JP3745046B2 - ハロゲン化銀写真感光材料用の現像剤、それを含む現像処理組成物及びそれを用いる処理方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料の処理方法および現像液組成物に関するものであり、特に、特定構造のｐ−アミノフェノール化合物を含む現像液で画像形成する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ハロゲン化銀写真感光材料は製版分野、医療診断分野など広範な分野に利用されている。利用分野が拡大、深化するにつれて、画像形成に必要な現像処理工程に対する要求が高まり、特に、迅速でかつ安定な現像処理が強く望まれている。
【０００３】
ハロゲン化銀写真感光材料は露光後、一般に現像、定着、水洗という工程で処理される。中でも黒白現像液は、ジヒドロキシベンゼン系化合物であるハイドロキノンを現像主薬、アミノフェノール類または３−ピラゾリドン類を補助現像主薬とし、亜硫酸塩を包含するアルカリ性溶液が一般的で、ハイドロキノンと、これと超加成性を示す補助現像主薬、例えば、１−フェニル−３−ピラゾリドン、またはＮ−メチル−ｐ−アミノフェノールとを同時に用いた現像液（ＰＱまたはＭＱ現像液）を使用することにより、ハイドロキノン単独では得られない良好な写真特性を得ることができることがよく知られている。
また、１−フェニル−３−ピラゾリドンをハロゲン化銀乳剤中に添加すると、ハイドロキノン単液あるいはＭＱ現像液による現像を促進できることが米国特許第２，７５１，２９７号に記載されているが必ずしも十分ではなく、更に現像進行性の向上が望まれている。
【０００４】
また、下記一般式（Ｃ）で表されるＮ−アルキル−ｐ−アミノフェノール類が優れた現像性を示すことが英国特許第１，１２６，２１９号に記載されているが、非常にカブリを発生し易く満足な写真性が得られ難いという欠点を有していた。
一般式（Ｃ）
【０００５】
【化３】

【０００６】
式中、Ｒ⁶ は水素原子または炭素数１〜５のアルキル基を表す。
【０００７】
更に、特公昭４７−２１７５７号、特公昭４８−４３８１４号、特公昭４９−１２１１号、特公昭４９−２６２２号、特公昭４９−７００６号、特公昭４９−４３３３３号には、ハイドロキノンを現像主薬とした系で、ベンゼン環にアルキルまたはアルコキシ置換したＮ，Ｎ−ジアルキル−ｐ−アミノフェノール類の現像促進効果が述べられているが、促進剤としての効果は十分なものではなく、促進効果を高めるために添加量を増やしたくても、非常に難溶性であるため十分な添加量を確保できない欠点を有している。
【０００８】
一方、現像主薬としてジヒドロキシベンゼン系化合物の他にアスコルビン酸などのエンジオール類が機能することも公知であり、近年、上記の生態学上あるいは毒物学上の問題のない現像主薬として注目されている。例えば米国特許第２，６８８，５４９号、同３，８２６，６５４号では、アスコルビン酸を現像主薬とし、少なくともｐＨ１２以上の高いアルカリ性の条件下で画像形成が可能であるとされている。しかし、これらの画像形成方法では迅速性の点でも高コントラストな画像を得る点においても満足できるものではない。
【０００９】
アスコルビン酸を用いた現像系でコントラストを上昇させる試みがいくらか成されている。たとえば、Zwickyは唯一の現像主薬としてアスコルビン酸を用いた場合に、一種のリス効果が発現するとしているが(J. Phot. Sc.27 巻、185 頁(1979 年))、ハイドロキノン現像系の場合に比べるとかなりコントラストの低い系であった。また、米国特許第３，０２２，１６８号ではアスコルビン酸を現像主薬、Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノールを補助現像主薬とし、ｐＨ８〜９の比較的低いｐＨの条件下でコントラストの高い画像形成が可能であるとされている。しかし、これらの画像形成方法は迅速性の点で満足できるものではなく、また現像液中に大量のホウ酸を含有させる必要があり環境上においても好ましくない。さらに、特公昭４９−４６９３９号、米国特許第５，４７４，８７９号にはビス四級アンモニウム塩とアスコルビン酸を併用する系が開示されているが、現像促進効果はあってもコントラスト上昇効果はほとんど見られない。また、特開平４−３２８３８号にも、アスコルビン酸を現像主薬、ｐ−アミノフェノール類あるいはＮ−アルキル−ｐ−アミノフェノール類を補助現像主薬とした系で四級塩の併用効果が述べられているが得られた画像のコントラストは十分でなく、現像進行の向上については何ら言及されていない。さらに、特開平５−８８３０６号にアスコルビン酸を唯一の現像主薬として、ｐＨを１２．０以上に保つことによって高いコントラストが得られるとしているが、このような現像液では空気酸化劣化が著しく現像液の安定性には大きな問題がある。
また、アスコルビン酸とヒドラジン誘導体を主成分とする特殊な現像液を用いて、感度が高く、ステイン、カブリの低い現像系が出来るという例（米国特許第３，７３０，７２７号）もあるが、コントラストの向上については何ら言及されていない。
【００１０】
ヒドラジンを含有する感材をアスコルビン酸現像液で処理する事は公知であり、ＵＳ５２３６８１６号、ＷＯ９３／１１４５６などで開示されているが、いずれもコントラスト、迅速性両方の点で充分でなく、後者では、現像液中にアミンを含有させる事で硬調化させているが、環境的にも好ましくない。毒物学上、好ましいアスコルビン酸を現像主薬として用いて、迅速且つ高コントラストな画像を得る現像処理方法が望まれているが、充分な硬調性を得られていない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、特定構造のｐ−アミノフェノール類を補助現像主薬として用いた現像液で新規な画像形成方法を提供すること、特に、迅速かつ高コントラストなネガ画像を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記の課題は、下記一般式（Ａ）あるいは（Ｂ）で表される現像剤、該現像剤の少なくとも一種類を含むことを特徴とする現像処理組成物、及び露光されたハロゲン化銀写真感光材料を一般式（Ａ）あるいは（Ｂ）の現像剤の少なくとも一種と現像主薬の少なくとも一種を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法によって達成された。
【００１３】
【化４】

