JP2694145B2 - 水系放電加工液循環共給装置 - Google Patents
水系放電加工液循環共給装置Info
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、水系の加工液を再生処理しながら循環供給
して加工を行なう放電加工装置の加工液循環供給装置に
関する。 〔従来の技術〕 従来から、電極と被加工体が対向して加工間隙を形成
する加工部から回収した使用済みの水系の加工液をフィ
ルタ装置により濾過処理すると共にイオン交換樹脂等を
用いたイオン交換処理装置により再生処理しながら加工
部に循環供給する装置を備えた放電加工装置が知られて
いる。 この水系加工液循環供給装置に於けるイオン交換処理
装置は、循環供給される水系加工液の伝導度が放電加工
により生成するイオン類によって変化するのを検出し、
検出伝導度が所定範囲を逸脱したときに伝導度が所定範
囲に維持されるように作動制御されるものであった。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、水系加工液の比抵抗を例えば103〜104
Ωcm程度の範囲内に調整制御しても、被加工体が耐熱、
耐蝕鋼、合金工具鋼、高速度鋼などの特殊鋼の場合、鋼
材中に含まれるCr、Ｖ、Ｗ、Mo等がCrO4 --、VO3 -、WO3
--、MoO4 --等のヘテロ酸化物として水中に含有されるこ
とになり、これ等の陰イオンがイオン交換処理装置によ
って充分に除去されず次第に水中に蓄積されることによ
って加工液のpH値が低下し、加工初期にpH6〜７程度で
あった水系加工液のpH値が、例えばステンレス材の部品
を長期に放電加工すると、CrO4 --の含有によってpH5.0
近くにまで低下することがある。この結果、加工液が酸
性に偏ることにより加工機のガイド面等に腐食を生じさ
せたり、又、電解作用が強くなり前記イオンの存在によ
り一部分に電解が集中することによって、あるいは前記
イオンが付着する部分に集中放電が発生し易くなること
により、加工面に大きい場合0.1mm深さ程度のピンホー
ルが形成されて製品を不良にしたりする問題があった。 本発明は、このような問題点に鑑み、放電加工部に循
環供給される水系加工液の伝導度だけでなくpH値も所定
の範囲に維持して加工し得るようにすることを目的とす
る。 〔問題点を解決するための手段〕 この目的を達成するため、本発明の水系放電加工液循
環供給装置は、電極と被加工体が相対向して加工間隙を
形成する放電加工部から回収した使用済みの水系放電加
工液を再生処理して前記放電加工部に循環供給する水系
放電加工液循環供給装置に於て； 前記使用済みの水系放電加工液を濾過処理するフィルタ
装置と、濾過処理後の水系放電加工液を貯蔵する清浄水
貯蔵タンクと； 該清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部に
供給される水系放電加工液の伝導度を検出する伝導度検
出器と、該清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液を脱イ
オン処理して伝導度を調整するイオン交換処理装置と、
前記放電加工部に供給される水系放電加工液の伝導度が
所定範囲内に維持されるように前記伝導度検出器の検出
信号により前記イオン交換処理装置の作動を制御する制
御装置とからなる伝導度制御装置と； 前記清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部
に供給される水系放電加工液のpH値を検出するpH値検出
器と、前記清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液のpH値
を調整するpH値調整装置と、前記放電加工部に供給され
る水系放電加工液のpH値が所定範囲内に維持されるよう
に前記pH値検出器の検出信号により前記pH値調整装置の
作動を制御する制御装置とからなるpH値制御装置と； を備えてなることを特徴とする 〔作 用〕 伝導度検出器の検出信号によりイオン交換処理装置の
作動を制御し、又、pH値検出器の検出信号によりpH値調
整装置の作動を制御することによって、放電加工部に供
給される水系加工液の伝導度及びpH値が夫々所定範囲内
に維持され、アーク等の異常放電を防止して良好な放電
状態で加工が行なわれると共にCr、Ｖ、Ｗ、Mo等の元素
を含有する特殊鋼等の鋼材を放電加工する場合にも加工
