JPH0248112A - 加工液供給装置 - Google Patents
加工液供給装置Info
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- JPH0248112A JPH0248112A JP19709188A JP19709188A JPH0248112A JP H0248112 A JPH0248112 A JP H0248112A JP 19709188 A JP19709188 A JP 19709188A JP 19709188 A JP19709188 A JP 19709188A JP H0248112 A JPH0248112 A JP H0248112A
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title abstract description 25
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 40
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 10
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、例えば放電加工機のような加工機に加工液を
供給する加工液供給装置に関するものである。
供給する加工液供給装置に関するものである。
[従来の技術]
第2図は従来の加工液供給装置の一例を示す説明図であ
る。図において、(1)は加工液供給装置のタンク、(
2)は使用後の加工液(汚液)を入れる汚液槽、(3)
は清浄化された加工液(清浄液)を入れる清浄液槽、(
4)は汚液槽(2)と清浄液槽(3)の間に設けられた
仕切板である。り5)は清浄液槽(3)内に設けられた
フィルター、(6)は汚液槽(2)内の汚液をフィルタ
ー(5)に供給するためのフィルターポンプである。(
7)は加工機、(8)は加工機(7)に清浄槽(3〉内
の加工液を供給する供給ポンプ、(9)は純水器、(1
0)は純水器(9)に加工液を供給する純水器ポンプで
ある。(11)は清浄液層(3)内に設けられ金属イオ
ンの濃度により純水器ポンプ(10)のスイッチをNO
,OFFする比抵抗センサである。
る。図において、(1)は加工液供給装置のタンク、(
2)は使用後の加工液(汚液)を入れる汚液槽、(3)
は清浄化された加工液(清浄液)を入れる清浄液槽、(
4)は汚液槽(2)と清浄液槽(3)の間に設けられた
仕切板である。り5)は清浄液槽(3)内に設けられた
フィルター、(6)は汚液槽(2)内の汚液をフィルタ
ー(5)に供給するためのフィルターポンプである。(
7)は加工機、(8)は加工機(7)に清浄槽(3〉内
の加工液を供給する供給ポンプ、(9)は純水器、(1
0)は純水器(9)に加工液を供給する純水器ポンプで
ある。(11)は清浄液層(3)内に設けられ金属イオ
ンの濃度により純水器ポンプ(10)のスイッチをNO
,OFFする比抵抗センサである。
次に動作について説明する。ます、供給ポンプ(8)を
駆動してタンク(1)の清浄液槽り3)内から加工液を
汲みあげる。このようにして汲みあげられた加工液は加
工機(7)に供給され、さらにこの加工機(7)からは
加工後のスラッジの混しった液が排出され、汚液槽(2
)内に貯留される。この汚液槽(2)内の汚液は、フィ
ルターポンプ(6)によって汲みあげられ、フィルター
(5)に供給されてろ過され、スラッジかとり除かれる
。この場合、フィルター(5)のメツシュより小さな金
属イオンは、フィルター(5)を通過して清浄液槽(3
)に流れこむため、このサイクルが続くと、清浄液槽(
3)内の金属イオン濃度が高くなり、一定値以上となっ
たときに比抵抗センサ(11)がこれを感知する。
駆動してタンク(1)の清浄液槽り3)内から加工液を
汲みあげる。このようにして汲みあげられた加工液は加
工機(7)に供給され、さらにこの加工機(7)からは
加工後のスラッジの混しった液が排出され、汚液槽(2
)内に貯留される。この汚液槽(2)内の汚液は、フィ
ルターポンプ(6)によって汲みあげられ、フィルター
(5)に供給されてろ過され、スラッジかとり除かれる
。この場合、フィルター(5)のメツシュより小さな金
属イオンは、フィルター(5)を通過して清浄液槽(3
)に流れこむため、このサイクルが続くと、清浄液槽(
3)内の金属イオン濃度が高くなり、一定値以上となっ
たときに比抵抗センサ(11)がこれを感知する。
金属イオン濃度が所定値を越えると、比抵抗センサ(1
1)からの指示で純水器ポンプ(10)のスイッチかO
Nシ、純水器ポンプ(10)を駆動して加工液純水器(
9)内へ送り込む。このようにして、純水器(9)内で
加工液の金属イオンが取り除かれる。金属イオン濃度か
一定の比抵抗値に戻ると、比抵抗センサ(11)からの
指令で純水器ポンプ(lO)のスイッチはOFFされ、
清浄液槽(3)内の加工液の比抵抗値は所望の範囲内に
維持される。
1)からの指示で純水器ポンプ(10)のスイッチかO
Nシ、純水器ポンプ(10)を駆動して加工液純水器(
9)内へ送り込む。このようにして、純水器(9)内で
