JP3933215B2 - 熱線吸収性複合体 - Google Patents
熱線吸収性複合体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3933215B2 JP3933215B2 JP01389396A JP1389396A JP3933215B2 JP 3933215 B2 JP3933215 B2 JP 3933215B2 JP 01389396 A JP01389396 A JP 01389396A JP 1389396 A JP1389396 A JP 1389396A JP 3933215 B2 JP3933215 B2 JP 3933215B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- intermediate layer
- parts
- component
- heat
- infrared
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 45
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 39
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 39
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 claims description 21
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 14
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 10
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 10
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 claims description 8
- 150000003008 phosphonic acid esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 claims description 5
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 claims description 4
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 claims description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 98
- -1 tungsten ions Chemical class 0.000 description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 25
- 239000000463 material Substances 0.000 description 20
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 20
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 6
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 6
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L copper benzoate Chemical compound [Cu+2].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1.[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 YEOCHZFPBYUXMC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 5
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- HZIUHEQKVCPTAJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethylhexoxyphosphonoyloxymethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)COP(=O)OCC(CC)CCCC HZIUHEQKVCPTAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 3
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNSFLFOZIYBPH-UHFFFAOYSA-N 1-n,1-n-dibutyl-4-n-[4-[4-(dibutylamino)-n-[4-(dibutylamino)phenyl]anilino]phenyl]-4-n-[4-(dibutylamino)phenyl]benzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N(CCCC)CCCC)=CC=C1N(C=1C=CC(=CC=1)N(C=1C=CC(=CC=1)N(CCCC)CCCC)C=1C=CC(=CC=1)N(CCCC)CCCC)C1=CC=C(N(CCCC)CCCC)C=C1 GVNSFLFOZIYBPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJMJPGWUPHIMKQ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butanoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)CCC AJMJPGWUPHIMKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEYLQCXBYFQJRO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-ethylbutanoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-ethylbutanoate Chemical compound CCC(CC)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(CC)CC JEYLQCXBYFQJRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGYSYXDNLPNNPW-UHFFFAOYSA-N 4-butoxy-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCCOC(=O)CCC(O)=O OGYSYXDNLPNNPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 7-amino-2-methylsulfanyl-[1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine-6-carbonitrile Chemical compound N1=CC(C#N)=C(N)N2N=C(SC)N=C21 JXSRRBVHLUJJFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N Butyl phthalyl butylglycolate Chemical compound CCCCOC(=O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC GOJCZVPJCKEBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N Di-n-octyl phthalate Natural products CCCCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCCC MQIUGAXCHLFZKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl decanedioate Chemical compound CCCCOC(=O)CCCCCCCCC(=O)OCCCC PYGXAGIECVVIOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZCDANOFLILNSA-UHFFFAOYSA-N Dimethyl hydrogen phosphite Chemical compound COP(=O)OC HZCDANOFLILNSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZJFGSRCJCXDSG-UHFFFAOYSA-N Hexamethonium Chemical compound C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C VZJFGSRCJCXDSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N Manganese(2+) Chemical compound [Mn+2] WAEMQWOKJMHJLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- XEOSKTHOPLADLN-QTJNJRLBSA-N acetyl (z,12r)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OC(C)=O XEOSKTHOPLADLN-QTJNJRLBSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical group [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- HGWAKQDTQVDVRP-OKULMJQMSA-N butyl (z,12r)-12-hydroxyoctadec-9-enoate Chemical compound CCCCCC[C@@H](O)C\C=C/CCCCCCCC(=O)OCCCC HGWAKQDTQVDVRP-OKULMJQMSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- NFJPGAKRJKLOJK-UHFFFAOYSA-N chembl1901631 Chemical compound CCCCOP(=O)OCCCC NFJPGAKRJKLOJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229940120693 copper naphthenate Drugs 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L copper;3-(4-ethylcyclohexyl)propanoate;3-(3-ethylcyclopentyl)propanoate Chemical compound [Cu+2].CCC1CCC(CCC([O-])=O)C1.CCC1CCC(CCC([O-])=O)CC1 SEVNKWFHTNVOLD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L copper;diformate Chemical compound [Cu+2].