JP3811885B2 - ４−チアゾリルメチル誘導体の製造方法 - Google Patents
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Description
技術分野
本発明は、簡便かつ経済的な方法を用いて、非天然型アミノ酸であるチアゾリルアラニン誘導体を製造する方法に関する。
背景技術
４−ハロメチルチアゾール、３−（４−チアゾール）アラニン等のチアゾリルアラニン誘導体は、レニン阻害剤として知られているＥＳ ６８６４（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２０，２２，３５７０（１９９０））、およびＴＲＨ（サイロトロピン放出ホルモン）誘導体（ＷＯ９８／０８８６７）である下記の一般式（Ｖ）：
（式中、Ｙは置換されていてもよいアルキル）で表わされる化合物の重要な中間体化合物である。また、非天然型アミノ酸であるチアゾリルアラニン誘導体は、コンビナトリアルケミストリーのツールとしても有用である。
従来、チアゾリルアラニン誘導体の製造方法としては、以下に示す２つの方法が知られている。すなわち、第１の方法としては、（１）ホルムアミドと五酸化リンを反応させ、チオホルムアミドとするが（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１４９（１９７３））、（１’）ホルムアミドとＬａｗｅｓｓｏｎ’ｓ ｒｅａｇｅｎｔを反応させることにより、チオホルムアミドとした後（Ｂｕｌｌ．，Ｓｏｃ．，Ｃｈｉｍ．，Ｂｅｌｇ．，８７，３，２２９（１９７８））、（２）チオホルムアミドと１，３−ジクロロ−２−プロパノン反応させ４−クロロメチルチアゾールとし、（３）アルキル化、脱炭酸、光学分割を行うことにより光学活性な３−（４−チアゾール）アラニンを製造する方法（Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｍｍｕｎ．，２０，２２，３５０７（１９９０）、Ｃｈｅｍ．，Ｐｈａｒｍ．，Ｂｕｌｌ．，３８，１，１０３（１９９０））が知られている。
しかしながら、（１）工程においては、反応液中の不溶成分が硫黄化合物特有の悪臭を有すること、水およびジメチルスルホキシド以外の有機溶媒に難溶であるため、廃棄処分が困難である等の問題を有する。また、（１’）工程においては、Ｌａｗｅｓｓｏｎ’ｓ ｒｅａｇｅｎｔが高価であるため大量合成には適さない、（２）工程においては、１，３−ジクロロ−２−プロパノンが催涙性を有する等の問題がある。
第２の方法としては、（１）ジエチル（３−ブロモ−２−オキソ−プロピル）アセトアミドマロネートとチオホルムアミドを反応させ、ジエチル （４−チアゾリルメチル）アセトアミドマロネートとし、（２）加水分解、脱炭酸反応、エステラーゼによる光学分割を行うことにより光学活性な３−（４−チアゾール）アラニンを製造する方法（ＵＳ５，２７５，９５０）が知られている。この方法においても、上記の方法と同様にチオホルムアミドを使用する必要がある。
発明の開示
本発明は、簡便かつ経済的に、非天然型アミノ酸であるチアゾリルアラニン誘導体を製造する方法の提供を目的としている。該チアゾリルアラニン誘導体は、医薬品の中間体、コンビナトリアルケミストリーのツールとして有用である。
本発明者らは、４−メチルチアゾールを出発原料として、大量合成に適したチアゾリルアラニン誘導体の製造方法を見出した。
すなわち、Ａ）４−メチルチアゾールを、溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、Ｎ−ハロスクシンイミドと反応させることからなる、一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒ１は水素原子またはハロゲン、Ｈａｌはハロゲン）で表わされる化合物の製造方法に関する。
さらに詳しくは、Ｂ）（ａ）４−メチルチアゾールを、溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、Ｎ−ハロスクシンイミドと反応させ、一般式（Ｉ）：
（式中、Ｒ１は水素原子またはハロゲン、Ｈａｌはハロゲン）で表わされる化合物（Ｉ）を得る工程；
（ｂ）化合物（Ｉ）を塩基の存在下、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２はアミノ基の保護基、Ｒ３は低級アルキル）と反応させ、一般式（ＩＩ）：
（式中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は前記と同意義）で表わされる化合物（ＩＩ）を得る工程；
（ｃ）Ｒ１がハロゲンである場合は、化合物（ＩＩ）を脱ハロゲン化反応に付する工程；および、
（ｄ）化合物（ＩＩ）を加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応に付する工程を含む、一般式（ＩＩＩ）：
（式中、Ｒ２’は水素原子またはアミノ基の保護基）で表わされる化合物または一般式（ＩＶ）：
（式中、Ｒ２’’はＲ２’と異なって水素原子またはアミノ基の保護基）で表わされる化合物の製造方法。
Ｃ）Ｂ）で得られた一般式（ＩＩＩ）または一般式（ＩＶ）で表わされる化合物を、ペプチド結合形成反応に付すことを特徴とする、一般式（Ｖ）：
（式中、Ｙは置換されていてもよいアルキル）で表わされる化合物の製造方法。
Ｄ）溶媒がクロロベンゼン、ラジカル反応開始剤が２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−クロロスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｅ）溶媒が四塩化炭素、ラジカル反応開始剤が２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−ブロモスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｆ）溶媒が四塩化炭素、ラジカル反応開始剤が過酸化ベンゾイル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−ブロモスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｇ）（ｅ）４−メチルチアゾールを、クロロベンゼン中、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルの存在下、Ｎ−クロロスクシンイミドと反応させる工程；および、
（ｆ）得られた化合物を塩酸で処理して塩酸塩とした後、脱塩反応に付する工程を含む、４−クロロメチルチアゾールの製造方法。
Ｈ）（ｇ）４−メチルチアゾールを、四塩化炭素中、過酸化ベンゾイルの存在下、Ｎ−ブロモスクシンイミドと反応させ、５−ブロモ−４−ブロモメチルチアゾールとする工程；
（ｈ）５−ブロモ−４−ブロモメチルチアゾールを塩基の存在下、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）と反応させ、一般式（ＶＩ）：
（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）で表わされる化合物（ＶＩ）を得る工程；および、
（ｉ）化合物（ＶＩ）を、脱ハロゲン化反応、加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応に付す工程を含む、一般式（ＩＩＩ）：
（式中、Ｒ２’は前記と同意義）で表わされる化合物または一般式（ＩＶ）：
（式中、Ｒ２’’は前記と同意義）で表わされる化合物の製造方法、に関する。
（ｄ）および（ｉ）工程は、加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応の順に行うことが好ましい。
Ｃ）において、ペプチド結合形成反応は、２度のペプチド結合形成反応を順次行うことが好ましい。
本明細書中、「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を意味する。好ましくは、塩素および臭素が挙げられる。
本明細書中、「低級アルキル」とはＣ１〜Ｃ６の直鎖状または分枝上のアルキルを意味する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロプル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル等が挙げれる。好ましくは、メチルおよびエチルが挙げられる。
本明細書中、「アミノ基の保護基」としては、アセチル、ｎ−ブチリルが挙げられる。
本明細書中、「置換されていてもよいアルキル」とは、全ての可能な位置で１個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ（例えば、メトキシ、エトキシ）、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル）、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、カルボキシ、カルバモイル、アルキルオキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル（例えば、フェニルオキシカルボニル）、ニトロ、シアノ、ＳＯｐＲＡ（ｐは１〜３の整数、ＲＡは水素またはアルキル）、アルキルで置換されていてもよいＰＯ（ＯＨ）２もしくはＰ（Ｏ）ＯＨ、置換もしくは非置換アミノ（例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、カルバモイルアミノ）、置換されていてもよいアリール（例えば、フェニル、トリル）、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環基、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、複素環状イミノ、ヒドラジノ、ヒドロキシアミノ、アルキルオキシアミノ、ホルミル等を有していてもよい直鎖状もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ６アルキル、または環状のＣ３〜Ｃ６アルキルを意味する。例えば、メチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチル、モルホリノメチル、ピペリジノメチル、Ｎ−メチル−１−ピペラジニルメチル、エチルカルボニルメチル、モルホリノカルボニルメチル、アセチルオキシメチル等が挙げられる。好ましい置換基としては、フェニル、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオキシ、モルホリノ、ピペリジノ、Ｎ−アルキル置換ピペラジニル、アルキルカルボニル、モルホリノカルボニル、アシルオキシが挙げられる。
本明細書中、「溶媒」としては、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。好ましくは、四塩化炭素、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。
本明細書中、「ラジカル反応開始剤」としては、２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、ベンゾイルパーオキシド（ＢＰＯ）が挙げられる。
発明を実施するための最良の形態
本発明の製造方法を以下の反応式で示し、詳細に説明する。
（製造例１）
（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）
第１工程−１
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、グロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、グロロベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−クロロスクシンイミド０．９〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量、およびＡＩＢＮ０．０５〜０．２当量、好ましくは０．０５〜０．１当量を加え（ＢＰＯを用いてもよい）、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、４−クロロメチルチアゾールを得る。