液が酸性に偏ることによるピンホールの形成やガイド面
等の腐食が防止される。 〔実施例〕 以下、図面に基づき本発明の一実施例を説明する。 １は加工液タンクで排水貯蔵タンク２と清浄水貯蔵タ
ンク３に分離され、加工部から回収され排水貯蔵タンク
２に貯蔵された使用済みの水系加工液をポンプ４によっ
てフィルタ５を通して濾過し清浄水にして清浄水貯蔵タ
ンク３に貯蔵する。又この清浄水貯蔵タンク３内の貯蔵
水はポンプ６によってイオン交換処理装置７に送られ脱
イオン処理されて伝導度が調整される。又、タンク３内
の貯蔵水はポンプ６′によってイオン交換処理装置７′
に送られてpH値が調整される。通常、伝導度を調整する
イオン交換処理装置７としては、カチオン交換体をアニ
オン交換体の２倍程度使用したイオン交換処理装置が用
いられ、pH値を調整するイオン交換処理装置７′として
は、アニオン交換体をカチオン交換体と同程度か更に多
い比率で使用したイオン交換処理装置が用いられる。こ
のように、両イオン交換処理装置７及び７′のカチオン
交換体とアニオン交換体の使用比率を異ならせることに
より、伝導度とpH値を夫々所定範囲内に調整することが
できる。８は加工液循環供給ポンプで、再生処理された
タンク３内の清浄加工液を電極と被加工体が相対向して
加工間隙９を形成する放電加工部に供給する。10はポン
プ８により加工部に加工液を供給する管路に設けた伝導
度検出器、11は同管路に設けたpH値検出器、12は伝導度
検出器10の検出信号から伝導度を計測する伝導度計測回
路、13はpH値検出器11の検出信号からpH値を計測するpH
値計測回路、14は伝導度計測回路12の出力信号によって
イオン交換処理装置７のポンプ６を駆動制御することに
より伝導度を制御する制御装置、15はpH値計測回路11の
出力信号によってイオン交換処理装置７′のポンプ６′
を駆動制御することによりpH値を制御する制御装置であ
る。 水系加工液としては、水道水をイオン交換樹脂によっ
て処理し、処理水に必要に応じて表面活性剤や比較的大
きい分子量物質、あるいは各種伝導度調整剤その他を混
合したものを用いる。例えばワイヤカット放電加工の水
系加工液には比抵抗が103〜104Ωcm程度、pH値が６〜７
程度に調整したものを使用する。これをポンプ８により
加工間隙９の加工部に循環供給するが、加工により加工
屑が混合し又各種イオンが生成して加工液が汚染され
る。加工部から回収された使用済みの加工液は排水貯蔵
タンク２に貯蔵され、ポンプ４により汲上げられフィル
タ５を通過して加工屑等が濾過除去されて清浄水貯蔵タ
ンク３に貯蔵される。そして、該タンク３からポンプ８
により加工部に供給される加工液の生成イオンによる伝
導度の増大とpH値の減少を伝導度検出器10とpH値検出器
11により検出し、計測回路12により所定範囲を越える伝
導度の増大が検知されたときは信号を制御装置14に加え
ポンプ６の駆動によりイオン交換処理装置７を作動させ
てタンク３内の加工液を脱イオン処理して比抵抗を103
〜104Ωcm程度の所定範囲に調整制御する。又、pH値計
測回路13により所定範囲を越えるpH値の減少が検知され
たときは信号を制御装置15に加えポンプ６′の駆動によ
りタンク３内の加工液をイオン交換処理装置７′に通し
て、pH値をpH6〜７程度の所定範囲に調整制御する。伝
導度が所定範囲内に調整制御されることによりアーク放
電の発生が防止され安定した放電状態で加工を続けるこ
とができる。又、pH値が所定範囲内に調整制御されるこ
とにより加工面のピンホールの形成やガイド面等の腐食
が防止される。イオン交換体としては、イオン交換樹
脂、イオン交換膜、イオン交換紙、イオン交換繊維、イ
オン交換液等が使用される。 実験結果によれば、Bs製で径が0.2mmφのワイヤ電極
を用い、Ip＝480A,τon＝1.1μｓの加工条件で、SKD61
材をワイヤカット放電加工するとき、pH値を６〜７に初
期調整した水を加工液として、該加工液を伝導度調整用
のイオン交換処理装置７のみにより再生処理しながら加
工部に循環供給したところ、約１ケ月（460H）でpH値が
5.8に低下し、更に３ケ月（1200H）でpH値5.3に低下
し、このとき集中放電が約１時間に３回程度発生した。
そこで、pH値調整用のイオン交換処理装置７′も作動制
御して加工液の再生処理を行なったところ、pH値が6.8
に戻り集中放電の発生は皆無となった。 尚、上述した実施例では、伝導度調整装置としてカチ