加工液の金属イオンが取り除かれる。金属イオン濃度か
一定の比抵抗値に戻ると、比抵抗センサ(11)からの
指令で純水器ポンプ(lO)のスイッチはOFFされ、
清浄液槽(3)内の加工液の比抵抗値は所望の範囲内に
維持される。
[発明が解決しよとする課題]
上記のように構成した従来の加工液供給装置によれば、
加工機に供給される加工液の比抵抗値を直接測定しない
ため、清浄液槽(3)内の金属イオンの分布状態により
加工機に供給される加工液の比抵抗値が変化してしまい
、高精度の制御ができないという問題があった。
加工機に供給される加工液の比抵抗値を直接測定しない
ため、清浄液槽(3)内の金属イオンの分布状態により
加工機に供給される加工液の比抵抗値が変化してしまい
、高精度の制御ができないという問題があった。
本発明は上記のような課題を解決するためになされたも
ので、加工機に供給される加工液の比抵抗値を高精度に
制御し、常にはシ一定に保持することのできる加工液供
給装置を得ることを目的とする。
ので、加工機に供給される加工液の比抵抗値を高精度に
制御し、常にはシ一定に保持することのできる加工液供
給装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明は上記の目的を達成するためになされたもので、
供給ポンプの吐出側に比抵抗センサを設け、比抵抗セン
サが感知した比抵抗値により純水器に供給する加工液の
量を制御するようにした加工液供給装置を提供するもの
である。
供給ポンプの吐出側に比抵抗センサを設け、比抵抗セン
サが感知した比抵抗値により純水器に供給する加工液の
量を制御するようにした加工液供給装置を提供するもの
である。
[作用]
比抵抗センサにより供給ポンプ吐出後の加工液の比抵抗
値を測定して純水器内を通過する加工液の流量を制御し
、加工液の抵抗値かはシ一定になるように制御する。
値を測定して純水器内を通過する加工液の流量を制御し
、加工液の抵抗値かはシ一定になるように制御する。
[発明の実施例〕
第1図は本発明の実施例を示す説明図である。
なお、第2図と同−又は相当部分には同じ符号を付し、
説明を省略する。(11)は供給ポンプ(8)の吐出口
側に設けられた比抵抗センサ、(12)は供給ポンプ(
8)の入口側に設けられ、比抵抗センサ(11)からの
指令により加工機(7)に供給される加工液の流量を制
御するコントロールバルブである。
説明を省略する。(11)は供給ポンプ(8)の吐出口
側に設けられた比抵抗センサ、(12)は供給ポンプ(
8)の入口側に設けられ、比抵抗センサ(11)からの
指令により加工機(7)に供給される加工液の流量を制
御するコントロールバルブである。
(13)は純水器(9)と供給ポンプ(8)の間に設け
られ、比抵抗センサ(11)からの指令により純水器(
9)を通過する加工液の流量を制御するコントロルバル
ブである。
られ、比抵抗センサ(11)からの指令により純水器(
9)を通過する加工液の流量を制御するコントロルバル
ブである。
上記のように構成した本発明の詳細な説明すれば次の通
りである。まず、供給ポンプ(8)を駆動して清浄槽(
3)内から加工液を汲みあげ、加工機(7)に供給する
。このとき、比抵抗センサ(11)により供給ポンプ<
8)によって吐出された加工液の比抵抗値が測定される
。測定された比抵抗値か正常であれば、比抵抗センサ(
11)からの指示でコントロールバルブ(13)を閉じ
ると共に、コントロルハルブ(12)を全開にして、純
水器(9)に加工液が通過しないようにする。
りである。まず、供給ポンプ(8)を駆動して清浄槽(
3)内から加工液を汲みあげ、加工機(7)に供給する
。このとき、比抵抗センサ(11)により供給ポンプ<
8)によって吐出された加工液の比抵抗値が測定される
。測定された比抵抗値か正常であれば、比抵抗センサ(
11)からの指示でコントロールバルブ(13)を閉じ
ると共に、コントロルハルブ(12)を全開にして、純
水器(9)に加工液が通過しないようにする。
一部フイルター(5)を通過して清浄液槽(3)に入っ
てくる金属イオンの量が増加すると、比抵抗センサ(1
1)がこれを感知する。さらに加工液の比抵抗が一定値
以上になると、比抵抗センサ(11)からの指令でコン
トロールバルブ(12)を閉しるとともにコントロール
バルブ(13)を開き、引続き供給ポンプク8)を駆動
して加工液の一部を純水器(9)側に流し、金属イオン
を除去した加工液を加工機(7)へ供給する。このよう
にして、適正な比抵抗値の加工液を加工機(7)に供給
することができる。
てくる金属イオンの量が増加すると、比抵抗センサ(1
1)がこれを感知する。さらに加工液の比抵抗が一定値
以上になると、比抵抗センサ(11)からの指令でコン
トロールバルブ(12)を閉しるとともにコントロール
バルブ(13)を開き、引続き供給ポンプク8)を駆動
して加工液の一部を純水器(9)側に流し、金属イオン
を除去した加工液を加工機(7)へ供給する。このよう
にして、適正な比抵抗値の加工液を加工機(7)に供給
することができる。
なお、上記の説明では、コントロールバルブを2個設け
た場合について示したが、1個のバルブで2つの流路の
流量比を変化させるようにしてもよい。
