詳細に説明する。
図１は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第１の実施の形態の構成図である。原子遊離型水溶液生成装置８は、脱塩素処理部１、磁気処理部２、放射線処理部３、イオン交換部４、電界印加部５、導入口６、第１〜第５水取水口７−１〜５、入口弁９−１〜５、出口弁１０−１〜５を備える。
水道水等の水が導入口６から本装置内に導入され、脱塩素処理部１から順に、脱塩素処理（１）−磁気処理（２）−放射線処理（３）−イオン交換処理（４）−電界印加処理（５）を施され、第５水取水口７−５より本水溶液として取出される。
脱塩素処理部１は、入口弁９−１を介して導入口６と配管で接続されている。そして、図２に示すように、配管で接続された脱塩素部１０及びフィルター１１を具備する。
フィルター部１１は、導入口６（後述）からの配管及び脱塩素部１２への配管が接続されている。不織布のフィルター材が充填され、濾過により水中の比較的大きな鉄錆等のごみを取り除く。脱塩素部１２は、亜硫酸カルシウム又は亜硫酸カルシウムを含むペレット（直径２．５ｍｍφの球状）が内部に充填されている。そして、亜硫酸カルシウムを用いて、フィルター部１１を通過した水の中に含まれている塩素化合物を還元処理する。
ただし、亜硫酸カルシウムと同等の塩素除去能を有するフィルターでも良い。この様なフィルターとしては、活性炭フィルター、中空糸フィルター等が例示される。ここで、塩素除去能とは、水中の塩素分子を無くす能力である。
磁気処理部２は、出口弁１０−１及び入口弁９−２を介して脱塩素処理部１と配管で接続されている。図３（ａ）に示すように、磁石１３及び磁気処理管１４を具備し、磁気処理管１４内に水を流すことにより、水に対して磁気処理を行う。磁気処理管１４は、配管が接続されている磁気処理管端部１４−１と磁気処理管処理部１４−２とから成る。
磁石１３（１３−１〜３、１３−１’〜３’）は、一つにつき１２、０００ガウスの磁力を示す。磁石１３の断面として、代表して磁石１３−１の断面を図３（ｃ）に示す。磁石１３−１は、永久磁石１３−１−ａとコア１３−１−ｂとからなる。コア１３−１−ｂは、磁石１３の磁場の方向性を強める作用があり、磁石１３−１−ａ側が鉄、その外側が鉛である２層構造である。磁石１３は、磁気処理管処理部１４−２を挟んで両側に位置し（例えば、１３−１と１３−１’）、管内に水が流れる方向に沿ってそれぞれ３個づつ合計６個並んでいる。磁石磁気処理管処理部１４−２を挟んで向かい合う磁石１３同士（例えば、１３−２と１３−２’）あるいは隣り合う磁石１３同士（例えば、１３−１と１３−２）は、それぞれ相反する磁極を磁気処理管処理部１４−２へ向けている。磁石１３は、図３（ａ）では、永久磁石であるが、電磁石を使用しても良い。その場合、「磁気処理管処理部１４−２を挟んで向かい合う磁石１３同士あるいは隣り合う磁石１３同士が、それぞれ相反する磁極を磁気処理管処理部１４−２へ向ける」という磁場印加条件を維持しつつ、交流磁界をかけることで、低い磁界でも大きな効果が得られる。
磁気処理管１４は、図３（ａ）に示すように、磁気処理管端部１４−１が、他の配管と接続する為に太くなっているが、磁気処理を行う磁石磁気処理管処理部１４−２は、薄くなっている。その断面は、図３（ｂ）に示すように、ａ×ｂの大きさである。ａは薄く、磁石磁気処理管処理部１４−２に流れる水が、出来るだけ強い磁場の作用を受けられるようにしている。ｂは、磁石１３の横幅ｃ（水の流れる方向と垂直な方向の磁石の幅）と同程度又はそれ以下で、より好ましくは、ｃの大きさより小さい。磁石１３の磁場を管内の水に、より均一に作用させるためである。隣り合う磁石１３同士の距離ｄ（例えば１３−１と１３−２との間の距離）は、基本的には０で良いが、より好ましくはａと同程度とし、隣接する磁石１３と少し離して置く。磁石磁気処理管処理部１４−２を挟んで向い合う磁石１３同士（例えば１３−２と１３−２’）が向い合う磁極間で作り出す磁場に対する、隣りの磁石１３（例えば１３−２における１３−１）の影響を抑える為である。なお、離しすぎると水に磁場が印加されない領域が広くなるので、離し過ぎないようにする。
本実施例では、ａ＝３ｍｍ、ｂ＝２ｃｍ、ｃ＝２ｃｍ、ｄ＝３ｍｍである。また、磁石磁気処理管処理部１４−２の長さは２０ｃｍである。管は、非磁性体材料（例えばオーステナイト系ステンレスやアルミニウム、樹脂）製であり、本実施例では内部はオーステナイト系ステンレスＳＵＳ３０４、外部はアルミニウム合金を使用している。また、処理水量に応じて、磁石１３及び磁気処理管１４の組を前述の磁場印加条件を満たす並べ方で、複数並列に上下又は左右に並べることも可能である。
放射線処理部３は、水を放射線等で処理するところである。その入口側は、出口弁１０−２及び入口弁９−３を介して配管で磁気処理部２と接続している。
図４に示すように、セラミック充填容器１５内の入口及び出口に、フィルター材を入れたフィルター層１５−２を、その間に、放射線を放射する天然鉱石、遠赤外線を放射する天然鉱石及び焼成したセラミックの３種類の粉砕物を混合した鉱石セラミック層１５−１を有している。
入口及び出口側のフィルター層１５−２は、不織布、濾紙等のフィルターを使用するが、本実施例ではポリエステル系の不織布である。鉱石セラミック層１５−１からの各材料の流出防止用である。また、入ってきた水を、水の通過方向と垂直方向の放射線処理部３の断面全体に一様に広げるための物でもある。鉱石セラミック層１５−１は、天然トリウム・ウランを含む天然鉱石（本実施例では、ジルコンを使用）が放射線処理用、遠赤外線を放射する天然鉱石（本実施例では、電気石を使用）が遠赤外線処理用である。また、焼成したセラミックは、アルミナ及びシリカを用いている。放射性物質を含む天然鉱石と遠赤外線を照射する天然鉱石と焼成したセラミックとの比はおよそ３：３：４である。
