JPS6274528A - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
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- JPS6274528A JPS6274528A JP21076985A JP21076985A JPS6274528A JP S6274528 A JPS6274528 A JP S6274528A JP 21076985 A JP21076985 A JP 21076985A JP 21076985 A JP21076985 A JP 21076985A JP S6274528 A JPS6274528 A JP S6274528A
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- Japan
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- machining
- conductivity
- time
- machining fluid
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は水若しくは水を主体とする加工液を循環利用し
て放電加工する装置に関する。
て放電加工する装置に関する。
従来、水加工液を循環利用するとぎの加工液の管理に、
イオン交換樹脂等による導電率制御＋装置を組合せて利
用する。加工液の循環供給装置は加［領域に供給した加
工液を集合して貯蔵する貯蔵タンクと、該貯蔵タンクの
加工液を前記加工領域に再び循環供給するポンプ装置と
、及び前記貯蔵タンクの加工液を再生する再生装置とか
ら成っている。前記加工領域に供給された加工液は加工
間隙で放電媒体となり、冷却作用、洗浄作用をする。
イオン交換樹脂等による導電率制御＋装置を組合せて利
用する。加工液の循環供給装置は加［領域に供給した加
工液を集合して貯蔵する貯蔵タンクと、該貯蔵タンクの
加工液を前記加工領域に再び循環供給するポンプ装置と
、及び前記貯蔵タンクの加工液を再生する再生装置とか
ら成っている。前記加工領域に供給された加工液は加工
間隙で放電媒体となり、冷却作用、洗浄作用をする。
このため加工液には放電加工によって発生ずる金属イオ
ン、切屑、放電分解物等が混入して導電度が次第に増大
する。導電率の変化した加工液によると放電加工状態が
異なり、面粗さとか加工精度に相違が現われ、ワイヤカ
ットでは電極消耗に変化があり、断線したりして所期の
加工ができなくなる。従って加工領域から集合した貯蔵
タンク内の加工液の導電度は加工時間と共に次第に増大
してくるから、それを一定の範囲に制御する導電率の管
理が必要であり、イオン交換樹脂等による再生装置が設
けられている。
ン、切屑、放電分解物等が混入して導電度が次第に増大
する。導電率の変化した加工液によると放電加工状態が
異なり、面粗さとか加工精度に相違が現われ、ワイヤカ
ットでは電極消耗に変化があり、断線したりして所期の
加工ができなくなる。従って加工領域から集合した貯蔵
タンク内の加工液の導電度は加工時間と共に次第に増大
してくるから、それを一定の範囲に制御する導電率の管
理が必要であり、イオン交換樹脂等による再生装置が設
けられている。
この従来の再生装置は、ポンプ装置によって加工領域に
供給する供給路に導電率判別装置を設け、導電率が設定
レベル以上に上昇したとき信号を出力して導電率判別装
置の作動を開始し、前記導電率１１１１制御装置により
導電率が設定レベル以下に低下したとき作動停止するよ
うに制御していた。しかしながら貯蔵タンクからポンプ
によって加工領域に供給する加工液の導電率を一定幅に
管理しても、加工領域等の循環系には多聞の加工液が循
環しており、且つ、加工間隙では連続して放電加工が行
なわれ、汚染されているから、加工部分に於て加工液導
電率が所定範囲に制御されていない場合がある。
供給する供給路に導電率判別装置を設け、導電率が設定
レベル以上に上昇したとき信号を出力して導電率判別装
置の作動を開始し、前記導電率１１１１制御装置により