た場合について示したが、1個のバルブで2つの流路の
流量比を変化させるようにしてもよい。
[発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、加工
機に送られる加工液の比抵抗値を直接測定して2つのバ
ルブを調整するようにしたので高精度に比抵抗値を制御
することができる。また、純水器への加工液の吸引に加
工液を加工機に供給する供給ポンプを兼用しているので
、純水器ポンプを省略することができる等の効果かある
。
機に送られる加工液の比抵抗値を直接測定して2つのバ
ルブを調整するようにしたので高精度に比抵抗値を制御
することができる。また、純水器への加工液の吸引に加
工液を加工機に供給する供給ポンプを兼用しているので
、純水器ポンプを省略することができる等の効果かある
。
第1図は本発明の実施例を示す説明図、第2図は従来の
加工液供給装置の一例を示す説明図である。 (1) タンク、(8)・供給ポンプ、(9) 純
水器、(11)・・・比抵抗センサ、(12)、 (1
3)・・・コントロルハルブ。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示すもの
とする。
加工液供給装置の一例を示す説明図である。 (1) タンク、(8)・供給ポンプ、(9) 純
水器、(11)・・・比抵抗センサ、(12)、 (1
3)・・・コントロルハルブ。 なお、各図中、同一符号は同−又は相当部分を示すもの
とする。
Claims (1)
- タンク内の加工液を供給ポンプにより加工機に供給す
ると共に、上記供給ポンプにより加工液を純水器に供給
して該加工液中の金属イオンを除去するように構成し、
上記供給ポンプの吐出側に比抵抗センサを設け、上記加
工機及び純水器へ供給する加工液の量を上記比抵抗セン
サの測定値に対応して制御し、上記加工液の比抵抗をほ
ゞ一定値に保持することを特徴とする加工液供給装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19709188A JPH0248112A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 加工液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19709188A JPH0248112A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 加工液供給装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0248112A true JPH0248112A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16368579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19709188A Pending JPH0248112A (ja) | 1988-08-09 | 1988-08-09 | 加工液供給装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0248112A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5214457A (en) * | 1990-05-31 | 1993-05-25 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Reflective overhead projector with light-to-light converter |
US5464959A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Sodick Co., Ltd. | Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid |
-
1988
- 1988-08-09 JP JP19709188A patent/JPH0248112A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5214457A (en) * | 1990-05-31 | 1993-05-25 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Reflective overhead projector with light-to-light converter |
US5464959A (en) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Sodick Co., Ltd. | Ion exchange treatment method in producing and recycling aqueous EDM fluid |
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