鉱石セラミック層１５−１では、水へ効率良く放射線及び遠赤外線を照射する必要がある。その為に、次のような各鉱石を使用することが考えられる。▲１▼１度細かく粉砕した後、多孔体になるように焼成したもの。多孔体にするには、粉砕した材料を緩く成形して焼成する。又は、粉砕した材料にポアーフォーマー（ある種の有機材料）を入れて混合し、それを成形して焼成する（有機材が燃焼しＣＯ_２が発生して焼成体から抜けるときポア（孔）を形成）。▲２▼細かく粉砕して、小粒子状にしたもの。粒子の直径は５ｍｍ以下で、より好ましくは２ｍｍ以下である。
▲１▼の場合、多孔体の鉱石は、同程度の外形の通常の鉱石に比較して表面積が著しく大きくなる。従って、多孔体の鉱石の微細な孔中を水が透過する際、水が非常に効率良く鉱石に接触する。すなわち、放射線及び遠赤外線の効果をより強く享受することが可能となる。
▲２▼の場合、小粒子状の鉱石の集合体は、集合体と同容積の通常の鉱石に比較して表面積が著しく大きくなる。従って、小粒子状の鉱石の集合体中を水が通過する際、水が非常に効率良く鉱石に接触する。よって、放射線及び遠赤外線の効果をより強く享受することが可能となる。
また、▲１▼及び▲２▼に共通して、鉱石セラミック層１５−１を水が透過するとき、濾過、吸着が起き、水中の不純物の除去が可能となる。
ただし、狭い空間（多孔体の孔、小粒子集合体中の粒子間）に水を通過させようとすると、その通過量が制限されるため、水の処理速度が著しく低下する。従って、本実施例においては、▲１▼及び▲２▼の技術を使用しつつ、水の処理速度との関係も考慮して、以下の材料を使用する。放射性物質を含む天然鉱石については、粒径〜４ｍｍ程度の粉砕された鉱石を使用する。遠赤外線を放射する天然鉱石については、鉱石を細かく粉砕後に焼成した、大きさが粒径〜４ｍｍ程度の多孔体を使用する。
そして、セラミック充填容器１５内での、それらの鉱石を保持するため、粒径〜４ｍｍ程度のセラミックを鉱石と一緒に充填する。各鉱石及びセラミックの粒径を同程度にするのは、均一に充填する為である。
これにより、水処理速度を確保しつつ、効率良く放射線及び遠赤外線を水へ照射することが可能である。
セラミック充填容器１５を充分大きく取れる場合や、処理する水量が少ない場合には、前述の▲１▼又は▲２▼の技術を全面的に適用することが可能となる。すなわち▲１▼の場合、セラミック充填容器１５全体を占めるように一つの多孔体を使用する。▲２▼の場合、非常に細かく粉砕した鉱石を使用する。水の処理量は落ちるが、放射線及び遠赤外線の照射が非常に効率的になされることになる。また、非常に小さい微粒子の多孔体を用いることで、▲１▼及び▲２▼の効果を相乗的に発揮させるとも可能である。
なお、放射線処理部３に含まれる放射性物質の放射線濃度は、原料段階で、３７０ベクレル／ｇ以下である。そして、装置使用者が１年間装置を取り扱っても、被曝する放射線の線量当量は年間１ｍＳｖ未満となる量に調整されている。放射性物質は、フィルター層１５−２により外部へ流出しないように抑えらている。なお、放射線処理部３は、全体が着脱容易な容器となっており、新品への交換が簡単に出来る。
イオン交換部４は、出口弁１０−３及び入口弁９−４を介して入口側が、放射線処理部３に配管で接続している。図５に示すように、イオン交換樹脂充填部１６（陽イオン交換部１６−１及び陰イオン交換部１６−２）を有し、配管で接続している。水中の不純物陽イオン（Ｎａ^＋、Ｃａ^２＋、等）、及び、不純物陰イオン（Ｃｌ⁻、Ｆ⁻等）を除去する。それぞれに、陽イオン交換樹脂及び陰イオン交換樹脂が充填されている。上記効果が得られる限り、樹脂の形状、又は膜型の応用等、方法や手段は問わない。
電界印加部５は、入口側が、配管でイオン交換部４に接続しており、出口側が第５水取出口７−５に接続している。
図６に示すように、放電部２０、電源部２１、陽極側出口弁２２、陰極側出口弁２３、排出弁２４を有する。放電部２０は、隔膜１７、陽極１８、陰極１９、を備える。隔膜１７を中心に左右に陽極１８及び陰極１９を設けて水を流し、水中で放電を行う。隔膜１７は、電極で反応した生成物の相互拡散を抑制する為のものである。本実施例では、高分子膜であるフッ素系樹脂を使用している。陽極１８及び陰極１９は、内部の水に対して電界をかけるための電極である。コロナ放電が行ないやすいように双方の電極が細い棒状に平行に置かれている。また、双方の電極が平行に櫛型をしているものや、片方の電極が円筒状であり他方の電極が円筒の中心線上に棒状にあるものでも良い。本実施例では、電極材としてクロム合金をチタンめっきしたものを使用している。電源部２１は、陽極１８及び陰極１９に電界をかけるための電源であり、導体線で陽極１８及び陰極１９に接続されている。通常は直流高電圧を印加するが、電源は交換可能であり、交流電圧を印加する事も可能である。
導入口６は、装置外部の水道等から水を導入するための入口の弁である。配管を接続し易いように各種の接合継ぎ手を取り付ける形にする事が可能である。第１取水口７−１は、脱塩素処理部１の処理を施された水（以下、「第１水」という）を取出す為の取水口の弁である。第２取水口７−２は、磁気処理部２の処理を施された水（以下、「第２水」という）を取出す為の取水口の弁である。第３取水口７−３は、放射線処理部３の処理を施された水（以下、「第３水」という）を取出す為の取水口の弁である。第４取水口７−４は、イオン交換部４の処理を施された水（以下、「第４水」という）を取出す為の取水口の弁である。第５取水口７−５は、電界印加部５の処理を施された水（以下、「第５水」という）を取出す為の取水口の弁である。これらの導入口、取水口は、手動又は自動（電磁弁など）で開閉を行う。
