JPS63191514A - 水系放電加工液循環共給装置 - Google Patents
水系放電加工液循環共給装置Info
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- JPS63191514A JPS63191514A JP2295487A JP2295487A JPS63191514A JP S63191514 A JPS63191514 A JP S63191514A JP 2295487 A JP2295487 A JP 2295487A JP 2295487 A JP2295487 A JP 2295487A JP S63191514 A JPS63191514 A JP S63191514A
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Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は放電加工装置の加工液循環供給装置に関する。
従来、水をイオン交換樹脂により処理しながら電極、被
加工体の加工間隙に循環供給するようにした放電加工装
置が知られている。前記イオン交換樹脂による処理は、
水系加工液を循環供給して放電加工するときの加工屑の
混合等による加工液の電導度を検出して所定範囲を外れ
たとき毎にイオン交換樹脂による処理を断続制御するも
のである。
加工体の加工間隙に循環供給するようにした放電加工装
置が知られている。前記イオン交換樹脂による処理は、
水系加工液を循環供給して放電加工するときの加工屑の
混合等による加工液の電導度を検出して所定範囲を外れ
たとき毎にイオン交換樹脂による処理を断続制御するも
のである。
しかしながら、電導度による制御では問題がある。加工
液の電導度を一定の１０３〜１０４ΩＣ１程度に制御し
ても、例えば、被加工材に特殊鋼とが耐熱、耐蝕鋼を用
いるとき、鋼中に含まれるｃｒｌＶ等は溶解度が高くて
ＣｒＯ４−１ＶＯ３−等として水中に溶解するから、次
第に加工液のＰＨを低□下させる。通常Ｐ Ｈは６〜７
程度の範囲に処理した水を利用するが、例えばステンレ
スの部品を長期に放電加工すると、’ＣｒＯ４−の溶解
によって加工液のＰＨは５０近くにまで低下することが
ある。この場合、被加工体にビーンホールを大きい場合
だと０．１１深さ位のピンホールを生じて製品を不良に
したり、加工機のガイド面等に腐食を生じて機械の損傷
を起こす等の欠点があった。
液の電導度を一定の１０３〜１０４ΩＣ１程度に制御し
ても、例えば、被加工材に特殊鋼とが耐熱、耐蝕鋼を用
いるとき、鋼中に含まれるｃｒｌＶ等は溶解度が高くて
ＣｒＯ４−１ＶＯ３−等として水中に溶解するから、次
第に加工液のＰＨを低□下させる。通常Ｐ Ｈは６〜７
程度の範囲に処理した水を利用するが、例えばステンレ
スの部品を長期に放電加工すると、’ＣｒＯ４−の溶解
によって加工液のＰＨは５０近くにまで低下することが
ある。この場合、被加工体にビーンホールを大きい場合
だと０．１１深さ位のピンホールを生じて製品を不良に
したり、加工機のガイド面等に腐食を生じて機械の損傷
を起こす等の欠点があった。
本発明は前記欠点に鑑みて提案されたもので、水系加工
液の再生処理にＰＨ調整装置を設け、且つ加工液循環供
給回路にｐＨ検出器を設け、該ｐＨ検出器の検出信号を
計測して加工初期の所定範囲になるよう前記ＰＨ調整装
置を働かせる制御装置を設けたことを特徴とする。
液の再生処理にＰＨ調整装置を設け、且つ加工液循環供
給回路にｐＨ検出器を設け、該ｐＨ検出器の検出信号を
計測して加工初期の所定範囲になるよう前記ＰＨ調整装
置を働かせる制御装置を設けたことを特徴とする。
以下図面の一実施例により本発明を説明すると、１は加
工液タンクで排水貯蔵部２と清浄水貯蔵部３に分離され
、排水貯蔵部２の加工液をポンプ４によってフィルタ５
を通し濾過清浄水にしながら清浄水貯蔵部３に供給貯蔵
する。又この清浄水貯蔵部３の貯蔵水はポンプ６によっ
てイオン交換処理装置７を通過処理される。８は加工液
循環供給ポンプで、処理された清浄水を電極、被加工体
の放電加工間隙９に供給する。１０はポンプ８によって
加工間隙に供給する加工液の電導度検出器、１１はｐＨ
検出器、１２は電導度計測回路、１３はＰＨ計測回路、
１４は再計測回路の信号によってイオン交換処理装置の
ポンプ６を駆動制御するポンプ制御装置である。
工液タンクで排水貯蔵部２と清浄水貯蔵部３に分離され
、排水貯蔵部２の加工液をポンプ４によってフィルタ５
を通し濾過清浄水にしながら清浄水貯蔵部３に供給貯蔵
する。又この清浄水貯蔵部３の貯蔵水はポンプ６によっ
てイオン交換処理装置７を通過処理される。８は加工液
循環供給ポンプで、処理された清浄水を電極、被加工体
の放電加工間隙９に供給する。１０はポンプ８によって
加工間隙に供給する加工液の電導度検出器、１１はｐＨ
検出器、１２は電導度計測回路、１３はＰＨ計測回路、
１４は再計測回路の信号によってイオン交換処理装置の
ポンプ６を駆動制御するポンプ制御装置である。
水系加工液は、水道水をイオン交換樹脂によって処理し