第１工程−２
上記工程で得た化合物を、塩酸で処理すれば化合物（ＶＩＩＩ）を得ることができる。例えば、酢酸エチル、トルエン等の溶媒に溶解し、１〜４規定塩酸−酢酸エチル溶液等を加え、析出する結晶を濾取することにより行うことができる。
第２工程（脱塩反応）
化合物（ＶＩＩＩ）を水に溶解し、トルエン、酢酸エチル等の有機溶媒を加えた後、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム等を加えることにより、化合物（ＩＸ）を得ることができる。
第３工程
ナトリウムメトキシド（１．０〜１．２当量、好ましくは１．０〜１．１当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（１．０〜１．２当量、好ましくは１．０〜１．１当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．８〜１．２当量、好ましくは０．９〜１．０当量）を加え、５０〜１００℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＩＸ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得る。
第４工程（加水分解反応および脱炭酸反応）
通常行われる加水分解反応および脱炭酸反応の条件で行うことができる。例えば、化合物（Ｘ）を１〜４規定の水酸化ナトリウム水溶液に懸濁し、２５〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で０．５〜３時間、好ましくは１〜２時間攪拌する（加水分解反応）。この溶液に濃塩酸を加え、液性をｐＨ３〜４、好ましくはｐＨ３．５に調整し、７０〜１００℃、好ましくは１００℃にて１〜５時間、好ましくは２〜４時間攪拌する（この間ｐＨは４付近に保つ）。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＩ）を得ることができる。
第５工程（光学分割）
本工程は、酵素（アシラーゼ）を用いて、Ｌ体もしくはＤ体のどちらか一方のＮ−アシル基を加水分解する工程である。用いる酵素を選択することにより、望みの立体配置を有するアミノ酸を得ることができる（Ａｇｒｉｃ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，４４，１０８９−１０９５（１９８０）、季刊化学総説，Ｎｏ．６（１９８９），９７−９９，日本化学会）。また、生じたアミノ酸のアミノ基をＢｏｃ等の保護基で保護することにより、精製工程をより簡便に行うことができる。
（製造例２）
（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）
第１工程
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、トリフルオロメチルベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．５〜１．５当量、好ましくは０．８〜０．９当量、およびＡＩＢＮ０．０２〜０．２当量、好ましくは０．０５〜０．１当量を加え、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＩＶ）を得る。
第２工程
ナトリウムメトキシド（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．０当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．１当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．０当量）を加え、５０〜８０℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＸＩＶ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得る。
第３工程
製造例１−第４〜第５工程と同様に行うことができる。
（製造例３）
（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）
第１工程
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、トリフルオロメチルベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−ブロモスクシンイミド１．８〜３．０当量、好ましくは２．０〜２．５当量、およびＢＰＯ０．０２〜０．５当量、好ましくは０．２〜０．３当量を加え、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＶ）を得る。
第２工程
ナトリウムメトキシド（０．８〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（０．８〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．８〜１．５当量、好ましくは０．８〜１．０当量）を加え、５０〜８０℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＸＶ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜８０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＶＩ）を得る。
第３工程（脱ハロゲン化反応）
通常行われる脱ハロゲン化反応により行うことができる。例えば、化合物（ＸＶＩ）をメタノール、エタノール、酢酸エチル、酢酸等の溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、０℃から１００℃、好ましくは２０〜３０℃で、Ｐｄ−Ｃ、ＰｔＯ２、Ｒｈ−Ａｌ２Ｏ３、ラネーニッケル等の触媒、好ましくはＰｄ−Ｃを加え、１〜３気圧、好ましくは２〜３気圧で、１．０〜５．０時間、好ましくは２．０〜３．０時間水素添加する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得ることができる。
第４工程
製造例１−第４〜第５工程と同様に行うことができる。
（製造例４）
３つのアミノ酸誘導体を２度のペプチド結合形成反応を行うことにより化合物（Ｖ）を合成することができる。一例として、上記の方法で得られる化合物（ＶＩＩＩ）を用いて化合物（Ｖ’）を合成する方法を以下に示した。
（式中、Ｒ４はカルボキシル基の保護基、Ｙは前記と同意義）
第１工程（カルボキシル基の保護）
製造例１〜３で得られた化合物（ＶＩＩＩ）のカルボキシル基を、メチルエステル、ベンジルエステル、ｔ−ブチルエステル、ジフェニルメチルエステル等のエステルとして保護する（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）。例えば、ジフェニルメチルエステルとして保護する場合は、化合物（ＸＩＩＩ）をメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒とテトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒の混合溶媒に溶解し、０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃においてジフェニルジアゾメタン１〜３当量、好ましくは１〜２当量を１０分〜１時間、好ましくは２０〜４０分かけて加える。同温度で３０分〜３時間、好ましくは１〜２時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＶＩＩ）を得る。
第２工程（ペプチド結合形成反応）
「ペプチド合成」（泉屋信夫、丸善）等に記載されている、通常用いられるペプチド結合形成反応法に従って行うことができる。
通常用いられるペプチド結合形成反応としては、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の縮合剤を用いる方法、アジト法、酸クロリド法、酸無水物法、活性エステル法等があげられる。出発原料が本ペプチド形成反応の障害となる置換基（アミノ、カルボキシ、ヒドロキシ等）を有する場合には、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）等に記載の方法で予め保護し、望ましい段階でその保護基を除去すればよい。例えば、化合物（ＸＶＩＩ）および文献記載の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２７，２５９９（１９７１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジン塩酸塩を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、−１０〜１０℃、好ましくは氷冷下、トリエチルアミン等の塩基およびジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液を加える。１−ヒドロキシベンゾトリアゾールを加えてもよい。１０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で１時間〜１日、好ましくは５〜１０時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＶＩＩＩ）を得ることができる。
第３工程（Ｒ４の脱保護反応＋ペプチド結合形成反応）
通常行われる脱保護反応により行うことができる（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ））。例えばＲ５がジフェニルメチルである場合は、化合物（ＸＶＩＩＩ）を−１０〜１０℃、好ましくは氷冷下で、アニソールおよびトリフルオロ酢酸を加え、同温度で５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。２０〜４０℃に昇温し、１〜４時間、好ましくは２〜３時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより脱保護体を得ることができる。
得られた脱保護体に第２工程と同様のペプチド結合形成反応を用いてピロリジン誘導体を反応させ、化合物（Ｖ’）を得る。
（製造例５）
（式中、Ｒ５はアミノ基の保護基、Ｙは前記と同意義）
第１工程（アミノ基の保護）
製造例１〜３で得られた化合物（ＶＩＩＩ）のアミノ基を、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、フタロイル、トリフルオロアセチル等のアミノ基の保護基で保護する（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）。例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルで保護する場合は、化合物（ＸＩＩＩ）をジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃でＢｏｃ２Ｏを加え、１〜５時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＩＸ）を得ることができる。
第２工程（ペプチド結合形成反応）
製造例４―第２工程と同様の反応により行うことができる。
第３工程（Ｒ５の脱保護反応＋ペプチド結合形成反応）