入口弁９−１及び出口弁１０−１は、脱塩素処理部１の入口及び出口の弁である。入口弁９−２及び出口弁１０−２は、磁気処理部２の入口及び出口の弁である。入口弁９−３及び出口弁１０−３は、放射線処理部３の入口及び出口の弁である。入口弁９−４及び出口弁１０−４は、イオン交換部４の入口及び出口の弁である。入口弁９−５及び出口弁１０−５は、電極印加部５の入口及び出口の弁である。これらの入口弁及び出口弁は手動又は自動（電磁弁など）で開閉を行う。
次に本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第１の実施の形態の動作について、図１〜図６を用いて詳細に説明する。
図１を照して、まず、水道等が水源として導入口６に接続されている。そして、本水溶液を製造するに当たり、第１水〜第５水のどの水が必要化を考え、必要な入口弁、出口弁及び取水口を開ける。本実施例では第５水を取水するものとする。次に、導入口６を開き水を導入する。
水はまず、脱塩素処理部１に入る。図２を参照して、水はフィルター部１１に入り、比較的大きいごみを取り除かれ、脱塩素部１２へ入る。
水道水中には、消毒のため塩素が添加されている。添加された塩素は、水中において次亜塩素酸及び塩化水素と平衡状態に有り、溶解している。脱塩素部１２においては、亜硫酸カルシウムを含むペレットが水流により適量溶出し、次亜塩素酸及び塩素を分解し、塩素イオンとする。塩素イオンは、後段のイオン交換部４で除去される。
ただし、亜硫酸カルシウムと同等の塩素除去能を有するフィルターを用いる場合、フィルターは、水中の塩素を吸着除去することにより、塩素のイオン化を促進する。
その段階の水（第１水）は、ごみが除去されているものの、塩素イオンやミネラル等を含んでいる。ミクロに見れば、水分子同士がクラスター（（Ｈ_２Ｏ）_ｎ）を形成している。水分子同士は、結合・離散を繰り返し、ダイナミックにランダムに変化している。クラスターの形状として、最も多いのが、水分子中の酸素原子が正四面体の頂点及び重心に位置するペンタマ（５員体）である考えられる。
脱塩素処理部１から出た水（第１水）は、磁気処理部２へ入る。
図３を参照して、扁平形状の磁気処理管１４は、平たい空間であり、そこに高磁場（２４、０００ガウス×３組＝７２、０００ガウス）を加えている。その空間を水（第１水）が通過すると、磁石１３の配置によって、上向きと下向きという逆向きの磁力を交互に受けることにる。電荷の偏りのある水分子は、その磁力により電磁誘導作用により影響を受けるため、水分子同士の衝突回数及び衝突のエネルギーが高めるられると予測される。その結果、クラスターが分解し、水分子の微視的な濃度の偏りが少なくなると考えられる。また、元々水分子中の水素原子は周囲の酸素原子と結合・離散を繰り返し、ダイナミックにランダムに変化しているが、電磁誘導作用の影響により、そのランダムな変化が一部途中で切られて、水分子自身の分解も起きると思われる。
この段階の水（第２水）は、高磁力を受け水分子はモノマーとなり、同時に一部は活性水素（ＯＨ⁻、Ｈ^＋、・Ｈ）等であると予測される。
磁気処理部２から出た水（第２水）は、放射線処理部３へ入る。
図４を参照して、放射線処理部３では、フィルター層１５−２において濾過されつつ水が広がり、容器側面部まで水が行き渡る。そして、放射線を放射するジルコン及び遠赤外線を放射する電気石を多く含む鉱石セラミック層１５−１において、放射線及び遠赤外線の照射を受ける。それらの効果により活性水素等を含む短寿命活性種やラジカルを多く有する水となると考えられる。水中で起きている反応として、例えば以下のようなものが考えられる。水は、放射線による光電効果あるいはコンプトン効果によりＨ_２Ｏ^＋とｅ⁻（電子）とに電離する。ｅ⁻は水分子と反応してｅ−ａｑ（水和電子）となる。一部のＨ_２Ｏ^＋は水分子と反応してＨ_３Ｏ^＋及び・ＯＨ（ラジカル）となる。そしてｅ−ａｑと・ＯＨが反応し・ＯＨ⁻（活性水素）となる。他の一部は蛍光を発しＨ_２Ｏに戻る。
放射線を水分子に照射して電離を試みる際、通常水分子のクラスターによる表面張力により、エネルギーは高出力を必要とする予測される。しかし、本発明であれば、この時点の水（第２水）の分子は単分子化あるいはラジカル化していると考えられ、放射能の低い放射性物質を使用しても高い効果が期待できる。各鉱石は表面積が大きく、水とより効率的に接触できることも、高い効果に結びつくと予想される。
また、フィルター層及び各種天然鉱物やセラミックを含む層は、フィルターとしての機能を持ち、水中の不純物を低減させる効果もある。
この段階の水（第３水）は、放射線により一部は単一分子が電離を起こし活性水素等を含む短寿命活性種やラジカルになると思われる。それら短寿命活性種等の水中での割合は第２水より増加すると予測される。
放射線処理部３から出た水（第３水）は、取水の必要があれば第３取水口７−３から取水される。この段階での水は、活性水素等を含む短寿命活性種あるいはラジカルを多く含んでいると考えられ、かつ、ミネラル分を取り除いていない為、生物の蘇生力の向上に有効な水となっていると予想される。すなわち、生物の育成等に有効であると思われる。
放射線処理部３から出た水（第３水）は、イオン交換部４へ入る。
図５を参照して、水は、まず陽イオン交換部１６−１の陽イオン交換樹脂により、ミネラル等の陽イオンが除去される。次に、陰イオン交換部１６−２の陰イオン交換樹脂により、塩素等の陰イオンが除去される。この時点の各不純物の活性は磁界および放射線により上昇しているので、通常のイオン交換による置換作用よりも効果的に作用すると考えられる。
この段階の水（第４水）は、イオン交換により、Ｍｇ，Ｃａ，Ｎａ、Ｚｎ、Ｆｅ，Ｃｕ、Ｃｌ、Ｆ等の不純物が除去されている。更に、この水は、活性水素等の短寿命活性種あるいはラジカルを多く含み、モノマーの水分子で構成されていると思われる。