導電率が設定レベル以下に低下したとき作動停止するよ
うに制御していた。しかしながら貯蔵タンクからポンプ
によって加工領域に供給する加工液の導電率を一定幅に
管理しても、加工領域等の循環系には多聞の加工液が循
環しており、且つ、加工間隙では連続して放電加工が行
なわれ、汚染されているから、加工部分に於て加工液導
電率が所定範囲に制御されていない場合がある。
本発明はかかる欠点を改良するためになされたちで、ポ
ンプによって加工領域に供給する加工液の導電率が設定
レベル以上に上昇したとき導電率判別装置によって判別
信号を出力し、導電率制御装置の作動を開始させるよう
にし、該導電率制御装置の作動はその作動時間を最適に
設定制御することによって加工液導電率の管理を行なう
ようにしたことを特徴とする。
ンプによって加工領域に供給する加工液の導電率が設定
レベル以上に上昇したとき導電率判別装置によって判別
信号を出力し、導電率制御装置の作動を開始させるよう
にし、該導電率制御装置の作動はその作動時間を最適に
設定制御することによって加工液導電率の管理を行なう
ようにしたことを特徴とする。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
第１図はワイヤカット放電加工装置で、１はワイヤ電極
、２は被加工体で、両者間の加工間隙に図示しないパル
ス電源よりパルス放電を行なって加工する。３が加工液
を供給するノズル、４が加工液供給用ポンプ、５は加工
領域の流下する液を集合する装置で、集合した加工液を
貯蔵タンクの汚液部６へ供給する。汚液はポンプ８によ
りフィルタ９を通り清液部７に流入する。清液はポンプ
４によって加工部ノズル３に循環供給される。１ｏは電
磁バルブで、電導度制御装置の働がない間はポンプ８に
よる液はフィルタ９がら直接清液部７に流入する。１１
は導電度制御のイオン交換器、１２はポンプ４によって
加工部に供給される加工液の導電率検出電極、１３が上
限判別レベルが設定された信号判別器、１４は判別出力
信号のタイミングによってバルブ１０の作動時間を設定
する時間装置で、この設定時間中、バルブ１０を切換作
動させ、ポンプ８からの液がイオン交換器１１を通って
処理される。
、２は被加工体で、両者間の加工間隙に図示しないパル
ス電源よりパルス放電を行なって加工する。３が加工液
を供給するノズル、４が加工液供給用ポンプ、５は加工
領域の流下する液を集合する装置で、集合した加工液を
貯蔵タンクの汚液部６へ供給する。汚液はポンプ８によ
りフィルタ９を通り清液部７に流入する。清液はポンプ
４によって加工部ノズル３に循環供給される。１ｏは電
磁バルブで、電導度制御装置の働がない間はポンプ８に
よる液はフィルタ９がら直接清液部７に流入する。１１
は導電度制御のイオン交換器、１２はポンプ４によって
加工部に供給される加工液の導電率検出電極、１３が上
限判別レベルが設定された信号判別器、１４は判別出力
信号のタイミングによってバルブ１０の作動時間を設定
する時間装置で、この設定時間中、バルブ１０を切換作
動させ、ポンプ８からの液がイオン交換器１１を通って
処理される。
以上の装置により循環利用される加工液はポンプ４から
ノズル３に供給される途中、その導電率が電極１２によ
り検出されており、上限レベル、即ち、最良放電加工が
行なえる導電率許容値の上限値で、例えば通常約４０μ
シーメンス程度で、このレベルが判別レベルとして判別
器１３に設定してあり、電極１２の検出値が判別レベル
に達すると、信号を時間装置１４に加え、バルブ１ｏを
切換制御してポンプ８からの加工液をイオン交換器１１
に供給して導電率を低下するイオン交換処理を行なう。
ノズル３に供給される途中、その導電率が電極１２によ
り検出されており、上限レベル、即ち、最良放電加工が
行なえる導電率許容値の上限値で、例えば通常約４０μ
シーメンス程度で、このレベルが判別レベルとして判別
器１３に設定してあり、電極１２の検出値が判別レベル
に達すると、信号を時間装置１４に加え、バルブ１ｏを
切換制御してポンプ８からの加工液をイオン交換器１１