アミノ基の脱保護反応は、例えば保護基がｔ−ブチルオキシカルボニルである場合は、化合物（ＸＩＸ）を酢酸エチル等の溶媒に溶解し、−１０〜３０℃、好ましくは氷冷下、１〜４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液を加え、同温度で１〜５時間、好ましくは２〜３時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、脱保護体を得ることができる。
得られた脱保護体に上記と同様のペプチド結合形成反応を行い、化合物（Ｖ’）を得る。
実施例中、以下の略号を使用する。
Ａｃ：アセチル
Ｂｏｃ：ｔ−ブチルオキシカルボニル
実施例
実施例１
第１工程
化合物（１）１６３．５ｇ（１．６５ｍｏｌｅ）をクロロベンゼン３Ｌに溶解させ、１３０℃に加温して、Ｎ−クロロスクシンイミド２４２ｇ（１．１ｍｏｌｅ ｅｑ）、２−２’−アゾビスイソブチロニトリル１３．５ｇ（０．０５ｍｏｌｅｅｑ）を加えた。反応液を１５分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣３５８ｇ（クロロベンゼンを含む）を得た。この残渣を酢酸エチル４Ｌに溶解させ４規定塩酸の酢酸エチル溶液２６０ｍｌ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。析出晶をろ別し、４−クロロメチルチアゾール塩酸塩（２）１２２ｇ（４３．５％）を得た。
融点：＞２００℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．８６（ｓ，２Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），９．１４（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），１１．２２（ｂｒ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ４Ｈ５ＮＳＣｌ２として）
計算値：Ｃ；２８．２５％，Ｈ；２．９６％，Ｎ；８．２４％，Ｓ；１８．８５％，Ｃｌ；４１．７０％
実測値：Ｃ；２８．２７％，Ｈ；２．９７％，Ｎ；８．２１％，Ｓ；１８．７２％，Ｃｌ；４１．４５％
第２工程
化合物（２）１５４ｇ（０．９ｍｏｌｅ）を水０．５Ｌに溶解させ、トルエン３Ｌを加え重曹１１３ｇ（１．５ｍｏｌｅ ｅｑ）を加えた。有機層は水洗、水層はトルエンにて抽出した。有機層を合併し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。４−クロロメチルチアゾール（３）１２４ｇ（１０％のｔｏｌｕｅｎｅを含む、収率９３％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．７６（ｓ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．８１（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第３工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液３０６ｇ（１．０６ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート９６ｇ（１．０６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、２時間還流した。次いで、化合物（３）１２４ｇ（１０％のトルエンを含む。０．８４ｍｏｌｅ）のエタノール０．６Ｌ溶液を５０℃にて加え、同温度にて３時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（４）２０５ｇ（７２．５％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ１３Ｈ１８Ｎ２Ｏ５Ｓとして）
計算値：Ｃ；４９．６５％，Ｈ；５．７３％，Ｎ；８．９１％，Ｓ；１０．１８％
実測値：Ｃ；４９．６４％，Ｈ；５．６９％，Ｎ；８．８８％，Ｓ；１０．１７％
第４工程
化合物（４）２０１．２ｇ（０．６４ｍｏｌｅ）に３規定苛性ソーダ水溶液９６０ｍｌ（３．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、５０℃にて１．５時間攪拌した。濃塩酸１００ｍｌを加え、液性をｐＨ＝３．５に調整して、１００℃にて３時間攪拌した（この間ｐＨを４付近に保つ）。冷却後、アシラーゼ（東京化成社製、天野製薬社製）１２０ｇを加え、ｐＨ＝６．７に調整して３７℃にて４時間攪拌した。固定化酵素をろ過し、ろ液にジオキサン５００ｍｌ、ＢＯＣ２Ｏ９０．８ｇ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）、トリエチルアミン５８ｍｌ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え２５℃にて２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１Ｌを加え攪拌、分液した。水層をｐＨ＝３．０に調整して、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。化合物（８）７０ｇ（４０％）を得た。
融点：１１８−１１９℃
［α］Ｄ＝＋１３１°（ｃ＝１．００１，ＣＨＣｌ３，２５℃）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：８．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．５８（１Ｈ，ｍ）３．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６ ａｎｄ １４．５Ｈｚ），３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４ ａｎｄ １４．５Ｈｚ），１．４７（９Ｈ，ｓ）．
元素分析（Ｃ１１Ｈ１６Ｎ２Ｏ４Ｓ）
計算値：Ｃ，４８．３２；Ｈ，５．９２；Ｎ，１０．２９；Ｓ，１１．７７．
実測値：Ｃ，４８．０７；Ｈ，５．８５；Ｎ，１０．１７；Ｓ，１１．７１．
実施例２
第１工程
化合物（１）４．９６ｇ（５０ｍ ｍｏｌｅ）を四塩化炭素１２５ｍｌに溶解し、７５℃に加温して、Ｎ−ブロモスクシンイミド７．５７ｇ（０．８５ｍｏｌｅ ｅｑ．）、２−２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４１ｇ（０．０５ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。６０分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣７．０５ｇ（化合物（９）の純度７０％、収率５５％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．６５（ｓ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．８２（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第２工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液１３．６ｇ（０．８ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート８．６９ｇ（０．８ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、１時間還流した。次いで、化合物（９）７．０５ｇ（０．４０ｍｏｌｅ）のエタノール７０ｍｌ溶液を５５℃にて加え、同温度にて１．５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、トルエン−酢酸エチル（４：１−２：１）にて溶出した。溶媒留去後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（４）６．３０ｇ（化合物（１）から４０．０％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第３工程
実施例１−第４工程と同様にして化合物（８）を得ることができる。
実施例３
第１工程
化合物（１）４．６０ｇ（４６．４ｍ ｍｏｌｅ）を四塩化炭素１．１５ｍｌに溶解させ７５℃に加温して、Ｎ−ブロモスクシンイミド２０．６５ｇ（２．５０ｍｏｌｅ ｅｑ．）、ベンゾイルパーオキシド２．８０ｇ（０．２５ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。６０分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣９．６５ｇ（化合物（１０）の純度８０％、収率５３％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．６１（ｓ，２Ｈ），８．７８（ｓ，１Ｈ）
第２工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液１２．８ｇ（１．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート８．１６ｇ（１．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、１時間還流した。次いで、化合物（１０）９．６５ｇ（３７．６ｍｏｌｅ）のエタノール１０ｍｌ溶液を５５℃にて加え、同温度にて１．５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、トルエン−酢酸エチル（４：１−３：１）にて溶出した。溶媒留去後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（１１）８．１０ｇ（化合物（１）から５７．８％）を得た。
融点：１２４−６℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９９（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），４．２９（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．６５（ｂｒ，１Ｈ），８．６５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ１３Ｈ１７Ｎ２Ｏ５ＳＢｒとして）
計算値：Ｃ；３９．７０，Ｈ；４．３６，Ｎ；７．１２，Ｓ；８．１５，Ｂｒ；２０．３２
実測値：Ｃ；３９．６８，Ｈ；４．２９，Ｎ；７．１６，Ｓ；８．１０，Ｂｒ；２０．２７
第３工程
化合物（１１）１．９７ｇ（５ｍ ｍｏｌｅ）をメタノール５０ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ０．２０ｇ、酢酸ナトリウム３水和物０．７５ｇ（１．１ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え４ｋｇ／ｃｍ２で水添した。反応混合物よりＰｄ−Ｃをろ別し、メタノールを減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解して、稀重曹水に注ぎ込み抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。化合物（４）１．５３ｇ（９７．５％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第４工程
実施例１―第４工程と同様にして化合物（８）を得ることができる。
実施例４
第１工程
