JP3779289B2 - 放電加工用の加工液処理装置 - Google Patents
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Description
前記清浄液槽に清浄液の任意の液面位置を検出する液面検出手段を設け、基準液面位置と前記液面検出手段で検出された液面位置の高低差の大きさに応じた吐出加減量を求め、液面位置を基準液面位置に回復させるように求めた吐出加減量だけ増加または減少させてろ過フィルタ用ポンプの更新した吐出量指令を求める制御部を設け、該制御部で更新された吐出量指令を前記ポンプ制御装置へ出力し、該ポンプ制御装置は更新された吐出量指令に基づいてろ過フィルタ用ポンプを制御し、前記汚濁液槽から前記清浄液槽へろ過フィルタ装置を介して加工液を移送させることを特徴とするものである。
又、請求項2に係わる発明は、前記液面検出手段を、スイングアーム式フロートスイッチで構成したものであり、請求項3に係わる発明は、前記液面検出手段を、水圧センサと該水圧センサで検出された水圧から液面の位置に変換して液面位置を検出する液面検出手段で構成したものである。
さらに、請求項4に係わる発明においては、前記制御部が、液面位置が基準位置より低い場合は、その液面位置を基準位置に回復するためにその時点の吐出量指令に求めた吐出加減量を加算し、また、液面位置が基準位置より高い場合は、その液面位置を基準位置に回復するためにその時点の吐出量指令に求めた吐出加減量を減算して更新した吐出量指令を求めポンプ制御装置に出力するようにしたものである。
また、請求項7に係わる発明は、前記制御部は、ろ過フィルタ用ポンプの吐出量指令の増加量を制限するようにした。
さらに、請求項8に係わる発明は、この放電加工用の加工液処理装置が適用される放電加工装置をワイヤ放電加工装置にしたものである。
図1中、符号1は、清浄液槽、符号2は汚濁液槽である。清浄液槽1には貯留された清浄液の液面位置を検出する液面検出装置5を備える。汚濁液槽2内のスラッジやワイヤ屑を含む汚濁液は、ろ過フィルタ用ポンプ7で汲み上げられ、ろ過フィルタ装置6に供給され、該ろ過フィルタ装置6でろ過されて清浄な加工液となり清浄液槽1に供給される。又、清浄液槽1に蓄えられた清浄な加工液は加工液冷却装置(加工液クーラ)4によって冷却されて汚濁液槽2に供給される。
ろ過フィルタ用ポンプ指令が入力されると、制御部12のプロセッサは、まず、予め設定されている基準吐出量Qsを吐出量Qの指令を記憶する吐出量指令レジスタR(Q)に格納し、吐出加減量ΔQを記憶する吐出加減量記憶レジスタR(ΔQ)に「0」にセットする(ステップ100)。次に加工液溜め用ポンプ10がONか否か判断し(ステップ101)、ONでなければ、ステップ106に進み、吐出量指令レジスタR(Q)に吐出加減量記憶レジスタR(ΔQ)に記憶する吐出加減量ΔQを加算して吐出量指令レジスタR(Q)に格納し、吐出量指令を更新する。該レジスタR(Q)に格納され、更新された吐出量Qを吐出指令として、ろ過フィルタ用のポンプ制御装置13に出力する(ステップ106)。ポンプ制御装置13は、この吐出量指令を受けて、指令された吐出量になるようにろ過フィルタ用ポンプ7を駆動制御する。
ステップ200からステップ205は図2に示した第1の実施形態の処理のステップ100〜105と同一である。すなわち、制御部12のプロセッサは、吐出量指令レジスタR(Q)に、予め設定されている基準吐出量Qsをセットし、吐出加減量記憶レジスタR(ΔQ)を「0」にセットし(ステップ200)、加工液溜め用ポンプがONか否か判断し(ステップ201)、ONであれば、図2のステップ102〜105と同一の処理を行いステップ206に進み、また、ONでなければ、ステップ201から直接ステップ206に進む。
なお、上述した実施形態では、この加工液処理装置をワイヤ放電加工装置に適用した例を述べたが、他の放電加工装置にも適用できるものであり、型彫り放電加工装置にも適用できるものである。
2 汚濁液槽
3 加工槽
4 加工液冷却装置
5 液面検出装置
6 ろ過フィルタ装置
7 ろ過フィルタ用ポンプ
8 加工液供給ポンプ
9 補給加工液供給ポンプ
10 加工液溜め用ポンプ
21 フロート
22 接点
Claims (8)
- 電極と被加工物間に電圧を印加して、被加工物に放電現象で加工を行う放電加工装置に用いられる加工液処理装置であって、加工で使用された使用済み加工液を回収及び貯留する汚濁液槽と、ろ過フィルタ用ポンプにより前記汚濁液槽からの加工液をろ過フィルタ装置を通して汚濁をろ過した清浄な加工液を貯留する清浄液槽と、該清浄液槽から加工時に放電加工部に加工液を供給する加工液供給ポンプと、前記ろ過フィルタ用ポンプの吐出量を制御するポンプ制御装置とを具備した放電加工用の加工液処理装置において、
前記清浄液槽に清浄液の任意の液面位置を検出する液面検出手段を設け、基準液面位置と前記液面検出手段で検出された液面位置の高低差の大きさに応じた吐出加減量を求め、液面位置を基準液面位置に回復させるように求めた吐出加減量だけ増加または減少させてろ過フィルタ用ポンプの更新した吐出量指令を求める制御部を設け、該制御部で更新された吐出量指令を前記ポンプ制御装置へ出力し、該ポンプ制御装置は更新された吐出量指令に基づいてろ過フィルタ用ポンプを制御し、前記汚濁液槽から前記清浄液槽へろ過フィルタ装置を介して加工液を移送させることを特徴とする放電加工用の加工液処理装置。 - 前記液面検出手段は、スイングアーム式フロートスイッチで構成されている請求項1に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記液面検出手段は、水圧センサと該水圧センサで検出された水圧から液面の位置に変換して液面位置を検出する液面検出手段である請求項1に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記制御部は、液面位置が基準位置より低い場合は、その液面位置を基準位置に回復するためにその時点の吐出量指令に求めた吐出加減量を加算し、また、液面位置が基準位置より高い場合は、その液面位置を基準位置に回復するためにその時点の吐出量指令に求めた吐出加減量を減算して更新した吐出量指令を求めポンプ制御装置に出力する請求項1乃至3の内いずれか1項に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記液面検出手段は、複数のフロートスイッチを連続的に配置し、液面を段階的に検出し、前記制御部は、前記検出された液面位置に基づいて、ろ過フィルタ用ポンプの吐出量指令を求める請求項1に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記制御部は、各フロートスイッチにより検出される液面位置に対応して予め設定記憶されている吐出加減量より前記検出された液面位置に対応する吐出加減量を求め、該吐出加減量をその時点の吐出量指令に加算して更新した吐出量指令としてポンプ制御装置に出力する請求項5に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記制御部は、ろ過フィルタ用ポンプの吐出量指令の増加量を制限する請求項1乃至6の内いずれか1項に記載の放電加工用の加工液処理装置。
- 前記放電加工装置はワイヤ放電加工装置である請求項1乃至7の内いずれか1項に記載の放電加工用の加工液処理装置。
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