【００１４】
一般式（Ａ）中、Ｒ¹ およびＸ¹ は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ²は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｍ¹ は０から３の整数を表し、ｍ² は０から４の整数を表す。ｍ¹ およびｍ² が２以上の整数を表すとき、それぞれ複数のＸ¹ およびＲ² は同じでも異なっていてもよい。Ｚ₁ は窒素原子およびベンゼン環の２重結合と共同で、５員環もしくは６員環を形成しうる原子団を表す。但しＺ₁ が６員環を形成する時、ｍ ¹ は１から３の整数であって、かつＸ¹ はアルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、もしくはチオウレイド基を表す。
一般式（Ｂ）中、Ｘ² はアルキルチオ基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｘ²²は水素原子または置換基を表す。ｍ³ は１から４の整数を表し、ｍ³ および４−ｍ³ が２以上の整数を表すとき、複数のＸ² およびＸ²²は同じでも異なっていてもよい。Ｒ³ およびＲ⁴ は、各々一般式（Ａ）におけるＲ² と同義の基を表す。ただし、Ｒ³ およびＲ⁴ のうち少なくとも一つはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ³ とＲ⁴ は連結して窒素原子と共同でヘテロ環を形成してもよい。
【００１５】
【発明の実施の形態】
一般式（Ａ）で表されるｐ−アミノフェノール類について詳細に説明する。
式中、Ｒ¹ およびＸ¹ は、各々水素原子または置換基を表し、ここで置換基とは、ハロゲン原子または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子で−Ｃ−に結合する置換基であり、具体的には、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、チオウレイド基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）を挙げることができる。これらは、更に、これら置換基で置換されていてもよい。
【００１６】
更に詳しくＲ¹ およびＸ¹ で表される置換基の例を示す。アルキル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、置換されていても良く、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、３，４−ジヒドロキシブチル、２−メトキシエチル、３−メトキシプロピル、２−アミノエチル、３−アミノプロピル、トリメチルアンモニオメチル、２−トリメチルアンモニオエチル、３−トリメチルアンモニオプロピル、アセトアミドメチル、２−アセトアミドエチル、３−アセトアミドプロピル、カルボキシメチル、２−カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、スルホメチル、２−スルホエチル、３−スルホプロピル、ウレイドメチル、２−ウレイドエチル、３−ウレイドプロピル、カルバモイルメチル、２−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピルなどを挙げることができる。アルケニル基としては炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜６の直鎖、分岐鎖または環状のアルケニル基であり、例えば、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−ブテニル、１−ブテニルなどを挙げることができる。アルキニル基としては炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜６の直鎖、分岐鎖または環状のアルキニル基であり、例えば、エチニル、２−プロピニル、１−プロピニル、２−ブチニル、１−ブチニルなどを挙げることができる。
【００１７】
アラルキル基としては炭素数７〜１０のアラルキル基で、例えば、ベンジルなどである。アリール基としては炭素数６〜１０のアリール基で、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシフェニルなどである。ヘテロ環基としては炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環の飽和または不飽和のヘテロ環基で環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であってもよく、例えば、２−フリル、ベンゾフリル基、２−ピロリル、２−イミダゾリル、１−ピラゾリル、２−ベンゾトリアゾリル、２−ピリジル、２−ピリミジル、２−チエニルなどである。ハロゲン原子としては例えば、フッ素原子、塩素原子である。アルコキシ基としては炭素数１〜１６、好ましくは炭素数１〜６のアルコキシ基で例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メタンスルホニルエトキシなどを挙げることができる。アリールオキシ基としては炭素数６〜１０のアリールオキシ基で例えば、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、ｐ−カルボキシフェノキシ、ｏ−スルホフェノキシなどを挙げることができる。アルキルチオ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のアルキルチオ基で例えば、メチルチオ、エチルチオ、２−ヒドロキシエチルチオ、２−カルボキシエチルチオ、３−ヒドロキシプロピルチオなどである。アリールチオ基としては炭素数６〜１０のアリールチオ基で例えば、フェニルチオ、４−メトキシフェニルチオなどを挙げることができる。アシルオキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のアシルオキシ基で例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシなどを挙げることができる。
【００１８】
アルキルアミノ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のアルキルアミノ基で例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−ヒドロキシエチルアミノなどである。カルボンアミド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のカルボンアミド基で例えば、アセトアミド、プロピオンアミドである。スルホンアミド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のスルホンアミド基で例えば、メタンスルホンアミド、エタンスルホンアミド、プロパンスルホンアミド、２−ヒドロキシエタンスルホンアミド、３−ヒドロキシプロパンスルホンアミド、２−メトキシエタンスルホンアミド、２−アミノエタンスルホンアミド、３−アミノプロパンスルホンアミド、２−アセトアミドエタンスルホンアミド、２−メチルスルファモイルアミノエタンスルホンアミド、２−ウレイドエタンスルホンアミド、２−メチルウレイドエタンスルホンアミド、２−カルバモイルエタンスルホンアミド、２−カルボキシエタンスルホンアミド、２−スルホエタンスルホンアミドなどである。スルファモイルアミノ基としては炭素数０〜１０、好ましくは炭素数０〜６のスルファモイルアミノ基で例えば、メチルスルファモイルアミノ、ジメチルスルファモイルアミノ、２−メトキシエチルスルファモイルアミノ、エチルスルファモイルアミノ、プロピルスルファモイルアミノ、２−ヒドロキシエチルスルファモイルアミノ、３−ヒドロキシプロピルスルファモイルアミノ、２−アミノエチルスルファモイルアミノ、３−アミノプロピルスルファモイルアミノ、２−アセトアミドエチルスルファモイルアミノ、２−メチルスルファモイルアミノエチルスルファモイルアミノ、２−ウレイドエチルスルファモイルアミノ、２−メチルウレイドエチルスルファモイルアミノ、２−カルバモイルエチルスルファモイルアミノ、２−カルボキシエチルスルファモイルアミノ、２−スルホエチルスルファモイルアミノである。ウレイド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のウレイド基で例えば、ウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−ヒドロキシウレイド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ウレイド、ジ（２−ヒドロキシエチル）ウレイド、Ｎ−（２−メトシキエチル）ウレイド、Ｎ−（２−ジメチルアミノエチル）ウレイド、Ｎ−（２−アセトアミドエチル）ウレイド、Ｎ−（２−メタンスルホンアミドエチル）ウレイドなどである。チオウレイド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のチオウレイド基で例えば、チオウレイド、メチルチオウレイド、Ｎ，Ｎ−ジメチルチオウレイド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）チオウレイド、ジ（２−ヒドロキシエチル）チオウレイド、Ｎ−（２−メトキシエチル）チオウレイド、Ｎ−（３−アミノプロピル）チオウレイド、Ｎ−（２−メチルチオエチル）チオウレイド、Ｎ−（３−アセトアミドプロピル）チオウレイドなどである。アシル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のアシル基で例えばアセチル、ベンゾイルなどである。オキシカルボニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のオキシカルボニル基で例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルである。カルバモイル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のカルバモイル基で例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイルである。スルホニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のスルホニル基で例えば、メタンスルホニル、エタンスルホニル、２−クロロエタンスルホニルである。スルフィニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のスルフィニル基で例えば、メタンスルフィニル、エタンスルフィニルである。スルファモイル基としては炭素数０〜１０、好ましくは炭素数０〜６のスルファモイル基で例えば、スルファモイル、ジメチルスルファモイル、エチルスルファモイルである。
【００１９】
Ｒ² は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、これらの基の詳細は、Ｒ¹ およびＸ¹ にて説明したものに同義である。ｍ¹ は０から３の整数を表し、ｍ² は０から４の整数を表す。ｍ¹ およびｍ² が２以上の整数を表すとき、それぞれ複数のＲ¹ およびＸ¹ は同じでも異なっていてもよい。
Ｚ₁ は窒素原子およびベンゼン環の２重結合と共同で、５員環もしくは６員環を形成しうる原子団を表す。具体的にはＺ₁ は炭素原子、もしくは酸素原子から構成され、少なくとも１つの−Ｃ（Ｒ¹⁷）（Ｒ¹⁸）−あるいは−Ｃ（Ｒ¹⁹）＝を有し、−Ｃ（Ｒ¹⁷）（Ｒ¹⁸）−、−Ｃ（Ｒ¹⁹）＝、あるいは−Ｏ−と組み合わせて構成される原子団で、形成されるベンゼン環と縮合した５〜６員環としては、例えば、インドール、インドリン、ジヒドロキノリン、テトラヒドロキノリン、ベンゾオキサジンを挙げることができる。ここでＲ¹⁷、Ｒ¹⁸、およびＲ¹⁹は同一でも異なっていても良く、各々水素原子または置換基を表す。ここに置換基とは、Ｒ¹ およびＸ¹ として説明したものと同義である。但しＺ₁ が６員環を形成する時、ｍ ¹ は１から３の整数であって、かつＸ¹ はアルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、もしくはチオウレイド基を表すが、これらの基の詳細は、Ｒ¹ およびＸ¹ にて説明したものに同義である。
【００２０】
一般式（Ａ）で表される化合物は、任意の炭素原子上で２種が結合して、ビス型構造を形成してもよい。
【００２１】
一般式（Ａ）で表される化合物の中でも、以下の一般式（ＡＡ）で表される化合物が特に好ましい。
一般式（ＡＡ）
【００２２】
【化５】