化合物（８）（２１．７９ｇ，８０ｍｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸（８０ｍｌ）を加え水冷下２時間半撹拌した。ついで反応混合物にｐ−トルエンスルホン酸水和物（１５．２２ｇ，８０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮乾固した。得られた残渣に水およびメタノールを加えて減圧下濃縮乾固することにより過剰のトリフルオロ酢酸を除去した。得られた残渣にエーテルを加え析出した結晶を濾取して化合物（１２）２９．８ｇ（ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：９．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７０（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｍ），４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８ａｎｄ７．６Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｍ），２．３７（３Ｈ，ｓ）．
第２工程
化合物（１２）３８．８５ｇ（１１２．８ｍｍｏｌ）のエタノール（２００ｍｌ）―ＴＨＦ（６００ｍｌ）溶液に、室温で攪拌しながらジフェニルジアゾメタン（３９ｇ，２０１ｍｍｏｌ）を少量ずつ３０分間かけて加えた。反応混合物を室温で１時間撹拌した後、さらにジフェニルジアゾメタン（１０ｇ，５１．５ｍｍｏｌ）を加えて１時間攪拌した。反応混合物に酢酸（０．１ｍｌ）を加えて過剰の試薬を分解した後、減圧下濃縮乾固して溶媒を留去した。得られた残渣（９２ｇ）にエーテル（１Ｌ）を加えて結晶化させ、化合物（１３）４９．０５ｇ（９６．１％）を得た。
融点：１３９−１４０℃
［α］Ｄ＝−３４．７°（ｃ＝１．００６，ＣＨＣｌ３，２３℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５３，１６０２，１５１２，１４９６，１２６０，１２２４，１１７１，１１２４，１０３６，１０１２．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），７．７０（２Ｈ，ｍ），７．２−７．４（１３Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｓ），４．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），２．３６（３Ｈ，ｓ）．
元素分析（Ｃ２６Ｈ２６Ｎ２Ｏ５Ｓ２）
計算値：Ｃ，６１．１６；Ｈ，５．１３；Ｎ，５．４９；Ｓ，１２．５６．
実測値：Ｃ，６１．１４；Ｈ，５．３２；Ｎ，５．４１；Ｓ，１２．４６．
第３工程
シス―Ｌ−５−メチル−２−オキソ―オキサゾリジン−４−カルボン酸１３．９５ｇ（９６．１４ｍｍｏｌ）、化合物（１３）４９．０９ｇ（９６．１４ｍｍｏｌ）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール２．６ｇ（１９．２３ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン１４．１ｍｌ（１０１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１Ｌ）溶液に氷冷下、ＤＣＣ（２０．８３ｇ，１０１ｍｍｏｌ）を加えた。同温度で１０分間撹拌した後冷却浴を除き、室温でさらに２０時間攪拌した。析出した沈殿物を除去した後、濾液を減圧下濃縮乾固して油状残渣（８２．７ｇ）を得た。残渣を酢酸エチル（７００ｍｌ）に加温溶解し不溶物を濾去した。濾液を炭酸ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した。有機層にメタノール（２０ｍｌ）を加えた後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に少量まで濃縮した。析出した結晶を濾取し酢酸エチル―エーテル（２：３）混液で洗浄して化合物（１４）３５．６９ｇ（７９．８％）を得た。
さらに母液を減圧下濃縮乾固した後、酢酸エチル―エーテル混液から結晶化させ化合物（１４）２．６２ｇ（５．９％）を得た。
融点：１７６−１７７℃
［α］Ｄ＝−３９．２°（ｃ＝１．００７，ＣＨＣｌ３，２４℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７３９，１６８１，１５０８，１４５３，１３８６，１２３７，１１９３，１０８９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：８．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２−７．４（１０Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），５．７９（１Ｈ，ｓ），５．１２（１Ｈ，ｍ），４．９４（１Ｈ，ｍ），４．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８ａｎｄ９．０Ｈｚ），３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７ａｎｄ１５Ｈｚ），３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５ａｎｄ１５Ｈｚ），１．２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ２４Ｈ２３Ｎ３Ｏ５Ｓ）
計算値：Ｃ，６１．９２；Ｈ，４．９８；Ｎ，９．０３；Ｓ，６．８９．
実測値：Ｃ，６１．９５；Ｈ，５．０１；Ｎ，８．９４；Ｓ，６．６２．
第４工程−１
化合物（１４）４１．２４ｇ（８８．５９ｍｍｏｌ）に氷冷下、アニソール（２４０ｍｌ）およびトリフルオロ酢酸（１２０ｍｌ）を加え１５分間攪拌した。冷却浴を除いた後さらに室温で２時間３０分攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮乾固して得た油状残渣にエーテル（５００ｍｌ）を加えて粉末化し濾取した。得られた粉末を水（５０ｍｌ）−メタノール（３００ｍｌ）混液に加温溶解し不溶物を濾去した。濾液を減圧下に少量まで濃縮し、種晶およびメタノールを加え室温に３日間放置した。析出した結晶を濾取し脱保護体１４．８９ｇ（５６．１％）を得た。母液を減圧下濃縮乾固し、再びメタノール−エーテル混液から結晶化してさらに脱保護体１０．３ｇ（３８％）を得た。
融点：２１４−２１５℃
［α］Ｄ＝−４．２°（ｃ＝０．５，Ｈ２Ｏ，２２℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５３，１７０７，１６５５，１５４８，１５２９，１４０９，１３４３，１２６４，１２３６，１１０２，１０９２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：９．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），４．７７（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．６ａｎｄ８．７Ｈｚ），４．６６（１Ｈ，ｍ），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１ａｎｄ１５Ｈｚ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４ａｎｄ１５Ｈｚ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ１１Ｈ１３Ｎ３Ｏ５Ｓ）
計算値：Ｃ，４４．１４；Ｈ，４．３８；Ｎ，１４．０４；Ｓ，１０．７１．
実測値：Ｃ，４３．９４；Ｈ，４．４７８；Ｎ，１４．０９；Ｓ，１０．５８．
第４工程−２Ａ
脱保護体１２．１ｇ（４０．４８ｍｍｏｌ）およびＮ−ヒドロキシスクシンイミド（４．６６ｇ，４０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２４２ｍｌ）懸濁液に氷冷下、ＤＣＣ（８．３５ｇ，４０．４８ｍＭ）を加え３０分間撹拌した。冷却浴を除き、さらに室温で２時間撹拌した。得られた脱保護体のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル溶液を、文献記載の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２７，２５９９（１９７１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジン塩酸塩（５．４２ｇ）およびトリエチルアミン（８．４６ｍｌ，６０．７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２１ｍｌ）懸濁液に室温で加えた。反応混合物をさらに１５時間撹拌した。析出した不溶物を除去した後濾液を減圧下濃縮乾固した。残渣（２４．６ｇ）を水（１５０ｍｌ）に溶解し不溶物を濾去した。濾液をゲル濾過カラムクロマトグラフィー（ＭＣＩ Ｇｅｌ ＣＨＰ−２０Ｐ，６００ｍｌ）で精製した。４０％含水メタノール溶液で溶出される分画を集め粗製の化合物（１５）８．８７ｇを得た。ついでシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール混液）で精製した後、凍結乾燥して化合物（１５）５．３７ｇ（３５．７％）を得た。
ｍｐ：１９２−１９４℃
［α］Ｄ＝−１．９°（ｃ＝１．００５，Ｈ２Ｏ，２５℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５５，１６７５，１６２５，１５４１，１５１６，１４４８，１２３２，１０９７．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：８．９７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），５．１９ａｎｄ５．０４（ｔｏｔａｌ１Ｈ，ｅａｃｈ ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．６ａｎｄ８．７Ｈｚ），４．３６ａｎｄ４．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），４．０７ａｎｄ３．９２（ｔｏｔａｌ １Ｈ，ｅａｃｈ ｍ），３．７８（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．２２（２Ｈ，ｍ），１．５−２．０（４Ｈ，ｍ），１．２８ａｎｄ１．２２（ｔｏｔａｌ ３Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２１ａｎｄ１．０２（ｔｏｔａｌ ３Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ１６Ｈ２２Ｎ４Ｏ４ＳＨ２Ｏ）
計算値：Ｃ，４９．９９；Ｈ，６．２９；Ｎ，１４．５７；Ｓ，８．３４．
実測値：Ｃ，４９．９９；Ｈ，６．２９；Ｎ，１４．７９；Ｓ，８．３６．
第４工程−２Ｂ
脱保護体１０ｇ（３３．４１ｍｍｏｌ）およびＮ−ヒドロキシスクシンイミド（４．０４ｇ，３５．０８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４５ｍｌ）−ＴＨＦ（３６０ｍｌ）混液に氷冷下、ＤＣＣ（７．２４ｇ，３５．０８ｍｍｏｌ）を加え４時間撹拌した。この反応混合物に、文献記載の方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，３４，２２０２（１９５１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジンのｐ−トルエンスルホン酸塩（８．６ｇ）およびトリエチルアミン（９．３２ｍｌ，６６．８２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１１ｍｌ）溶液を氷冷下で加えた。同温度で４時間撹拌した後、冷却浴を除き、さらに４８時間撹拌した。析出した不溶物を除去した後濾液を減圧下濃縮乾固した。残渣（３８ｇ）を水（２２０ｍｌ）に溶解し不溶物を濾去した。濾液をゲル濾過カラムクロマトグラフィー（ＭＣＩ Ｇｅｌ ＣＨＰ−２０Ｐ，６００ｍｌ）で精製した。４０％含水メタノール溶液で溶出される分画を集め、水から結晶化させ（Ａ法）で得た化合物と同一の化合物（１５）６．９４ｇ（５６．７％）を得た。