に供給して導電率を低下するイオン交換処理を行なう。
時間装置１４の時間設定は加工条件等により最適タイマ
が設定され、加工液循環系全体の導電率が所定に低下す
るよう制御される。これは例えば、第２図で説明すると
、（ａ ）図は荒加工条件、（ｂ）図は中加工条件、（
Ｃ）図は仕上加工条件とすると、各図とも横軸が時間ｔ
１縦軸が加工液のシーメンスμＳ／ｃｍで、Ｌは導電率
許容範囲の下レベル、Ｈがその上限レベルである。（ａ
）図は荒加工であり汚染度が高いから加工液の導電率
はトルベルからトルベルに短時間に増大する。（Ｃ）図
は仕上加工で単位時間の加工量が少ないからしから１１
まで時間は長くかかる。そこで１−ルベルに達したら判
別器１３の信号によってタイマ１４を作動し、バルブ１
０を切換、イオン交換器１１を作動させて導電率低減処
理を行なうが、この処理中も加工間隙では続けて加工が
行なわれているから液導電率は点線Ａ＋のように増加が
予想される。一方イオン交換器１１の処理による導電率
の低下は点線Ｂ１のように単位時間当り一定の処理能力
をもっているとすれば、循環系の加工液の導電率は差に
より実線Ｃ１のように低下し、トルベルまで低下させる
のにＴ１時聞合要ケる。（ｂ ）図の場合は１２時間で
あり、仕上加工の（Ｃ）図の場合では、Ｔ３時間となる
。ＴＩ＞７２＞Ｔ３であり、時間装置１４に加工条件に
よって各々時間Ｔ＋ 、Ｔ２、Ｔ３を設定しておけば、
循環系の加工液を毎回所定値まで処理することができる
。従って、例えば加工始めに加工条件を設定する場合又
は途中で加工条件が変る場合、その条件の変更と共に対
応した適正値に手動で切換え、又は自動的に切換えるこ
とができる。時間装＠１４のタイマが完了すると、バル
ブ１０は元の状態に切換り、ポンプ８からの液は直接清
液１に混合される。そして（ａ ）図の場合は１７１時
間後には再びＨレベルに達してイオン交換器１１を作動
し、（ｂ）図の場合はＴｚ、（Ｃ）図の場合はＴ’１時
間後にイオン交換器１１を作動させて処理し、ＴＩ
ＴＩ −Ｔ’＋ −Ｔｔ 、Ｔｚ Ｔ２−Ｔ’２
Ｔｚ、ＴＩ３ Ｔ３ ＴＩ３ Ｔ３のように、イオン交
換器による処理（ＴＩ 、Ｔｚ 、Ｔｓ ）とイオン交
換器の休止（Ｔ’＋、Ｔ≦−Ｔ３）を繰返して制御する
。
が設定され、加工液循環系全体の導電率が所定に低下す
るよう制御される。これは例えば、第２図で説明すると
、（ａ ）図は荒加工条件、（ｂ）図は中加工条件、（
Ｃ）図は仕上加工条件とすると、各図とも横軸が時間ｔ
１縦軸が加工液のシーメンスμＳ／ｃｍで、Ｌは導電率
許容範囲の下レベル、Ｈがその上限レベルである。（ａ
）図は荒加工であり汚染度が高いから加工液の導電率
はトルベルからトルベルに短時間に増大する。（Ｃ）図
は仕上加工で単位時間の加工量が少ないからしから１１
まで時間は長くかかる。そこで１−ルベルに達したら判
別器１３の信号によってタイマ１４を作動し、バルブ１
０を切換、イオン交換器１１を作動させて導電率低減処
理を行なうが、この処理中も加工間隙では続けて加工が
行なわれているから液導電率は点線Ａ＋のように増加が
予想される。一方イオン交換器１１の処理による導電率
の低下は点線Ｂ１のように単位時間当り一定の処理能力
をもっているとすれば、循環系の加工液の導電率は差に
より実線Ｃ１のように低下し、トルベルまで低下させる
のにＴ１時聞合要ケる。（ｂ ）図の場合は１２時間で
あり、仕上加工の（Ｃ）図の場合では、Ｔ３時間となる
。ＴＩ＞７２＞Ｔ３であり、時間装置１４に加工条件に
よって各々時間Ｔ＋ 、Ｔ２、Ｔ３を設定しておけば、
循環系の加工液を毎回所定値まで処理することができる
。従って、例えば加工始めに加工条件を設定する場合又
は途中で加工条件が変る場合、その条件の変更と共に対
応した適正値に手動で切換え、又は自動的に切換えるこ
とができる。時間装＠１４のタイマが完了すると、バル
ブ１０は元の状態に切換り、ポンプ８からの液は直接清
液１に混合される。そして（ａ ）図の場合は１７１時
間後には再びＨレベルに達してイオン交換器１１を作動
し、（ｂ）図の場合はＴｚ、（Ｃ）図の場合はＴ’１時
間後にイオン交換器１１を作動させて処理し、ＴＩ