オン交換体の充填比率の高いイオン交換処理装置を用
い、又、pH値調整装置としてアニオン交換体の充填比率
の高いイオン交換処理装置を用いて、伝導度とpH値を夫
々所定範囲内に維持するようにしたが、pH値調整装置と
しては、NaOH等の各種還元剤をpH値調整剤として使用し
て水中溶解イオンを還元し沈殿処理する装置を用いるこ
とも可能である。 又、pH値の調整制御により伝導度が低下するときは、
伝導度調整剤を添加使用するようにしても良い。伝導度
調整剤としては、NO3,SO4,CO3,PO4,CH2,CH3,CO2,COOH等
の塩類、KOH,NaOH,Ca（OH）2,NH4（OH）等の塩基類が利
用でき、この場合これ等伝導度調整剤に更に表面活性剤
を添加することが好ましい。 〔発明の効果〕 以上の通り、本発明によれば、放電加工部に供給され
る水系放電加工液の伝導度及びpH値が夫々所定範囲内に
調整制御されるから、伝導度の調整制御によりアーク等
の異常放電を防止し放電パルスを安定に発生させて能率
の良い放電加工を行なうことができ、又、Cr、Ｖ、Ｗ、
Mo等の元素を含有する特殊鋼等の鋼材を加工する場合に
もpH値の調整制御により加工液が酸性に偏ることがなく
ガイド面等の腐食が防止されると共に電解作用や集中放
電の発生による加工面のピンホールの形成が防止されて
安定した精度の良い放電加工を行なうことができる。
して加工を行なう放電加工装置の加工液循環供給装置に
関する。 〔従来の技術〕 従来から、電極と被加工体が対向して加工間隙を形成
する加工部から回収した使用済みの水系の加工液をフィ
ルタ装置により濾過処理すると共にイオン交換樹脂等を
用いたイオン交換処理装置により再生処理しながら加工
部に循環供給する装置を備えた放電加工装置が知られて
いる。 この水系加工液循環供給装置に於けるイオン交換処理
装置は、循環供給される水系加工液の伝導度が放電加工
により生成するイオン類によって変化するのを検出し、
検出伝導度が所定範囲を逸脱したときに伝導度が所定範
囲に維持されるように作動制御されるものであった。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしながら、水系加工液の比抵抗を例えば103〜104
Ωcm程度の範囲内に調整制御しても、被加工体が耐熱、
耐蝕鋼、合金工具鋼、高速度鋼などの特殊鋼の場合、鋼
材中に含まれるCr、Ｖ、Ｗ、Mo等がCrO4 --、VO3 -、WO3
--、MoO4 --等のヘテロ酸化物として水中に含有されるこ
とになり、これ等の陰イオンがイオン交換処理装置によ
って充分に除去されず次第に水中に蓄積されることによ
って加工液のpH値が低下し、加工初期にpH6〜７程度で
あった水系加工液のpH値が、例えばステンレス材の部品
を長期に放電加工すると、CrO4 --の含有によってpH5.0
近くにまで低下することがある。この結果、加工液が酸
性に偏ることにより加工機のガイド面等に腐食を生じさ
せたり、又、電解作用が強くなり前記イオンの存在によ
り一部分に電解が集中することによって、あるいは前記
イオンが付着する部分に集中放電が発生し易くなること
により、加工面に大きい場合0.1mm深さ程度のピンホー
ルが形成されて製品を不良にしたりする問題があった。 本発明は、このような問題点に鑑み、放電加工部に循
環供給される水系加工液の伝導度だけでなくpH値も所定
の範囲に維持して加工し得るようにすることを目的とす
る。 〔問題点を解決するための手段〕 この目的を達成するため、本発明の水系放電加工液循
環供給装置は、電極と被加工体が相対向して加工間隙を
形成する放電加工部から回収した使用済みの水系放電加
工液を再生処理して前記放電加工部に循環供給する水系
放電加工液循環供給装置に於て； 前記使用済みの水系放電加工液を濾過処理するフィルタ
装置と、濾過処理後の水系放電加工液を貯蔵する清浄水
貯蔵タンクと； 該清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部に
供給される水系放電加工液の伝導度を検出する伝導度検
出器と、該清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液を脱イ
オン処理して伝導度を調整するイオン交換処理装置と、
前記放電加工部に供給される水系放電加工液の伝導度が
所定範囲内に維持されるように前記伝導度検出器の検出
信号により前記イオン交換処理装置の作動を制御する制