[O-]C=O.[O-]C=O HFDWIMBEIXDNQS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WFIPUECTLSDQKU-UHFFFAOYSA-N copper;ethyl 3-oxobutanoate Chemical compound [Cu].CCOC(=O)CC(C)=O WFIPUECTLSDQKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N di-(2-ethylhexyl)phosphoric acid Chemical compound CCCCC(CC)COP(O)(=O)OCC(CC)CCCC SEGLCEQVOFDUPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K dicopper;2-oxidopropane-1,2,3-tricarboxylate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]C(=O)CC([O-])(C([O-])=O)CC([O-])=O FWBOFUGDKHMVPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- MJUJXFBTEFXVKU-UHFFFAOYSA-N diethyl phosphonate Chemical compound CCOP(=O)OCC MJUJXFBTEFXVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- HDERJYVLTPVNRI-UHFFFAOYSA-N ethene;ethenyl acetate Chemical group C=C.CC(=O)OC=C HDERJYVLTPVNRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001038 ethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical class F* 0.000 description 1
- RJOJUSXNYCILHH-UHFFFAOYSA-N gadolinium(3+) Chemical compound [Gd+3] RJOJUSXNYCILHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical group [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910001437 manganese ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 150000008301 phosphite esters Chemical class 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 XZZNDPSIHUTMOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001456 vanadium ion Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/10165—Functional features of the laminated safety glass or glazing
- B32B17/10174—Coatings of a metallic or dielectric material on a constituent layer of glass or polymer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱線吸収性複合体に関し、更に詳しくは、近赤外線およびこれより長い波長の赤外線の透過率が小さく、従って熱線を遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きい熱線吸収性複合体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、建築物、自動車、車両等の窓材として、熱線吸収能や熱線反射能を有するガラス材料やプラスチック材料が使用されている。
従来、熱線吸収能や熱線反射能を有する透光性材料としては、メタクリル樹脂等の合成樹脂中に金属化合物が含有されてなるもの、例えばニッケル、コバルト若しくは銅の有機化合物および不飽和カルボン酸が添加されてなるもの(特開昭48−5888号公報参照)、2価の銅イオンを含む有機化合物と、P−O−H結合を有する化合物とが含有されてなるもの(特開昭55−142045号公報参照)、ニッケルの有機化合物が含有されてなるもの(米国特許第3,647,729号明細書参照)、タングステンイオンを有する化合物と、リン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルとが含有されてなるもの(特開平3−215561号公報参照)等が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の透光性材料においては、十分な熱線吸収能を得るためには、金属化合物を相当に高い割合で含有させる必要があり、そのため、可視光線の透過率が低下し、また、耐熱性や表面硬度が低下する、という問題がある。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、近赤外線またはこれより長い波長域の光線を高い効率で遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きく、十分な耐熱性や表面硬度を容易に得ることができる熱線吸収性複合体を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、中間層が形成された積層体よりなり、
前記中間層は、樹脂成分と、2価の銅イオンからなる金属イオンよりなる赤外線吸収成分と、リン酸基含有化合物とを含有してなり、
前記リン酸基含有化合物が、下記式(1)で表されるリン酸エステル若しくは下記式(2)で表されるホスホン酸エステルであることを特徴とする。
【0006】
【化3】
【0007】
【化4】
【0008】
また、中間層に赤外線吸収成分として含有される2価の銅イオンよりなる金属イオンの割合は、樹脂成分100質量部に対して0.1〜10質量部であることが好ましい。
【0009】
本発明の熱線吸収性複合体においては、中間層に、更に赤外線吸収成分として酸化インジウムおよび/または酸化スズからなる粒子状金属酸化物が含有されていることが好ましく、この場合には、当該粒子状金属酸化物の割合が、樹脂成分100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましい。
【0010】
また、本発明の熱線吸収性複合体においては、中間層を構成する樹脂成分が、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体またはその部分鹸化物であることが好ましい。
更に、本発明の熱線吸収性複合体においては、基層および/または上層がガラスにより構成されていることが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、中間層が形成された積層体により構成されている。
【0012】
〔上層および基層〕
基層および上層を構成する材料としては、可視光線の透過性に優れたものであれば特に限定されるものではなく、熱線吸収性複合体の具体的用途に応じて適宜選択されるが、硬度、耐熱性、耐薬品性、耐久性等の観点から、無機ガラス、有機ガラス、例えばポリカーボネート、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル等のプラスチック材料を好適に用いることができる。
基層および上層は、それぞれ同じ種類の材料で構成されていてもよく、また、互いに異なる材料で構成されていてもよい。
また、基層および上層は、中間層と接しない外側表面が硬化処理されていてもよく、更に各々の外側表面の一方または両方に他の透明性材料よりなる層が積層されていてもよい。
【0013】
〔中間層〕
本発明の熱線吸収性複合体においては、上記の基層と上層との間に中間層が形成されている。この中間層は、樹脂成分と特定の赤外線吸収成分とが含有されてなるものである。
【0014】
〈樹脂成分〉
中間層を構成する樹脂成分としては、優れた透明性を有するものが用いられ、その具体例としては、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体およびその部分鹸化物等を挙げることができる。これらの合成樹脂は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
これらの中では、前述の基層および上層を構成するガラスまたはプラスチック材料に対して高い接着性を有し、かつ、それ自体が柔軟性を有し、温度依存性が小さい点で、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体およびその部分鹸化物から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。
