JP2516054B2 - 放電加工用加工液供給装置 - Google Patents
放電加工用加工液供給装置Info
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- JP2516054B2 JP2516054B2 JP63192748A JP19274888A JP2516054B2 JP 2516054 B2 JP2516054 B2 JP 2516054B2 JP 63192748 A JP63192748 A JP 63192748A JP 19274888 A JP19274888 A JP 19274888A JP 2516054 B2 JP2516054 B2 JP 2516054B2
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- Japan
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- tank
- machining
- working fluid
- specific resistance
- fluid
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- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、放電加工用加工液供給装置に関するもので
ある。
ある。
（従来の技術） 一般に、ワイヤカット放電加工機においては、水を主
成分とする水系の加工液が使用されることが多いが、水
系の加工液を用いてワイヤカット放電加工を行なう場
合、加工液の比抵抗がその加工状態に大きく影響を与え
ることはよく知られているところである。特に、ワイヤ
カット放電加工においては、加工液の状態によってコー
ナ部の形状精度が著しく影響を受けるものである。この
ような問題を解決するために、最近の加工技術では、目
的に応じて加工液の比抵抗を変更し、加工精度及び加工
速度の向上を図り、又は錆の発生を防止するなどの工夫
がなされている。たとえば、加工液の比抵抗を、荒加工
では104Ω・cm以下として高速度で加工を行ない、しか
る後、中加工では５×104Ω・cmとし、仕上げ加工にお
いては高い加工精度を得るために105Ω・cm以上とする
というように、各加工段階において適切な比抵抗の加工
液を使用することになっている。
成分とする水系の加工液が使用されることが多いが、水
系の加工液を用いてワイヤカット放電加工を行なう場
合、加工液の比抵抗がその加工状態に大きく影響を与え
ることはよく知られているところである。特に、ワイヤ
カット放電加工においては、加工液の状態によってコー
ナ部の形状精度が著しく影響を受けるものである。この
ような問題を解決するために、最近の加工技術では、目
的に応じて加工液の比抵抗を変更し、加工精度及び加工
速度の向上を図り、又は錆の発生を防止するなどの工夫
がなされている。たとえば、加工液の比抵抗を、荒加工
では104Ω・cm以下として高速度で加工を行ない、しか
る後、中加工では５×104Ω・cmとし、仕上げ加工にお
いては高い加工精度を得るために105Ω・cm以上とする
というように、各加工段階において適切な比抵抗の加工
液を使用することになっている。
特開昭63−2621号公報には、使用済みの加工液をろ過
して比抵抗が比較的低い荒加工用の加工液を貯液すると
共に、ろ過された加工液をさらにイオン交換装置に通し
て比抵抗のより高い仕上加工用の加工液を得、この得ら
れた仕上加工用の加工液を必要に応じてそのまま使用す
る構成が開示されている。
して比抵抗が比較的低い荒加工用の加工液を貯液すると
共に、ろ過された加工液をさらにイオン交換装置に通し
て比抵抗のより高い仕上加工用の加工液を得、この得ら
れた仕上加工用の加工液を必要に応じてそのまま使用す
る構成が開示されている。
（発明が解決しようとする課題） しかし、この従来技術によると仕上げ加工の場合のよ
うに比較的高い比抵抗の加工液が必要な場合には、イオ
ン交換装置を通して得られた加工液を直接加工液噴射ノ
ズルに供給する構成であるため、イオン交換装置の交換
能力及び流量が得られる加工液の比抵抗値に影響し、噴
射の吐出量により比抵抗値が変化してしまい、仕上げ状
態に悪影響を及ぼすという問題を生じる。
うに比較的高い比抵抗の加工液が必要な場合には、イオ
ン交換装置を通して得られた加工液を直接加工液噴射ノ
ズルに供給する構成であるため、イオン交換装置の交換
能力及び流量が得られる加工液の比抵抗値に影響し、噴
