JPH0241817A - 放電加工用加工液供給装置 - Google Patents

放電加工用加工液供給装置

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JPH0241817A
JPH0241817A JP19274888A JP19274888A JPH0241817A JP H0241817 A JPH0241817 A JP H0241817A JP 19274888 A JP19274888 A JP 19274888A JP 19274888 A JP19274888 A JP 19274888A JP H0241817 A JPH0241817 A JP H0241817A
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machining liquid
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、放電加工用加工液供給装置に関するものであ
る。
(従来の技術) 一般に、ワイヤカット放電加工機においては、水を主成
分とする水系の加工液が使用されることがタフいが、水
系の加工液を用いてワイヤカット放電加工を行なう場合
、加工液の導電率がその加工状態に大きく影響を与える
ことはよく知られているところである。特に、ワイヤカ
ット放電加工においては、加工液の状態によってコーナ
部の形状8度が著しく影響を受けるものである。このエ
ラな問題を解決するために、最近の加工技術では、目的
に応じて加工液の導電率を変更し、加工精度及び加工速
度の向上を図り、又は錆の発生を防止するなどの工夫が
なされている。たとえば、加工液の導電率を、荒加工で
は10Ω・m以下として高速度で加工を行ない、しかる
後、中加工では5X10’Ω・口とし、仕上げ加工にお
いては高い加工精度を得るために1050・m以上とす
るというように、各加工段階において適切な導電率の加
工液を使用するようになってきている。
(発明が解決しようとする課題) ところで、このように各加工段階毎に加工液の専心率を
変えて所望の加工を行なう場合には、1つの加工段階が
終了した後、加工液を脱イオン化装置に通して導電率を
所望の値にまで上昇させなければならず、したがって、
加工液の導′堀率の変更に数分乃至10数分の時間を要
することになる。
このため、加工能率が極めて低下してしまうという問題
点を有している。
本発明の目的は、上述の問題点を解決することができ、
短時間のうちに所望の4電率の加工液を得ることができ
る、放電加工用加工液供給装置を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成するための本発明の構成は、ワイヤカッ
ト放電加工機へ水系の加工液を供給するための放電加工
用加工液供給装置において、ワイヤカット放電加工機か
らの使用済み加工[を溜めておく第1タンクと、上記ワ
イヤカット放電加工機へ供給すべき加工液を溜めておく
第2タンクと、上記第1タンク内の加工液を取シ出して
ろ過するろ過手段と、該ろ過手段の出口に接続された分
流手段と、該分流手段の一方の出口からの加工液を上記
第2タンクへ導びく手段と、該分流手段の他方の出口か
らの加工液を脱イオン化するための脱イオン化手段と、
該脱イオン化手段によって脱イオン化された加工液を溜
めておく第3タンクと、供給すべき加工液の導電率を検
出するセンサと、該センサに応答し上記供給すべき加工
液の専心率が所望の値になるよう上記第3タンク内の加
工液全上記第2タンク内に供給するための供給手段と、
上記第2タンク内の加工液を上記ワイヤカット放電加工
機へ供給するための供給手段とを備えて成る点に特徴を
有する。
(作用) 第1タンク内に溜った使用済加工液はろ過手段によって
ろ過され、ろ過された加工液の少なくとも一部が分流手
段を介して第2タンクに送られる。
残りのろ過加工液は脱イオン化手段によって脱イオン化
され、これによシ導電率を高められた加工液が第3タン
ク内に溜められる。従って、第2タンク内にはろ過され
てはいるが脱イオン化されていない加工液が溜められ、
第3タンク内には導電率の高い加工数が溜められる。
移送手段は、第3タンク内の導電率の高い加工液を第2
タンク内に移送し、これによシ、第2タンク内の加工液
の24奄率を比較的短時間のうちに所要のレベルにまで
高めることができる。
このようにして4電率の調節が行なわれる第2タンク内
の加工液は、供給手段を介してワイヤカット放電加工機
へ送給される。
(実施例) 以下、図面に示す本発明の一実施例につき、詳細に説明
する。
図面において、総体的に符号10で示されるのは、本発
明による加工液供給装置であり、該加工液供給装置10
は、ワイヤカット放電加工機−1の加工間隔Gに向けて
水加工液(以下、単に加工液という)を供給するために
用いられている。
ワイヤカット放電加工機1において便用された使用済み