ＴＩ −Ｔ’＋ −Ｔｔ 、Ｔｚ Ｔ２−Ｔ’２
Ｔｚ、ＴＩ３ Ｔ３ ＴＩ３ Ｔ３のように、イオン交
換器による処理（ＴＩ 、Ｔｚ 、Ｔｓ ）とイオン交
換器の休止（Ｔ’＋、Ｔ≦−Ｔ３）を繰返して制御する
。
尚、第２図かられかるように、処理能カ一定のイオン交
換器を用いた場合、休止時間（Ｔ’＋、Ｔ’２、ＴＩ３
）と作動時間（ＴＩ 、Ｔ２ 、Ｔ３ ）とは反比例的
に対応している。従って、Ｔ ’ｌ 、Ｔ ’２、Ｔ６
を測定しながら予め記憶しである若しくは関数計算して
対応した適正値Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３を選択して手動で切換
えることができ、又、自動切換えすることができる。Ｒ
適に自動切換する゛時間制御装置を第３図の実施例によ
り説明する。図に於て同符号は同一部分を示す。１５は
タイマ１４の完了を検出してタイミングパルスを出力す
るパルス発生回路、１６はパルス発生回路１５のタイミ
ングでセットし、判別器１３のタイミングでリセットす
るフリップ７０ツブ（ＦＦ）、１７はアンドゲートで、
ＦＦ１６のリセットによりクロックパルス１９をカウン
タ１８に加えて計数さぜる。カウンタ１８は判別器１３
のタイミングパルスによりＦ「７６がりごツ１〜するま
で計数する。このＫｌ数時間は第２図（ａ ）の場合Ｔ
１に相当する。２０はカウンタ１８の計数信号を選択す
る回路で、ＦＦ１６のリセットパルスが加えられ、この
入力とカウンタ１８の一致計数値が選択され、次の制御
回路２１に選択出力を加える。出力回路２１は選択され
た信号入力、即ち、カウンタ１８の計数値Ｔ１に対応し
て反比例する値Ｔ１に時間装置ｆ５１１４のタイマを切
換えるよう制御する。
換器を用いた場合、休止時間（Ｔ’＋、Ｔ’２、ＴＩ３
）と作動時間（ＴＩ 、Ｔ２ 、Ｔ３ ）とは反比例的
に対応している。従って、Ｔ ’ｌ 、Ｔ ’２、Ｔ６
を測定しながら予め記憶しである若しくは関数計算して
対応した適正値Ｔ１、Ｔ２、Ｔ３を選択して手動で切換
えることができ、又、自動切換えすることができる。Ｒ
適に自動切換する゛時間制御装置を第３図の実施例によ
り説明する。図に於て同符号は同一部分を示す。１５は
タイマ１４の完了を検出してタイミングパルスを出力す
るパルス発生回路、１６はパルス発生回路１５のタイミ
ングでセットし、判別器１３のタイミングでリセットす
るフリップ７０ツブ（ＦＦ）、１７はアンドゲートで、
ＦＦ１６のリセットによりクロックパルス１９をカウン
タ１８に加えて計数さぜる。カウンタ１８は判別器１３
のタイミングパルスによりＦ「７６がりごツ１〜するま
で計数する。このＫｌ数時間は第２図（ａ ）の場合Ｔ
１に相当する。２０はカウンタ１８の計数信号を選択す
る回路で、ＦＦ１６のリセットパルスが加えられ、この
入力とカウンタ１８の一致計数値が選択され、次の制御
回路２１に選択出力を加える。出力回路２１は選択され
た信号入力、即ち、カウンタ１８の計数値Ｔ１に対応し
て反比例する値Ｔ１に時間装置ｆ５１１４のタイマを切
換えるよう制御する。
時間装［１４の設定タイマの間バルブ１０が切換制御さ
れ、イオン交換器１１により加工液の導電率を低減する
制御を行なうが、予め設定したその動作時間Ｔ１が完了
するとタイミングパルス１５によりＦ Ｆ １６がセッ
トされ、クロックパルス１９がアンドゲート１１を経て
カウンタ１８に加わり計数開始する。
れ、イオン交換器１１により加工液の導電率を低減する
制御を行なうが、予め設定したその動作時間Ｔ１が完了
するとタイミングパルス１５によりＦ Ｆ １６がセッ
トされ、クロックパルス１９がアンドゲート１１を経て
カウンタ１８に加わり計数開始する。
そこで加工を続けることにより供給加工液の導電率が所
定ハイレベル）−１に達すると判別器１３より時間装置
１４が再び作動するが、これと同時にＦＦ１６がリセッ
トする。このリセットによりゲート１７が閉じるからカ
ウンタ１８の計数は中止するが、このときＦＦ１６のリ
セット信号は選択器２０に加わりカウンタの計数値、Ｔ
１に相当する値が選出され制御回路２１に入力する。制
御回路２１はＴ ’ｌ信号に対応する記憶値若しくは計