【0015】
〈赤外線吸収成分〉
本発明においては、中間層に含有される赤外線吸収成分として、下記の(a)および(b)から選ばれる少なくとも1種のものが用いられる。
(a)2価の銅イオンよりなる金属イオン(以下、「赤外線吸収成分a」ともいう。)
(b)酸化インジウムおよび/または酸化スズよりなる粒子状金属酸化物(以下、「赤外線吸収成分b」ともいう。)
【0016】
(1)赤外線吸収成分a:
赤外線吸収成分aとして用いられる2価の銅イオンよりなる金属イオンは、適宜の銅化合物よりなる金属化合物から得られるものである。
上記の銅化合物の具体例としては、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅、酢酸銅、蟻酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、エチルアセト酢酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅等の無水物または水和物が挙げられる。
【0017】
また、金属イオンの一部として、2価の銅イオン以外の他の金属によるイオンを用いることができる。このような他の金属によるイオンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン、コバルトイオン、バナジウムイオン、マンガンイオン、ネオジムイオン、ガドリニウムイオン、ホロミウムイオン等が挙げられる。
このように、金属イオンの一部として、2価の銅イオン以外の他の金属によるイオンを用いる場合には、全金属イオンにおける2価の銅イオンの占める割合が50質量%以上、特に、70質量%以上であることが好ましい。
このような他の金属によるイオンを用いることにより、当該他の金属によるイオンに応じた光線吸収特性が得られる。
【0018】
中間層に赤外線吸収成分aを含有させる場合には、当該赤外線吸収成分aの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.1〜10質量部、好ましくは0.1〜5質量部である。
この割合が0.1質量部未満の場合には、赤外線を十分に吸収する中間層が得られにくい。一方、この割合が10質量部を超える場合には、樹脂成分中に均一に分散させることが困難となる。
【0019】
本発明においては、赤外線吸収成分として2価の銅イオンからなる金属イオンを用いる場合には、当該金属イオンの分散性を高めるために、中間層にリン酸エステル若しくはホスホン酸エステルからなるリン酸基含有化合物を共に含有させることが好ましい。本発明において、「リン酸基」とは、PO(OH)n −(nは1または2である。)で表される基をいう。
このようなリン酸基含有化合物としては、上記式(1)で表されるリン酸エステル(以下、「特定のリン酸エステル」ともいう。)若しくは上記式(2)で表されるホスホン酸エステル(以下、「特定のホスホン酸エステル」ともいう。)を用いることが好ましい。
【0021】
また、特定のリン酸エステルとしては、上記式(1)で示されるように、置換基R1 として、エチレンオキサイド基が結合したアクリロイル基(Xが水素原子の場合)またはメタクリロイル基(Xがメチル基の場合)よりなる重合性官能基が結合されたものを用いることができる。
ここで、エチレンオキサイド基の繰り返し数mは0〜5の整数である。このmの値が5を超えると、樹脂成分との相溶性が低いものとなるため、得られる中間層自体の透明性が低下して必要とされる波長の光線透過率が小さくなるため好ましくない。
このような重合性官能基を有する特定のリン酸エステルの具体例としては、2−アクリロキシエチルアッシドフォスフェート、2−メタクリロキシエチルアッシドフォスフェート、ビス(2−メタクリロキシエチルアッシドフォスフェート)等が挙げられる。
【0022】
また、特定のホスホン酸エステルの具体例としては、モノメチルメチルホスホネート、モノエチルエチルホスホネート、モノブチルブチルホスホネート、モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネート等が挙げられる。
【0023】
これらの中では、特定のリン酸エステルとして、2−アクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアッシドフォスフェートおよびビス(2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート)、また、特定のホスホン酸エステルとして、上記式(2)における基R2 および基R3 が、2−エチルヘキシル基であるモノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネート等が、樹脂成分との相溶性に優れ、2価の銅イオンとの錯体形成力が大きく、赤外線吸収成分aの樹脂成分中への分散性を高めることができる点で、好ましい。
【0024】
このようなリン酸基含有化合物は、2価の銅イオンよりなる金属イオン1モルに対して1〜10モルとなる割合で用いられることが好ましく、これにより、2価の銅イオンよりなる金属イオンを樹脂成分中に十分に分散させることができる。
【0025】
(2)赤外線吸収成分b:
赤外線吸収成分bは、酸化インジウムおよび酸化スズのいずれか一方または両方からなる粒子状金属酸化物(以下、「特定の粒子状金属酸化物」ともいう。)よりなるものである。
特定の粒子状金属酸化物として、酸化インジウムを主成分とするものを用いる場合には、酸化インジウムにおけるインジウム原子の一部がスズ原子で置換され、さらに酸素欠陥が導入されて酸化インジウム中のキャリア電子密度が増大された、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物(以下、「ITO」(Indium Tin Oxide)ともいう。)であることが好ましい。
また、特定の粒子状金属酸化物として酸化スズを主成分とするものを用いる場合には、スズ酸化物におけるスズ原子の一部がアンチモン原子で置換され、さらに酸素欠陥が導入されて酸化スズ中のキャリア電子密度が増大された、酸化スズと酸化アンチモンとの複合酸化物(以下、「ATO」(Antimony Tin Oxide)ともいう。)であることが好ましい。
【0026】
上記のITOまたはATOは、酸化インジウム単体または酸化スズ単体に比較して、いずれも、近赤外領域の光線の反射が一層低波長側の領域から生じるようになるため、1200nmより長い波長域の光線の透過率が一層低下したものとなると思われる。
【0027】
このような特定の粒子状金属酸化物としては、特に最大粒子径が0.1μm以下であり、粒子径分布が0.001〜0.05μmの範囲内にある超微粒子状粉末が好ましい。
特定の粒子状金属酸化物の最大粒子径が0.1μmを超える場合には、中間層自体の可視光線域の光線透過率が低下し、優れた透明性を有する熱線吸収性複合体を得ることができない。一方、特定の粒子状金属酸化物の粒子径が0.001μm未満のものを含有する場合には、微粒子が凝集しやすくなり、当該粒子状金属酸化物を樹脂成分中に均一に分散させることが困難になり、また、粒子状金属酸化物自体の製造も非常に困難である。
【0028】
中間層に赤外線吸収成分bを含有させる場合には、赤外線吸収成分bの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.01〜5質量部、特に、0.05〜5質量部であることが好ましい。
【0029】
本発明においては、上記の赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bが、それぞれ単独で用いられてもよく、また、両者を組み合わせて用いられてもよい。赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bの両方を用いる場合には、これらの使用割合は、それぞれ上述の範囲内であればよい。
このように赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bの両方を用いることにより、各々による赤外線吸収特性を有効に利用することができる。
【0030】
(3)赤外線吸収成分c:
本発明においては、上記の赤外線吸収成分aまたは赤外線吸収成分bと共に、下記式(3)で表されるフェニレンジアミン誘導体よりなる赤外線吸収成分cを併用することができる。
【0031】
【化5】
【0032】
〔上記式(3)において、Rは水素原子または炭素数が1〜12のアルキル基、Xは、SbF6 、ClO4 、PF6 、BF6 、NO3 またはハロゲン原子を示し、nは1または2である。〕
【0033】
このようなフェニレンジアミン誘導体は、可視光線域の光線透過性を損なうことなく波長760〜1500nmの赤外線を効率よく吸収することができる特徴を有している。
【0034】
このフェニレンジアミン誘導体の具体例としては、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの過塩素酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ヘキシルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのフッ化ホウ素酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−イソプロピルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの硝酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−オクチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの臭素塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジメチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの塩素塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ドデシルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのフッ化ホウ素酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのフッ素塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩等が挙げられる。