御装置とからなる伝導度制御装置と； 前記清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部
に供給される水系放電加工液のpH値を検出するpH値検出
器と、前記清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液のpH値
を調整するpH値調整装置と、前記放電加工部に供給され
る水系放電加工液のpH値が所定範囲内に維持されるよう
に前記pH値検出器の検出信号により前記pH値調整装置の
作動を制御する制御装置とからなるpH値制御装置と； を備えてなることを特徴とする 〔作 用〕 伝導度検出器の検出信号によりイオン交換処理装置の
作動を制御し、又、pH値検出器の検出信号によりpH値調
整装置の作動を制御することによって、放電加工部に供
給される水系加工液の伝導度及びpH値が夫々所定範囲内
に維持され、アーク等の異常放電を防止して良好な放電
状態で加工が行なわれると共にCr、Ｖ、Ｗ、Mo等の元素
を含有する特殊鋼等の鋼材を放電加工する場合にも加工
液が酸性に偏ることによるピンホールの形成やガイド面
等の腐食が防止される。 〔実施例〕 以下、図面に基づき本発明の一実施例を説明する。 １は加工液タンクで排水貯蔵タンク２と清浄水貯蔵タ
ンク３に分離され、加工部から回収され排水貯蔵タンク
２に貯蔵された使用済みの水系加工液をポンプ４によっ
てフィルタ５を通して濾過し清浄水にして清浄水貯蔵タ
ンク３に貯蔵する。又この清浄水貯蔵タンク３内の貯蔵
水はポンプ６によってイオン交換処理装置７に送られ脱
イオン処理されて伝導度が調整される。又、タンク３内
の貯蔵水はポンプ６′によってイオン交換処理装置７′
に送られてpH値が調整される。通常、伝導度を調整する
イオン交換処理装置７としては、カチオン交換体をアニ
オン交換体の２倍程度使用したイオン交換処理装置が用
いられ、pH値を調整するイオン交換処理装置７′として
は、アニオン交換体をカチオン交換体と同程度か更に多
い比率で使用したイオン交換処理装置が用いられる。こ
のように、両イオン交換処理装置７及び７′のカチオン
交換体とアニオン交換体の使用比率を異ならせることに
より、伝導度とpH値を夫々所定範囲内に調整することが
できる。８は加工液循環供給ポンプで、再生処理された
タンク３内の清浄加工液を電極と被加工体が相対向して
加工間隙９を形成する放電加工部に供給する。10はポン
プ８により加工部に加工液を供給する管路に設けた伝導
度検出器、11は同管路に設けたpH値検出器、12は伝導度
検出器10の検出信号から伝導度を計測する伝導度計測回
路、13はpH値検出器11の検出信号からpH値を計測するpH
値計測回路、14は伝導度計測回路12の出力信号によって
イオン交換処理装置７のポンプ６を駆動制御することに
より伝導度を制御する制御装置、15はpH値計測回路11の
出力信号によってイオン交換処理装置７′のポンプ６′
を駆動制御することによりpH値を制御する制御装置であ
る。 水系加工液としては、水道水をイオン交換樹脂によっ
て処理し、処理水に必要に応じて表面活性剤や比較的大
きい分子量物質、あるいは各種伝導度調整剤その他を混
合したものを用いる。例えばワイヤカット放電加工の水
系加工液には比抵抗が103〜104Ωcm程度、pH値が６〜７
程度に調整したものを使用する。これをポンプ８により
加工間隙９の加工部に循環供給するが、加工により加工
屑が混合し又各種イオンが生成して加工液が汚染され
る。加工部から回収された使用済みの加工液は排水貯蔵
タンク２に貯蔵され、ポンプ４により汲上げられフィル
タ５を通過して加工屑等が濾過除去されて清浄水貯蔵タ
ンク３に貯蔵される。そして、該タンク３からポンプ８
により加工部に供給される加工液の生成イオンによる伝
導度の増大とpH値の減少を伝導度検出器10とpH値検出器
11により検出し、計測回路12により所定範囲を越える伝
導度の増大が検知されたときは信号を制御装置14に加え
ポンプ６の駆動によりイオン交換処理装置７を作動させ
てタンク３内の加工液を脱イオン処理して比抵抗を103
〜104Ωcm程度の所定範囲に調整制御する。又、pH値計
測回路13により所定範囲を越えるpH値の減少が検知され
たときは信号を制御装置15に加えポンプ６′の駆動によ
りタンク３内の加工液をイオン交換処理装置７′に通し
て、pH値をpH6〜７程度の所定範囲に調整制御する。伝