射の吐出量により比抵抗値が変化してしまい、仕上げ状
態に悪影響を及ぼすという問題を生じる。
また、所望の比抵抗値の荒加工用加工液を得るため、
貯えられている荒加工用の加工液にイオン交換装置から
得られる高比抵抗値の加工液をそのまま混入する構成で
あるから、イオン交換装置から出力される単位時間当り
の加工液の量が少ない場合、所望の加工液の得るのに相
当の時間を必要とする。
貯えられている荒加工用の加工液にイオン交換装置から
得られる高比抵抗値の加工液をそのまま混入する構成で
あるから、イオン交換装置から出力される単位時間当り
の加工液の量が少ない場合、所望の加工液の得るのに相
当の時間を必要とする。
したがって、各加工段階毎に加工液の比抵抗を変えて
所望の加工を行う場合には、荒加工が終了した後、貯え
られている荒加工用の加工液にイオン交換装置からの高
比抵抗加工液を加えてその比抵抗を中仕上げ加工用のた
めに上昇させなければならず、この結果、加工液の比抵
抗の変更に数分乃至10数分の時間を要することにより、
加工能率を極めて低下させてしまうという問題点を有し
ている。
所望の加工を行う場合には、荒加工が終了した後、貯え
られている荒加工用の加工液にイオン交換装置からの高
比抵抗加工液を加えてその比抵抗を中仕上げ加工用のた
めに上昇させなければならず、この結果、加工液の比抵
抗の変更に数分乃至10数分の時間を要することにより、
加工能率を極めて低下させてしまうという問題点を有し
ている。
本発明の目的は、上述の問題点を解決することがで
き、短時間のうちに所望の加工液を得ることができ、且
つ比抵抗の安定した加工液を供給することができる放電
加工用加工液供給装置を提供することにある。
き、短時間のうちに所望の加工液を得ることができ、且
つ比抵抗の安定した加工液を供給することができる放電
加工用加工液供給装置を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 上記課題を達成するための本発明の特徴は、ワイヤカ
ット放電加工機へ水系の加工液を供給するための放電加
工用加工液供給装置において、ワイヤカット放電加工機
からの使用済み加工液を溜めておく第１タンクと、前記
第１タンク内に溜められた使用済み加工液を取り出して
ろ過するろ過手段と、該ろ過手段の出口に接続された分
流手段と、該分流手段の１つの出口からの加工液を受け
入れる第２タンクと、該分流手段の他の出口からの加工
液を脱イオン化するための脱イオン化手段と、該脱イオ
ン化手段によって脱イオン化された比抵抗が高められた
加工液を溜めておく第３タンクと、前記第２タンク内の
加工液の比抵抗をより高い所望の値にするため前記第３
タンク内の加工液を前記第２タンク内に移送するための
移送手段とを備えて成る点にある。
ット放電加工機へ水系の加工液を供給するための放電加
工用加工液供給装置において、ワイヤカット放電加工機
からの使用済み加工液を溜めておく第１タンクと、前記
第１タンク内に溜められた使用済み加工液を取り出して
ろ過するろ過手段と、該ろ過手段の出口に接続された分
流手段と、該分流手段の１つの出口からの加工液を受け
入れる第２タンクと、該分流手段の他の出口からの加工
液を脱イオン化するための脱イオン化手段と、該脱イオ
ン化手段によって脱イオン化された比抵抗が高められた
加工液を溜めておく第３タンクと、前記第２タンク内の
加工液の比抵抗をより高い所望の値にするため前記第３
タンク内の加工液を前記第２タンク内に移送するための
移送手段とを備えて成る点にある。
（作用） 第１タンク内に溜まった使用済み加工液はろ過手段に
ってろ過され、ろ過された加工液の少なくとも一部が分
流手段を介して第２タンクに送られる。残りのろ過加工
液は脱イオン化手段によって脱イオン化され、これによ
り抵抗を高められた加工液が第３タンク内に溜められ
る。従って、第２タンク内にはろ過されてはいるが脱イ
オン化されていない加工液が溜められ、第３タンク内に
は比抵抗の高い加工液が溜められる。
ってろ過され、ろ過された加工液の少なくとも一部が分
流手段を介して第２タンクに送られる。残りのろ過加工
液は脱イオン化手段によって脱イオン化され、これによ
り抵抗を高められた加工液が第３タンク内に溜められ
る。従って、第２タンク内にはろ過されてはいるが脱イ
オン化されていない加工液が溜められ、第３タンク内に
は比抵抗の高い加工液が溜められる。
仕上げ加工に使用するような比較的高比抵抗の加工液
は第３タンク内に溜められており、この溜められている
加工液が所要の流量で加工領域に供給される。したがっ