【0035】
このような赤外線吸収成分cの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.01〜1質量部、特に、0.01〜0.7質量部であることが好ましい。
この割合が0.01質量部未満の場合には、当該赤外線吸収成分cを添加することによる赤外線の吸収性を向上させる効果が十分に得られず、一方、この割合が1質量部を超える場合には、中間層の可視光線領域における光線透過率が低下し、好ましくない。
【0036】
〈その他の成分〉
本発明においては、中間層には、これを構成する樹脂成分と相溶性を有する種々の可塑剤を含有させることができ、これにより、赤外線吸収成分として用いられる金属イオンの樹脂成分中への溶解性を高めることができる。
このような可塑剤の具体例としては、リン酸トリクレジル、リン酸トリフェニル等のリン酸エステル系可塑剤、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸系可塑剤、ジブチルセバケート、ブチルリシノレート、メチルアセチルリシノレート、ブチルサクシネート等の脂肪酸系可塑剤、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジブチレート、トリエチレングリコールジ−2−エチルブチラート、ポリエチレングリコール等のグリコール系可塑剤等が挙げられる。
【0037】
さらに、中間層には、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系またはサリチル酸系の紫外線吸収剤、その他の抗酸化剤、安定剤等を含有させることができる。
また、前述のリン酸基含有化合物として、重合性官能基を有するリン酸エステルを用いるときには、重合開始剤として有機過酸化物や光重合開始剤を含有させることもできる。特に、有機過酸化物としては、基層または上層と中間層とを積層する際の温度条件において重合が開始するような半減期温度が比較的高いものを選択するのが好ましい。
【0038】
以上のように、中間層は、樹脂成分中に赤外線吸収成分および必要に応じて用いられるその他の成分を含有してなるものであるが、このような中間層を基層および上層との間に形成して複合体を得るためには、例えば以下の方法を用いることができる。但し、中間層を形成して複合体を得る方法は、これに限定されるものではない。
【0039】
樹脂成分と、赤外線吸収成分と、必要に応じて用いられるその他の成分とを混合することにより、中間層形成材料を調製し、この中間層形成材料をフィルム状またはシート状に成形することにより、中間層用成形体を製造する。この中間層用成形体を、予め用意された基層用成形体と上層用成形体との間に配置して接着させる。
【0040】
以上において、各成分を混合して中間層形成材料を調製する手段としては、ヘンシェルミキサー等の混合機により混合する手段、ロール混練機、或いは混練押出機等により混練混合する手段を用いることができる。
また、各成分を適宜の有機溶剤に分散させ、この分散液から有機溶剤を除去する手段を用いることができる。
また、中間層用成形体を製造する手段としては、熱可塑性樹脂の成形加工法である溶融押出成形法、カレンダー成形法、プレス成形法などを用いることができる。
中間層用成形体と、基層用成形体および上層用成形体とを接着させる手段としては、プレス法、マルチロール法、減圧法などの加圧または減圧により接着する手段、オートクレーブ等を用いて加熱することにより接着させる手段またはこれらの組み合わせによる手段を用いることができる。
そして、樹脂成分として、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体またはその部分鹸化物を用いることにより、中間層と基層および上層とが十分な強度で接着された赤外線吸収性複合体が得られる。
【0041】
このようにして形成される中間層は、その厚みが0.1〜10mm,特に、0.3〜5mmであることが好ましい。中間層の厚みが0.1mm未満の場合には、赤外線吸収性が高い中間層を得ることが困難となって、得られる複合体の熱線吸収性が不十分なものとなることがある。一方、中間層の厚みが10mmを超える場合には、可視光線の透過率が高い中間層を得ることが困難となって、得られる複合体の透明性が低いものとなることがある。
【0042】
【実施例】
以下、本発明を実施例を用いて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
尚、以下において、「部」は「質量部」を意味する。
【0044】
〔実施例1〕
無水酢酸銅28部と、ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート100部とを60℃で加熱混合することにより、ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート中に酢酸銅を十分に分散させ、次いで、この混合物10部に、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」(積水化学(株)製)20部と、メチルエチルケトン80部とを添加して攪拌混合することにより、2価の銅イオンとリン酸基含有化合物とポリビニルブチラール樹脂とを含有してなる分散液を得た。この分散液において、ポリビニルブチラール樹脂100質量部に対する2価の銅イオンの割合は3.8質量部である。
この分散液をテフロン製平底容器に流延し、60℃で減圧処理することにより、溶剤を除去して中間層形成材料を調製した。
この中間層形成材料をテフロン製の一対のプレス板に挟み、加圧面の温度が150℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、厚みが1mmのシート状の中間層用成形体を得た。
この中間層用成形体を厚みが1mmの2枚のスライドガラスの間に挟み、加圧面の温度が130℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、それぞれガラスよりなる基層および上層の間に、中間層が形成された積層体よりなる本発明の熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0045】
〔実施例2〕
ポリビニルブチラール樹脂20部の代わりに、酢酸ビニル−エチレン共重合体「スミテートRB−11」(住友化学製)20部を用い、メチルエチルケトン80部の代わりに、トルエンとメチルエチルケトンとを質量比で1:1の割合で混合した混合有機溶剤を用いたこと以外は、実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0046】
〔実施例3〕
ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート100部の代わりに、モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルフォスホネート100部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を得た。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.5mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0047】
〔実施例4〕
無水安息香酸銅14.5部と、2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェートおよびビス(2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート)が質量比で1:1の割合で混合された混合物14.7部と、メチルエチルケトン85.3部とを混合して反応させ、これを一晩静置して副生成物を除去した。次いで、得られた混合液40部と、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」20部と、メチルエチルケトン40部とを混合して、ポリビニルブチラール樹脂と2価の銅イオンとリン酸基含有化合物とを含有してなる分散液を調製した。この分散液において、ポリビニルブチラール樹脂100質量部に対する2価の銅イオンの割合は6.0質量部である。
この分散液を用いて実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0048】
〔実施例5〕
モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルフォスホネート100部に無水安息香酸銅30部を溶解してなる溶液20部と、ATO超微粒子粉体(住友セメント製)0.1部と、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」70部とを用いて、実施例1と同様にして中間層形成材料を調製した。この中間層形成材料において、ポリビニルブチラール樹脂100部に対する2価の銅イオンの割合は1.4質量部である。
この中間層形成材料を用いて実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは1.0mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0051】
〔実施例6〕
実施例2と同様にして中間層用成形体を製造し、この中間層用成形体を厚み1mmの2枚のポリカーボネート板の間に挟み、加圧面の温度が90℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、それぞれポリカーボネートよりなる基層および上層の間に、中間層が形成された積層体よりなる熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0053】
【表1】
【0054】
表1から明らかなように、2価の銅イオンが含有された中間層を有する実施例1〜4および実施例6に係る熱線吸収性複合体は、波長700〜1000nmにおける光線透過率が低いものであり、また、2価の銅イオンおよびATO微粒子が含有された実施例5に係る熱線吸収性複合体は、波長700nm以上の領域における光線透過率が低いものであることが確認された。
【0055】
【発明の効果】