導度が所定範囲内に調整制御されることによりアーク放
電の発生が防止され安定した放電状態で加工を続けるこ
とができる。又、pH値が所定範囲内に調整制御されるこ
とにより加工面のピンホールの形成やガイド面等の腐食
が防止される。イオン交換体としては、イオン交換樹
脂、イオン交換膜、イオン交換紙、イオン交換繊維、イ
オン交換液等が使用される。 実験結果によれば、Bs製で径が0.2mmφのワイヤ電極
を用い、Ip＝480A,τon＝1.1μｓの加工条件で、SKD61
材をワイヤカット放電加工するとき、pH値を６〜７に初
期調整した水を加工液として、該加工液を伝導度調整用
のイオン交換処理装置７のみにより再生処理しながら加
工部に循環供給したところ、約１ケ月（460H）でpH値が
5.8に低下し、更に３ケ月（1200H）でpH値5.3に低下
し、このとき集中放電が約１時間に３回程度発生した。
そこで、pH値調整用のイオン交換処理装置７′も作動制
御して加工液の再生処理を行なったところ、pH値が6.8
に戻り集中放電の発生は皆無となった。 尚、上述した実施例では、伝導度調整装置としてカチ
オン交換体の充填比率の高いイオン交換処理装置を用
い、又、pH値調整装置としてアニオン交換体の充填比率
の高いイオン交換処理装置を用いて、伝導度とpH値を夫
々所定範囲内に維持するようにしたが、pH値調整装置と
しては、NaOH等の各種還元剤をpH値調整剤として使用し
て水中溶解イオンを還元し沈殿処理する装置を用いるこ
とも可能である。 又、pH値の調整制御により伝導度が低下するときは、
伝導度調整剤を添加使用するようにしても良い。伝導度
調整剤としては、NO3,SO4,CO3,PO4,CH2,CH3,CO2,COOH等
の塩類、KOH,NaOH,Ca（OH）2,NH4（OH）等の塩基類が利
用でき、この場合これ等伝導度調整剤に更に表面活性剤
を添加することが好ましい。 〔発明の効果〕 以上の通り、本発明によれば、放電加工部に供給され
る水系放電加工液の伝導度及びpH値が夫々所定範囲内に
調整制御されるから、伝導度の調整制御によりアーク等
の異常放電を防止し放電パルスを安定に発生させて能率
の良い放電加工を行なうことができ、又、Cr、Ｖ、Ｗ、
Mo等の元素を含有する特殊鋼等の鋼材を加工する場合に
もpH値の調整制御により加工液が酸性に偏ることがなく
ガイド面等の腐食が防止されると共に電解作用や集中放
電の発生による加工面のピンホールの形成が防止されて
安定した精度の良い放電加工を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例装置の構成図である。
１……加工液タンク
２……排水貯蔵タンク
３……清浄水貯蔵タンク
4,6,6′,8,……ポンプ
５……フィルタ
７……伝導度調整用イオン交換処理装置
７′……pH値調整用イオン交換処理装置
９……加工間隙
10……伝導度検出器
11……pH値検出器
12……伝導度計測回路
13……pH値計測回路
14……制御装置
15……制御装置
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 １．電極と被加工体が相対向して加工間隙を形成する放
電加工部から回収した使用済みの水系放電加工液を再生
処理して前記放電加工部に循環供給する水系放電加工液
循環供給装置に於て； 前記使用済みの水系放電加工液を濾過処理するフィルタ
装置と、濾過処理後の水系放電加工液を貯蔵する清浄水
貯蔵タンクと； 該清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部に供
給される水系放電加工液の伝導度を検出する伝導度検出
器と、該清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液を脱イオ
ン処理して伝導度を調整するイオン交換処理装置と、前
記放電加工部に供給される水系放電加工液の伝導度が所
定範囲内に維持されるように前記伝導度検出器の検出信
号により前記イオン交換処理装置の作動を制御する制御
装置とからなる伝導度制御装置と； 前記清浄水貯蔵タンクから汲み上げて前記放電加工部に
供給される水系放電加工液のpH値を検出するpH値検出器
と、前記清浄水貯蔵タンク内の水系放電加工液のpH値を
調整するpH値調整装置と、前記放電加工部に供給される
水系放電加工液のpH値が所定範囲内に維持されるように
前記pH値検出器の検出信号により前記pH値調整装置の作