産業上の利用可能性
本製造法により、４−チアゾリルアラニン誘導体を経済的かつ大量に製造することができる。
本発明は、簡便かつ経済的な方法を用いて、非天然型アミノ酸であるチアゾリルアラニン誘導体を製造する方法に関する。
背景技術
４−ハロメチルチアゾール、３−（４−チアゾール）アラニン等のチアゾリルアラニン誘導体は、レニン阻害剤として知られているＥＳ ６８６４（Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｍｍｕｎ．，２０，２２，３５７０（１９９０））、およびＴＲＨ（サイロトロピン放出ホルモン）誘導体（ＷＯ９８／０８８６７）である下記の一般式（Ｖ）：
従来、チアゾリルアラニン誘導体の製造方法としては、以下に示す２つの方法が知られている。すなわち、第１の方法としては、（１）ホルムアミドと五酸化リンを反応させ、チオホルムアミドとするが（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１４９（１９７３））、（１’）ホルムアミドとＬａｗｅｓｓｏｎ’ｓ ｒｅａｇｅｎｔを反応させることにより、チオホルムアミドとした後（Ｂｕｌｌ．，Ｓｏｃ．，Ｃｈｉｍ．，Ｂｅｌｇ．，８７，３，２２９（１９７８））、（２）チオホルムアミドと１，３−ジクロロ−２−プロパノン反応させ４−クロロメチルチアゾールとし、（３）アルキル化、脱炭酸、光学分割を行うことにより光学活性な３−（４−チアゾール）アラニンを製造する方法（Ｓｙｎｔｈ．，Ｃｏｍｍｕｎ．，２０，２２，３５０７（１９９０）、Ｃｈｅｍ．，Ｐｈａｒｍ．，Ｂｕｌｌ．，３８，１，１０３（１９９０））が知られている。
しかしながら、（１）工程においては、反応液中の不溶成分が硫黄化合物特有の悪臭を有すること、水およびジメチルスルホキシド以外の有機溶媒に難溶であるため、廃棄処分が困難である等の問題を有する。また、（１’）工程においては、Ｌａｗｅｓｓｏｎ’ｓ ｒｅａｇｅｎｔが高価であるため大量合成には適さない、（２）工程においては、１，３−ジクロロ−２−プロパノンが催涙性を有する等の問題がある。
第２の方法としては、（１）ジエチル（３−ブロモ−２−オキソ−プロピル）アセトアミドマロネートとチオホルムアミドを反応させ、ジエチル （４−チアゾリルメチル）アセトアミドマロネートとし、（２）加水分解、脱炭酸反応、エステラーゼによる光学分割を行うことにより光学活性な３−（４−チアゾール）アラニンを製造する方法（ＵＳ５，２７５，９５０）が知られている。この方法においても、上記の方法と同様にチオホルムアミドを使用する必要がある。
発明の開示
本発明は、簡便かつ経済的に、非天然型アミノ酸であるチアゾリルアラニン誘導体を製造する方法の提供を目的としている。該チアゾリルアラニン誘導体は、医薬品の中間体、コンビナトリアルケミストリーのツールとして有用である。
本発明者らは、４−メチルチアゾールを出発原料として、大量合成に適したチアゾリルアラニン誘導体の製造方法を見出した。
すなわち、Ａ）４−メチルチアゾールを、溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、Ｎ−ハロスクシンイミドと反応させることからなる、一般式（Ｉ）：
さらに詳しくは、Ｂ）（ａ）４−メチルチアゾールを、溶媒中、ラジカル反応開始剤の存在下、Ｎ−ハロスクシンイミドと反応させ、一般式（Ｉ）：
（ｂ）化合物（Ｉ）を塩基の存在下、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２はアミノ基の保護基、Ｒ３は低級アルキル）と反応させ、一般式（ＩＩ）：
（ｃ）Ｒ１がハロゲンである場合は、化合物（ＩＩ）を脱ハロゲン化反応に付する工程；および、
（ｄ）化合物（ＩＩ）を加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応に付する工程を含む、一般式（ＩＩＩ）：
Ｃ）Ｂ）で得られた一般式（ＩＩＩ）または一般式（ＩＶ）で表わされる化合物を、ペプチド結合形成反応に付すことを特徴とする、一般式（Ｖ）：
Ｄ）溶媒がクロロベンゼン、ラジカル反応開始剤が２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−クロロスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｅ）溶媒が四塩化炭素、ラジカル反応開始剤が２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−ブロモスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｆ）溶媒が四塩化炭素、ラジカル反応開始剤が過酸化ベンゾイル、Ｎ−ハロスクシンイミドがＮ−ブロモスクシンイミドである上記のＡ）〜Ｃ）のいずれかに記載の製造方法。
Ｇ）（ｅ）４−メチルチアゾールを、クロロベンゼン中、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルの存在下、Ｎ−クロロスクシンイミドと反応させる工程；および、
（ｆ）得られた化合物を塩酸で処理して塩酸塩とした後、脱塩反応に付する工程を含む、４−クロロメチルチアゾールの製造方法。
Ｈ）（ｇ）４−メチルチアゾールを、四塩化炭素中、過酸化ベンゾイルの存在下、Ｎ−ブロモスクシンイミドと反応させ、５−ブロモ−４−ブロモメチルチアゾールとする工程；
（ｈ）５−ブロモ−４−ブロモメチルチアゾールを塩基の存在下、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）と反応させ、一般式（ＶＩ）：
（ｉ）化合物（ＶＩ）を、脱ハロゲン化反応、加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応に付す工程を含む、一般式（ＩＩＩ）：
（ｄ）および（ｉ）工程は、加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応の順に行うことが好ましい。
Ｃ）において、ペプチド結合形成反応は、２度のペプチド結合形成反応を順次行うことが好ましい。
本明細書中、「ハロゲン」とはフッ素、塩素、臭素、およびヨウ素を意味する。好ましくは、塩素および臭素が挙げられる。
本明細書中、「低級アルキル」とはＣ１〜Ｃ６の直鎖状または分枝上のアルキルを意味する。例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロプル、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル等が挙げれる。好ましくは、メチルおよびエチルが挙げられる。
本明細書中、「アミノ基の保護基」としては、アセチル、ｎ−ブチリルが挙げられる。
本明細書中、「置換されていてもよいアルキル」とは、全ての可能な位置で１個以上の置換基、例えば、ヒドロキシ、アルキルオキシ（例えば、メトキシ、エトキシ）、メルカプト、アルキルチオ（例えば、メチルチオ）、シクロアルキル（例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル）、ハロゲン（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、カルボキシ、カルバモイル、アルキルオキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、アリールオキシカルボニル（例えば、フェニルオキシカルボニル）、ニトロ、シアノ、ＳＯｐＲＡ（ｐは１〜３の整数、ＲＡは水素またはアルキル）、アルキルで置換されていてもよいＰＯ（ＯＨ）２もしくはＰ（Ｏ）ＯＨ、置換もしくは非置換アミノ（例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、カルバモイルアミノ）、置換されていてもよいアリール（例えば、フェニル、トリル）、置換されていてもよいヘテロアリール、置換されていてもよい非芳香族複素環基、アリールオキシ、アシルオキシ、アシルオキシカルボニル、アルキルカルボニル、非芳香族複素環カルボニル、複素環状イミノ、ヒドラジノ、ヒドロキシアミノ、アルキルオキシアミノ、ホルミル等を有していてもよい直鎖状もしくは分枝状のＣ１〜Ｃ６アルキル、または環状のＣ３〜Ｃ６アルキルを意味する。例えば、メチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ベンジル、ヒドロキシメチル、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルオキシメチル、モルホリノメチル、ピペリジノメチル、Ｎ−メチル−１−ピペラジニルメチル、エチルカルボニルメチル、モルホリノカルボニルメチル、アセチルオキシメチル等が挙げられる。好ましい置換基としては、フェニル、ヒドロキシ、アルキルカルボニルオキシ、モルホリノ、ピペリジノ、Ｎ−アルキル置換ピペラジニル、アルキルカルボニル、モルホリノカルボニル、アシルオキシが挙げられる。
本明細書中、「溶媒」としては、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。好ましくは、四塩化炭素、クロロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼンが挙げられる。
本明細書中、「ラジカル反応開始剤」としては、２，２−アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、ベンゾイルパーオキシド（ＢＰＯ）が挙げられる。
発明を実施するための最良の形態
本発明の製造方法を以下の反応式で示し、詳細に説明する。
（製造例１）
第１工程−１
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、グロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、グロロベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−クロロスクシンイミド０．９〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量、およびＡＩＢＮ０．０５〜０．２当量、好ましくは０．０５〜０．１当量を加え（ＢＰＯを用いてもよい）、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、４−クロロメチルチアゾールを得る。
第１工程−２
上記工程で得た化合物を、塩酸で処理すれば化合物（ＶＩＩＩ）を得ることができる。例えば、酢酸エチル、トルエン等の溶媒に溶解し、１〜４規定塩酸−酢酸エチル溶液等を加え、析出する結晶を濾取することにより行うことができる。
第２工程（脱塩反応）
化合物（ＶＩＩＩ）を水に溶解し、トルエン、酢酸エチル等の有機溶媒を加えた後、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム等を加えることにより、化合物（ＩＸ）を得ることができる。
第３工程
ナトリウムメトキシド（１．０〜１．２当量、好ましくは１．０〜１．１当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（１．０〜１．２当量、好ましくは１．０〜１．１当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．８〜１．２当量、好ましくは０．９〜１．０当量）を加え、５０〜１００℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＩＸ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得る。
第４工程（加水分解反応および脱炭酸反応）