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、特定の赤外線吸収成分が含有されてなる中間層が形成されているため、近赤外線またはこれより長い波長域の光線を高い効率で遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きいものである。また、基層および上層を構成する材料を選択することにより、十分な耐熱性や表面硬度を容易に得ることができる。また、樹脂成分として接着性を有する特定の合成樹脂を用いることにより、当該中間層を、基層と上層との接着層として利用することができる。従って、本発明の熱線吸収性複合体は、熱線の照射を防止することが要求される用途への適用に有用であり、例えば、建築物、自動車、車両等の窓材として好適に用いることができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、熱線吸収性複合体に関し、更に詳しくは、近赤外線およびこれより長い波長の赤外線の透過率が小さく、従って熱線を遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きい熱線吸収性複合体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、建築物、自動車、車両等の窓材として、熱線吸収能や熱線反射能を有するガラス材料やプラスチック材料が使用されている。
従来、熱線吸収能や熱線反射能を有する透光性材料としては、メタクリル樹脂等の合成樹脂中に金属化合物が含有されてなるもの、例えばニッケル、コバルト若しくは銅の有機化合物および不飽和カルボン酸が添加されてなるもの(特開昭48−5888号公報参照)、2価の銅イオンを含む有機化合物と、P−O−H結合を有する化合物とが含有されてなるもの(特開昭55−142045号公報参照)、ニッケルの有機化合物が含有されてなるもの(米国特許第3,647,729号明細書参照)、タングステンイオンを有する化合物と、リン酸エステルおよび/または亜リン酸エステルとが含有されてなるもの(特開平3−215561号公報参照)等が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の透光性材料においては、十分な熱線吸収能を得るためには、金属化合物を相当に高い割合で含有させる必要があり、そのため、可視光線の透過率が低下し、また、耐熱性や表面硬度が低下する、という問題がある。
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、近赤外線またはこれより長い波長域の光線を高い効率で遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きく、十分な耐熱性や表面硬度を容易に得ることができる熱線吸収性複合体を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、中間層が形成された積層体よりなり、
前記中間層は、樹脂成分と、2価の銅イオンからなる金属イオンよりなる赤外線吸収成分と、リン酸基含有化合物とを含有してなり、
前記リン酸基含有化合物が、下記式(1)で表されるリン酸エステル若しくは下記式(2)で表されるホスホン酸エステルであることを特徴とする。
【0006】
【化3】
【0007】
【化4】
【0008】
また、中間層に赤外線吸収成分として含有される2価の銅イオンよりなる金属イオンの割合は、樹脂成分100質量部に対して0.1〜10質量部であることが好ましい。
【0009】
本発明の熱線吸収性複合体においては、中間層に、更に赤外線吸収成分として酸化インジウムおよび/または酸化スズからなる粒子状金属酸化物が含有されていることが好ましく、この場合には、当該粒子状金属酸化物の割合が、樹脂成分100質量部に対して0.01〜5質量部であることが好ましい。
【0010】
また、本発明の熱線吸収性複合体においては、中間層を構成する樹脂成分が、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体またはその部分鹸化物であることが好ましい。
更に、本発明の熱線吸収性複合体においては、基層および/または上層がガラスにより構成されていることが好ましい。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、中間層が形成された積層体により構成されている。
【0012】
〔上層および基層〕
基層および上層を構成する材料としては、可視光線の透過性に優れたものであれば特に限定されるものではなく、熱線吸収性複合体の具体的用途に応じて適宜選択されるが、硬度、耐熱性、耐薬品性、耐久性等の観点から、無機ガラス、有機ガラス、例えばポリカーボネート、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレート、塩化ビニル系樹脂、ポリスチレン、ポリエステル等のプラスチック材料を好適に用いることができる。
基層および上層は、それぞれ同じ種類の材料で構成されていてもよく、また、互いに異なる材料で構成されていてもよい。
また、基層および上層は、中間層と接しない外側表面が硬化処理されていてもよく、更に各々の外側表面の一方または両方に他の透明性材料よりなる層が積層されていてもよい。
【0013】
〔中間層〕
本発明の熱線吸収性複合体においては、上記の基層と上層との間に中間層が形成されている。この中間層は、樹脂成分と特定の赤外線吸収成分とが含有されてなるものである。
【0014】
〈樹脂成分〉
中間層を構成する樹脂成分としては、優れた透明性を有するものが用いられ、その具体例としては、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体およびその部分鹸化物等を挙げることができる。これらの合成樹脂は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることもできる。
これらの中では、前述の基層および上層を構成するガラスまたはプラスチック材料に対して高い接着性を有し、かつ、それ自体が柔軟性を有し、温度依存性が小さい点で、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体およびその部分鹸化物から選ばれる少なくとも1種を用いることが好ましい。
【0015】
〈赤外線吸収成分〉
本発明においては、中間層に含有される赤外線吸収成分として、下記の(a)および(b)から選ばれる少なくとも1種のものが用いられる。
(a)2価の銅イオンよりなる金属イオン(以下、「赤外線吸収成分a」ともいう。)
(b)酸化インジウムおよび/または酸化スズよりなる粒子状金属酸化物(以下、「赤外線吸収成分b」ともいう。)
【0016】
(1)赤外線吸収成分a:
赤外線吸収成分aとして用いられる2価の銅イオンよりなる金属イオンは、適宜の銅化合物よりなる金属化合物から得られるものである。
上記の銅化合物の具体例としては、硫酸銅、硝酸銅、塩化銅、酢酸銅、蟻酸銅、ステアリン酸銅、安息香酸銅、エチルアセト酢酸銅、ピロリン酸銅、ナフテン酸銅、クエン酸銅等の無水物または水和物が挙げられる。
【0017】
また、金属イオンの一部として、2価の銅イオン以外の他の金属によるイオンを用いることができる。このような他の金属によるイオンとしては、ナトリウムイオン、カリウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、鉄イオン、ニッケルイオン、クロムイオン、コバルトイオン、バナジウムイオン、マンガンイオン、ネオジムイオン、ガドリニウムイオン、ホロミウムイオン等が挙げられる。
このように、金属イオンの一部として、2価の銅イオン以外の他の金属によるイオンを用いる場合には、全金属イオンにおける2価の銅イオンの占める割合が50質量%以上、特に、70質量%以上であることが好ましい。
このような他の金属によるイオンを用いることにより、当該他の金属によるイオンに応じた光線吸収特性が得られる。
【0018】
中間層に赤外線吸収成分aを含有させる場合には、当該赤外線吸収成分aの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.1〜10質量部、好ましくは0.1〜5質量部である。
この割合が0.1質量部未満の場合には、赤外線を十分に吸収する中間層が得られにくい。一方、この割合が10質量部を超える場合には、樹脂成分中に均一に分散させることが困難となる。
【0019】
本発明においては、赤外線吸収成分として2価の銅イオンからなる金属イオンを用いる場合には、当該金属イオンの分散性を高めるために、中間層にリン酸エステル若しくはホスホン酸エステルからなるリン酸基含有化合物を共に含有させることが好ましい。本発明において、「リン酸基」とは、PO(OH)n −(nは1または2である。)で表される基をいう。
このようなリン酸基含有化合物としては、上記式(1)で表されるリン酸エステル(以下、「特定のリン酸エステル」ともいう。)若しくは上記式(2)で表されるホスホン酸エステル(以下、「特定のホスホン酸エステル」ともいう。)を用いることが好ましい。
【0021】
また、特定のリン酸エステルとしては、上記式(1)で示されるように、置換基R1 として、エチレンオキサイド基が結合したアクリロイル基(Xが水素原子の場合)またはメタクリロイル基(Xがメチル基の場合)よりなる重合性官能基が結合されたものを用いることができる。
ここで、エチレンオキサイド基の繰り返し数mは0〜5の整数である。このmの値が5を超えると、樹脂成分との相溶性が低いものとなるため、得られる中間層自体の透明性が低下して必要とされる波長の光線透過率が小さくなるため好ましくない。
このような重合性官能基を有する特定のリン酸エステルの具体例としては、2−アクリロキシエチルアッシドフォスフェート、2−メタクリロキシエチルアッシドフォスフェート、ビス(2−メタクリロキシエチルアッシドフォスフェート)等が挙げられる。
【0022】
また、特定のホスホン酸エステルの具体例としては、モノメチルメチルホスホネート、モノエチルエチルホスホネート、モノブチルブチルホスホネート、モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネート等が挙げられる。
【0023】
これらの中では、特定のリン酸エステルとして、2−アクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート、2−メタクリロイルオキシエチルアッシドフォスフェートおよびビス(2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート)、また、特定のホスホン酸エステルとして、上記式(2)における基R2 および基R3 が、2−エチルヘキシル基であるモノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルホスホネート等が、樹脂成分との相溶性に優れ、2価の銅イオンとの錯体形成力が大きく、赤外線吸収成分aの樹脂成分中への分散性を高めることができる点で、好ましい。