動を制御する制御装置とからなるpH値制御装置と； を備えてなることを特徴とする水系放電加工液循環供給
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022954A JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62022954A JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63191514A JPS63191514A (ja) | 1988-08-09 |
| JP2694145B2 true JP2694145B2 (ja) | 1997-12-24 |
Family
ID=12097005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62022954A Expired - Fee Related JP2694145B2 (ja) | 1987-02-03 | 1987-02-03 | 水系放電加工液循環共給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2694145B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR100891233B1 (ko) * | 2007-01-16 | 2009-04-01 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 방전 가공 장치 및 방전 가공 방법 |
| US7795558B2 (en) | 2006-04-05 | 2010-09-14 | Mitsubishi Electric Corporation | Electric discharge machine and electric discharge machining method |
| US8058582B2 (en) * | 2006-10-18 | 2011-11-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Electrical discharge machining apparatus and electrical discharge machining method |
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| JP4828420B2 (ja) | 2005-05-23 | 2011-11-30 | 三菱電機株式会社 | 加工液液質制御装置とその方法、および放電加工装置 |
| CN101232965B (zh) * | 2006-04-05 | 2012-11-21 | 三菱电机株式会社 | 液质控制方法及装置、使用该装置的放电加工装置 |
| JP5103685B2 (ja) * | 2009-07-13 | 2012-12-19 | 三菱電機株式会社 | 放電加工機および放電加工方法 |
Family Cites Families (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5927300B2 (ja) * | 1977-12-01 | 1984-07-04 | 株式会社井上ジャパックス研究所 | 電気加工液の制御装置 |
| JPS5611399A (en) * | 1979-07-11 | 1981-02-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | Xxray printed image treating method |
| JPS57205027A (en) * | 1981-06-15 | 1982-12-16 | Amada Co Ltd | Working liquid supplier for wire cut discharge machining machine |
-
1987
- 1987-02-03 JP JP62022954A patent/JP2694145B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPS63191514A (ja) | 1988-08-09 |
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