数値に基づいて時間装置１４の設定タイマをＴ１に切換
える。カウンタ１８の計数値が大きくなり、第２図（ｂ
）のＴ２になれば、タイマをＴ２に短縮設定し、（Ｃ）
のＴ３と更に長くなればＴ３に短縮設定する制御を行な
う。
定ハイレベル）−１に達すると判別器１３より時間装置
１４が再び作動するが、これと同時にＦＦ１６がリセッ
トする。このリセットによりゲート１７が閉じるからカ
ウンタ１８の計数は中止するが、このときＦＦ１６のリ
セット信号は選択器２０に加わりカウンタの計数値、Ｔ
１に相当する値が選出され制御回路２１に入力する。制
御回路２１はＴ ’ｌ信号に対応する記憶値若しくは計
数値に基づいて時間装置１４の設定タイマをＴ１に切換
える。カウンタ１８の計数値が大きくなり、第２図（ｂ
）のＴ２になれば、タイマをＴ２に短縮設定し、（Ｃ）
のＴ３と更に長くなればＴ３に短縮設定する制御を行な
う。
この設定タイマで時間装置１４が作動しバルブ１０を制
御するから、加工液の循環系は毎回その導電率が予定の
ローレベルＬに達成し、一定したシーメンスに処理して
安定した放電加工を行なうことができる。
御するから、加工液の循環系は毎回その導電率が予定の
ローレベルＬに達成し、一定したシーメンスに処理して
安定した放電加工を行なうことができる。
以上はイオン交換の処理時間Ｔ＋ 、Ｔ２ 、Ｔ３の切
換制御によって所定処理を行なう場合の実施例であるが
、設定時間中のイオン交換器１１の処理能力を制御する
ことによっても所定の導電率の制御ができる。第４図に
より説明すれば、ポンプ８の駆動モータ２２の回路に切
換制御のトランジスタ２３ａ、２３ｂ、２３ｃ ・・−
−−−−−−及び制御抵抗２４ａ、２４ｂ、２４ｃ −
・・・・・・・・を挿入し、これを制御回路２１により
信号に応じた切換制御を行なう。今抵抗値が２４ａ （
２４ｂ（２４ｃ（・・・・・・・・・であるとすれば、
トランジスタ２３ａにより抵抗２４ａを設定したとき、
モータ及びポンプ８の回転数が最高になり単位時間のイ
オン交換処理量は最大になり、トランジスタ２３ｂによ
り抵抗２４ｂを選択すればポンプ８の回転数が低下して
イオン交換処理量が減少するというように、回路抵抗の
切換、それによるポンプの回転数の制ａｌｌによりイオ
ン交換処理間を任意に制御することができる。この単位
時間当りのイオン交換処理間の制御は、第２図で説明す
ると、点線Ｂ＋の勾配の制御にほかならない。点線Ｂ１
の勾配を大きく制御寸れば、実線ＣＩの勾配も大きくな
り、時間Ｔ１は短縮される。従って、図（ａ ）の休止
時間が短いＴ１に対応しては制御回路２１によりポンプ
速度を高めて点線Ｂ３の急勾配制御をすれば処理時間Ｔ
１は短縮し、図（ｂ ）の休止時間Ｔ２に対応して点線
Ｂ２の勾配制御をすれば処理時間Ｔ２を短縮でき、これ
らの勾配制御によって、各々の場合を図（Ｃ）の休止時
間Ｔ３に対応して点線Ｂ１の勾配制御したときの処理時
間Ｔ３に等しい時間で所定のローレベルＬまでの処理を
することができる。
換制御によって所定処理を行なう場合の実施例であるが
、設定時間中のイオン交換器１１の処理能力を制御する
ことによっても所定の導電率の制御ができる。第４図に
より説明すれば、ポンプ８の駆動モータ２２の回路に切
換制御のトランジスタ２３ａ、２３ｂ、２３ｃ ・・−
−−−−−−及び制御抵抗２４ａ、２４ｂ、２４ｃ −
・・・・・・・・を挿入し、これを制御回路２１により
信号に応じた切換制御を行なう。今抵抗値が２４ａ （
２４ｂ（２４ｃ（・・・・・・・・・であるとすれば、
トランジスタ２３ａにより抵抗２４ａを設定したとき、
モータ及びポンプ８の回転数が最高になり単位時間のイ
オン交換処理量は最大になり、トランジスタ２３ｂによ
り抵抗２４ｂを選択すればポンプ８の回転数が低下して
イオン交換処理量が減少するというように、回路抵抗の
切換、それによるポンプの回転数の制ａｌｌによりイオ
ン交換処理間を任意に制御することができる。この単位
時間当りのイオン交換処理間の制御は、第２図で説明す
ると、点線Ｂ＋の勾配の制御にほかならない。点線Ｂ１
の勾配を大きく制御寸れば、実線ＣＩの勾配も大きくな