【0024】
このようなリン酸基含有化合物は、2価の銅イオンよりなる金属イオン1モルに対して1〜10モルとなる割合で用いられることが好ましく、これにより、2価の銅イオンよりなる金属イオンを樹脂成分中に十分に分散させることができる。
【0025】
(2)赤外線吸収成分b:
赤外線吸収成分bは、酸化インジウムおよび酸化スズのいずれか一方または両方からなる粒子状金属酸化物(以下、「特定の粒子状金属酸化物」ともいう。)よりなるものである。
特定の粒子状金属酸化物として、酸化インジウムを主成分とするものを用いる場合には、酸化インジウムにおけるインジウム原子の一部がスズ原子で置換され、さらに酸素欠陥が導入されて酸化インジウム中のキャリア電子密度が増大された、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物(以下、「ITO」(Indium Tin Oxide)ともいう。)であることが好ましい。
また、特定の粒子状金属酸化物として酸化スズを主成分とするものを用いる場合には、スズ酸化物におけるスズ原子の一部がアンチモン原子で置換され、さらに酸素欠陥が導入されて酸化スズ中のキャリア電子密度が増大された、酸化スズと酸化アンチモンとの複合酸化物(以下、「ATO」(Antimony Tin Oxide)ともいう。)であることが好ましい。
【0026】
上記のITOまたはATOは、酸化インジウム単体または酸化スズ単体に比較して、いずれも、近赤外領域の光線の反射が一層低波長側の領域から生じるようになるため、1200nmより長い波長域の光線の透過率が一層低下したものとなると思われる。
【0027】
このような特定の粒子状金属酸化物としては、特に最大粒子径が0.1μm以下であり、粒子径分布が0.001〜0.05μmの範囲内にある超微粒子状粉末が好ましい。
特定の粒子状金属酸化物の最大粒子径が0.1μmを超える場合には、中間層自体の可視光線域の光線透過率が低下し、優れた透明性を有する熱線吸収性複合体を得ることができない。一方、特定の粒子状金属酸化物の粒子径が0.001μm未満のものを含有する場合には、微粒子が凝集しやすくなり、当該粒子状金属酸化物を樹脂成分中に均一に分散させることが困難になり、また、粒子状金属酸化物自体の製造も非常に困難である。
【0028】
中間層に赤外線吸収成分bを含有させる場合には、赤外線吸収成分bの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.01〜5質量部、特に、0.05〜5質量部であることが好ましい。
【0029】
本発明においては、上記の赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bが、それぞれ単独で用いられてもよく、また、両者を組み合わせて用いられてもよい。赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bの両方を用いる場合には、これらの使用割合は、それぞれ上述の範囲内であればよい。
このように赤外線吸収成分aおよび赤外線吸収成分bの両方を用いることにより、各々による赤外線吸収特性を有効に利用することができる。
【0030】
(3)赤外線吸収成分c:
本発明においては、上記の赤外線吸収成分aまたは赤外線吸収成分bと共に、下記式(3)で表されるフェニレンジアミン誘導体よりなる赤外線吸収成分cを併用することができる。
【0031】
【化5】
【0032】
〔上記式(3)において、Rは水素原子または炭素数が1〜12のアルキル基、Xは、SbF6 、ClO4 、PF6 、BF6 、NO3 またはハロゲン原子を示し、nは1または2である。〕
【0033】
このようなフェニレンジアミン誘導体は、可視光線域の光線透過性を損なうことなく波長760〜1500nmの赤外線を効率よく吸収することができる特徴を有している。
【0034】
このフェニレンジアミン誘導体の具体例としては、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの過塩素酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ヘキシルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのフッ化ホウ素酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−イソプロピルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの硝酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−オクチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−ベンゾキノン−ビス(イモニウムの臭素塩)、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジメチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの塩素塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ドデシルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのヘキサフルオロアンチモン酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのフッ化ホウ素酸塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジ−n−ブチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムのフッ素塩、N,N,N’,N’−テトラキス(p−ジエチルアミノフェニル)−p−フェニレンジアミニウムの過塩素酸塩等が挙げられる。
【0035】
このような赤外線吸収成分cの使用割合は、樹脂成分100質量部に対して0.01〜1質量部、特に、0.01〜0.7質量部であることが好ましい。
この割合が0.01質量部未満の場合には、当該赤外線吸収成分cを添加することによる赤外線の吸収性を向上させる効果が十分に得られず、一方、この割合が1質量部を超える場合には、中間層の可視光線領域における光線透過率が低下し、好ましくない。
【0036】
〈その他の成分〉
本発明においては、中間層には、これを構成する樹脂成分と相溶性を有する種々の可塑剤を含有させることができ、これにより、赤外線吸収成分として用いられる金属イオンの樹脂成分中への溶解性を高めることができる。
このような可塑剤の具体例としては、リン酸トリクレジル、リン酸トリフェニル等のリン酸エステル系可塑剤、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸系可塑剤、ジブチルセバケート、ブチルリシノレート、メチルアセチルリシノレート、ブチルサクシネート等の脂肪酸系可塑剤、ブチルフタリルブチルグリコレート、トリエチレングリコールジブチレート、トリエチレングリコールジ−2−エチルブチラート、ポリエチレングリコール等のグリコール系可塑剤等が挙げられる。
【0037】
さらに、中間層には、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系またはサリチル酸系の紫外線吸収剤、その他の抗酸化剤、安定剤等を含有させることができる。
また、前述のリン酸基含有化合物として、重合性官能基を有するリン酸エステルを用いるときには、重合開始剤として有機過酸化物や光重合開始剤を含有させることもできる。特に、有機過酸化物としては、基層または上層と中間層とを積層する際の温度条件において重合が開始するような半減期温度が比較的高いものを選択するのが好ましい。
【0038】
以上のように、中間層は、樹脂成分中に赤外線吸収成分および必要に応じて用いられるその他の成分を含有してなるものであるが、このような中間層を基層および上層との間に形成して複合体を得るためには、例えば以下の方法を用いることができる。但し、中間層を形成して複合体を得る方法は、これに限定されるものではない。
【0039】
樹脂成分と、赤外線吸収成分と、必要に応じて用いられるその他の成分とを混合することにより、中間層形成材料を調製し、この中間層形成材料をフィルム状またはシート状に成形することにより、中間層用成形体を製造する。この中間層用成形体を、予め用意された基層用成形体と上層用成形体との間に配置して接着させる。
【0040】
以上において、各成分を混合して中間層形成材料を調製する手段としては、ヘンシェルミキサー等の混合機により混合する手段、ロール混練機、或いは混練押出機等により混練混合する手段を用いることができる。
また、各成分を適宜の有機溶剤に分散させ、この分散液から有機溶剤を除去する手段を用いることができる。
また、中間層用成形体を製造する手段としては、熱可塑性樹脂の成形加工法である溶融押出成形法、カレンダー成形法、プレス成形法などを用いることができる。
中間層用成形体と、基層用成形体および上層用成形体とを接着させる手段としては、プレス法、マルチロール法、減圧法などの加圧または減圧により接着する手段、オートクレーブ等を用いて加熱することにより接着させる手段またはこれらの組み合わせによる手段を用いることができる。
そして、樹脂成分として、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体またはその部分鹸化物を用いることにより、中間層と基層および上層とが十分な強度で接着された赤外線吸収性複合体が得られる。
【0041】
このようにして形成される中間層は、その厚みが0.1〜10mm,特に、0.3〜5mmであることが好ましい。中間層の厚みが0.1mm未満の場合には、赤外線吸収性が高い中間層を得ることが困難となって、得られる複合体の熱線吸収性が不十分なものとなることがある。一方、中間層の厚みが10mmを超える場合には、可視光線の透過率が高い中間層を得ることが困難となって、得られる複合体の透明性が低いものとなることがある。
【0042】
【実施例】
以下、本発明を実施例を用いて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
尚、以下において、「部」は「質量部」を意味する。
【0044】
〔実施例1〕