この水はミネラル分を含まないが、活性水素等の短寿命活性種及びラジカルを多く含み、モノマーの水分子で構成され、生物に吸収され易く、蘇生力があると考えられ、生物の育成に有効であると思われる。
イオン交換部４から出た水（第４水）は、電界印加部５へ入る。
図６を参照して、電界印加部５では放電部２０において、水は高電圧を印加される。高電圧は水中の陽極１８と陰極１９との間に加えられる。そして陽極１８で処理された水を本水溶液（第５水）として取出す。
本水溶液は、第４水の段階では活性種はＯＨ⁻、Ｈ^＋、・Ｈなど（活性水素）のみとなり、電荷を持った純水の状態と想定され、ミネラル等の不純物は含まないと考えられる。ここでコロナ放電を施すことで、高圧・高電界によるオゾン効果により、水が酸化されＨ_２Ｏ_２が生成すると考えられる。一部はＯＨとなり、第４水にて存在しているＯＨと結合しＨ_２Ｏ_２となると予測される。また他の一部は、活性酸素を生成すると思われる。
第４水は、活性水素等の短寿命活性種及びラジカルを多く含んだ、モノマーの水分子で構成された水であると考えられるので、コロナ放雷の効果は、通常の水のコロナ放電の場合に比べ各段に大きいと思われる。
この段階の水（第５水）である本水溶液は、単分子化された分子により形成され、活性なＨ_２Ｏ_２（過酸化水素水）及び活性酸素を含む水（水溶液）と考えられる。すなわち本水溶液は、過酸化水素水及び活性酸素を含みクラスターを持たず強い殺菌力・消毒力があり、各種洗浄等に有効であると考えられる。
こうして生成された本水溶液（第５水）について、殺菌効果を調べる為に、以下のような試験を行なった。
試験に使用した菌は、大腸菌、緑膿菌、メチシリン耐性黄色ブドウ球菌、ヘリコバクター・ピロリ菌、スタヒロコッカス・エピデルニルス菌である。これらを生理食塩水に溶かし、菌濃度を１０^７個／ｍｌ溶液とし、試験に使用した（以下「試験用菌液」という）。また、０．９％生理食塩水を用いて本水溶液（第５水）を希釈し、本水溶液（第５水）の４ｐｐｍ溶液を生成し、試験対象の消毒液とした（以下「本消毒液」という）。
試験方法は、まず、本消毒液を５ｍｌ採取し、試験用菌液を１ｍｌ添加する。その後、１０秒、６０秒、５分毎に１００μｌを採取する。採取した液に、本消毒液の効果を中和する為に、０．５％チオ硫酸ナトリウム９００μｌを添加する。そして中和後の溶液を１００μｌ採取し、寒天培地へまき１日間培養する（ヘリコバクター・ピロリ菌は１週間）。培養された培地のコロニーの数を数え、本水溶液の効果とする。
また、たんぱく質に対する効果としては、以下のような試験とする。
まず、たんぱく質として、アルブミン１００μｌを用意する。次に、本消毒液をそれぞれ４．９ｍｌ取り、そこに、アルブミンを添加する。その後、１０秒、６０秒、５分毎に１００μｌを採取する。採取した液に本消毒液の効果を中和する為に、０．５％チオ硫酸ナトリウム９００μｌを添加する。そして、中和後の溶液を１００μｌ採取し、寒天培地へまき、１日間培養する。培養された結果、たんぱく質が完全に分解された時間により、本水溶液（第５水）の効果とする。
上記の結果、全ての試験用菌液において、本消毒液に試験用菌液を添加してから１０秒後の採取液にるいて、培地のコロニーは全く観察されなかった。また、たんぱく質についても、分解しており検出されなかった。すなわち、本水溶液（第５水）の４ｐｐｍ生理食塩水を用いると、試験用菌液の各菌及びたんぱく質は全て死滅し、殺菌力及び洗浄力があることが判明した。従って、本水溶液（第５水）は、わずか４ｐｐｍで殺菌効果があり、非常に強力な殺菌洗浄液と成ることが分かる。
本発明において、図６を参照して、前段階の第４水が活性種がＯＨ⁻、Ｈ^＋、・Ｈなど（活性水素）のみの純水と想定されるので、電界印加部５の陰極１９で処理された水は、更に活性水素が増加していると予測される。従って、活性水素等の短寿命活性種あるいはラジカルを第３水あるいは第４水よりも多く含んだ水（水溶液）と成ると考えられる。すなわち、生物の蘇生力の向上に有効な水となると思われる。
（実施例２）
次に、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第２の実施の形態における構成について、図２〜図６、図８、図９を用いて詳細に説明する。
図８は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第２の実施の形態の構成図である。原子遊離型水溶液生成装置３８は、脱塩素処理部３１、磁気処理部３２、放射線処理部３３、イオン交換部３４、電界印加部３５、酸素添加部４３、導入口３６、第１〜第六水取水口３７−１〜６、入口弁３９−１〜６、出口弁４０−１〜６、酸素供給部４２、調整部４１を備える。
本実施例では、実施例１において得られる原子遊離型水溶液に、酸素を添加する第６のプロセスを加える点が、実施例１と異なる。酸素添加により、本水溶液（実施例２中では酸素添加を行なった後の原子遊離型水溶液を本水溶液と呼ぶこととする）中での酸素移動が活発化される。それにより、本水溶液は、洗浄力や殺菌力、蘇生力を、更に、向上することが出来る。
水道水等の水が導入口３６から本装置内に導入され、脱塩素処理部３１から順に、脱塩素処理（３１）−磁気処理（３２）−放射線処理（３３）−イオン交換処理（３４）−電界印加処理（３５）−酸素添加（３６）を施され、第六水取水口３７−６より本水溶液として取出される。
原子遊離型水溶液生成装置３８において、脱塩素処理部３１、磁気処理部３２、放射線処理部３３、イオン交換部３４、電界印加部３５、導入口３６、第１〜第５水取水口３７−１〜５、入口弁３９−１〜５、出口弁４０−１〜５は、それぞれ、実施例１の脱塩素処理部１、磁気処理部２、放射線処理部３、イオン交換部４、電界印加部５、導入口６、第１〜第５水取水口７−１〜５、入口弁９−１〜５、出口弁１０−１〜５と同様であるので、その説明を省略する。