、必要により処理水に界面活性剤、高い分子量物質の混
合、各種電導度調整剤その他の混合等を行なったものを
用いる。例えばワイヤカット加工液には比抵抗が１０３
〜１０４ΩＣ１１程度に処理されたものを用いる。又加
工液ＰＨは６〜７程度の範囲のものを用いる。これをポ
ンプ８により加工間隙に循環供給して加工するが、加工
により加工屑が混合し溶解するから加工液は汚染づ−る
。加工部９を通過した排水はタンク １の排水貯蔵部２
に貯水され、ポンプ４の汲上げによりフィルタ ５を通
って濾過され加工屑等はフィルタ除去され清浄部３に貯
蔵される。清浄部３に貯蔵される加工液は循環供給によ
って放電加工によって発生するイオンの溶解により次第
に電導度が増加するから、これを供給回路に設けた電導
度検出器１０によって検出し計測回路１２によって所定
以上に電導度が増加したときは信号を制御装置１４に加
えポンプ６を作動させイオン交換処理装置７を通して処
理し比抵抗１０’〜１０４ΩＣ１１程度の所定範囲に制
御する。
、必要により処理水に界面活性剤、高い分子量物質の混
合、各種電導度調整剤その他の混合等を行なったものを
用いる。例えばワイヤカット加工液には比抵抗が１０３
〜１０４ΩＣ１１程度に処理されたものを用いる。又加
工液ＰＨは６〜７程度の範囲のものを用いる。これをポ
ンプ８により加工間隙に循環供給して加工するが、加工
により加工屑が混合し溶解するから加工液は汚染づ−る
。加工部９を通過した排水はタンク １の排水貯蔵部２
に貯水され、ポンプ４の汲上げによりフィルタ ５を通
って濾過され加工屑等はフィルタ除去され清浄部３に貯
蔵される。清浄部３に貯蔵される加工液は循環供給によ
って放電加工によって発生するイオンの溶解により次第
に電導度が増加するから、これを供給回路に設けた電導
度検出器１０によって検出し計測回路１２によって所定
以上に電導度が増加したときは信号を制御装置１４に加
えポンプ６を作動させイオン交換処理装置７を通して処
理し比抵抗１０’〜１０４ΩＣ１１程度の所定範囲に制
御する。
これによりポンプ８により循環供給される加工液による
放電加工はアーク放電を防止した安定放電を続けること
ができる。しかしながら、被加工体が特殊鋼等であると
、鋼材中に含まれるＯｒ、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ等がＣｒＯ＋−
１Ｖ○３− 、ＷＯ３−１Ｍ０Ｏ４−一等のへテロ酸化
物として水中に溶解するから前記のように比抵抗１０１
〜１０４Ωｃｍ程度に制御していてもイオン交換樹脂に
より充分に除去することができず、次第に水中に蓄積さ
れてきても加工液のＰＨを低下する。そこでこれをｐＨ
検出器１１によって検出し、計測回路１３で計測して制
御信号をポンプ制御装置１４に供給しポンプ６駆動によ
りイオン交換処理装置７を制御して前記ＣｒＯ４−１ｖ
Ｏ３−等の充分な除去を行ナイ、ＰＨ度を所定範囲に調
整制御するようにする。
放電加工はアーク放電を防止した安定放電を続けること
ができる。しかしながら、被加工体が特殊鋼等であると
、鋼材中に含まれるＯｒ、Ｖ、Ｗ、Ｍｏ等がＣｒＯ＋−
１Ｖ○３− 、ＷＯ３−１Ｍ０Ｏ４−一等のへテロ酸化
物として水中に溶解するから前記のように比抵抗１０１
〜１０４Ωｃｍ程度に制御していてもイオン交換樹脂に
より充分に除去することができず、次第に水中に蓄積さ
れてきても加工液のＰＨを低下する。そこでこれをｐＨ
検出器１１によって検出し、計測回路１３で計測して制
御信号をポンプ制御装置１４に供給しポンプ６駆動によ
りイオン交換処理装置７を制御して前記ＣｒＯ４−１ｖ
Ｏ３−等の充分な除去を行ナイ、ＰＨ度を所定範囲に調
整制御するようにする。
イオン交換体にはイオン交換樹脂、イオン交換膜、イオ
ン交換紙、イオン交換繊維、イオン交換液等があり、従
来通常は、カチオン交換体とアニオン交換体とを用い、
その割合をカチオン交換体をアニオン交換体の２倍程度
用いているが、前記ＣｒＯ＜−−１ＶＯ３−イオンを除
去するために７ニオン交換体をカチオン交換体と同程度
か更に多い比率で処理装置７に充填して用いる。ｐＨ検
出器１１によるＰｌ−１検出、計測回路１３による測定
に基づいてイオン交換処理装置７を働かせることによっ
て清浄部３に貯蔵される加工液をＰＨを所定の一定範囲
に制御する。例えばワイヤカット放電加工機に於ては、
Ｐｌ−！＝６〜７程度に制御する。
ン交換紙、イオン交換繊維、イオン交換液等があり、従
来通常は、カチオン交換体とアニオン交換体とを用い、
その割合をカチオン交換体をアニオン交換体の２倍程度
用いているが、前記ＣｒＯ＜−−１ＶＯ３−イオンを除
去するために７ニオン交換体をカチオン交換体と同程度
か更に多い比率で処理装置７に充填して用いる。ｐＨ検
出器１１によるＰｌ−１検出、計測回路１３による測定
に基づいてイオン交換処理装置７を働かせることによっ
て清浄部３に貯蔵される加工液をＰＨを所定の一定範囲
に制御する。例えばワイヤカット放電加工機に於ては、
Ｐｌ−！＝６〜７程度に制御する。
前記ＣｒＱ４−１等のイオンが加工液中に混入すると、
液の電導度は一定でも、電解作用が強くなりイオンの存