通常行われる加水分解反応および脱炭酸反応の条件で行うことができる。例えば、化合物（Ｘ）を１〜４規定の水酸化ナトリウム水溶液に懸濁し、２５〜１００℃、好ましくは２５〜５０℃で０．５〜３時間、好ましくは１〜２時間攪拌する（加水分解反応）。この溶液に濃塩酸を加え、液性をｐＨ３〜４、好ましくはｐＨ３．５に調整し、７０〜１００℃、好ましくは１００℃にて１〜５時間、好ましくは２〜４時間攪拌する（この間ｐＨは４付近に保つ）。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＩ）を得ることができる。
第５工程（光学分割）
本工程は、酵素（アシラーゼ）を用いて、Ｌ体もしくはＤ体のどちらか一方のＮ−アシル基を加水分解する工程である。用いる酵素を選択することにより、望みの立体配置を有するアミノ酸を得ることができる（Ａｇｒｉｃ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，４４，１０８９−１０９５（１９８０）、季刊化学総説，Ｎｏ．６（１９８９），９７−９９，日本化学会）。また、生じたアミノ酸のアミノ基をＢｏｃ等の保護基で保護することにより、精製工程をより簡便に行うことができる。
（製造例２）
第１工程
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、トリフルオロメチルベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．５〜１．５当量、好ましくは０．８〜０．９当量、およびＡＩＢＮ０．０２〜０．２当量、好ましくは０．０５〜０．１当量を加え、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＩＶ）を得る。
第２工程
ナトリウムメトキシド（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．０当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．１当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．７〜１．２当量、好ましくは０．８〜１．０当量）を加え、５０〜８０℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＸＩＶ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜７０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得る。
第３工程
製造例１−第４〜第５工程と同様に行うことができる。
（製造例３）
第１工程
試薬として入手可能な化合物（ＶＩＩ）を四塩化炭素、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、１，４−ジオキサン、シクロヘキサン、スルホラン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、好ましくは、四塩化炭素、トリフルオロメチルベンゼン等の溶媒に溶解する。この溶液に、６０〜１６０℃、好ましくは還流条件下で、Ｎ−ブロモスクシンイミド１．８〜３．０当量、好ましくは２．０〜２．５当量、およびＢＰＯ０．０２〜０．５当量、好ましくは０．２〜０．３当量を加え、５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＶ）を得る。
第２工程
ナトリウムメトキシド（０．８〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量）のメタノール溶液もしくはナトリウムエトキシド（０．８〜１．５当量、好ましくは１．０〜１．２当量）のエタノール溶液に、Ｒ２ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ３）２（式中、Ｒ２およびＲ３は前記と同意義）（０．８〜１．５当量、好ましくは０．８〜１．０当量）を加え、５０〜８０℃、好ましくは還流条件下で１〜５時間、好ましくは１．５〜３時間攪拌する。ついで、化合物（ＸＶ）のメタノールもしくはエタノール溶液を２５〜８０℃、好ましくは５０〜６０℃で加え、同温度で１〜６時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＶＩ）を得る。
第３工程（脱ハロゲン化反応）
通常行われる脱ハロゲン化反応により行うことができる。例えば、化合物（ＸＶＩ）をメタノール、エタノール、酢酸エチル、酢酸等の溶媒、好ましくはメタノールに溶解し、０℃から１００℃、好ましくは２０〜３０℃で、Ｐｄ−Ｃ、ＰｔＯ２、Ｒｈ−Ａｌ２Ｏ３、ラネーニッケル等の触媒、好ましくはＰｄ−Ｃを加え、１〜３気圧、好ましくは２〜３気圧で、１．０〜５．０時間、好ましくは２．０〜３．０時間水素添加する。通常の後処理を行うことにより化合物（Ｘ）を得ることができる。
第４工程
製造例１−第４〜第５工程と同様に行うことができる。
（製造例４）
３つのアミノ酸誘導体を２度のペプチド結合形成反応を行うことにより化合物（Ｖ）を合成することができる。一例として、上記の方法で得られる化合物（ＶＩＩＩ）を用いて化合物（Ｖ’）を合成する方法を以下に示した。
第１工程（カルボキシル基の保護）
製造例１〜３で得られた化合物（ＶＩＩＩ）のカルボキシル基を、メチルエステル、ベンジルエステル、ｔ−ブチルエステル、ジフェニルメチルエステル等のエステルとして保護する（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）。例えば、ジフェニルメチルエステルとして保護する場合は、化合物（ＸＩＩＩ）をメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒とテトラヒドロフラン、ジオキサン等の溶媒の混合溶媒に溶解し、０〜５０℃、好ましくは２０〜４０℃においてジフェニルジアゾメタン１〜３当量、好ましくは１〜２当量を１０分〜１時間、好ましくは２０〜４０分かけて加える。同温度で３０分〜３時間、好ましくは１〜２時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより化合物（ＸＶＩＩ）を得る。
第２工程（ペプチド結合形成反応）
「ペプチド合成」（泉屋信夫、丸善）等に記載されている、通常用いられるペプチド結合形成反応法に従って行うことができる。
通常用いられるペプチド結合形成反応としては、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）等の縮合剤を用いる方法、アジト法、酸クロリド法、酸無水物法、活性エステル法等があげられる。出発原料が本ペプチド形成反応の障害となる置換基（アミノ、カルボキシ、ヒドロキシ等）を有する場合には、Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）等に記載の方法で予め保護し、望ましい段階でその保護基を除去すればよい。例えば、化合物（ＸＶＩＩ）および文献記載の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２７，２５９９（１９７１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジン塩酸塩を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、−１０〜１０℃、好ましくは氷冷下、トリエチルアミン等の塩基およびジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液を加える。１−ヒドロキシベンゾトリアゾールを加えてもよい。１０〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃で１時間〜１日、好ましくは５〜１０時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＶＩＩＩ）を得ることができる。
第３工程（Ｒ４の脱保護反応＋ペプチド結合形成反応）
通常行われる脱保護反応により行うことができる（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ））。例えばＲ５がジフェニルメチルである場合は、化合物（ＸＶＩＩＩ）を−１０〜１０℃、好ましくは氷冷下で、アニソールおよびトリフルオロ酢酸を加え、同温度で５〜３０分、好ましくは１０〜２０分攪拌する。２０〜４０℃に昇温し、１〜４時間、好ましくは２〜３時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより脱保護体を得ることができる。
得られた脱保護体に第２工程と同様のペプチド結合形成反応を用いてピロリジン誘導体を反応させ、化合物（Ｖ’）を得る。
（製造例５）
第１工程（アミノ基の保護）
製造例１〜３で得られた化合物（ＶＩＩＩ）のアミノ基を、ｔ−ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、フタロイル、トリフルオロアセチル等のアミノ基の保護基で保護する（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，Ｔｈｅｏｄｏｒａ Ｗ．Ｇｒｅｅｎ（Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓ）。例えば、ｔ−ブチルオキシカルボニルで保護する場合は、化合物（ＸＩＩＩ）をジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等の溶媒に溶解し、０〜５０℃、好ましくは１０〜３０℃でＢｏｃ２Ｏを加え、１〜５時間、好ましくは２〜４時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、化合物（ＸＩＸ）を得ることができる。
第２工程（ペプチド結合形成反応）
製造例４―第２工程と同様の反応により行うことができる。
第３工程（Ｒ５の脱保護反応＋ペプチド結合形成反応）
アミノ基の脱保護反応は、例えば保護基がｔ−ブチルオキシカルボニルである場合は、化合物（ＸＩＸ）を酢酸エチル等の溶媒に溶解し、−１０〜３０℃、好ましくは氷冷下、１〜４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液を加え、同温度で１〜５時間、好ましくは２〜３時間攪拌する。通常の後処理を行うことにより、脱保護体を得ることができる。
得られた脱保護体に上記と同様のペプチド結合形成反応を行い、化合物（Ｖ’）を得る。
実施例中、以下の略号を使用する。
Ａｃ：アセチル
Ｂｏｃ：ｔ−ブチルオキシカルボニル
実施例
実施例１
化合物（１）１６３．５ｇ（１．６５ｍｏｌｅ）をクロロベンゼン３Ｌに溶解させ、１３０℃に加温して、Ｎ−クロロスクシンイミド２４２ｇ（１．１ｍｏｌｅ ｅｑ）、２−２’−アゾビスイソブチロニトリル１３．５ｇ（０．０５ｍｏｌｅｅｑ）を加えた。反応液を１５分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣３５８ｇ（クロロベンゼンを含む）を得た。この残渣を酢酸エチル４Ｌに溶解させ４規定塩酸の酢酸エチル溶液２６０ｍｌ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。析出晶をろ別し、４−クロロメチルチアゾール塩酸塩（２）１２２ｇ（４３．５％）を得た。
融点：＞２００℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．８６（ｓ，２Ｈ），７．８２（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），９．１４（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），１１．２２（ｂｒ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ４Ｈ５ＮＳＣｌ２として）
計算値：Ｃ；２８．２５％，Ｈ；２．９６％，Ｎ；８．２４％，Ｓ；１８．８５％，Ｃｌ；４１．７０％