酸素添加部４３は、出口弁４０−５及び入口弁３９−６を介して電界印加部３５と配管で接続されている。図９に示すように、ガス混合部４３−１及びバブラー４３−２を具備する。
バブラー４３−２は、酸素供給部４２から調整部４１経由で送られてくるガスを、細かい多数の泡状にして、ガス混合部４３−１内へ噴出す。泡の大きさは、ガスの圧力及び流量により調整が可能である。調整部４１側に、必要に応じて逆流防止弁を有する。
ガス混合部４３−１は、第５水に酸素を混ぜ合わせ、添加する容器状の室である。本実施例では、配管よりも直径の大きい円筒状の容器、あるいは、直方体形状の容器である。容器内部へは、第５水が流れ込み、容器をほぼ満たしている。その第５水は、バブラー４３−２から発生する泡（酸素）により、酸素を添加される。
調整部４１は、酸素供給部４２から供給される酸素ガスの圧力及び流量を調整する。マスフロー４１−１及び調圧弁を具備する。
調圧弁４１−２は、一方を酸素供給部４２に、他方をマスフロー４１−１に接続している。調圧弁４１−２は、酸素供給部４２から供給される高圧の一次圧を有する酸素ガスを、低圧の二次圧（マスフロー４１−１の使用可能圧）に変換する調圧弁である。調圧弁の種類により、一次圧及び二次圧は、自在に選択可能である。
マスフロー４１−１は、一方を調圧弁４１−２に、他方をバブラー４３−２に接続している。マスフロー４１−１は、調圧弁四１−２で調圧された酸素ガスを、所望の流量で送出する。
酸素供給部４２は、調整部４１に接続している。そして、酸素添加部４３へ調整部４１を介して酸素を供給する。例えば、高純度の酸素ガス、あるいは、本原子遊離型水溶液生成装置３８が設置してある施設のユーティリティ酸素などである。本実施例では、医療用の高純度酸素ガスボンベ（純度９８％）である。
導入口３６は、装置外部の水道等から水を導入するための入口の弁である。配管を接続し易いように各種の接合継ぎ手を取り付ける形にする事が可能である。第１取水口３７−１〜第５取水口３７−５は、それぞれ、実施例１で述べた第１水〜第５水を取出す為の取水口の弁である。また、第６取水口３７−６は、酸素添加部４３の処理を施された水（以下、「第６水」という）を取出す為の取水口の弁である。これらの導入口、取水口は、手動又は自動（電磁弁など）で開閉を行う。
入口弁３９−１〜３９−５及び出口弁４０−１〜４０−５は、それぞれ脱塩素処理部３１〜電界印加部３５の入口及び出口の弁である。また、入口弁３９−６及び出口弁４０−６は、酸素添加部４３の入口及び出口の弁である。これらの入口弁及び出口弁は手動又は自動（電磁弁など）で開閉を行う。
次に本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第２の実施の形態の動作について、図２〜図６、図８、図９を用いて詳細に説明する。
図８を照して、水道等が水源として導入口３６に接続されている。そして、本水溶液を製造するに当たり、第１水〜第６水のどの水が必要化を考え、必要な入口弁、出口弁及び取水口を開ける。本実施例では第６水を取水するものとする。次に、導入口３６を開き水を導入する。
水は、脱塩素処理部３１に入る。ここで、脱塩素処理部３１から電界印加部３５までの動作は、実施例１と同様であるので、その説明を省略する。
なお、電界印加部３５から出た水（第５水）は、取水の必要があれば第５取水口３７−５から取水される。
電界印加部３５から出た水（第５水）は、酸素添加部４３へ入る。
第５水の段階では、単分子化された分子により形成され、活性なＨ_２Ｏ_２（過酸化水素水）及び活性酸素を含む水（水溶液）と考えられる。すなわち本水溶液は、過酸化水素水及び活性酸素を含みクラスターを持たず強い殺菌力・消毒力があり、各種洗浄等に有効であると考えられる。
図９を参照して、酸素供給部４２からの高圧の酸素ガスは、調圧弁４１−２により、設定された低圧にされる。本実施例では２ｋｇ／ｃｍ^２である。そして、マスフロー４１−１により、設定された流量で酸素添加部４３のバブラー４３−２へ供給される。本実施例では４〜１５Ｌ／ｍｉｎ．である。この値は、ガス混合部４３−１での第５水の流量の２０〜７５％である。必要な量の酸素量を第５水に供給するためである。３０％以上を混合するのが、より好ましい。
酸素添加部４３では、第５水が、ガス混合部４３−１を満たしながら、一定の流量で流れている。本実施例では、２０Ｌ／ｍｉｎ．である。そして、バブラー４３−２により細かい泡状の酸素ガスが第５水中に放出される。泡の大きさは、酸素ガスの圧力及びバブラー４３−２の構造により調整可能である。酸素の泡の直径は、２ｍｍφ以下の大きさが、酸素の添加には好ましい。表面積の割合が高く、溶け込み易いからである。より好ましくは、１ｍｍφ以下である。本実施例では、主に、０．１〜０．５ｍｍφで行なっている。
第５水は、活性な過酸化水素や活性酸素などを多く含んでおり、添加される酸素とそれらとの相互作用が非常に強いと考えられる。そして、酸素添加部４３では、その効果により、第５水に非常に多くの酸素を溶存させることが出来ると予想される。
すなわち、本水溶液（第６水）は、この段階では活性な過酸化水素や活性酸素、溶存酸素を非常に多く含んだ状態の水となっていると想定される。
こうして生成された本水溶液（原子遊離型水溶液、第５水及び第６水）について、化学的特性を調べた結果を図１０及び図１１に示す。
図１０は、本水溶液（原子遊離型水溶液）の酸化還元電位について調べた結果を示す表である。酸素添加をしない原子遊離型水溶液（第５水）、酸素を５Ｌ／ｍｉｎ．〜１５Ｌ／ｍｉｎ．の条件で添加した原子遊離型水溶液（第６水）の酸化還元電位を示している。比較として、市水及び塩素を除去した市水の酸化還元電位を載せている。