加工液は集液部材12によりて集められ、集液部材12
の底部に設けられたダクト14を介して使用済み加工液
を溜めるための第1タンク16内に排出される。第1タ
ンク16の底面16aには一端がボン7’18の入口ポ
ー) 18 a VC接続されているパイプ20の他端
が接続されておシ、ポン7’18によって第1タンク1
6内の使用済み加工液Aをフィルタ装置22に送り込む
構成となっている。
フィルタ装置22の出口側には、2つの出口ポート24
 a * 24 bを有する流量調型装置24が設けら
れており、フィルタ装置22によって使用済み加工液中
に混じっているチップその他の粒子が除去されたろ過加
工液が2つの出口ポート24a。
24bから夫々取υ出される。各出ロホートから得られ
るろ過加工液の流量は、流量調整装置24に設けられて
いる図示しない調節部材を手動又はその他の適宜の手段
で調節することにより、任意の比率に変えることができ
る。ここで、流量調整装に24は、流量の比率を変えて
も、各出口ポートからのろ過加工液の流圧は同程度にな
るように構成されている。出口ポート24aを介して取
り出されたろ過加工液はパイ!26ft介して第2タン
ク28内に送シ込まれ、第2タンク28にはろ過加工Q
Bが溜められる。一方、出口ポート24bを介して取り
出されたろ過加工液は脱イオン化装置30に送られる。
脱イオン化装置30は、例えばイオン交換樹脂を含んで
成り、ろ過加工液の4篭率はここで5×105Ω・口程
度にまで高められ、パイプ32を介して第3タンク34
に送られる。ノ!イf32の先端部には、フロート36
によって開閉作動する開閉弁38が設けられている。開
閉弁38は第3タンク34の上端縁よりやや下方に位置
するようパイプ32に設けられておシ、従って、脱イオ
ン化装置1lt30からの脱イオン化加工液Cが第3タ
ンク34に溜シ、第3タンク34内の脱イオン化加工′
aCの液面レベルが上昇し、第3タンク34の上端縁よ
シやや下方の所定のレベルに達した場合に、フロート3
6が開閉−yP38を閉じる構成となっている。この結
果、第3タンク34から脱イオン化加工aCがあふれ出
ることはない。
第3タンク34内の脱イオン化加工液01に第2タンク
28内に送シ込むことができるようにするため、電磁式
の開閉弁40を有するパイプ42が第3タンク34と第
2タンク28との間に設けられている。符号44で示さ
れるのは、2つの入口ボート44a 、44b及び出口
ポート44cを有する流電v4整弁であシ、入日ボー)
44aは一端が第2タンク28内にめるノ4イブ46の
他端に接続され、入口ポート44bはノ臂イグ48によ
ってノ9イブ42と図示の如く接続されている。
tjlNm調聚升44の出口ボー)44cは、ポンプ5
0の入力側と接続され、ポンプ5oの出力側はツクイブ
52によって噴射ノズル54に接続されている。
パイf52の途中には、このバイア’52を通って流れ
る加工液の導電率を測定するための導電率制定装置56
が設けられている。導電率制定装置56からはボン7’
50から送られてくる加工液の導電率を示す検出信号S
が出力され、検出信号Sは制御ユニット58に入力され
る。制御ユニット58は、検出信号Sによって示される
導電率X8が外部から与えられる設定信号KKよって示
される設定環′ft率X、と一致したか否かを判別し、
Xs<Xkの場合には開閉弁40を開き、X8≧Xkの
場合には開閉弁40を閉じるように電磁式の開閉弁40
の開閉制御を行なうだめの開閉制御信号Uを出力する。
開閉制御信号Uは、スイッチ60を介して開閉弁40の
図示しない励磁コイルに印加される構成となっている。
スイッチ60が開かれている場合には、開閉弁40の励
磁コイルは付勢されず、開閉弁40は閉状態となる。し
かし、スイッチ60が閉じられた場合においてXB< 
X、となっていると、開閉制御信号Uのレベルは高レベ
ル状態となり、開閉弁40は開状態となる。スイッチ6
0が閉じられていても、X、≧Xkの場合には、開閉制
御信号Uのレベルは低レベル状態となり、開閉弁40は
閉じられたままである。
なお、流量調整弁44は、手動によシ、入口ポ)44a
又は44bのいずれか一方のみを選択的に出口?−ト4
4 cに連通せしめることができる構成となりている。
次に、加工液供給装fg[10の動作について説明する
第1タンク16に溜められた使用済み加工液Aは、ポン
プ18によって、フィルタ装[22に送られ、ここでチ
ップ等が除去される。ろ過された加工液は、流量調節装
置24によって、その一部は第2タンク28内に送られ
、残りは脱イオン化鋏tiL30によって脱イオン化さ
れた後第3タンク34内に送シ込まれる。第3タンク3
4内の脱イオン化加工液Cは、フロート36により操作
される開閉弁38の働きによシ常に満杯の状態に維持さ
れている。
したがって、ろ過加工液Bの導電率は104Ω・−10
5Ω・画程度であシ、脱イオン化加工液Cの導電率は5
 X 10  Ω11crn以上である。