実測値：Ｃ；２８．２７％，Ｈ；２．９７％，Ｎ；８．２１％，Ｓ；１８．７２％，Ｃｌ；４１．４５％
第２工程
化合物（２）１５４ｇ（０．９ｍｏｌｅ）を水０．５Ｌに溶解させ、トルエン３Ｌを加え重曹１１３ｇ（１．５ｍｏｌｅ ｅｑ）を加えた。有機層は水洗、水層はトルエンにて抽出した。有機層を合併し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。４−クロロメチルチアゾール（３）１２４ｇ（１０％のｔｏｌｕｅｎｅを含む、収率９３％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．７６（ｓ，２Ｈ），７．３８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．８１（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第３工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液３０６ｇ（１．０６ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート９６ｇ（１．０６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、２時間還流した。次いで、化合物（３）１２４ｇ（１０％のトルエンを含む。０．８４ｍｏｌｅ）のエタノール０．６Ｌ溶液を５０℃にて加え、同温度にて３時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（４）２０５ｇ（７２．５％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ１３Ｈ１８Ｎ２Ｏ５Ｓとして）
計算値：Ｃ；４９．６５％，Ｈ；５．７３％，Ｎ；８．９１％，Ｓ；１０．１８％
実測値：Ｃ；４９．６４％，Ｈ；５．６９％，Ｎ；８．８８％，Ｓ；１０．１７％
第４工程
化合物（４）２０１．２ｇ（０．６４ｍｏｌｅ）に３規定苛性ソーダ水溶液９６０ｍｌ（３．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、５０℃にて１．５時間攪拌した。濃塩酸１００ｍｌを加え、液性をｐＨ＝３．５に調整して、１００℃にて３時間攪拌した（この間ｐＨを４付近に保つ）。冷却後、アシラーゼ（東京化成社製、天野製薬社製）１２０ｇを加え、ｐＨ＝６．７に調整して３７℃にて４時間攪拌した。固定化酵素をろ過し、ろ液にジオキサン５００ｍｌ、ＢＯＣ２Ｏ９０．８ｇ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）、トリエチルアミン５８ｍｌ（０．６ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え２５℃にて２時間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル１Ｌを加え攪拌、分液した。水層をｐＨ＝３．０に調整して、酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。化合物（８）７０ｇ（４０％）を得た。
融点：１１８−１１９℃
［α］Ｄ＝＋１３１°（ｃ＝１．００１，ＣＨＣｌ３，２５℃）
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：８．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．５８（１Ｈ，ｍ）３．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６ ａｎｄ １４．５Ｈｚ），３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４ ａｎｄ １４．５Ｈｚ），１．４７（９Ｈ，ｓ）．
元素分析（Ｃ１１Ｈ１６Ｎ２Ｏ４Ｓ）
計算値：Ｃ，４８．３２；Ｈ，５．９２；Ｎ，１０．２９；Ｓ，１１．７７．
実測値：Ｃ，４８．０７；Ｈ，５．８５；Ｎ，１０．１７；Ｓ，１１．７１．
実施例２
化合物（１）４．９６ｇ（５０ｍ ｍｏｌｅ）を四塩化炭素１２５ｍｌに溶解し、７５℃に加温して、Ｎ−ブロモスクシンイミド７．５７ｇ（０．８５ｍｏｌｅ ｅｑ．）、２−２’−アゾビスイソブチロニトリル０．４１ｇ（０．０５ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。６０分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣７．０５ｇ（化合物（９）の純度７０％、収率５５％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．６５（ｓ，２Ｈ），７．３７（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．８２（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第２工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液１３．６ｇ（０．８ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート８．６９ｇ（０．８ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、１時間還流した。次いで、化合物（９）７．０５ｇ（０．４０ｍｏｌｅ）のエタノール７０ｍｌ溶液を５５℃にて加え、同温度にて１．５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、トルエン−酢酸エチル（４：１−２：１）にて溶出した。溶媒留去後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（４）６．３０ｇ（化合物（１）から４０．０％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第３工程
実施例１−第４工程と同様にして化合物（８）を得ることができる。
実施例３
化合物（１）４．６０ｇ（４６．４ｍ ｍｏｌｅ）を四塩化炭素１．１５ｍｌに溶解させ７５℃に加温して、Ｎ−ブロモスクシンイミド２０．６５ｇ（２．５０ｍｏｌｅ ｅｑ．）、ベンゾイルパーオキシド２．８０ｇ（０．２５ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加えた。６０分間同温度に保った後、冷却した。反応混合物を稀重曹水に注ぎ込み、洗浄した。次いで、有機層を分離、水洗した。有機層を減圧濃縮し、残渣９．６５ｇ（化合物（１０）の純度８０％、収率５３％）を得た。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：４．６１（ｓ，２Ｈ），８．７８（ｓ，１Ｈ）
第２工程
２０％ナトリウムエトキシドのエタノール溶液１２．８ｇ（１．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）にジエチルアセトアミドマロネート８．１６ｇ（１．０ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え、１時間還流した。次いで、化合物（１０）９．６５ｇ（３７．６ｍｏｌｅ）のエタノール１０ｍｌ溶液を５５℃にて加え、同温度にて１．５時間攪拌した。冷却後、反応混合物を稀塩酸中へ注ぎ込み酢酸エチルにて抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーで精製し、トルエン−酢酸エチル（４：１−３：１）にて溶出した。溶媒留去後、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して化合物（１１）８．１０ｇ（化合物（１）から５７．８％）を得た。
融点：１２４−６℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９９（ｓ，３Ｈ），３．８５（ｓ，２Ｈ），４．２９（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．６５（ｂｒ，１Ｈ），８．６５（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
元素分析（Ｃ１３Ｈ１７Ｎ２Ｏ５ＳＢｒとして）
計算値：Ｃ；３９．７０，Ｈ；４．３６，Ｎ；７．１２，Ｓ；８．１５，Ｂｒ；２０．３２
実測値：Ｃ；３９．６８，Ｈ；４．２９，Ｎ；７．１６，Ｓ；８．１０，Ｂｒ；２０．２７
第３工程
化合物（１１）１．９７ｇ（５ｍ ｍｏｌｅ）をメタノール５０ｍｌに溶解させ、１０％Ｐｄ−Ｃ０．２０ｇ、酢酸ナトリウム３水和物０．７５ｇ（１．１ｍｏｌｅ ｅｑ．）を加え４ｋｇ／ｃｍ２で水添した。反応混合物よりＰｄ−Ｃをろ別し、メタノールを減圧留去した。残渣を酢酸エチルに溶解して、稀重曹水に注ぎ込み抽出した。有機層を水洗、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去した。化合物（４）１．５３ｇ（９７．５％）を得た。
融点：１０４−５℃
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δｐｐｍ：１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ），１．９７（ｓ，３Ｈ），３．８８（ｓ，２Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，４Ｈ），６．７０（ｂｒ，１Ｈ），７．２０（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），８．６８（ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）
第４工程
実施例１―第４工程と同様にして化合物（８）を得ることができる。
実施例４
化合物（８）（２１．７９ｇ，８０ｍｍｏｌ）にトリフルオロ酢酸（８０ｍｌ）を加え水冷下２時間半撹拌した。ついで反応混合物にｐ−トルエンスルホン酸水和物（１５．２２ｇ，８０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮乾固した。得られた残渣に水およびメタノールを加えて減圧下濃縮乾固することにより過剰のトリフルオロ酢酸を除去した。得られた残渣にエーテルを加え析出した結晶を濾取して化合物（１２）２９．８ｇ（ｑｕａｎｔｉｔａｔｉｖｅ）を得た。
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：９．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７０（２Ｈ，ｍ），７．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．２３（２Ｈ，ｍ），４．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８ａｎｄ７．６Ｈｚ），３．４５（２Ｈ，ｍ），２．３７（３Ｈ，ｓ）．
第２工程
化合物（１２）３８．８５ｇ（１１２．８ｍｍｏｌ）のエタノール（２００ｍｌ）―ＴＨＦ（６００ｍｌ）溶液に、室温で攪拌しながらジフェニルジアゾメタン（３９ｇ，２０１ｍｍｏｌ）を少量ずつ３０分間かけて加えた。反応混合物を室温で１時間撹拌した後、さらにジフェニルジアゾメタン（１０ｇ，５１．５ｍｍｏｌ）を加えて１時間攪拌した。反応混合物に酢酸（０．１ｍｌ）を加えて過剰の試薬を分解した後、減圧下濃縮乾固して溶媒を留去した。得られた残渣（９２ｇ）にエーテル（１Ｌ）を加えて結晶化させ、化合物（１３）４９．０５ｇ（９６．１％）を得た。
融点：１３９−１４０℃