在により一部分に電解が集中して被加工体加工面にピン
ホールが発生する。又前記イオンが付着する部分に集中
放電が発生し易くなり、この集中放電点にピンホールを
生じるが、前記のようにＰＨを検出してイオン交換処理
装置を働かせることによって、前記ＣｒＯ４−１ｖ０３
−等のイオンを除去することができ、集中放電を防止し
て安定した精密な放電加工を行なうことができる。
液の電導度は一定でも、電解作用が強くなりイオンの存
在により一部分に電解が集中して被加工体加工面にピン
ホールが発生する。又前記イオンが付着する部分に集中
放電が発生し易くなり、この集中放電点にピンホールを
生じるが、前記のようにＰＨを検出してイオン交換処理
装置を働かせることによって、前記ＣｒＯ４−１ｖ０３
−等のイオンを除去することができ、集中放電を防止し
て安定した精密な放電加工を行なうことができる。
例えば、ＢＳワイヤ電極（０，２ｍｍφ）を用いて５Ｋ
Ｄ６１材を放電加工するとき、ＰＨ６〜７に制御した水
を用いたとき、約１ケ月（４６０Ｈ）でＰＨ５，８に低
下し、３ケ月（１２００Ｈ）でＰＨ５，３になった。こ
のとき加工条件１ｐ ＝ ４８０Ａ、τｏｎ＝１．１μ
ｓで放電し集中放電が約１時間に３回程度生じた。そこ
でイオン交換処理装置を働かせてＰＨ６，８に戻す処理
をしたとき集中放電の発生は皆無になった。
Ｄ６１材を放電加工するとき、ＰＨ６〜７に制御した水
を用いたとき、約１ケ月（４６０Ｈ）でＰＨ５，８に低
下し、３ケ月（１２００Ｈ）でＰＨ５，３になった。こ
のとき加工条件１ｐ ＝ ４８０Ａ、τｏｎ＝１．１μ
ｓで放電し集中放電が約１時間に３回程度生じた。そこ
でイオン交換処理装置を働かせてＰＨ６，８に戻す処理
をしたとき集中放電の発生は皆無になった。
尚、電導度検出器のイオン交換処理装置とＰＩ−（制御
用のそれとは別々に設け、独立して制御するようにする
ことができる。又ＰＨ副制御イオン交換処理を行なった
ため電導度が低下するときは、電導度調整剤を添加する
とよい。電導度調整剤にはＮＯ３、ＳＯ４、ＣＯ３、Ｐ
ｏ４、ＣＨ２、ＣＨ３ＣＯ２、Ｃ０ＯＨ等の塩類、ＫＯ
Ｈ，Ｎａ ＯＨ，Ｃａ （ＯＨ）２ 、ＮＨ４（ＯＨ
）等の塩基類が利用できる。又前記電導度調整剤に加え
て表面活性剤を加えることが好ましい。又ＰＨｒＡ整に
は還元剤を加え、水中溶解イオンを還元沈澱させる処理
を行なうことによりＰＨ副制御することができる。
用のそれとは別々に設け、独立して制御するようにする
ことができる。又ＰＨ副制御イオン交換処理を行なった
ため電導度が低下するときは、電導度調整剤を添加する
とよい。電導度調整剤にはＮＯ３、ＳＯ４、ＣＯ３、Ｐ
ｏ４、ＣＨ２、ＣＨ３ＣＯ２、Ｃ０ＯＨ等の塩類、ＫＯ
Ｈ，Ｎａ ＯＨ，Ｃａ （ＯＨ）２ 、ＮＨ４（ＯＨ
）等の塩基類が利用できる。又前記電導度調整剤に加え
て表面活性剤を加えることが好ましい。又ＰＨｒＡ整に
は還元剤を加え、水中溶解イオンを還元沈澱させる処理
を行なうことによりＰＨ副制御することができる。
以上のようにして、繰返し循環して利用される水系加工
液のＰＨを検出計測しながら所定範囲を外れたときＰＨ
調整装置を働かせて加工初期ＰＨ６〜７程度の所定範囲
に制御するようにしたから、加工液中に溶解した腐食性
イオンを充分に除去することができ、従ってこのイオン
による電解作用、集中放電の発生によるピンホールの発
生を防止し、安定した高精度の放電加工を行なうことが
できる。
液のＰＨを検出計測しながら所定範囲を外れたときＰＨ
調整装置を働かせて加工初期ＰＨ６〜７程度の所定範囲
に制御するようにしたから、加工液中に溶解した腐食性
イオンを充分に除去することができ、従ってこのイオン
による電解作用、集中放電の発生によるピンホールの発
生を防止し、安定した高精度の放電加工を行なうことが
できる。
又同時に加工液の電導度を検出し計測してＰＨ副制御も
拘わらす電導度を所定範囲に制御することによって一発
一発のパルス放電を安定に発生させることができ、これ
により加工速度を高め高能率の放電加工を行なうことが
できる。
拘わらす電導度を所定範囲に制御することによって一発
一発のパルス放電を安定に発生させることができ、これ
により加工速度を高め高能率の放電加工を行なうことが
できる。
図面は本発明の一実施例装置の構成図である。
１・・・・・・・・・加工液タンク
２・・・・・・・・・排水貯蔵部
３・・・・・・・・・清浄水貯蔵部
４・・・・・・・・・ポンプ
５・・・・・・・・・フィルタ
６・・・・・・・・・イオン交換処理装置８・・・・・
・・・・ポンプ ９・・・・・・・・・放電加工間隙 １０・・・・・・・・・電導度検出器 １１・・・・・・・・・ＰＨ検出器 １２・・・・・・・・・電導度計測回路１３・・・・・
・・・・ＰＨ計測回路 １４・・・・・・・・・ポンプ制御装置特 許 出
願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 代表者 井 上 潔
・・・・ポンプ ９・・・・・・・・・放電加工間隙 １０・・・・・・・・・電導度検出器 １１・・・・・・・・・ＰＨ検出器 １２・・・・・・・・・電導度計測回路１３・・・・・