て、放電加工機へ供給される加工液の流量が変化しても
比抵抗値に影響がなく、安定した加工が行われる。
は第３タンク内に溜められており、この溜められている
加工液が所要の流量で加工領域に供給される。したがっ
て、放電加工機へ供給される加工液の流量が変化しても
比抵抗値に影響がなく、安定した加工が行われる。
移送手段は、第３タンク内の比抵抗の高い加工液を第
２タンク内に移送し、これにより、第２タンク内の加工
液の比抵抗を比較的短時間のうちに所要のレベルにまで
高めることができる。
２タンク内に移送し、これにより、第２タンク内の加工
液の比抵抗を比較的短時間のうちに所要のレベルにまで
高めることができる。
このようにして比抵抗の調節が行われる第２タンク内
の加工液は、適宜の供給手段を介してワイヤカット放電
加工機への送給することができる。
の加工液は、適宜の供給手段を介してワイヤカット放電
加工機への送給することができる。
（実施例） 以下、図面に示す本発明の一実施例につき、詳細に説
明する。
明する。
図面において、総体的に符号10で示されるのは、本発
明による加工液供給装置であり、該加工液供給装置10
は、ワイヤカット放電加工機１の加工間隔Ｇに向けて水
加工液（以下、単に加工液という）を供給するために用
いられている。
明による加工液供給装置であり、該加工液供給装置10
は、ワイヤカット放電加工機１の加工間隔Ｇに向けて水
加工液（以下、単に加工液という）を供給するために用
いられている。
ワイヤカット放電加工機１において使用された使用済
み加工液は集液部材12によって集められ、集液部材12の
底部に設けられたダクト14を介して使用済み加工液を溜
めるための第１タンク16内に排出される。第１タンク16
の底面16aには一端がポンプ18の入口ポート18aに接続さ
れているパイプ20の他端が接続れており、ポンプ18によ
って第１タンク16内の使用済み加工液Ａをフィルタ装置
22に送り込む構成となっている。
み加工液は集液部材12によって集められ、集液部材12の
底部に設けられたダクト14を介して使用済み加工液を溜
めるための第１タンク16内に排出される。第１タンク16
の底面16aには一端がポンプ18の入口ポート18aに接続さ
れているパイプ20の他端が接続れており、ポンプ18によ
って第１タンク16内の使用済み加工液Ａをフィルタ装置
22に送り込む構成となっている。
フィルタ装置22の出口側には、２つの出口ポート24a,
24bを有する流量調整装置24が設けられており、フィル
タ装置22によって使用済み加工液中に混じっているチッ
プその他の粒子が除去されたろ過加工液が２つの出口ポ
ート24a,24bから夫々取り出される。各出口ポートから
得られるろ過加工液の流量は、流量調整装置24に設けら
れている図示しない調節部材を手動又はその他の適宜の
手段で調節することにより、任意の比率に変えることが
できる。ここで、流量調整装置24は、流量の比率を変え
ても、各出口ポートからのろ過加工液の流圧は同程度に
なるように構成されている。出口ポート24aを介して取
り出されたろ過加工液はパイプ26を介して第２タンク28
内に送り込まれ、第２タンク28にはろ過加工液Ｂが溜め
られる。一方、出口ポート24bを介して取り出されたろ
過加工液は脱イオン化装置30に送られる。
24bを有する流量調整装置24が設けられており、フィル
タ装置22によって使用済み加工液中に混じっているチッ
プその他の粒子が除去されたろ過加工液が２つの出口ポ
ート24a,24bから夫々取り出される。各出口ポートから
得られるろ過加工液の流量は、流量調整装置24に設けら
れている図示しない調節部材を手動又はその他の適宜の
手段で調節することにより、任意の比率に変えることが
できる。ここで、流量調整装置24は、流量の比率を変え
ても、各出口ポートからのろ過加工液の流圧は同程度に
なるように構成されている。出口ポート24aを介して取
り出されたろ過加工液はパイプ26を介して第２タンク28
内に送り込まれ、第２タンク28にはろ過加工液Ｂが溜め
られる。一方、出口ポート24bを介して取り出されたろ
過加工液は脱イオン化装置30に送られる。
脱イオン化装置30は、例えばイオン交換樹脂を含んで
成り、ろ過加工液の比抵抗はここで５×105Ω・cm程度
にまで高められ、パイプ32を介して第３タンク34に送ら
れる。パイプ32の先端部には、フロート36によって開閉
作動する開閉弁38が設けられている。開閉弁38は第３タ
ンク34の上端縁よりやや下方に位置するようパイプ32に