り、時間Ｔ１は短縮される。従って、図（ａ ）の休止
時間が短いＴ１に対応しては制御回路２１によりポンプ
速度を高めて点線Ｂ３の急勾配制御をすれば処理時間Ｔ
１は短縮し、図（ｂ ）の休止時間Ｔ２に対応して点線
Ｂ２の勾配制御をすれば処理時間Ｔ２を短縮でき、これ
らの勾配制御によって、各々の場合を図（Ｃ）の休止時
間Ｔ３に対応して点線Ｂ１の勾配制御したときの処理時
間Ｔ３に等しい時間で所定のローレベルＬまでの処理を
することができる。
尚、以上は一実施例により本発明を説明したが、イオン
交換器１１を作動するポンプには、フィルタポンプ８と
別個に設けることができ、加工液の導電率の検出は貯蔵
タンク ７に於て検出ができる等種々変更することがで
きる。
交換器１１を作動するポンプには、フィルタポンプ８と
別個に設けることができ、加工液の導電率の検出は貯蔵
タンク ７に於て検出ができる等種々変更することがで
きる。
又、時間測定回路にも種々のデジタル回路、アナログ回
路を利用することができ、対応する処理時間の測定制御
には予めメモリした値から選択し、或いは関係数式に基
づいて計口した値を設定する任意の制御装置が利用でき
、イオン交換処理用ポンプの回転数制御回数も任意に利
用でさる。制御にコンピュータを組合せることにより、
より最適化制御を行なうことができる。
路を利用することができ、対応する処理時間の測定制御
には予めメモリした値から選択し、或いは関係数式に基
づいて計口した値を設定する任意の制御装置が利用でき
、イオン交換処理用ポンプの回転数制御回数も任意に利
用でさる。制御にコンピュータを組合せることにより、
より最適化制御を行なうことができる。
以上のように本発明によれば、水若しくは水を主体とす
る加工液を循環しながら使用し加工する放電加工装量に
於て、循環供給系に設ける再生装置がポンプによって加
工領域に供給する加工液導電率が設定されたレベル以上
に上界したとき信号を出力する導電率判別装置の出力信
号によって作動開始して貯蔵タンクの加工液の導電率を
低下させる処理をする導電率制御装置と、該導電率制■
・装；メの作動時間を設定する時間装置・とから成るこ
とを特徴とするちのであるから、導電制御Ｉ装置は毎回
の作動が時間装置の設定時間によって制御され、その時
間設定を加工条件等によって最適値に設定することによ
って、従来の加工領域に供給する加工液の導電率の高低
再レベルを検出して導電率制御装置の作動をオン・オフ
制ｆｉｌ俳る場合のように見掛上の制御が行なわれても
加工液循環系全体の導電率が常に最適に制御されない欠
点を除去し、本発明によれば、荒加工でも仕上加工でも
、加工液の汚染状態、汚染速度が相違する諸種な加工の
場合においても処理時間の最適設定だけで循環系全体の
導電率を常に所定に制御することができる。又、時間設
定は、導電率制御装置が作動開始するまでの休止時間の
長さに対応させた時間に設定づることによって処理時間
の設定が最適にでき、休止時間に対応させて時間設定を
行なうことにより時間設定の自動的制御が最適にできる
。この自動的設定制御によって途中で放電加工状態が変
化する場合においても適応制御が容易である。
る加工液を循環しながら使用し加工する放電加工装量に
於て、循環供給系に設ける再生装置がポンプによって加
工領域に供給する加工液導電率が設定されたレベル以上
に上界したとき信号を出力する導電率判別装置の出力信
号によって作動開始して貯蔵タンクの加工液の導電率を
低下させる処理をする導電率制御装置と、該導電率制■
・装；メの作動時間を設定する時間装置・とから成るこ
とを特徴とするちのであるから、導電制御Ｉ装置は毎回
の作動が時間装置の設定時間によって制御され、その時
間設定を加工条件等によって最適値に設定することによ
って、従来の加工領域に供給する加工液の導電率の高低
再レベルを検出して導電率制御装置の作動をオン・オフ
制ｆｉｌ俳る場合のように見掛上の制御が行なわれても
加工液循環系全体の導電率が常に最適に制御されない欠
点を除去し、本発明によれば、荒加工でも仕上加工でも
、加工液の汚染状態、汚染速度が相違する諸種な加工の
場合においても処理時間の最適設定だけで循環系全体の