【００２３】
式中、Ｒ¹¹およびＸ¹¹は、各々水素原子または置換基を表し、Ｒ²²は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｍ²²は０から４の整数を表し、２以上の整数を表すとき、Ｒ¹¹は同じでも異なっていてもよい。Ｒ¹¹およびＸ¹¹が置換基を表すとき、これらは一般式（Ａ）のＲ¹ およびＸ¹ について説明したものと同じものが挙げられる。
【００２４】
一般式（ＡＡ）中のＲ¹¹、Ｘ¹¹、およびＲ²²について以下にその好ましい組み合わせについて述べる。Ｒ¹¹は水素原子、アルキル基またはヒドロキシ基であり、Ｘ¹¹は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基であり、Ｒ²²は水素原子またはアルキル基である組み合わせが好ましい。ここで、アルキル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基は、他の置換基によって置換されたものも含む。
【００２５】
一般式（ＡＡ）で表される化合物の中でも、以下の一般式（ＡＡＡ）で表される化合物が最も好ましい。
一般式（ＡＡＡ）
【００２６】
【化６】

【００２７】
式中、Ｘ¹¹¹ は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｒ²²² は水素原子またはアルキル基を表す。
【００２８】
一般式（ＡＡＡ）で表される化合物の好ましい組み合わせとしては、Ｘ¹¹¹ が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、またはウレイド基であり、Ｒ²²² が水素原子またはアルキル基であり、さらに好ましくは、Ｒ²²² が水素原子または無置換あるいは水溶性基で置換されたアルキル基であり、Ｘ¹¹¹ が水素原子、アルキル基、アルコキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、またはウレイド基である組み合わせである。特に好ましい組み合わせは、Ｘ¹¹¹ が水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数１〜３のカルボンアミド基、炭素数１〜３のスルホンアミド基、または炭素数１〜３のウレイド基であり、Ｒ²²² が水素原子または無置換もしくは水溶性基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。ここで水溶性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）等である。
【００２９】
一般式（ＡＡＡ）で表される化合物の中で、最も好ましくは、Ｘ¹¹¹ が水素原子で、Ｒ²²² が水素原子、メチル基、エチル基、または水溶性基で置換された総炭素数１〜４のアルキル基である。
【００３０】
次に、一般式（Ｂ）で表されるｐ−アミノフェノール類について詳細に説明する。
一般式（Ｂ）
【００３１】
【化７】

【００３２】
式中、Ｘ² はアルキルチオ基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｘ²²は水素原子または置換基を表す。ｍ³ は１から４の整数を表し、ｍ³ および４−ｍ³ が２以上の整数を表すときＸ² およびＸ²²は同じでも異なっていてもよい。Ｒ³ およびＲ⁴ は、各々一般式（Ａ）におけるＲ² と同義の基を表す。ただし、Ｒ³ およびＲ⁴ のうち少なくとも一つはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ³ とＲ⁴ は連結して窒素原子と共同でヘテロ環を形成してもよい。
【００３３】
式中、Ｘ² はアルキルチオ基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｘ²²は水素原子または置換基を表す。Ｘ² およびＸ²²の表す基についての詳細は、一般式（Ａ）におけるＲ¹ およびＸ¹ にて説明したものと同じものが挙げられる。Ｒ³ とＲ⁴ が連結して窒素原子と共同で形成するヘテロ環としてはピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、または１−チア−４−アザシクロヘキサン環などを挙げることができる。
【００３４】
一般式（Ｂ）で表される化合物は、任意の炭素原子上で２種が結合して、ビス型構造を形成してもよい。
【００３５】
一般式（Ｂ）で表される化合物の中でも、以下の一般式（ＢＢ）で表される化合物が特に好ましい。
一般式（ＢＢ）
【００３６】
【化８】

【００３７】
式中、Ｘ²²はアルキルチオ基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｘ³³は水素原子または置換基を表し、これは一般式（Ｂ）のＸ²²と同義の基である。Ｒ³³およびＲ⁴⁴は、各々一般式（Ｂ）におけるＲ³ およびＲ⁴ と同義の基を表す。但し、Ｒ³³とＲ⁴⁴とが連結することはない。
【００３８】
一般式（ＢＢ）中のＸ³³、Ｒ³³およびＲ⁴⁴について以下にその好ましい組み合わせについて述べる。Ｘ³³は水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基であり、Ｒ³³およびＲ⁴⁴は水素原子またはアルキル基である組み合わせが好ましい。
この組み合わせにおいて、Ｒ³³およびＲ⁴⁴の少なくとも１つはアルキル基であり、Ｒ³³およびＲ⁴⁴で表されるアルキル基は、無置換のアルキル基または水溶性基で置換されたアルキル基であることがより好ましい。ここに水溶性基とは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アンモニオ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、スルファモイル基、カルボキシル基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）等である。Ｒ³³およびＲ⁴⁴は無置換のアルキル基またはヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基で置換されたアルキル基であることが更に好ましい。
一般式（ＢＢ）で表される化合物の中でも、以下の一般式（ＢＢＢ）で表される化合物が最も好ましい。
一般式（ＢＢＢ）
【００３９】
【化９】

【００４０】
式中、Ｘ²²² は一般式（Ｂ）におけるＸ² にて説明したものに同義であり、Ｒ³³³ およびＲ⁴⁴⁴ は、それぞれ水素原子またはアルキル基を表す。ただし、Ｒ³³およびＲ⁴⁴の少なくとも一つはアルキル基である。
【００４１】
一般式（ＢＢＢ）で表される化合物の更に好ましい組み合わせとしては、Ｘ²²² は炭素数１〜３のアルキルチオ基、炭素数１〜３のスルファモイルアミノ基、炭素数１〜３のウレイド基、または炭素数１〜３のチオウレイド基であり、Ｒ³³³ およびＲ⁴⁴⁴ は水素原子または炭素数１〜３のアルキル基であり、最も好ましくは、Ｒ³³³ およびＲ⁴⁴⁴ はメチル基、またはヒドロキシ基もしくはアルコキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。
【００４２】
本発明の一般式（Ａ）あるいは（Ｂ）で表される具体的化合物の例として下記化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４３】
【表１】