無水酢酸銅28部と、ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート100部とを60℃で加熱混合することにより、ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート中に酢酸銅を十分に分散させ、次いで、この混合物10部に、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」(積水化学(株)製)20部と、メチルエチルケトン80部とを添加して攪拌混合することにより、2価の銅イオンとリン酸基含有化合物とポリビニルブチラール樹脂とを含有してなる分散液を得た。この分散液において、ポリビニルブチラール樹脂100質量部に対する2価の銅イオンの割合は3.8質量部である。
この分散液をテフロン製平底容器に流延し、60℃で減圧処理することにより、溶剤を除去して中間層形成材料を調製した。
この中間層形成材料をテフロン製の一対のプレス板に挟み、加圧面の温度が150℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、厚みが1mmのシート状の中間層用成形体を得た。
この中間層用成形体を厚みが1mmの2枚のスライドガラスの間に挟み、加圧面の温度が130℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、それぞれガラスよりなる基層および上層の間に、中間層が形成された積層体よりなる本発明の熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0045】
〔実施例2〕
ポリビニルブチラール樹脂20部の代わりに、酢酸ビニル−エチレン共重合体「スミテートRB−11」(住友化学製)20部を用い、メチルエチルケトン80部の代わりに、トルエンとメチルエチルケトンとを質量比で1:1の割合で混合した混合有機溶剤を用いたこと以外は、実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0046】
〔実施例3〕
ジ−2−エチルヘキシルフォスフェート100部の代わりに、モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルフォスホネート100部を用いたこと以外は、実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を得た。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.5mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0047】
〔実施例4〕
無水安息香酸銅14.5部と、2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェートおよびビス(2−メタクリロイルオキシエチル−アッシドフォスフェート)が質量比で1:1の割合で混合された混合物14.7部と、メチルエチルケトン85.3部とを混合して反応させ、これを一晩静置して副生成物を除去した。次いで、得られた混合液40部と、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」20部と、メチルエチルケトン40部とを混合して、ポリビニルブチラール樹脂と2価の銅イオンとリン酸基含有化合物とを含有してなる分散液を調製した。この分散液において、ポリビニルブチラール樹脂100質量部に対する2価の銅イオンの割合は6.0質量部である。
この分散液を用いて実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0048】
〔実施例5〕
モノ(2−エチルヘキシル)2−エチルヘキシルフォスホネート100部に無水安息香酸銅30部を溶解してなる溶液20部と、ATO超微粒子粉体(住友セメント製)0.1部と、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックスB MB−1」70部とを用いて、実施例1と同様にして中間層形成材料を調製した。この中間層形成材料において、ポリビニルブチラール樹脂100部に対する2価の銅イオンの割合は1.4質量部である。
この中間層形成材料を用いて実施例1と同様にして熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは1.0mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0051】
〔実施例6〕
実施例2と同様にして中間層用成形体を製造し、この中間層用成形体を厚み1mmの2枚のポリカーボネート板の間に挟み、加圧面の温度が90℃となるよう加熱されたプレス機により、加圧力0.1MPaの条件でプレスすることにより、それぞれポリカーボネートよりなる基層および上層の間に、中間層が形成された積層体よりなる熱線吸収性複合体を製造した。この熱線吸収性複合体における中間層の厚みは0.4mmであった。
得られた熱線吸収性複合体の可視光線領域および赤外線領域における分光光線透過率を測定した。結果を表1に示す。
【0053】
【表1】
【0054】
表1から明らかなように、2価の銅イオンが含有された中間層を有する実施例1〜4および実施例6に係る熱線吸収性複合体は、波長700〜1000nmにおける光線透過率が低いものであり、また、2価の銅イオンおよびATO微粒子が含有された実施例5に係る熱線吸収性複合体は、波長700nm以上の領域における光線透過率が低いものであることが確認された。
【0055】
【発明の効果】
本発明の熱線吸収性複合体は、透明性材料よりなる基層と透明性材料よりなる上層との間に、特定の赤外線吸収成分が含有されてなる中間層が形成されているため、近赤外線またはこれより長い波長域の光線を高い効率で遮断若しくは減衰させる性能を有し、しかも、可視光線の透過率が大きいものである。また、基層および上層を構成する材料を選択することにより、十分な耐熱性や表面硬度を容易に得ることができる。また、樹脂成分として接着性を有する特定の合成樹脂を用いることにより、当該中間層を、基層と上層との接着層として利用することができる。従って、本発明の熱線吸収性複合体は、熱線の照射を防止することが要求される用途への適用に有用であり、例えば、建築物、自動車、車両等の窓材として好適に用いることができる。
Claims (6)
- 中間層には、赤外線吸収成分として酸化インジウムおよび/または酸化スズからなる粒子状金属酸化物が含有されていることを特徴とする請求項1に記載の熱線吸収性複合体。
- 中間層には、赤外線吸収成分である2価の銅イオンよりなる金属イオンが樹脂成分100質量部に対して0.1〜10質量部の割合で含有されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の熱線吸収性複合体。
- 中間層には、赤外線吸収成分である酸化インジウムおよび/または酸化スズからなる粒子状金属酸化物が、樹脂成分100質量部に対して0.01〜5質量部の割合で含有されていることを特徴とする請求項2または請求項3に記載の熱線吸収性複合体。
- 中間層を構成する樹脂成分が、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体またはその部分鹸化物であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一に記載の熱線吸収性複合体。
- 基層および/または上層がガラスにより構成されていることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一に記載の熱線吸収性複合体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01389396A JP3933215B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 熱線吸収性複合体 |
PCT/JP1997/000193 WO1997028226A1 (fr) | 1996-01-30 | 1997-01-29 | Materiau composite absorbant le rayonnement thermique |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP01389396A JP3933215B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 熱線吸収性複合体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09211220A JPH09211220A (ja) | 1997-08-15 |
JP3933215B2 true JP3933215B2 (ja) | 2007-06-20 |
Family
ID=11845869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP01389396A Expired - Fee Related JP3933215B2 (ja) | 1996-01-30 | 1996-01-30 | 熱線吸収性複合体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3933215B2 (ja) |
WO (1) | WO1997028226A1 (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69824299T2 (de) * | 1997-08-26 | 2004-10-21 | Kureha Chemical Ind Co Ltd | Kupfer-enthaltende phosphorsäureester-derivate und verfahren zu ihrer herstellung, nahinfrarot-aborber, und im nahinfrarot absorbierende acrylharzzubereitungen |
WO1999026952A1 (fr) * | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Composes de phosphate, composes de phosphate et de cuivre et leurs procedes de preparation, substance et composition absorbant les infrarouges proches et leur produit de mise en application |