導電率を常に所定に制御することができる。又、時間設
定は、導電率制御装置が作動開始するまでの休止時間の
長さに対応させた時間に設定づることによって処理時間
の設定が最適にでき、休止時間に対応させて時間設定を
行なうことにより時間設定の自動的制御が最適にできる
。この自動的設定制御によって途中で放電加工状態が変
化する場合においても適応制御が容易である。
又、設定時間を一定にしておいて、導電率制６１１Ｒ置
の回転数を変えて処理能力を制御することもでき、この
場合に導電率制御装置が作動開始するまでの休止時間を
計測して、それに対応させて制御することができ、最適
な導電率制御をすることができる。このようにして、本
発明は加工液循環系全体の導電率が実質的に最良に制御
できるから、放電加工は常に安定して行なわれ、加工面
粗さ、加工精度等が所定値に制御され、ワイヤカットに
於て断線を低減し、安定した能率の良い加工を高精度を
もって加工づることができる。
の回転数を変えて処理能力を制御することもでき、この
場合に導電率制御装置が作動開始するまでの休止時間を
計測して、それに対応させて制御することができ、最適
な導電率制御をすることができる。このようにして、本
発明は加工液循環系全体の導電率が実質的に最良に制御
できるから、放電加工は常に安定して行なわれ、加工面
粗さ、加工精度等が所定値に制御され、ワイヤカットに
於て断線を低減し、安定した能率の良い加工を高精度を
もって加工づることができる。
第１図は本発明の一実施例回路構成図、第２図はその説
明図、第３図は他の実施例の一部回路図、第４図は又他
の実施例の一部回路図である。 １・・・・・・・・・ワイヤ電極 ２・・・・・・・・・被加工体 ３・・・・・・・・・加工液ノズル ４・・・・・・・・・ポンプ ５・・・・・・・・・集合装置 ６．７・・・・・・・・・貯蔵タンク ８・・・・・・・・・ポンプ ９・・・・・・・・・フィルタ １０・・・・・・・・・電磁バルブ １１・・・・・・・・・イオン交換器 １２・・・・・・・・・電極 １３・・・・・・・・・導電率判別器 １４・・・・・・・・・時間装置 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 ｋｒ４ ノ貝］ Ｉ
明図、第３図は他の実施例の一部回路図、第４図は又他
の実施例の一部回路図である。 １・・・・・・・・・ワイヤ電極 ２・・・・・・・・・被加工体 ３・・・・・・・・・加工液ノズル ４・・・・・・・・・ポンプ ５・・・・・・・・・集合装置 ６．７・・・・・・・・・貯蔵タンク ８・・・・・・・・・ポンプ ９・・・・・・・・・フィルタ １０・・・・・・・・・電磁バルブ １１・・・・・・・・・イオン交換器 １２・・・・・・・・・電極 １３・・・・・・・・・導電率判別器 １４・・・・・・・・・時間装置 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 ｋｒ４ ノ貝］ Ｉ
Claims (3)
- （１）電極と被加工体の加工間隙が形成される加工領域
に水若しくは水を主体とする加工液を循環供給しながら
放電加工する装置に於て、前記加工領域から集合した加
工液を貯蔵する貯蔵タンクと、該貯蔵タンクの加工液を
前記加工領域に再循環供給するポンプ装置と、及び前記
貯蔵タンクの加工液を再生する再生装置とから成る加工
液循環供給装置を設け、前記再生装置は、前記ポンプ装
置によつて前記加工領域に供給する加工液の導電率が設
定されたレベル以上に上昇したとき信号を出力する導電
率判別装置と、該導電率判別装置の出力信号によつて作
動開始して前記貯蔵タンクの加工液の導電率を低下させ
る処理をする導電率制御装置と、該導電率制御装置の作
動時間を設定する時間装置とから成つていることを特徴
とする放電加工装置。 - （２）導電率制御装置の作動時間を前記導電率制御装置
の作動休止時間に対応させて時間設定する時間装置とを
設けた特許請求の範囲第１項に記載の放電加工装置。 - （３）電極と被加工体の加工間隙が形成される加工領域
に水若しくは水を主体とする加工液を循環供給しながら