【００４４】
【表２】

【００４５】
【表３】

【００４６】
【表４】

【００４７】
【表５】

【００４８】
【表６】

【００４９】
【表７】

【００５０】
【表８】

【００５１】
【表９】

【００５２】
【表１０】

【００５３】
【表１１】

【００５４】
【表１２】

【００５５】
【表１３】

【００５６】
【表１４】

【００５７】
【表１５】

【００５８】
【表１６】

【００５９】
【表１７】

【００６０】
【表１８】

【００６１】
【表１９】

【００６２】
【表２０】

【００６３】
【表２１】

【００６４】
【表２２】

【００６５】
【表２３】

【００６６】
【表２４】

【００６７】
【表２５】

【００６８】
【表２６】

【００６９】
【表２７】

【００７０】
一般式（Ａ）あるいは（Ｂ）で表わされる化合物は、例えば、J. Chem. Soc.,344(1966) 、Photographic Science and Engineering, 10,306(1966)などの一般的合成法に準じて容易に合成可能である。また、下記合成例やそれに準じた方法を採ることもできる。
合成例１
スキーム１に従い、本発明の例示化合物（Ａ−３５）を合成した。
【００７１】
【化１０】

【００７２】
（Ａ−３５ａ）の合成
濃硫酸９０．５mlと酢酸５０mlを混合し０〜−５℃に冷却した。これに３−メチルアニソール６１．１ｇをゆっくり滴下し、次いで硝酸６１．５ｇと濃硫酸９０．５mlの混合液を−１０〜−１５℃に保ちながら滴下した。滴下終了後、０℃までゆっくり昇温し、次いで反応液を氷水２００mlに注入した後、ヘキサン５００mlで抽出した。有機層を飽和食塩水で中性まで洗浄し、塩化カルシウムで乾燥後、濾過し、濾液を減圧濃縮することにより（Ａ−３５ａ）の赤褐色固体８４．８ｇを得た。
（Ａ−３５ｂ）の合成
（Ａ−３５ａ）６３．６ｇと７５％パラホルムアルデヒド５４ｇにジメチルスルホキシド１２０mlを加え、５０℃に加温した。これに４０％水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムメタノール溶液（TritonB)をゆっくり滴下した。滴下後、９０℃で３時間反応させた後、反応液を水１リットルに注ぎ、酢酸エチル１リットルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、濾液を減圧濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）し、（Ａ−３５ｂ）の黄色固体１４．５ｇを得た。
（Ａ−３５ｃ）の合成
（Ａ−３５ｂ）１４．５ｇと四塩化炭素２７ml、アセトニトリル６０mlの溶液に、室温下でトリフェニルホスフィン２４ｇを少量ずつ加え、そのまま攪拌した。一夜放置後、メタノール２mlを加え、次いで、酢酸エチル３０mlとヘキサン６０mlとを加え攪拌した後、不溶分を濾過し、濾液を減圧濃縮することによって（Ａ−３５ｃ）１４．９ｇを得た。
（Ａ−３５ｄ）の合成
還元鉄１４．５ｇ、塩化アンモニウム０．２ｇに水１５ml、イソプロパノール９０ml、酢酸１mlを加え１５分間加熱還流した後、（Ａ−３５ｃ）１４．９ｇを少しずつ添加した。８時間加熱還流した後、セライト濾過によって不溶分を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた灰色粉末結晶を酢酸エチルに溶かし、飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮することによって（Ａ−３５ｄ）９．０ｇを得た。
（Ａ−３５ｅ）の合成
（Ａ−３５ｄ）９．０ｇにジメチルアセトアミド５０mlを加え溶かし、この溶液にクロルギ酸フェニル８．６ｇを滴下した。室温下３時間攪拌した後、水２００mlに注ぎ析出した白色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ａ−３５ｅ）１３．５ｇを得た。
（Ａ−３５ｆ）の合成
（Ａ−３５ｅ）１３．５ｇにアセトニトリル５０mlを加え溶かし、この溶液に４０％メチルアミン−メタノール溶液４．３ｇを滴下した。室温下２時間攪拌した後、水５００mlに注ぎ析出した白黄色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ａ−３５ｆ）９．６ｇを得た。
例示化合物（Ａ−３５）の合成
（Ａ−３５ｆ）５．１ｇを塩化メチレン５０mlに溶解し−１０℃に氷冷した後、塩化メチレン２０mlで溶解した三臭化ホウ素５．６mlを−５℃以下で滴下した。滴下後室温下で３時間攪拌した後氷冷し水１００mlをゆっくり滴下し、塩化メチレンにて抽出した。水層に炭酸水素ナトリウムを少量ずつ加え中性にし、析出した淡黄色結晶を濾取し、減圧下乾燥することにより目的物とする例示化合物（Ａ−３５）の白色結晶２．６ｇを得た。（アモルファス）
【００７６】
合成例２
スキーム３に従い、本発明の例示化合物（Ｂ−２）を合成した。
【００７７】
【化１２】

【００７８】
（Ｂ−２ａ）の合成
２−アミノ−４−ニトロフェノール６１．７ｇにジメチルアセトアミド２００mlを加え溶かし、この溶液にクロルギ酸フェニル６８．９ｇを滴下した。室温下３時間攪拌した後、１Ｎ塩酸８００mlに注ぎ析出した白色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ｂ−２ａ）１０３．２ｇを得た。
（Ｂ−２ｂ）の合成
（Ｂ−２ａ）５４．８ｇにアセトニトリル２００mlを加え溶かし、この溶液に４０％メチルアミン−メタノール溶液３４．４ｇを滴下した。室温下２時間攪拌した後、析出した橙色結晶を濾取した。この橙色結晶をジメチルアセトンアミド４００mlに溶解した後、１Ｎ塩酸１リットルに注ぎ析出した白黄色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ｂ−２ｂ）３８．６ｇを得た。
（Ｂ−２ｃ）の合成
（Ｂ−２ｂ）３８．６ｇにジメチルアセトアミド１６０ml、炭酸カリウム２５．２ｇを加え、この混合溶液にベンジルブロミド３４．４ｇを滴下した。室温下３時間攪拌した後、１Ｎ塩酸８００mlに注ぎ析出した白色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ｂ−２ｃ）５４．０ｇを得た。
（Ｂ−２ｄ）の合成
還元鉄２５．４ｇ、塩化アンモニウム０．２ｇに水２４ml、イソプロパノール１４０ml、酢酸１mlを加え１５分間加熱還流した後、（Ｂ−２ｃ）５４．０ｇを少しずつ添加した。１時間加熱還流した後、セライト濾過によって不溶分を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた灰色粉末結晶酢酸エチルに溶かし飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮することによって（Ｂ−２ｄ）２０．９ｇを得た。
（Ｂ−２ｅ）の合成
（Ｂ−２ｄ）１１．４ｇ、炭酸水素ナトリウム１６．８ｇにジメチルアセトアミド１００mlを加え８０℃に加熱した。この混合溶液にヨードメタン６．３mlを滴下し、８０℃にて３０分間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチルにて抽出、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し、得られた組成物をアセトニトリルで再結晶することにより（Ｂ−２ｅ）の白色結晶５．１ｇを得た。
例示化合物（Ｂ−２）の合成
（Ｂ−２ｅ）２．４ｇと１０％パラジウム炭素０．５ｇをメタノール１００mlに加え、オートクレーブ中にて４時間水素と接触させた。次いでセライトを濾過助材に用いて触媒を濾別後、濾液を１，５−ナフタレンジスルホン酸・４水塩１．４ｇのメタノール溶液に滴下した。溶媒を留去した後、エタノールを加え沈澱した灰色結晶濾別紙することによって、目的の例示化合物（Ｂ−２）の１，５−ナフタレンジスルホン酸塩を白色結晶として１．４ｇを得た。融点２０１℃
合成例３
例示化合物（Ｂ−６）の合成例示化合物（Ｂ−２）の合成において、ヨードメタンを用いるかわりに３−クロルプロパノールを用いて反応させ、（Ｂ−６ｅ）を得た。その後は例示化合物（６）の合成手順に従って、目的とする例示化合物（Ｂ−６）を得ることが出来た。（アモルファス）
【００７９】
【化１３】