・・・・ＰＨ計測回路 １４・・・・・・・・・ポンプ制御装置特 許 出
願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 代表者 井 上 潔
Claims (1)
- 電極、被加工体の加工間隙に水系加工液を供給すると共
に排水を貯蔵し再生処理しながら再度循環供給するよう
にした装置に於て、前記再生処理にＰＨ調整装置を設け
、且つ前記循環供給回路にＰＨ検出器を設け、該ＰＨ検
出器の検出信号を計測して加工初期の所定範囲になるよ
う前記ＰＨ調整装置を働かせる制御装置を設けたことを
特徴とする放電加工液循環供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022954A JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022954A JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63191514A true JPS63191514A (ja) | 1988-08-09 |
| JP2694145B2 JP2694145B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=12097005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62022954A Expired - Fee Related JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2694145B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008047420A1 (fr) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Mitsubishi Electric Corporation | Apppareil d'usinage par étincelage et procédé d'usinage par étincelage |
| DE112006000044B4 (de) * | 2006-04-05 | 2009-05-28 | Mitsubishi Electric Corp. | Erodiermaschine und Erodierbearbeitungsverfahren |
| DE112005002782B4 (de) * | 2005-05-23 | 2009-09-10 | Mitsubishi Electric Corp. | Dielektrikum-Qualitätssteuervorrichtung und Funkenerosions-Bearbeitungsvorrichtung |
| US20100219164A1 (en) * | 2006-04-05 | 2010-09-02 | Hisakatsu Kawarai | Fluid-quality control method, fluid-quality control apparatus, and electric-discharge machining apparatus employing the same |
| JP2011020185A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-03 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工機および放電加工方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100891233B1 (ko) * | 2007-01-16 | 2009-04-01 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 방전 가공 장치 및 방전 가공 방법 |
Citations (3)
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| JPS5611399A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Xxray printed image treating method |
| JPS57205027A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-16 | Amada Co Ltd | Working liquid supplier for wire cut discharge machining machine |
-
1987
- 1987-02-03 JP JP62022954A patent/JP2694145B2/ja not_active Expired - Fee Related
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