放電加工する装置に於て、前記加工領域から集合した加
工液を貯蔵する貯蔵タンクと、該貯蔵タンクの加工液を
前記加工領域に再循環供給するポンプ装置と、及び前記
貯蔵タンクの加工液を再生する再生装置とから成る加工
液循環供給装置を設け、前記再生装置は、前記ポンプ装
置によつて前記加工領域に供給する加工液の導電率が設
定されたレベル以上に上昇したとき信号を出力する導電
率判別装置と、該導電率判別装置の出力信号によつて一
定の設定時間作動して前記貯蔵タンクの加工液の導電率
を低下させる処理をする導電率制御装置と、該導電率制
御装置の作動ポンプの回転数をその作動休止時間に対応
させて制御する回転速度制御装置とを設けて成ることを
特徴とする放電加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21076985A JPS6274528A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 放電加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21076985A JPS6274528A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 放電加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6274528A true JPS6274528A (ja) | 1987-04-06 |
Family
ID=16594827
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21076985A Pending JPS6274528A (ja) | 1985-09-24 | 1985-09-24 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6274528A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0241817A (ja) * | 1988-08-03 | 1990-02-13 | Sodick Co Ltd | 放電加工用加工液供給装置 |
| US5464959A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Sodick Co., Ltd. | Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid |
| US7737380B2 (en) | 2005-05-23 | 2010-06-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Electrical-discharge machining apparatus and method and apparatus for dielectric-fluid quality control |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5434197A (en) * | 1977-08-22 | 1979-03-13 | Inoue Japax Res Inc | Electric working device |
| JPS5917127A (ja) * | 1982-07-21 | 1984-01-28 | Nissan Motor Co Ltd | タイヤ空気圧表示装置 |
| JPS5917127U (ja) * | 1982-07-20 | 1984-02-02 | 株式会社井上ジャパックス研究所 | 放電加工用加工液の処理装置 |
-
1985
- 1985-09-24 JP JP21076985A patent/JPS6274528A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
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