図１０に示すように、原子遊離型水溶液の酸化還元電位（ＯＲＰ）は、９９５ｍＶ以上の高い値を示している。この値は、市水及び塩素を除去した市水の５２３ｍＶ及び２５３ｍＶと大きく異なっている。これは、活性な過酸化水素や活性酸素を多く含んだ水溶液であることが理由として考えられる。
ちなみに、図１１に示すように、４Ｌ／ｍｉｎ．の酸素添加では、９８０ｍＶであった。
また、酸素の添加により、酸化還元電位が大きくなっている。これは、添加された酸素が第５水中に溶存し、第５水に含まれる活性な過酸化水素及び活性酸素と結びつくこと、それにより活性な過酸化水素や活性酸素などのラジカルが更に活性化されること、などが理由として考えられる。また、図１０では、酸化還元電位の最高値は、１０１４ｍＶであるが、酸素添加量により、酸化還元電位は更に大きくすることが可能である。
一方、図１０で説明した原子遊離型水溶液について、水素イオン濃度（ｐＨ）について測定した。その結果、水素イオン濃度をしめすｐＨは、４種類とも、概ね６．０である。すなわち、やや酸性側に偏っているものの、基本的には中性に近い値を示す。
すなわち、原子遊離型水溶液は、中性でありながら高い酸化還元電位を有する水溶液であることが分かる。
上記の酸化還元電位と水素イオン濃度の結果をまとめた表を図１１に示す。図１１には、原子遊離型水溶液の他に、従来の技術による機能水あるいは電解水の測定結果も合わせて示している。図１１の内、殺菌スプレーは水に殺菌用の薬剤を添加しており、また、強酸性水及び塩酸添加強酸性水は水に強酸を添加している。従って、純粋に水の成分のみから生成されているのは、原子遊離型水溶液、衛生除菌水及び電解次亜水だけである。
原子遊離型水溶液は、前述の５つの処理（又は６つの処理）を経て、不純物は取り除かれている。そして、純水の成分だけを用いて、生成されている。すなわち、市水を原子遊離型水溶液生成装置に通すことにより、純粋に水のみから生成された水溶液である。そして、図１１から分かるように、原子遊離型水溶液は、中性に近い水でありながら、非常に高い酸化還元電位を示している。すなわち、水を主成分とする水溶液としては、非常に特異な性質を有していることが分かる。これは、活性な過酸化水素や活性酸素、溶存酸素を非常に多く含み、ラジカル間の相互作用の大きい状態の水となっているためと考えられる。
本実施例における原子遊離型水溶液（第６水）の殺菌効果を調べる為に、以下のような試験を行なった。
（１）使用菌株
大腸菌Ｏ１５７：Ｈ７（以下、Ｏ１５７と記す）
メチシリン耐性ブドウ球菌（以下、ＭＲＳＡと記す）
（２）試験材料及び対照
＜試験材料＞原子遊離型水溶液（第６水）
＜対照消毒薬＞クロールヘキシジン（商品名「ヒビテン」）０．０５％水
溶液：手術時の皮膚及び器具の消毒に使用
＜対照＞滅菌生理食塩水
（３）試験方法
▲１▼Ｏ１５７及びＭＲＳＡを培養する。そして、Ｏ１５７及びＭＲＳＡのそれぞれについて、推定細菌数１．０×１０^８ＣＦＵ／ｍｌの試験菌液を作成する。
▲２▼上記の試験菌液を滅菌生理食塩水で希釈し、各菌につき３種類の希釈菌液を作成する。すなわち、希釈菌液Ａ：１０^−１倍希釈（菌数１×１０^７ＣＦＵ／ｍｌ）、希釈菌液Ｂ：１０^−２倍希釈（菌数１×１０^６ＣＦＵ／ｍｌ）、希釈菌液Ｃ：１０^−３倍希釈（菌数１×１０^５ＣＦＵ／ｍｌ）である。
▲３▼各希釈菌液（Ａ〜Ｃ）０．２ｍｌを、２７ｍｍ×２００ｍｍの滅菌検定試験管に分注する。
▲４▼上記滅菌検定試験管を、２０℃恒温槽に入れる。そして、そこへ原子遊離型水溶液、クロールヘキシジン０．０５％水溶液及び滅菌生理食塩水を、それぞれ２０ｍｌずつ添加する。
▲５▼作用時間（ｔ_Ａ）を１分、２分、３分、５分、１０分とする。
▲６▼各作用時間を経過した、各希釈菌液を含む各水溶液（▲４▼で作成）５０μｌと、チオ硫酸ナトリウム０．５％水溶液４５０μｌを試験管中で混合し、反応を停止する。
▲７▼各時間処理菌液（▲６▼で作成）を、滅菌生理食塩水で１０倍段階希釈を行なう。そして、希釈された各菌液０．１ｍｌをハートインフュージョン寒天培地に塗抹する。
▲８▼３７℃、１８時間培養後、出現コロニー数を測定する。
（４）試験結果
Ｏ１５７に対する試験の結果を図１２の表に示す。表は、左側から第一番目の列が使用した水溶液（上記（２）試験材料及び対照）、第二番目の列が試験菌液の希釈段階（上記（３）▲２▼の希釈菌液）、第三番目の列が希釈菌液中の菌数（上記（３）▲３▼滅菌検定試験での菌数；接種菌液０．２ｍｌ中に含まれる総菌数）、第四番目の列が作用時間（ｔ_Ａ）に対する検出菌（上記（３）▲８▼の測定結果；試験溶液２０ｍｌ中に含まれる菌数／ｍｌで表示）を示す。また、第四番目の列は、更に作用時間毎に分かれて表示している。
図１２の表から、原子遊離型水溶液では、Ｏ１５７は、接種菌数が１．４２×１０^６ＣＦＵ／ｍｌの場合に、完全に死滅している。また、１．４２×１０^７ＣＦＵ／ｍｌの場合にも、かなりの菌が死滅していることが分かる。同じ希釈段階（１０^−１）で比較すると、滅菌生理食塩水よりも効果が高く、クロールヘキシジンに近い効果が得られることが分かる。推定殺菌菌数は、７．１×１０^４ＣＦＵ／ｍｌ（１ｍｌ中当たり７１０００個）である。
すなわち、原子遊離型水溶液は、Ｏ１５７に対して殺菌的に作用することが認められた。そして、１ｍｌ中当たり１０万個以下の菌に対して、１〜２分以内に殺菌的に働くもとの考えられる。
ＭＲＳＡに対する試験の結果を図１３の表に示す。表の見方は、図１２の場合と同様である。
図１３の表から、原子遊離型水溶液では、ＭＲＳＡは、接種菌数が０．８５×１０^６ＣＦＵ／ｍｌの場合に、完全に死滅している。また、０．８５×１０^７ＣＦＵ／ｍｌの場合にも、かなりの菌が死滅していることが分かる。同じ希釈段階（１０^−１）で比較すると、滅菌生理食塩水よりも効果が高く、クロールヘキシジンに近い効果が得られることが分かる。推定殺菌菌数は、４．２５×１０^４ＣＦＵ／ｍｌ（１ｍｌ中当たり４２５００個）である。
すなわち、原子遊離型水溶液は、ＭＲＳＡに対して殺菌的に作用することが認められた。そして、１ｍｌ中当たり１０万個以下の菌に対して、１〜２分以内に殺菌的に働くもとの考えられる。
また、動物性の油汚れ（肉汁等）を拭き取ったウエスを、原子遊離型水溶液及び４０度のお湯のそれぞれに浸して揉み手洗いをし、その洗浄効果を比較した。ただし、洗剤は一切用いていない。その結果、原子遊離型水溶液を用いた方が、４０度のお湯の場合に比較して、格段に油汚れが除去されることが判明した。すなわち、油分に対する強い洗浄作用を有することが確認された。
また、人の皮膚の脂質及びたんぱく質について、その洗浄効果を検討したところ、皮膚上の脂質及びたんぱく質が溶解していることが確認された。すなわち、脂質及びたんぱく質についても、洗浄効果を有することが確認された。
本実施例における第６水は、第５水に酸素を添加することにより、原子遊離型水溶液の効果を更に高めたものである。すなわち、第５水に有った高い殺菌・洗浄作用を更に高め、より高い殺菌作用、洗浄作用を有する水溶液となっている。
第６水は、図１の装置により第５水を生成後、図９に示すような機器により、別に酸素を添加することによっても得ることが可能である。
また、原子遊離型水溶液は、長時間あるいはある程度の温度で、大気中にさらすと、市水の状態に近づく性質がある。例えば、酸化還元電位１０１４ｍＶの原子遊離型水溶液は、約２時間で酸化還元電位が概ね９００ｍＶに低下する。また、９９９ｍＶの酸化還元電位を有する原子遊離型水溶液は、３３度１０分で酸化還元電位が概ね８５０ｍＶに低下する。
従って、原子遊離型水溶液は、高い殺菌作用、洗浄作用を有する水溶液であるが、ある程度の期間（１日弱）大気中に放置されると、通常の水（市水）に近づく。これは、原子遊離型水溶液は、水から出来ており、特別な物質は添加していないからと考えられる。すなわち、原子遊離型水溶液は、処理が容易で、環境に優しい水溶液であることがわかる。
なお、本発明において、磁気処理部２と放射線処理部３との順番は交換可能である。イオン交換部４の配置は、放射線処理部３の後段で電界印加部５の前段であれば交換可能である。好ましくは、図１に示す磁気処理部２−放射線処理部３−イオン交換部４の順序である。
また、本発明において、磁気処理部２及び放射線処理部３は、省略が可能である。ただしその場合には、殺菌・洗浄の効果が低下する可能性は有る。
本発明により、殺菌・消毒・洗浄作用および洗浄力を有する水を生成することが可能となる。また、本発明により、活性な過酸化水素水を豊富に含む水を生成することが可能となる。
産業上の利用可能性
医療関連の分野で、殺菌力・洗浄力を生かして、医療用機器の洗浄に用いることが出来る。また、入院患者や被介護者のための入浴用の元水として利用可能である。
食品関連の分野で、生鮮野菜の殺菌・洗浄やそれらを取り扱う機器の殺菌・洗浄に効果がある。また、調理用機器の殺菌・洗浄等にも利用することが可能である。
植物関連の分野で、土壌中の雑菌を除去する効果がある。また、植物の成育を促進させることも可能である。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第一の実施の形態を示す構成図である。
図２は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、脱塩素処理部を示す構成図である。
図３（ａ）は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、磁気処理部を示す構成図である。
図３（ｂ）は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、磁気処理部の断面を示す構成図である。
図３（ｃ）は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、磁気処理部の磁石を示す構成図である。
図４は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、放射線処理部を示す構成図である。
図５は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、イオン交換部を示す構成図である。
図６は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、電界印加部を示す構成図である。
図７は、従来例の磁気処理水生成装置の構成を示す図である。
図８は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の第二の実施の形態を示す構成図である。
図９は、本発明である原子遊離型水溶液生成装置の内、酸素添加部を示す構成図である。
図１０は、本発明である原子遊離型水溶液の酸化還元電位を示す表である。
図１１は、本発明である原子遊離型水溶液及び従来技術の機能水のｐＨを示す表である。
図１２は、本発明である原子遊離型水溶液の大腸菌Ｏ１５７：Ｈ７に対する殺菌効果試験の結果を示す表である。
図１３は、本発明である原子遊離型水溶液のメチシリン耐性ブドウ球菌に対する殺菌効果試験の結果を示す表である。

Claims (16)

1. 水に含まれる塩素化合物を分解した第１水を生成する脱塩素処理部と、
   前記第１水に磁場を印加する処理を施した第２水を生成する磁気処理部と、
   前記第２水に遠赤外線及び放射線を照射する処理を施した第３水を生成する放射線処理部と、
   前記第３水にイオン交換する処理を施して、不純物イオンを低減した第４水を生成するイオン交換部と、
   塩類を添加せずに、前記第４水に電界を印加する処理を施して、殺菌力を有する第５水を生成する電界印加部と、
   を具備する原子遊離型水溶液生成装置。
2. 請求の範囲第１項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記第５水に酸素を添加する処理を施して、前記第５水よりも強い殺菌力を有する第６水を生成する酸素添加部と、
   を具備する原子遊離型水溶液生成装置。
3. 請求の範囲第１項又は第２項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記電界印加部は、
   前記第４水中に浸した複数の電極間で、コロナ放電を行なう放電部を具備する、
   原子遊離型水溶液生成装置。
4. 請求の範囲第１項乃至第３項のいずれか一項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記磁気処理部は、
   前記第１水を流す磁気処理管と、
   前記第１水に磁気を及ぼす複数の磁石部と、
   を具備し、
   前記複数の磁石部の各々は、前記磁気処理管を挟んで、異なる種類の磁極を前記磁気処理管へ向けて向かい合う一組の磁石を備え、隣り合う前記磁石部とは、互いに離れ、且つ、異なる種類の磁極を前記磁気処理管の同じ側に向くように設置されている、
   原子遊離型水溶液生成装置。
5. 請求の範囲第１項乃至第４項のいずれか一項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記放射線処理部は、
   自身を通過する前記第２水に効率良く放射線が照射されるように粒子状又は多孔体状の放射線物質を含む材料を有する鉱石セラミック層と、
   前記鉱石セラミック層を保持するセラミック充填容器と、
   を具備する、
   原子遊離型水溶液生成装置。
6. 請求の範囲第５項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記放射線処理部は、
   前記鉱石セラミック層が、
   前記鉱石セラミック層を通過する前記第２水に効率良く遠赤外線が照射されるように粒子状又は多孔体状の遠赤外線を発する材料と、
   を更に具備する、
   原子遊離型水溶液生成装置。
7. 請求の範囲第２項に記載の原子遊離型水溶液生成装置であって、
   前記酸素添加部は、
   前記第５水中で、酸素を泡状にして前記第５水に添加するバブラーを具備する、
   原子遊離型水溶液生成装置。
8. 水に含まれる塩素化合物を分解した第１水を生成するステップと、
   前記第１水に磁場を印加する処理を施した第２水を生成するステップと、
   前記第２水に遠赤外線及び放射線を照射する処理を施した第３水を生成するステップと、
   前記第３水とイオン交換する処理を施して、不純物イオンを低減した第４水を生成するステップと、
   塩類を添加せずに、前記第４水に電界を印加する処理を施して、殺菌力を有する第５水を生成するステップと、
   を具備する原子遊離型水溶液生成方法。
9. 請求の範囲第８項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
   前記第５水に酸素を添加する処理を施して、前記第５水よりも強い殺菌力を有する第６水を生成するステップと、
   を更に具備する、
   原子遊離型水溶液生成方法。
10. 請求の範囲第８項又は第９項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第５水を生成するステップは、
    前記第４水中に浸した複数の電極間で、コロナ放電を行なう、
    原子遊離型水溶液生成方法。
11. 請求の範囲第８項乃至第１０項のいずれか一項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第２水を生成するステップは、
    前記第１水に、方向の違う磁場を交互に与えるステップと、
    を具備する、
    原子遊離型水溶液生成方法。
12. 請求の範囲第８項乃至第１１項のいずれか一項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第３水を生成するステップは、
    前記第２水に放射線及び遠赤外線を、同時に、２ｍｍ以下の粒径の鉱石により照射するステップと、
    を具備する、
    原子遊離型水溶液生成方法。
13. 請求の範囲第８項乃至第１２項のいずれか一項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第５水の酸化還元電位が、９８０ｍＶ以上である、
    原子遊離型水溶液生成方法。
14. 請求の範囲第１３項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第５水のｐＨは、概ね６である、
    原子遊離型水溶液生成方法。
15. 請求の範囲第９項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第６水は、酸化還元電位が９８０ｍＶ以上である、
    原子遊離型水溶液生成方法。
16. 請求の範囲第１５項に記載の原子遊離型水溶液生成方法であって、
    前記第６水のｐＨは、概ね６である、
    原子遊離型水溶液生成方法。

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