【００８０】
合成例４
スキーム４に従い、本発明の例示化合物（Ｂ−７）を合成した。
【００８１】
【化１４】

【００８２】
（Ｂ−７ａ）の合成
２−メトキシ−５−ニトロアニリン３３．６ｇをジメチルアセトアミド２００mlに溶かし、室温下スルファモイルクロリド２５．２ｇ、次いでピリジン１６．２mlを滴下した。滴下後さらに４時間攪拌し、室温で一晩放置した後、１Ｎ塩酸８００mlに注ぎ析出した乳白色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ｂ−７ａ）３２．４ｇを得た。
（Ｂ−７ｂ）の合成
還元鉄３６．７ｇ、塩化アンモニウム０．４ｇに水３６ml、イソプロパノール２２０ml、酢酸２mlを加え１５分間加熱還流した後、（Ｂ−７ａ）３２．４ｇを少しずつ添加した。４時間加熱還流した後、セライト濾過によって不溶分を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた灰色粉末結晶を酢酸エチルに溶かし飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮することによって（Ｂ−７ｂ）２５．５ｇを得た。
（Ｂ−７ｃ）の合成
（Ｂ−７ｂ）１０．８ｇ、炭酸水素ナトリウム２０．２ｇにジメチルアセトアミド１２０mlを加え８０℃に加熱した。この混合溶液にヨードメタン７．５mlを滴下し、８０℃にて３０分間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチル抽出、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し（Ｂ−７ｃ）の無色透明結晶１２．１ｇを得た。
例示化合物（Ｂ−７）の合成
（Ｂ−７ｃ）９．２ｇを塩化メチレン１００mlに溶解し−１０℃に氷冷した後、塩化メチレン４０mlで溶解した三臭化ホウ素１０．５mlを−５℃以下で滴下した。滴下後室温下で３時間攪拌した後氷冷し水５０mlをゆっくり滴下し、析出した白色結晶を濾取した。得られた組成物を水で再結晶することにより目的とする例示化合物（Ｂ−７）６．１ｇを得た。（アモルファス）
【００８３】
合成例５
スキーム５に従い、本発明の例示化合物（Ａ−９２）を合成した。
【００８４】
【化１５】

【００８５】
（Ａ−９２ａ）の合成
濃硫酸９０．５mlと酢酸５０mlを混合し０〜−５℃に冷却した。これに３−メチルアニソール６１．１ｇをゆっくり滴下し、次いで硝酸６１．５ｇ、と濃硫酸９０．５mlの混合液を−１０〜−１５℃に保ちながら滴下した。滴下終了後、０℃までゆっくり昇温し、次いで反応液を氷水２００mlに注入した後、ヘキサン５００mlで抽出した。有機層を飽和食塩水で中性まで洗浄し、塩化カルシウムで乾燥後、濾過し、濾液を減圧濃縮することにより（Ａ−９２ａ）の赤褐色固体８４．８ｇを得た。
（Ａ−９２ｂ）の合成
（Ａ−９２ａ）６３．６ｇと７５％パラホルムアルデヒド５４ｇにジメチルスルホキシド１２０mlを加え、５０℃に加温した。これに４０％水酸化ベンジルトリメチルアンモニウムメタノール溶液（ToritonB) をゆっくり滴下した。滴下後、９０℃で３時間反応させた後、反応液を水１リットルに注ぎ、酢酸エチル１リットルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濾過し、濾液を減圧濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより分離精製（展開溶媒：ヘキサン／酢酸エチル＝４／１）し、（Ａ−９２ｂ）の黄色固体１４．５ｇを得た。
（Ａ−９２ｃ）の合成
（Ａ−９２ｂ）１４．５ｇと四塩化炭素２７ml、アセトニトリル６０mlの溶液に、室温下でトリフェニルホスフィン２４ｇを少量ずつ加え、そのまま攪拌した。一夜放置後、メタノール２mlを加え、次いで、酢酸エチル３０mlとヘキサン６０mlとを加え攪拌した後、不溶分を濾過し、濾液を減圧濃縮することによって（Ａ−９２ｃ）１４．９ｇ得た。
（Ａ−９２ｄ）の合成
還元鉄１４．５ｇ、塩化アンモニウム０．２ｇに水１５ml、イソプロパノール９０ml、酢酸１mlを加え１５分間加熱還流した後、（Ａ−９２ｃ）１４．９ｇを少しずつ添加した。８時間加熱還流した後、セライト濾過によって不溶分を濾別し、溶媒を減圧下留去した。得られた灰色粉末結晶を酢酸エチルに溶かし、飽和食塩水にて洗浄、硫酸ナトリウムで乾燥後濃縮することによって（Ａ−９２ｄ）９．０ｇを得た。
（Ａ−９２ｅ）の合成
（Ａ−９２ｄ）９．０ｇにジメチルアセトアミド５０mlを加え溶かし、この溶液にクロルギ酸フェニル８．６ｇを滴下した。室温下３時間攪拌した後、水２００mlに注ぎ析出した白色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ａ−９２ｅ）１３．５ｇを得た。
（Ａ−９２ｆ）の合成
（Ａ−９２ｅ）１３．５ｇにアセトニトリル５０mlを加え溶かし、この溶液に４０％メチルアミン−メタノール溶液４．３ｇを滴下した。室温下２時間攪拌した後、水５００mlに注ぎ析出した白黄色結晶を濾取し減圧下乾燥して（Ａ−９２ｆ）９．６ｇを得た。
（Ａ−９２ｇ）の合成
（Ａ−９２ｆ）９．６ｇ、炭酸水素ナトリウム６．７ｇにジメチルアセトアミド１００mlを加え８０℃に加熱した。この混合溶液にヨードメタン２．５mlを滴下し、８０℃にて３０分間攪拌した。室温まで冷却した後、酢酸エチルにて抽出、水洗し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下溶媒留去し、得られた組成物をアセトニトリルで再結晶することにより（Ａ−９２ｇ）の白色結晶１０．１ｇを得た。
例示化合物（Ａ−９２）の合成
（Ａ−９２ｇ）１０．１ｇを塩化メチレン１００mlに溶解し−１０℃に冷却した後、塩化メチレン４０mlで溶解した三臭化ホウ素１１．１mlを−５℃以下で滴下した。滴下後室温下で３時間攪拌した後氷冷し水２００mlをゆっくり滴下し、塩化メチレンにて抽出した。水層に炭酸水素ナトリウムを少量ずつ加え中性にし、析出した淡黄色結晶を濾取し、減圧下乾燥することにより目的物とする例示化合物（Ａ−９２）の白色結晶７．６ｇを得た。（アモルファス）合成例７例示化合物（Ａ−９４）の
合成例６
例示化合物（Ａ−９２）の合成において、ヨードメタンを用いるかわりに３−クロロプロパノールを用いて反応させ、（Ａ−９４ｇ）を得た。その後は例示化合物（Ａ−９２）の合成手順に従って、目的物とする例示化合物（Ａ−９４）を得ることができた。（アモルファス）
【００８６】
【化１６】