設けられており、従って、脱イオン化装置30からの脱イ
オン化加工液Ｃが第３タンク34に溜り、第３タンク34内
の脱イオン化加工液Ｃの液面レベルが上昇し、第３タン
ク34の上端縁よりやや下方の所定のレベルに達した場合
に、フロート36が開閉弁38を閉じる構成となっている。
この結果、第３タンク34から脱イオン化加工液Ｃがあふ
れ出ることはない。
成り、ろ過加工液の比抵抗はここで５×105Ω・cm程度
にまで高められ、パイプ32を介して第３タンク34に送ら
れる。パイプ32の先端部には、フロート36によって開閉
作動する開閉弁38が設けられている。開閉弁38は第３タ
ンク34の上端縁よりやや下方に位置するようパイプ32に
設けられており、従って、脱イオン化装置30からの脱イ
オン化加工液Ｃが第３タンク34に溜り、第３タンク34内
の脱イオン化加工液Ｃの液面レベルが上昇し、第３タン
ク34の上端縁よりやや下方の所定のレベルに達した場合
に、フロート36が開閉弁38を閉じる構成となっている。
この結果、第３タンク34から脱イオン化加工液Ｃがあふ
れ出ることはない。
第３タンク34内の脱イオン化加工液Ｃを第２タンク28
内に送り込むことができるようにするため、電磁式の開
閉弁40を有するパイプ42が第３タンク34と第２タンク28
との間に設けられている。符号44で示されるのは、２つ
の入口ポート44a,44b及び出口ポート44cを有する流量調
整弁であり、入口ポート44aは一端が第２タンク28内に
あるパイプ46の他端に接続され、入口ポート44bはパイ
プ48によってパイプ42と図示の如く接続されている。
内に送り込むことができるようにするため、電磁式の開
閉弁40を有するパイプ42が第３タンク34と第２タンク28
との間に設けられている。符号44で示されるのは、２つ
の入口ポート44a,44b及び出口ポート44cを有する流量調
整弁であり、入口ポート44aは一端が第２タンク28内に
あるパイプ46の他端に接続され、入口ポート44bはパイ
プ48によってパイプ42と図示の如く接続されている。
流量調整弁44の出口ポート44cは、ポンプ50の入力側
と接続され、ポンプ50の出力側はパイプ52によって噴射
ノズル54に接続されている。
と接続され、ポンプ50の出力側はパイプ52によって噴射
ノズル54に接続されている。
パイプ52の途中には、このパイプ52に通って流れる加
工液の比抵抗を測定するための比抵抗測定装置56が設け
られている。比抵抗測定装置56からはポンプ50から送ら
れてくる加工液の比抵抗を示す検出信号Ｓが出力され、
検出信号Ｓは制御ユニット58に入力される。制御ユニッ
ト58は、検出信号Ｓによって示される比抵抗Xsが外部か
ら与えられる設定信号Ｋによって示される設定比抵抗Xk
と一致したか否かを判別し、Xs＜Xkの場合には開閉弁40
を開き、Xs≧Xkの場合には開閉弁40を閉じるように電磁
式の開閉弁40の開閉制御を行なうための開閉制御信号Ｕ
を出力する。開閉制御信号Ｕは、スイッチ60を介して開
閉弁40の図示しない励磁コイルに印加される構成となっ
ている。スイッチ60が開かれている場合には、開閉弁40
の励磁コイルは付勢されず、開閉弁40は閉状態となる。
しかし、スイッチ60が閉じられた場合においてXs＜Xkと
なっていると、開閉制御信号Ｕのレベルは高レベル状態
となり、開閉弁40は、開状態となる。スイッチ60が閉じ
られていても、Xs≧Xkの場合には、開閉制御信号Ｕのレ
ベルは低レベル状態となり、開閉弁40は閉じられたまま
である。
工液の比抵抗を測定するための比抵抗測定装置56が設け
られている。比抵抗測定装置56からはポンプ50から送ら
れてくる加工液の比抵抗を示す検出信号Ｓが出力され、
検出信号Ｓは制御ユニット58に入力される。制御ユニッ
ト58は、検出信号Ｓによって示される比抵抗Xsが外部か
ら与えられる設定信号Ｋによって示される設定比抵抗Xk
と一致したか否かを判別し、Xs＜Xkの場合には開閉弁40
を開き、Xs≧Xkの場合には開閉弁40を閉じるように電磁
式の開閉弁40の開閉制御を行なうための開閉制御信号Ｕ
を出力する。開閉制御信号Ｕは、スイッチ60を介して開
閉弁40の図示しない励磁コイルに印加される構成となっ
ている。スイッチ60が開かれている場合には、開閉弁40
の励磁コイルは付勢されず、開閉弁40は閉状態となる。
しかし、スイッチ60が閉じられた場合においてXs＜Xkと
なっていると、開閉制御信号Ｕのレベルは高レベル状態
となり、開閉弁40は、開状態となる。スイッチ60が閉じ
られていても、Xs≧Xkの場合には、開閉制御信号Ｕのレ