先ず、荒加工を行なう場合には、スイッチ60はオフ状
態にして開閉弁40を閉状態にした上で、流址調螢弁4
4を手動で操作し、入口ポート44aが出口ポート44
Cに連通する状態とする。これによシ、ボン7″50は
、ろ過加工液Bをパイプ46を介して汲み上げ、噴射ノ
ズル54に供給し、これにより4低率が10 〜10 
 Ω・αの水加工液により被加工物を荒加工することが
できる。
荒加工の終了後、スイッチ60をオンとし、Xkの値が
中仕上げ加工に必要な10 〜4×100・鐸の範囲の
適宜の導電率となる設定信号Kを制御ユニット58に入
力することによ)、X5=Xkとなるように開閉弁40
が開閉制御される。このように、中仕上げ加工に必要な
導電率を得るために、第3タンク34内の脱イオン化加
工icを第2タンク28内に流入させる構成であるから
、所望の導電率の加工液を数秒で得ることが可能であり
、待ち時間が少なくて済み、加工能率を著しく高めるこ
とができる。
次いで、仕上げ加工を行なう場合は、スイッチ60をオ
フとして開閉弁40を閉じ、流に調整弁44を入口ポー
ト44bが出口ポート44cと連通するようにセットす
ることにより、脱イオン化加工液Cが直接噴射ノズル5
4に供給する。これにニジ、導電率が5×10Ω・0以
上の純水が加工液として供給されるので、精度のよい加
工を行なうことができる。この場合は、流路の切シ換え
により加工液の導を率を変更するので、待ち時間は零で
あり、加工能率を著しく高めることができる。
なお、上記実施例では、流j!を調整弁44は手動で操
作する構成としたが、検出信号Sに応答して自動的に調
整される弁を使用し、その切シ侠えを自動的に行なう構
成としてもよい。
(発明の効果) 本発明によれば、導′屯率の異なる複数の加工液を適宜
に混合することにニジ所要の加工に見合った導電率の加
工液を得る構成であるから、所要の4電率の加工液を短
時間のうちに供給することが可能となり、放電加工の加
工能率の向上に著しく寄与することができるものである
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例をブロック的に示す構成図でろ
る。 ■・・・ワイヤカット放電加工壁、10・・・加工液供
給装置、16・・・第1タンク、18・・・ポンプ、2
2・・・フィルタ装置、24・・・流量調整装置、28
・・・第2タンク、30・・・脱イオン化1ift、3
4・・・第3タンク、40・・・開閉弁、50・・・ポ
ンプ、56・・・導電率測距装置、58・・・制御ユニ
ット、A・・・使用済み加工液、B・・・ろ過加工液、
C・・・脱イオン化加工液。 特許出願人  株式会社ソディック 代理 人 弁理士高野昌俊

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ワイヤカット放電加工機へ水系の加工液を供給する
    ための放電加工用加工液供給装置において、ワイヤカッ
    ト放電加工機からの使用済み加工液を溜めておく第1タ
    ンクと、前記ワイヤカット放電加工機へ供給すべき加工
    液をを溜めておく第2タンクと、前記第1タンク内の加
    工液を取り出してろ過するろ過手段と、該ろ過手段の出
    口に接続された分流手段と、該分流手段の1つの出口か
    らの加工液を前記第2タンクへ導びく手段と、該分流手
    段の他の出口からの加工液を脱イオン化するための脱イ
    オン化手段と、該脱イオン化手段によつて脱イオン化さ
    れた加工液を溜めておく第3タンクと、供給すべき加工
    液の導電率を検出するセンサと、該センサに応答し前記
    供給すべき加工液の導電率が所望の値になるよう前記第
    3タンク内の加工液を前記第2タンク内に移送するため
    の移送手段と、前記第2タンク内の加工液を前記ワイヤ
    カット放電加工機へ供給するための供給手段とを備えて
    成ることを特徴とする放電加工用加工液供給装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5464959A (en) * 1992-04-28 1995-11-07 Sodick Co., Ltd. Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid
JPH09193137A (ja) * 1996-01-16 1997-07-29 Cree Res Inc 炭化ケイ素ウエーハを製造する方法及び4h炭化ケイ素のウエーハ

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS571622A (en) * 1980-05-29 1982-01-06 Mitsubishi Electric Corp Discharge processing device
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