【００８７】
一般式（Ａ）または（Ｂ）で示される化合物は、遊離アミンとして保存する場合には非常に不安定であるため、一般には無機酸、有機酸の塩として製造、保存し、処理液に添加するときに初めて遊離アミンとなるようにする場合が好ましい。一般式（Ｉ）または（II）の化合物を造塩する無機、有機の酸としては例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、燐酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸等が挙げられる。これらの中で硫酸、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸の塩とすることが好ましく、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸との塩として造塩することが最も好ましい。
【００８８】
本発明で補助現像主薬として用いられる一般式（Ａ）または（Ｂ）にて表されるｐ−アミノフェノール類は単独でまたは他の公知のｐ−アミノフェノール類あるいは３−ピラゾリドン類と併用して使用することもできる。組み合わせる化合物の代表例を以下に示すがこれらに限定されるものではない。
ＡＰ−１ Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール
ＡＰ−２ ｐ−アミノフェノール
ＡＰ−３ Ｎ−（β−ヒドロキシエチル）−ｐ−アミノフェノール
ＡＰ−４ Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）グリシン
ＡＰ−５ ２−メチル−ｐ−アミノフェノール
ＡＰ−６ ｐ−ベンジルアミノフェノール
ＡＰ−７ ２−メトキシ−ｐ−アミノフェノール
Ｐ−１ １−フェニル−３−ピラゾリドン
Ｐ─２ １−フェニル−４，４−シメチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−３ １−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−４ １−フェニル−４，４−ジヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−５ １−フェニル−５−メチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−６ １−ｐ−アミノフェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−７ １−ｐ−トリル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン
Ｐ−８ １−ｐ−トリル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン
【００８９】
組み合わせる化合物として上記ｐ−アミノフェノール類のうち特に好ましくはＡＰ−１、ＡＰ−３あるいはＡＰ−７であり、３−ピラゾリドン類のうち特に好ましくはＰ−２、Ｐ−３あるいはＰ−８である。また、これらのｐ−アミノフェノール類は硫酸塩、塩酸塩、亜硫酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、硝酸塩、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸塩などの塩で使用されるのが一般的である。
これらの化合物は目的に応じて２種以上併用することもできる。補助現像主薬の使用量は、通常０．０００５〜０．２モル／リットル、好ましくは０．００１〜０．１モル／リットル、特に好ましくは０．０１〜０．１モル／リットルである。
本発明において、処理組成物とは、液体状であっても固体状（例えば、粉末状、顆粒状）であってもよい。
【００９０】
本発明では現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類あるいはアスコルビン酸類またはその誘導体が用いられる。以下に、現像主薬について詳細に説明する。
【００９１】
本発明で現像主薬として用いられるジヒドロキシベンゼン類としては、ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、２，３−ジクロロハイドロキノン、２，５−ジクロロハイドロキノン、２，３−ジブロムハイドロキノン、２，５−ジメチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノスルホン酸塩などがあるが特にハイドロキノン、ハイドロキンモノスルホン酸塩が好ましい。
【００９２】
本発明で現像主薬として用いられるアスコルビン酸類またはその誘導体としては、下記一般式（Ｃ）で表される化合物が好ましく用いられる。
一般式（Ｃ）
【００９３】
【化１７】

【００９４】
式中、Ｒ₆ は水素原子、アルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。
【００９５】
一般式（Ｃ）で表されるアスコルビン酸類またはその誘導体について詳細に説明する。
式中、Ｒ₆ で表されるアルキル基は直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、アリール基は例えば、フェニル基、ナフチル基などであり、ヘテロ環基は炭素原子、窒素原子、酸素原子、あるいは硫黄原子から構成される５〜６員環のヘテロ環基で、例えば、フリル基、ベンゾフリル基、ピラニル基、ピロリル基，イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、チエニル基、イソチアゾリル基などである。これらの基は置換基を有してもよく、その置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、アシル基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、スルフィニルオキシ基、カルボキシ（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）ヒドロキシアミノ基、ヒドラジノ基を挙げることができる。
【００９６】
更に詳しく置換基の例を示す。アルキル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、ヒドロキシメチル等を挙げることができる。アルケニル基としては炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜６の直鎖または分岐鎖のアルケニル基であり、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、エチニル、プロペニル、３−ブテニル、４−ヒドロキシ−３−ブテニルなどを挙げることができる。アリール基としては炭素数６〜１０のアリール基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メチルフェニルなどである。アルコキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜８のアルコキシ基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、２−メトキシエトキシなどを挙げることができる。アリールオキシ基としては炭素数６〜１０のアリールオキシ基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、フェノキシ、ｐ−ヒドロキシフェノキシ、３，４−ジヒドロキシフェノキシ、ｏ−カルボキシフェノキシ、ｏ−スルホフェノキシなどを挙げることができる。アルキルチオ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜８のアルキルチオ基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、メチルチオ、オクチルチオなどである。アリールチオ基としては炭素数６〜１０のアリールチオ基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、フェニルチオ、４−ヒドロキシフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ、４−ブトキシフェニルチオなどを挙げることができる。アシルオキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜８のアシルオキシ基で、これらの基はＲ₆ の置換基として挙げた基で置換されていてもよく、例えば、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、オクタノイルオキシ、カルボキシアセトキシ、３−スルホプロパノイルオキシなどを挙げることができる。
【００９７】
アルキルアミノ基としては炭素数１〜６のアルキルアミノ基で例えば、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノなどである。カルボンアミド基としては炭素数１〜６のカルボンアミド基で例えば、アセトアミド基、プロピオンアミド基である。スルホンアミド基としては炭素数１〜６のスルホンアミド基で例えば、メタンスルホンアミド基である。ウレイド基としては炭素数１〜６のウレイド基で例えば、ウレイド、メチルウレイドである。アシル基としては炭素数１〜６のアシル基で例えばアセチル、ベンゾイルなどである。オキシカルボニル基としては炭素数１〜８のオキシカルボニル基で例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニルである。カルバモイル基としては炭素数１〜６のカルバモイル基で例えば、カルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルである。スルフィニルオキシ基としては炭素数１〜６のスルフィニルオキシ基で例えば、メタンスルフィニルオキシ基である。
これらの置換基は、可能な場合、更に置換されていてもよい。
【００９８】
前記一般式（Ｃ）のＲ₆ にて表されるアルキル基は、好ましくは、炭素数１〜６のアルキル基で、Ｒ₆ の置換基として挙げた基によって置換されたものも含み、より好ましくは、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、オキシカルボニル基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）で置換されたアルキル基であり、例えば、メチル、エチル、ヒドロキシメチル、１−ヒドロキシエチル、１，２−ジヒドロキシエチル、１，２−ジヒドロキシプロピル、１，２，３−トリヒドロキシプロピル、１，２，３，４−テトラヒドロキシブチル、１，２−ジメトキシエチル、１，１−ジメトキシ−２−ヒドロキシエチル、１，２−ジエトキシエチル、１，２−ジアセトキシエチル、ヒドロキシカルボキシメチル、アセトキシカルボキシメチル、１−メチルチオ−２−ヒドロキシエチル、１−フェニルチオ−２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシ−２−オクチルチオエチル、１−ヒドロキシ−２−フェニルチオエチル、１−ヒドロキシ−２−アミノエチル、１−ヒドロキシ−２−フェノキシエチル、1-ヒドロキシ−２−スルホエチルなどを挙げることができる。これらの置換基は、可能な場合、更に置換されていてもよい。
【００９９】
前記一般式（Ｃ）のＲ₆ にて表されるアリール基は、好ましくは、炭素数６〜１０のアリール基で、Ｒ₆ の置換基として挙げた基によって置換されたものも含み、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、アニシル、ｐ−カルボキシフェニル、ｐ−スルホニルフェニルなどである。
前記一般式（Ｃ）のＲ₆ にて表されるヘテロ環基は、好ましくは、フリル基、ピリジル基、トリアゾリル基で、Ｒ₆ の置換基として挙げた基によって置換されたものも含み、例えば、フリル、５−メチルフリル、ベンゾフリル、ピリジル、５−クロロピリジル、３−カルボキシピリジル、５−スルホピリジル、１−フェニルトリアゾリルなどである。
【０１００】
前記一般式（Ｃ）のＲ₆ は、特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基であり、これらの基は他の置換基によって置換されたものも含み、その置換基としては、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、を挙げることができ、より好ましくは、ヒドロキシ基、炭素数１〜８のアルコキシ基、である。これらの置換基は、可能な場合、更に置換されていてもよく、その置換基としては、アルケニル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）、ヒドロキシアミノ基、ヒドラジノ基などを挙げることができる。
【０１０１】
前記一般式（Ｃ）で表される化合物の中でも、Ｒ₆ が一般式（Ｐ）または（Ｑ）で表される化合物が最も好ましい。
一般式（Ｐ）
【０１０２】
【化１８】