WO1999026951A1 (fr) * | 1997-11-21 | 1999-06-03 | Kureha Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Compose de phosphate et de cuivre, composition contenant ce compose et produit de mise en application |
EP0942039B1 (en) * | 1998-03-11 | 2004-10-06 | Nisshinbo Industries, Inc. | Near infrared absorbent polycarbonate films |
JP2000007871A (ja) * | 1998-06-23 | 2000-01-11 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 樹脂組成物およびその製造法、光学フィルターおよびこれを備えた装置、熱線吸収フィルター、光ファイバーおよび眼鏡レンズ |
JP4422866B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2010-02-24 | 株式会社クレハ | 光学フィルタ及びその製造方法 |
JP2001166130A (ja) * | 1999-12-08 | 2001-06-22 | Gifu Univ | 光突発脳波反応防止フィルター |
JP2002071941A (ja) | 2000-08-25 | 2002-03-12 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 光学材料 |
US6710197B1 (en) * | 2002-11-12 | 2004-03-23 | Chung-Shan Institute Of Science And Technology | Method for the preparation of copper (meth) acryloyloxyethyl phosphate coordination complex |
WO2005012424A1 (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-10 | Kureha Chemical Industry Company, Limited | 樹脂組成物、シート状樹脂組成物及び積層体 |
AU2004276119A1 (en) * | 2003-09-26 | 2005-04-07 | Kureha Corporation | Absorptive composition for infrared ray and absorptive resin composition for infrared ray |
WO2005087870A1 (ja) | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Kureha Corporation | 可溶化剤及びこれを含有する組成物 |
GB0407114D0 (en) | 2004-03-30 | 2004-05-05 | Colormatrix Europe Ltd | Polymer additives and methods of use thereof |
WO2005111170A1 (ja) * | 2004-05-17 | 2005-11-24 | Kureha Corporation | 近赤外光吸収材料、近赤外光吸収性組成物及び積層体 |
JPWO2006009211A1 (ja) * | 2004-07-21 | 2008-07-31 | 株式会社クレハ | 近赤外光吸収材料及び積層体 |
JP4926712B2 (ja) * | 2004-09-29 | 2012-05-09 | 株式会社クレハ | 近赤外光吸収材料及び積層体 |
GB2422344B (en) * | 2005-01-24 | 2008-08-20 | Univ Montfort | Rapid prototyping method using infrared sintering |
JP6186675B2 (ja) * | 2012-07-05 | 2017-08-30 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス樹脂積層体 |
JP5890805B2 (ja) * | 2012-07-27 | 2016-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
JP6114235B2 (ja) * | 2013-07-03 | 2017-04-12 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線遮光組成物、赤外線遮光層、赤外線カットフィルタ、カメラモジュール |
US10830931B2 (en) * | 2015-07-09 | 2020-11-10 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Infrared cut filter, imaging device, and method for producing infrared cut filter |
JP6849314B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2021-03-24 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55142045A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Methacrylic resin material having excellent solar radiation absorptivity, and its preparation |
JP2768986B2 (ja) * | 1988-07-29 | 1998-06-25 | 株式会社クラレ | 近赤外線吸収性樹脂組成物およびその製造方法 |
JPH02179649A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-12 | Minolta Camera Co Ltd | 赤外光吸収剤および画像形成材料 |
JPH07101756A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-04-18 | Sekisui Chem Co Ltd | 透明積層体 |
-
1996
- 1996-01-30 JP JP01389396A patent/JP3933215B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-01-29 WO PCT/JP1997/000193 patent/WO1997028226A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1997028226A1 (fr) | 1997-08-07 |
JPH09211220A (ja) | 1997-08-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3933215B2 (ja) | 熱線吸収性複合体 | |
JP5611631B2 (ja) | 近赤外線吸収フィルターおよびその製造方法 | |
JP4422866B2 (ja) | 光学フィルタ及びその製造方法 | |
CN101186739B (zh) | 激光焊接用光吸收树脂组合物和光吸收树脂成型体以及光吸收树脂成型体的制造方法 | |
JP5950882B2 (ja) | 可塑化可能な断熱組成物、透明な断熱中間シート、および透明な断熱サンドイッチ構造パネル | |
CN105722914B (zh) | 含有热线屏蔽微粒的组合物及其制造方法、热线屏蔽膜、以及热线屏蔽夹层透明基材 | |
JP2010202495A (ja) | 熱線遮蔽合わせガラスおよびその製造方法 | |
JP4926699B2 (ja) | 可溶化剤及びこれを含有する組成物 | |
JP2002006101A (ja) | 光学材料 | |
JP5775349B2 (ja) | 熱線遮蔽合わせガラス用中間膜、及び熱線遮蔽合わせガラス | |
JP5169863B2 (ja) | 複合タングステン酸化物微粒子分散体の製造方法、および当該分散体を用いた成形体の製造方法、並びに成形体 | |
WO1997028212A1 (fr) | Absorbeur de rayons lumineux hors du spectre visible | |
JPH09208775A (ja) | 塩化ビニル系樹脂組成物 | |
JPH11315215A (ja) | 銅化合物含有樹脂組成物、樹脂板およびpdp用前面板 | |
JP3780612B2 (ja) | 近赤外吸収樹脂組成物及び材料 | |
JP2000310948A (ja) | 近赤外光吸収性化合物、その製造方法並びに近赤外光吸収剤及びディスプレイ前面板 | |
JP5880376B2 (ja) | 複合タングステン酸化物微粒子分散液 | |
JP5058709B2 (ja) | 赤外線レーザー光遮蔽フィルム | |
JP5061665B2 (ja) | マスターバッチとその製造方法、及びこのマスターバッチを用いた成形体並びに該成形体を用いた積層体 | |
JP3419416B2 (ja) | 熱線遮蔽性メタクリル樹脂組成物 | |
WO2005097848A1 (ja) | 重合性組成物、重合体及び積層体 | |
JP2000248210A (ja) | 熱線吸収性コーティング剤及び熱線吸収性複合体並びに熱線吸収性粘着剤 | |
JPH06324213A (ja) | 複合光学フィルター | |
JP2001122923A (ja) | 光学材料及び光学部材 | |
JPS5838446B2 (ja) | フホウワポリエステルケイヒカリコウカセイジユシセイケイブツノ セイゾウホウホウ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060829 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070313 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |