JPH044090A - ガス溶存水製造装置 - Google Patents
ガス溶存水製造装置Info
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- JPH044090A JPH044090A JP10416790A JP10416790A JPH044090A JP H044090 A JPH044090 A JP H044090A JP 10416790 A JP10416790 A JP 10416790A JP 10416790 A JP10416790 A JP 10416790A JP H044090 A JPH044090 A JP H044090A
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Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、高濃度のガス溶存水（例えばオゾン水）を
製造するための装置に関するものである。
製造するための装置に関するものである。
ガス溶存水、例えば水中にオゾンを溶存させたオゾン水
は、食品用或いは医療用等の殺菌水（洗浄水）として一
般に用いられている。このオゾン水製造装置の一例を第
４図にしめす。（１“）は、オゾン発生装置（４゛）で
発生させたオゾンを水中に混入して、オゾン水を製造す
るようにしたオゾン水供給ライン、（３）は、ミキサー
である。その際に用いるオゾン発生装置としては、酸素
または空気を原料としての放電法、紫外線照射法、放射
線照射法等によるものがあり、その他、水を原料として
高濃度オゾンを発生させる電解法によるものもある。
は、食品用或いは医療用等の殺菌水（洗浄水）として一
般に用いられている。このオゾン水製造装置の一例を第
４図にしめす。（１“）は、オゾン発生装置（４゛）で
発生させたオゾンを水中に混入して、オゾン水を製造す
るようにしたオゾン水供給ライン、（３）は、ミキサー
である。その際に用いるオゾン発生装置としては、酸素
または空気を原料としての放電法、紫外線照射法、放射
線照射法等によるものがあり、その他、水を原料として
高濃度オゾンを発生させる電解法によるものもある。
〔発明が解決しようとする課題］
しかしながら、オゾンは自己分解により、大気中へ放出
し易く、上記の製造装置によるときには、溶存濃度がせ
いぜい５ｐｐｍ程度のオゾン水しか製造することができ
ない。オゾンの溶存濃度が低いと充分な殺菌効果を得る
ことができないのは勿論で、オゾンの利用効率も低いも
のとなる。
し易く、上記の製造装置によるときには、溶存濃度がせ
いぜい５ｐｐｍ程度のオゾン水しか製造することができ
ない。オゾンの溶存濃度が低いと充分な殺菌効果を得る
ことができないのは勿論で、オゾンの利用効率も低いも
のとなる。
この発明は、上述の課題に鑑み、高濃度のガス溶存水を
製造するための装置を提供することを目的としたもので
、ガス溶存水を連続供給するためのガス溶存水供給ライ
ン中の上流位置に、膜式脱気装置を挿入するとともに、
その下流位置に膜式ガス付加装置を設けたことを特徴と
している。
製造するための装置を提供することを目的としたもので
、ガス溶存水を連続供給するためのガス溶存水供給ライ
ン中の上流位置に、膜式脱気装置を挿入するとともに、
その下流位置に膜式ガス付加装置を設けたことを特徴と
している。
この発明によれば、上記の構成中の膜式脱気装置で水中
の溶存気体を予め除去し、その後に膜式ガス付加装置で
ガスを段階的に混入させるので、高濃度のガス溶存水を
製造することができる。
の溶存気体を予め除去し、その後に膜式ガス付加装置で
ガスを段階的に混入させるので、高濃度のガス溶存水を
製造することができる。
以下、この発明の好ましい実施例を図面に基づいて説明
する。−例としてオゾン水を製造するためのオゾン水製
造装置について説明するが、この発明は、オゾン以外の
０□、Ｎ、、Ｃｏ□、エチレン等の種々のガスを水中に
溶存させるのにも適用することができる。
する。−例としてオゾン水を製造するためのオゾン水製
造装置について説明するが、この発明は、オゾン以外の
０□、Ｎ、、Ｃｏ□、エチレン等の種々のガスを水中に
溶存させるのにも適用することができる。
図中（１）はオゾン水を連続供給するためのオゾン水供
給ライン（ガス溶存水供給ライン）で、オゾン発生装置
（４）を設けてオゾンを発生させ、そのオゾンをライン
中の原水に混入させてオゾン水を製造するようになって
いる。（３）は膜式脱気装置であって、前記オゾン水供
給ライン中の上流に位置しており、これによって水中の
容存気体を予め除去し、その後、下流側に位置する膜式
ガス付加装置（２）でオゾンガスを混入させることによ
り、高濃度のオゾン水を製造する。
給ライン（ガス溶存水供給ライン）で、オゾン発生装置
（４）を設けてオゾンを発生させ、そのオゾンをライン
中の原水に混入させてオゾン水を製造するようになって
いる。（３）は膜式脱気装置であって、前記オゾン水供
給ライン中の上流に位置しており、これによって水中の
容存気体を予め除去し、その後、下流側に位置する膜式
ガス付加装置（２）でオゾンガスを混入させることによ
り、高濃度のオゾン水を製造する。
第２図に膜式脱気装置（３）の−例を示すが、同図にお
いて、（５）は中空糸状気体透過膜を用いた脱気膜で、
該透過膜の外周を水封式真空ポンプ（６）にて真空状態
にし、膜中を流れる原水の溶存気体を該膜を通じて除去
するようにしたものである。（７）は減圧弁、（８）は
定流量弁、（９）、００）は電磁弁である。
いて、（５）は中空糸状気体透過膜を用いた脱気膜で、
該透過膜の外周を水封式真空ポンプ（６）にて真空状態
にし、膜中を流れる原水の溶存気体を該膜を通じて除去
するようにしたものである。（７）は減圧弁、（８）は
定流量弁、（９）、００）は電磁弁である。
０１）はフロースイッチであって、このスイッチは、そ
の出力信号により、前記水封式真空ポンプ（６）の稼働
及び電磁弁（９）、００）の開閉を制御するように働く
。即ち、該装置内を原水が流れると、該スイッチが作動
して、真空ポンプをＯＮにするとともに、２つの電磁弁
が開状態になる。
の出力信号により、前記水封式真空ポンプ（６）の稼働
及び電磁弁（９）、００）の開閉を制御するように働く
。即ち、該装置内を原水が流れると、該スイッチが作動
して、真空ポンプをＯＮにするとともに、２つの電磁弁
が開状態になる。
膜式ガス付加装Ｗ（２）も、上述の膜式脱気装置（３）
と同様な構成より成っていて、内蔵した中空糸状等の気
体透過膜を用い、該透過膜の外周をコンプレッサ等によ
り加圧して、膜中を流れる原水にオゾンガスを混入させ
るようにしである。このようにして、透過膜を用いると
、原水中に均一にオゾンガスを混入させることができ、
ミキサー等の攪拌装置を省略し得る。
と同様な構成より成っていて、内蔵した中空糸状等の気
体透過膜を用い、該透過膜の外周をコンプレッサ等によ
り加圧して、膜中を流れる原水にオゾンガスを混入させ
るようにしである。このようにして、透過膜を用いると
、原水中に均一にオゾンガスを混入させることができ、
ミキサー等の攪拌装置を省略し得る。
第３図は、この発明の別の実施例を示す系統図である。
同図において、面はボールタップ機構を備えた給水タン
ク、ａ湯は給水ポンプ、０４）は活性炭ろ過装置、０９
はオゾン濃度検出センサー、００はフローセンサーを示
す。上記の活性炭ろ過装置（２）は、臭気物質、例えば
カルキ臭の素となる塩素を除去するためのもので、膜式
脱気装置（３）の下流位置に挿入する。下流位置への該
ろ過装置の挿入は、脱気膜内で雑菌が繁殖するのを回避
するのに効果がある。
ク、ａ湯は給水ポンプ、０４）は活性炭ろ過装置、０９
はオゾン濃度検出センサー、００はフローセンサーを示
す。上記の活性炭ろ過装置（２）は、臭気物質、例えば
カルキ臭の素となる塩素を除去するためのもので、膜式
脱気装置（３）の下流位置に挿入する。下流位置への該
ろ過装置の挿入は、脱気膜内で雑菌が繁殖するのを回避
するのに効果がある。
この実施例のように、オゾン濃度検出センサー００で供
給ライン（１）中のオゾン濃度を検出して、その検出信
号により電磁弁０７１の開閉（或いはオゾン発生装置（
４）の稼働・停止）を制御、即ちオゾンの吹込量を調節
するようにすれば、常に安定した濃度のオゾン水を供給
することができるだけでなく、オゾンを効率よく利用す
ることができる。０８）はコントローラーを示す。
給ライン（１）中のオゾン濃度を検出して、その検出信
号により電磁弁０７１の開閉（或いはオゾン発生装置（
４）の稼働・停止）を制御、即ちオゾンの吹込量を調節
するようにすれば、常に安定した濃度のオゾン水を供給
することができるだけでなく、オゾンを効率よく利用す
ることができる。０８）はコントローラーを示す。
又、フローセンサー０６）からの信号により、給水ポン
プ０りの稼働・停止、及び膜式脱気装置（３）の稼働・
停止を制御してシステム全体の自動運転化を図ることも
できる。
プ０りの稼働・停止、及び膜式脱気装置（３）の稼働・
停止を制御してシステム全体の自動運転化を図ることも
できる。
さらに、原水中の溶存気体を脱気する場合には、原水温
度が高いと脱気量も増加し、原水中にオゾンガスを吸込
む際には、原水温度が低いほど混入量も増加傾向にある
ので、膜式脱気装置（３）の上流側の原水は加熱し、下
流側の原水は冷却するのも有効で、そうすれば、より高
濃度のオゾン水を製造することが可能である。膜式脱気
装置（３）で脱気操作を行うとき、水封式真空ポンプ（
６）からの排水は、使用原水の無駄をなくすために給水
タンクＯｚへ戻して再利用することが望ましい。
度が高いと脱気量も増加し、原水中にオゾンガスを吸込
む際には、原水温度が低いほど混入量も増加傾向にある
ので、膜式脱気装置（３）の上流側の原水は加熱し、下
流側の原水は冷却するのも有効で、そうすれば、より高
濃度のオゾン水を製造することが可能である。膜式脱気
装置（３）で脱気操作を行うとき、水封式真空ポンプ（
６）からの排水は、使用原水の無駄をなくすために給水
タンクＯｚへ戻して再利用することが望ましい。
この発明は、以上のような構成であるので、膜式脱気装
置で水中の溶存気体を予め除去し、その後に段階的かつ
一連に膜式ガス付加装置を用いてガスを混入させて、均
一で高濃度のガス溶存水を製造、供給することができる
。従って、コンパクトで高効率のシステムを実現するこ
とができる他、製造時にガスが大気中に放出される機会
を減じることができるのみならず、ガス溶存水の用途を
拡大して、食品加工や医療等の各分野に大なる貢献をな
し得る。
置で水中の溶存気体を予め除去し、その後に段階的かつ
一連に膜式ガス付加装置を用いてガスを混入させて、均
一で高濃度のガス溶存水を製造、供給することができる
。従って、コンパクトで高効率のシステムを実現するこ
とができる他、製造時にガスが大気中に放出される機会
を減じることができるのみならず、ガス溶存水の用途を
拡大して、食品加工や医療等の各分野に大なる貢献をな
し得る。
第１図はこの発明の一実施例を示す系統図、第２図はこ
の発明における膜式脱気装置の一例を示す系統図、第３
図はこの発明の別の実施例を示す系統図、第４図は従来
例を示す系統図である。 （１）・・・ガス溶存水供給ライン （２）・・・１式ガス付加装置 （３）・・・膜式脱気装置
の発明における膜式脱気装置の一例を示す系統図、第３
図はこの発明の別の実施例を示す系統図、第４図は従来
例を示す系統図である。 （１）・・・ガス溶存水供給ライン （２）・・・１式ガス付加装置 （３）・・・膜式脱気装置
Claims (1)
- ガス溶存水を連続供給するためのガス溶存水供給ライ
ン（１）中の上流位置に膜式脱気装置を挿入するととも
に、その下流位置に膜式ガス付加装置（３）を設けたこ
とを特徴とするガス溶存水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10416790A JPH044090A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | ガス溶存水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10416790A JPH044090A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | ガス溶存水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH044090A true JPH044090A (ja) | 1992-01-08 |
Family
ID=14373490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10416790A Pending JPH044090A (ja) | 1990-04-18 | 1990-04-18 | ガス溶存水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH044090A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0663572A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Three S Kk | オゾン水製造方法および装置と、それに用いるミキシング筒 |
| US5584914A (en) * | 1992-08-07 | 1996-12-17 | Miura Co., Ltd | Membrane deaerator apparatus |
| US5670094A (en) * | 1995-01-30 | 1997-09-23 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for producing ozonized water |
| US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
| WO2002062711A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-15 | Mikasavets Inc. | Dispositif de production de solution aqueuse a atome libre, procede de production de solution aqueuse a atome libre, et solution aqueuse a atome libre |
| JP2019030834A (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-28 | 国立大学法人三重大学 | 洗浄殺菌液の製造装置及び洗浄殺菌液の製造方法 |
-
1990
- 1990-04-18 JP JP10416790A patent/JPH044090A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5584914A (en) * | 1992-08-07 | 1996-12-17 | Miura Co., Ltd | Membrane deaerator apparatus |
| JPH0663572A (ja) * | 1992-08-24 | 1994-03-08 | Three S Kk | オゾン水製造方法および装置と、それに用いるミキシング筒 |
| US5670094A (en) * | 1995-01-30 | 1997-09-23 | Ebara Corporation | Method of and apparatus for producing ozonized water |
| US5788742A (en) * | 1995-12-11 | 1998-08-04 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for degassing processing solution for substrates |
| WO2002062711A1 (fr) * | 2001-02-02 | 2002-08-15 | Mikasavets Inc. | Dispositif de production de solution aqueuse a atome libre, procede de production de solution aqueuse a atome libre, et solution aqueuse a atome libre |
| US7048862B2 (en) | 2001-02-02 | 2006-05-23 | Waterware Inc. | Free atom aqueous solution producing apparatus, free-atom aqueous solution producing method, and free-atom aqueous solution |
| JP2019030834A (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-28 | 国立大学法人三重大学 | 洗浄殺菌液の製造装置及び洗浄殺菌液の製造方法 |
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