ベルは低レベル状態となり、開閉弁40は閉じられたまま
である。
なお、流量調整弁44は、手動により、入口ポート44a
又は44bのいずれか一方のみを選択的に出口ポート44cに
連通せしめることができる構成となっている。
又は44bのいずれか一方のみを選択的に出口ポート44cに
連通せしめることができる構成となっている。
次に、加工液供給装置10の動作について説明する。
第１タンク16に溜められた使用済み加工液Ａは、ポン
プ18によって、フィルタ装置22に送られ、ここでチップ
等が除去される。ろ過された加工液は、流量調節装置24
によって、その一部は第２タンク28内に送られ、残りは
脱イオン化装置30によって脱イオン化された後第３タン
ク34内に送り込まれる。第３タンク34内の脱イオン化加
工液Ｃは、フロート36により操作される開閉弁38の働き
により常に満杯の状態に維持されている。
プ18によって、フィルタ装置22に送られ、ここでチップ
等が除去される。ろ過された加工液は、流量調節装置24
によって、その一部は第２タンク28内に送られ、残りは
脱イオン化装置30によって脱イオン化された後第３タン
ク34内に送り込まれる。第３タンク34内の脱イオン化加
工液Ｃは、フロート36により操作される開閉弁38の働き
により常に満杯の状態に維持されている。
したがって、ろ過加工液Ｂの比抵抗は104Ω・cm〜105
Ω・cm程度であり、脱イオン化加工液Ｃの比抵抗は５×
105Ω・cm以上である。
Ω・cm程度であり、脱イオン化加工液Ｃの比抵抗は５×
105Ω・cm以上である。
先ず、荒加工を行なう場合には、スイッチ60はオフ状
態にして開閉弁40を閉状態にした上で、流量調整弁44を
手動で操作し、入口ポート44aが出口ポート44cに連通す
る状態とする。これにより、ポンプ50は、ろ過加工液Ｂ
をパイプ46を介して汲み上げ、噴射ノズル54に供給し、
これにより比抵抗が104〜105Ω・cmの水加工液により被
加工物を荒加工することができる。
態にして開閉弁40を閉状態にした上で、流量調整弁44を
手動で操作し、入口ポート44aが出口ポート44cに連通す
る状態とする。これにより、ポンプ50は、ろ過加工液Ｂ
をパイプ46を介して汲み上げ、噴射ノズル54に供給し、
これにより比抵抗が104〜105Ω・cmの水加工液により被
加工物を荒加工することができる。
荒加工の終了後、スイッチ60をオンとし、Xkの値が中
仕上げ加工に必要な105〜４×105Ω・cmの範囲の適宜の
比抵抗となる設定信号Ｋを制御ユニット58に入力するこ
とにより、Xs＝Xkとなるように開閉弁40が開閉制御され
る。このように、中仕上げ加工に必要な比抵抗を得るた
めに、第３タンク34内の脱イオン化加工液Ｃを第２タン
ク28内に流入させる構成であるから、所望の比抵抗の加
工液を数秒で得ることが可能であり、待ち時間が少なく
て済み、加工能率を著しく高めることができる。
仕上げ加工に必要な105〜４×105Ω・cmの範囲の適宜の
比抵抗となる設定信号Ｋを制御ユニット58に入力するこ
とにより、Xs＝Xkとなるように開閉弁40が開閉制御され
る。このように、中仕上げ加工に必要な比抵抗を得るた
めに、第３タンク34内の脱イオン化加工液Ｃを第２タン
ク28内に流入させる構成であるから、所望の比抵抗の加
工液を数秒で得ることが可能であり、待ち時間が少なく
て済み、加工能率を著しく高めることができる。
次いで、仕上げ加工を行なう場合には、スイッチ60を
オフとして開閉弁40を閉じ、流量調整弁44を入力ポート
44bが出口ポート44cと連通するようにセットすることに
より、脱イオン化加工液Ｃが直接噴射ノズル54に供給す
る。これにより、比抵抗が５×105Ω・cm以上の純水が
加工液として供給されるので、精度のよい加工を行なう
ことができる。この場合は、流路の切り換えにより加工
液の比抵抗を変更するので、待ち時間は零であり、加工
能率を著しく高めることができる。
オフとして開閉弁40を閉じ、流量調整弁44を入力ポート
44bが出口ポート44cと連通するようにセットすることに
より、脱イオン化加工液Ｃが直接噴射ノズル54に供給す
る。これにより、比抵抗が５×105Ω・cm以上の純水が
加工液として供給されるので、精度のよい加工を行なう
ことができる。この場合は、流路の切り換えにより加工
液の比抵抗を変更するので、待ち時間は零であり、加工
能率を著しく高めることができる。
なお、上記実施例では、流量調整弁44は手動で操作す
る構成としたが、検出信号Ｓに応答して自動的に調整さ
れる弁を使用し、その切り換えを自動的に行なう構成と
してもよい。
る構成としたが、検出信号Ｓに応答して自動的に調整さ
れる弁を使用し、その切り換えを自動的に行なう構成と
してもよい。
（発明の効果） 本発明によれば、上述の如く、使用済みの加工液をろ
過して成る加工液と、さらに消イオン化して成る加工液
とをそれぞれ別のタンク内に溜めておき、これらのタン
ク内に溜められた加工液をそのまま使用し、又はこれら
のタンクの比抵抗の小さい加工液の入っているタンク内
に、別のタンク内の高比抵抗の加工液を混入させて所望
の比抵抗の加工液を得る構成であるから、所要の比抵抗
の加工液を短時間のうちに供給することが可能となり、
放電加工の加工能率の向上に著しく寄与することができ
るものである。
過して成る加工液と、さらに消イオン化して成る加工液
とをそれぞれ別のタンク内に溜めておき、これらのタン
ク内に溜められた加工液をそのまま使用し、又はこれら
のタンクの比抵抗の小さい加工液の入っているタンク内
に、別のタンク内の高比抵抗の加工液を混入させて所望
の比抵抗の加工液を得る構成であるから、所要の比抵抗
の加工液を短時間のうちに供給することが可能となり、
放電加工の加工能率の向上に著しく寄与することができ
るものである。
また、所要の比抵抗の加工液を一旦タンク内に溜めて
から使用するので、放電加工機への加工液の単位時間当
りの供給量が変化しても供給加工液の比抵抗が変化する
ことはなく安定な加工を行うことができる。
から使用するので、放電加工機への加工液の単位時間当
りの供給量が変化しても供給加工液の比抵抗が変化する
ことはなく安定な加工を行うことができる。
図面は本発明の一実施例をブロック的に示す構成図であ
る。 １…ワイヤカット放電加工機、10…加工液供給装置、16
…第１タンク、18…ポンプ、22…フィルタ装置、24…流
量調整装置、28…第２タンク、30…脱イオン化装置、34
…第３タンク、40…開閉弁、50…ポンプ、56…比抵抗測
定装置、58…制御ユニット、Ａ…使用済み加工液、Ｂ…
ろ過加工液、Ｃ…脱イオン化加工液。
る。 １…ワイヤカット放電加工機、10…加工液供給装置、16
…第１タンク、18…ポンプ、22…フィルタ装置、24…流
量調整装置、28…第２タンク、30…脱イオン化装置、34
…第３タンク、40…開閉弁、50…ポンプ、56…比抵抗測
定装置、58…制御ユニット、Ａ…使用済み加工液、Ｂ…
ろ過加工液、Ｃ…脱イオン化加工液。
Claims (1)
- 【請求項１】ワイヤカット放電加工機へ水系の加工液を
供給するための放電加工用加工液供給装置において、 ワイヤカット放電加工機からの使用済み加工液を溜めて
おく第１タンクと、 前記第１タンク内に溜められた使用済み加工液を取り出
してろ過するろ過手段と、 該ろ過手段の出口に接続された分流手段と、 該分流手段の１つの出口からの加工液を受け入れる第２
タンクと、 該分流手段の他の出口からの加工液を脱イオン化するた
めの脱イオン化手段と、 該脱イオン化手段によって脱イオン化され比抵抗が高め
られた加工液を溜めておく第３タンクと、 前記第２タンク内の加工液の比抵抗をより高い所望の値
にするため前記第３タンク内の加工液を前記第２タンク
内に移送するための移送手段とを備えて成ることを特徴
とする放電加工用加工液給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63192748A JP2516054B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 放電加工用加工液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63192748A JP2516054B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 放電加工用加工液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0241817A JPH0241817A (ja) | 1990-02-13 |
| JP2516054B2 true JP2516054B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=16296396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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