［α］Ｄ＝−３４．７°（ｃ＝１．００６，ＣＨＣｌ３，２３℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５３，１６０２，１５１２，１４９６，１２６０，１２２４，１１７１，１１２４，１０３６，１０１２．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：８．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ），７．７０（２Ｈ，ｍ），７．２−７．４（１３Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｓ），４．６２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），３．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ），２．３６（３Ｈ，ｓ）．
元素分析（Ｃ２６Ｈ２６Ｎ２Ｏ５Ｓ２）
計算値：Ｃ，６１．１６；Ｈ，５．１３；Ｎ，５．４９；Ｓ，１２．５６．
実測値：Ｃ，６１．１４；Ｈ，５．３２；Ｎ，５．４１；Ｓ，１２．４６．
第３工程
シス―Ｌ−５−メチル−２−オキソ―オキサゾリジン−４−カルボン酸１３．９５ｇ（９６．１４ｍｍｏｌ）、化合物（１３）４９．０９ｇ（９６．１４ｍｍｏｌ）、Ｎ−ヒドロキシベンゾトリアゾール２．６ｇ（１９．２３ｍｍｏｌ）およびトリエチルアミン１４．１ｍｌ（１０１ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１Ｌ）溶液に氷冷下、ＤＣＣ（２０．８３ｇ，１０１ｍｍｏｌ）を加えた。同温度で１０分間撹拌した後冷却浴を除き、室温でさらに２０時間攪拌した。析出した沈殿物を除去した後、濾液を減圧下濃縮乾固して油状残渣（８２．７ｇ）を得た。残渣を酢酸エチル（７００ｍｌ）に加温溶解し不溶物を濾去した。濾液を炭酸ナトリウム水溶液および水で順次洗浄した。有機層にメタノール（２０ｍｌ）を加えた後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に少量まで濃縮した。析出した結晶を濾取し酢酸エチル―エーテル（２：３）混液で洗浄して化合物（１４）３５．６９ｇ（７９．８％）を得た。
さらに母液を減圧下濃縮乾固した後、酢酸エチル―エーテル混液から結晶化させ化合物（１４）２．６２ｇ（５．９％）を得た。
融点：１７６−１７７℃
［α］Ｄ＝−３９．２°（ｃ＝１．００７，ＣＨＣｌ３，２４℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７３９，１６８１，１５０８，１４５３，１３８６，１２３７，１１９３，１０８９．
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：８．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．２−７．４（１０Ｈ，ｍ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），５．７９（１Ｈ，ｓ），５．１２（１Ｈ，ｍ），４．９４（１Ｈ，ｍ），４．３５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８ａｎｄ９．０Ｈｚ），３．４０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７ａｎｄ１５Ｈｚ），３．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５ａｎｄ１５Ｈｚ），１．２７（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ２４Ｈ２３Ｎ３Ｏ５Ｓ）
計算値：Ｃ，６１．９２；Ｈ，４．９８；Ｎ，９．０３；Ｓ，６．８９．
実測値：Ｃ，６１．９５；Ｈ，５．０１；Ｎ，８．９４；Ｓ，６．６２．
第４工程−１
化合物（１４）４１．２４ｇ（８８．５９ｍｍｏｌ）に氷冷下、アニソール（２４０ｍｌ）およびトリフルオロ酢酸（１２０ｍｌ）を加え１５分間攪拌した。冷却浴を除いた後さらに室温で２時間３０分攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮乾固して得た油状残渣にエーテル（５００ｍｌ）を加えて粉末化し濾取した。得られた粉末を水（５０ｍｌ）−メタノール（３００ｍｌ）混液に加温溶解し不溶物を濾去した。濾液を減圧下に少量まで濃縮し、種晶およびメタノールを加え室温に３日間放置した。析出した結晶を濾取し脱保護体１４．８９ｇ（５６．１％）を得た。母液を減圧下濃縮乾固し、再びメタノール−エーテル混液から結晶化してさらに脱保護体１０．３ｇ（３８％）を得た。
融点：２１４−２１５℃
［α］Ｄ＝−４．２°（ｃ＝０．５，Ｈ２Ｏ，２２℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５３，１７０７，１６５５，１５４８，１５２９，１４０９，１３４３，１２６４，１２３６，１１０２，１０９２．
ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：９．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），４．７７（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．６ａｎｄ８．７Ｈｚ），４．６６（１Ｈ，ｍ），４．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），３．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１ａｎｄ１５Ｈｚ），３．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４ａｎｄ１５Ｈｚ），１．１３（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ１１Ｈ１３Ｎ３Ｏ５Ｓ）
計算値：Ｃ，４４．１４；Ｈ，４．３８；Ｎ，１４．０４；Ｓ，１０．７１．
実測値：Ｃ，４３．９４；Ｈ，４．４７８；Ｎ，１４．０９；Ｓ，１０．５８．
第４工程−２Ａ
脱保護体１２．１ｇ（４０．４８ｍｍｏｌ）およびＮ−ヒドロキシスクシンイミド（４．６６ｇ，４０．４８ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２４２ｍｌ）懸濁液に氷冷下、ＤＣＣ（８．３５ｇ，４０．４８ｍＭ）を加え３０分間撹拌した。冷却浴を除き、さらに室温で２時間撹拌した。得られた脱保護体のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル溶液を、文献記載の方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２７，２５９９（１９７１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジン塩酸塩（５．４２ｇ）およびトリエチルアミン（８．４６ｍｌ，６０．７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１２１ｍｌ）懸濁液に室温で加えた。反応混合物をさらに１５時間撹拌した。析出した不溶物を除去した後濾液を減圧下濃縮乾固した。残渣（２４．６ｇ）を水（１５０ｍｌ）に溶解し不溶物を濾去した。濾液をゲル濾過カラムクロマトグラフィー（ＭＣＩ Ｇｅｌ ＣＨＰ−２０Ｐ，６００ｍｌ）で精製した。４０％含水メタノール溶液で溶出される分画を集め粗製の化合物（１５）８．８７ｇを得た。ついでシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム−メタノール混液）で精製した後、凍結乾燥して化合物（１５）５．３７ｇ（３５．７％）を得た。
ｍｐ：１９２−１９４℃
［α］Ｄ＝−１．９°（ｃ＝１．００５，Ｈ２Ｏ，２５℃）
ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：１７５５，１６７５，１６２５，１５４１，１５１６，１４４８，１２３２，１０９７．
ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：８．９７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），５．１９ａｎｄ５．０４（ｔｏｔａｌ１Ｈ，ｅａｃｈ ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．９２（１Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝６．６ａｎｄ８．７Ｈｚ），４．３６ａｎｄ４．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），４．０７ａｎｄ３．９２（ｔｏｔａｌ １Ｈ，ｅａｃｈ ｍ），３．７８（１Ｈ，ｍ），３．４２（１Ｈ，ｍ），３．２２（２Ｈ，ｍ），１．５−２．０（４Ｈ，ｍ），１．２８ａｎｄ１．２２（ｔｏｔａｌ ３Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），１．２１ａｎｄ１．０２（ｔｏｔａｌ ３Ｈ，ｅａｃｈ ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）．
元素分析（Ｃ１６Ｈ２２Ｎ４Ｏ４ＳＨ２Ｏ）
計算値：Ｃ，４９．９９；Ｈ，６．２９；Ｎ，１４．５７；Ｓ，８．３４．
実測値：Ｃ，４９．９９；Ｈ，６．２９；Ｎ，１４．７９；Ｓ，８．３６．
第４工程−２Ｂ
脱保護体１０ｇ（３３．４１ｍｍｏｌ）およびＮ−ヒドロキシスクシンイミド（４．０４ｇ，３５．０８ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（４５ｍｌ）−ＴＨＦ（３６０ｍｌ）混液に氷冷下、ＤＣＣ（７．２４ｇ，３５．０８ｍｍｏｌ）を加え４時間撹拌した。この反応混合物に、文献記載の方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，３４，２２０２（１９５１））で合成した（Ｒ）−（＋）−２−メチルピロリジンのｐ−トルエンスルホン酸塩（８．６ｇ）およびトリエチルアミン（９．３２ｍｌ，６６．８２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１１ｍｌ）溶液を氷冷下で加えた。同温度で４時間撹拌した後、冷却浴を除き、さらに４８時間撹拌した。析出した不溶物を除去した後濾液を減圧下濃縮乾固した。残渣（３８ｇ）を水（２２０ｍｌ）に溶解し不溶物を濾去した。濾液をゲル濾過カラムクロマトグラフィー（ＭＣＩ Ｇｅｌ ＣＨＰ−２０Ｐ，６００ｍｌ）で精製した。４０％含水メタノール溶液で溶出される分画を集め、水から結晶化させ（Ａ法）で得た化合物と同一の化合物（１５）６．９４ｇ（５６．７％）を得た。
産業上の利用可能性
本製造法により、４−チアゾリルアラニン誘導体を経済的かつ大量に製造することができる。
Claims (3)
- （ａ）４−メチルチアゾールを、クロロベンゼン中、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルの存在下、Ｎ−クロロスクシンイミドと反応させる工程；および、
（ｂ）得られた化合物を塩酸で処理して塩酸塩とした後、脱塩反応に付する工程を含む、４−クロロメチルチアゾールの製造方法。 - （ａ）４−メチルチアゾールを、クロロベンゼン中、２，２’−アゾビスイソブチロニトリルの存在下、Ｎ−クロロスクシンイミドと反応させる工程；
（ｂ）得られた化合物を塩酸で処理して塩酸塩とした後、脱塩反応に付する工程；
（ｃ）得られた化合物を塩基の存在下、Ｒ2ＮＨＣＨ（ＣＯＯＲ3）2（式中、Ｒ2はアミノ基の保護基、Ｒ3は低級アルキル）と反応させ、一般式（ＩＩ）：
（ｄ）化合物（ＩＩ）を加水分解反応、脱炭酸反応、光学分割反応に付する工程を含む、一般式（ＩＩＩ）：
- 請求項２で得られた一般式（ＩＩＩ）または一般式（ＩＶ）で表わされる化合物を、ペプチド結合形成反応に付すことを特徴とする、一般式（Ｖ）：
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