【０１０３】
式中、ｎ₃ は１〜４の整数を表す。ｎ₃ は好ましくは２または３、最も好ましくは２である。
一般式（Ｑ）
【０１０４】
【化１９】

【０１０５】
式中、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂は同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、アルキル基、アリール基、アルケニル基を表し、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂で表されるアルキル基は連結して環構造を形成してもよい。ここで、アルキル基、アリール基、アルケニル基は、他の置換基によって置換されたものも含み、その置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシ基（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）、ヒドロキシアミノ基を挙げることができる。
【０１０６】
一般式（Ｑ）にて表される化合物中のＲ₃₁、Ｒ₃₂は好ましくは、水素原子、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜７のアルケニル基であり、特に好ましくは、水素原子、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基であり、最も好ましくは、水素原子または炭素数１〜７のアルキル基であり、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂で表されるアルキル基は連結して環構造を形成してもよく、少なくとも一方は水素原子ではないことがより好ましい。これらの基は置換基を有してもよく、その置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、フェニル基、クロロメチル基、メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、１−ヒドロキシ−２−ヒドロキシアミノ−エチル基、２−カルボキシエチル基が挙げられる。Ｒ₃₁、Ｒ₃₂で表されるアルキル基が連結して形成する環としては、シクロペンチル環、シクロヘキシル環などを挙げることができ、これらの基は、可能な場合、更に置換されていてもよい。
一般式（Ｃ）の化合物はいわゆるエノール体で記述されているが、これが異性化したケト体も事実上同じ化合物であり、本出願では水素原子が異性化した化合物も請求の範囲である。
【０１０７】
本発明の具体的化合物の例として下記化合物が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０８】
【化２０】

【０１０９】
【化２１】

【０１１０】
【化２２】

【０１１１】
【化２３】

【０１１２】
【化２４】

【０１１３】
【化２５】

【０１１４】
一般式（Ｃ）で表される化合物は、E.S.H.EL.Ashry, A.Moussad, and N.Rashed, Advances in Heterocyclic Chemistry,vol. 53,233-302,特開昭５７−１８８５８６号公報、特開昭６４−４５３８３号公報、特開平２−２８８８７２号公報、特開平４−２９９８５号公報、特開平４−３６４１８２号公報、特開平５−１１２５９４号公報などの一般的合成法に準じて合成可能である。
本発明で現像主薬として用いられる一般式（Ｃ）にて表されるアスコルビン酸類またはその誘導体としては、フリー体、アンモニウム塩、アルカリ金属塩でもよい。
本発明で現像主薬として用いられるジヒドロキシベンゼン類あるいはアスコルビン酸類またはその誘導体としては、フリー体、アニモニウム塩、アルカリ金属塩でもよく、その現像液への添加量は通常０．０１〜０．５モル／リットル、好ましくは０．０５〜０．３モル／リットル、特に好ましくは０．０５〜０．２モル／リットルである。
【０１１５】
現像主薬と補助現像主薬の組合せを用いる場合の使用量は、前者が０．０５〜０．５モル／リットルで後者が０．０１〜０．１モル／リットルの量で用いるのが最も好ましい。
【０１１６】
本発明では、一般式（Ａ）または（Ｂ）で表わされる現像剤（補助現像主薬）を一般式（Ｃ）で表わされるアスコルビン酸系現像主薬を組合せて使用することが好ましい。この場合ジヒドロキシベンゼン類を実質的に含まないことがより好ましい。ここで実質的にジヒドロキシベンゼン類を含まないとは、ジヒドロキシベンゼン類の現像液中での濃度が一般式（Ｃ）で表される現像主薬や一般式（Ａ）または（Ｂ）で表される補助現像主薬の量に比して取るに足らないこと（例えば５×１０^-4モル／リットル以下であること）を意味する。
【０１１７】
本発明で感光材料を現像処理する際の現像液（以下、現像開始液および現像補充液の双方をまとめて現像液という。）に用いられる緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭６２−１８６２５９に記載のほう酸、特開昭６０−９３４３３に記載の糖類（たとえばサッカロース）、オキシム類（例えばアセトオキシム）、フェノール類（たとえば５−スルホサリチル酸）、第３リン酸塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩）などが用いられ、好ましくは炭酸塩、ほう酸が用いられる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用量は、好ましくは０．３モル／リットル以上、特に０．４モル／リットル以上である。上限は重要ではないが１．５モル／リットル程度である。
【０１１８】
本発明の現像液には、保恒剤として亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩あるいはヒドロキシルアミン硫酸塩、ヒドロキシルアミン塩酸塩、モノメチルヒドロキシルアミン塩酸塩、ジエチルヒドロキシルアミン等のヒドロキシルアミン類を添加してもよい。亜硫酸塩あるいはヒドロキシルアミン類は０．０１モル／リットル以上で用いられる。亜硫酸塩は多量に用いるとハロゲン化銀乳剤粒子を溶解して、銀汚れの原因となる。また、ＣＯＤ（化学的酸素要求量）を高める原因ともなるため、添加量は必要最小限にすべきであり、好ましくは０．５モル／リットル以下、特に好ましくは０．２モル／リットル以下、最も好ましくは０．１モル／リットル以下である。
【０１１９】
上記の以外に用いられる添加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムの如き現像抑制剤；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドの如き有機溶剤；ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン、イミダゾール又はその誘導体等の現像促進剤；メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物をカブリ防止剤又は黒ポツ（black pepper) 防止剤として含んでもよい。具体的には、５−ニトロインダゾール、５−ｐ−ニトロベンゾイルアミノインダゾール、１−メチル−５−ニトロインダゾール、６−ニトロインダゾール、３−メチル−５−ニトロインダゾール、５−ニトロベンズイミダゾール、２−イソプロピル−５−ニトロベンズイミダゾール、５−ニトロベンズトリアゾール、４−〔（２−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール−２−イル）チオ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、５−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−２−チオール、メチルベンゾトリアゾール、５−メチルベンゾトリアゾール、２−メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙げることができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、現像液１リットル当り０．０１〜１０mmolであり、より好ましくは０．１〜２mmolである。
【０１２０】
更に本発明の現像液中には各種の有機・無機のキレート剤を併用することができる。無機キレート剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等を用いることができる。
一方、有機キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸及び有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。
有機カルボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸等を挙げることができが、これらに限定されるものではない。
【０１２１】
アミノポリカルボン酸としては、イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、１，２−ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、１，３−ジアミノ−２−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、その他特開昭５２−２５６３２号、同５５−６７７４７号、同５７−１０２６２４号、及び特公昭５３−４０９００号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１２２】
有機ホスホン酸としては、米国特許３２１４４５４号、同３７９４５９１号、及び西独特許公開２２２７６３９号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosure) 第１８１巻、Item １８１７０（１９７９年５月号）等に記載の化合物が挙げられる。
アミノホスホン酸としては、アミノトリス（メチレンホスホン酸）、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、アミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他上記リサーチ・ディスクロージャー１８１７０号、特開昭５７−２０８５５４号、同５４−６１１２５号、同５５−２９８８３号及び同５６−９７３４７号等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１２３】
有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭５２−１０２７２６号、同５３−４２７３０号、同５４−１２１１２７号、同５５−４０２４号、同５５−４０２５号、同５５−１２６２４１号、同５５−６５９５５号、同５５−６５９５６号、及び前述のリサーチ・ディスクロージャー１８１７０号等に記載の化合物を挙げることができる。
これらのキレート剤はアルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート剤の添加量としては、現像液１リットル当り好ましくは、１×１０^-4〜１×１０^-1モル、より好ましくは１×１０^-3〜１×１０^-2モルである。
【０１２４】
さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として、下記一般式（Ｄ）で表される化合物を用いることが好ましい。
一般式（Ｄ）
【０１２５】
【化２６】

【０１２６】
式中、Ｚ₁ はＮおよびＣと共同で無置換または置換の５員もしくは６員の含窒素芳香族ヘテロ環を形成するに必要な非金属原子団を表し、Ｘ₂ は水素原子またはカチオンを表す。また、Ｚ₁ より任意の水素原子１個がとれたラジカル２種が結合して、ビス型構造を形成してもよい。
【０１２７】
次に一般式（Ｄ）を詳細に説明する。
Ｚ₁ はＮおよびＣと共同で無置換または置換の５員もしくは６員の含窒素芳香族ヘテロ環を形成するに必要な非金属原子団を表す。Ｚ₁ 、Ｎ、Ｃで形成される５員の含窒素芳香族ヘテロ環としては窒素に加え、炭素、酸素、硫黄から選ばれる元素の組み合わせで形成されるもので、さらに炭化水素環もくしはヘテロ環で縮合されていてもよく、例えばピラゾール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ピラゾロトリアゾール、ピロロトリアゾール等が挙げられる。５員の含窒素芳香族ヘテロ環として好ましくはトリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチアゾール、ピラゾロトリアゾール、ピロロトリアゾールであり、さらに好ましくはトリアゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ベンズイミダゾールであり、最も好ましくはトリアゾールである。Ｚ₁ 、Ｎ、Ｃで形成される６員の含窒素芳香族ヘテロ環としては単環あるいは炭素環もしくはヘテロ環で縮合された環で、例えばピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、フタラジン、キノキサリン、キナゾリン、シノリン、フェナンスリジン、フェナンスロリン、ナフチリジン、プテリジン、プリン、トリアゾロピリミジン、イミダゾロピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾロトリアジン、トリアゾロトリアジンである。６員の含窒素芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、フタラジン、キノキサリン、キナゾリン、ナフチリジン、プテリジン、プリン、トリアゾロピリミジン、イミダゾロピリジン、トリアゾロピリジン、イミダゾロトリアジン、トリアゾロトリアジンであり、さらに好ましくはピリミジン、ピリダジン、トリアジン、プテリジン、プリン、トリアゾロピリミジン、イミダゾロトリアジン、トリアゾロトリアジンであり、最も好ましくはピリミジン、トリアジン、プリンである。
【０１２８】
Ｚ₁ の置換基としては水素原子、ハロゲン原子、または炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子で環に結合する置換基を挙げることができる。炭素原子で結合するものとしては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルボキシル基、シアノ基、ヘテロ環基が、酸素原子で結合するものとしてはヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基が、窒素原子で結合するものとしてはアシルアミノ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホンアミド基、イミド基、ヘテロ環基が、硫黄原子で結合するものとしてはアルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、スルホニル基、スルホ基、スルフィニル基、メルカプト基（塩を含む）が挙げられる。これらはＺ₁ の置換基として述べた基でさらに置換されていても良い。これらは複数であっても良く、可能な場合２つが結合して環を形成しても良い。
【０１２９】
更に詳しくＺ₁ の置換基について説明する。ハロゲン原子としては例えば、弗素原子、塩素原子、臭素原子である。アルキル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５の直鎖、分岐鎖または環状のアルキル基であり、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ベンジル、シクロペンチルである。アルケニル基としては炭素数２〜１０のもので、例えばビニル、１−プロペニル、１−ヘキセニル、スチリルが挙げられる。アルキニル基としては炭素数２〜１０のもので、例えばエチニル、１−ブチニル、フェニルエチニルが挙げられる。アリール基としては炭素数６〜１０のアリール基で例えば、フェニル、ナフチル、ｐ−メトキシフェニルである。
【０１３０】
カルバモイル基としては炭素数１〜８のもので、例えばカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイルである。アルコキシカルボニル基としては炭素数２〜８のもので、例えばメトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルである。アリールオキシカルボニル基としては炭素数７〜１２のもので、例えばフェノキシカルボニルである。アシル基としては炭素数１〜８のもので、例えばアセチル、ベンゾイルである。環上の炭素原子で連結するヘテロ環基としては炭素数１〜５の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であっても良く、例えば２−フリル、２−チエニル、２−ピリジル、２−イミダゾリルである。
【０１３１】
アルコキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので例えば、メトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メタンスルホニルエトキシである。アリールオキシ基としては炭素数６〜１２のもので例えば、フェノキシ、ｐ−メトキシフェノキシ、ｍ−（３−ヒドロキシプロピオンアミド）フェノキシである。ヘテロ環オキシ基としては炭素数１〜５の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環オキシ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であっても良く例えば、１−フェニルテトラゾリル−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ、２−ピリジルオキシである。アシルオキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ、４−ヒドロキシブタノイルオキシである。カルバモイルオキシ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−ブチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシである。スルホニルオキシ基としては炭素数１〜８のもので、例えばメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシである。
【０１３２】
アシルアミノ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノである。アルキルアミノ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アミノ、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）アミノである。アリールアミノ基としては炭素数６〜１０のもので例えば、アニリノ、Ｎ−メチルアニリノである。ヘテロ環アミノ基としては炭素数１〜５の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環アミノ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であっても良く、例えば２−オキサゾリルアミノ、２−テトラヒドロピラニルアミノ、４−ピリジルアミノである。ウレイド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジエチルウレイド、２−メタンスルホンアミドエチルウレイドである。
【０１３３】
スルファモイルアミノ基としては炭素数０〜１０、好ましくは炭素数０〜５のもので、例えばメチルスルファモイルアミノ、２−メトキシエチルスルファモイルアミノである。アルコキシカルボニルアミノ基としては炭素数２〜１０、好ましくは炭素数２〜６のもので、例えばメトキシカルボニルアミノである。アリールオキシカルボニルアミノ基としては炭素数７〜１２のもので、例えばフェノキシカルボニルアミノ、２，６−ジメトキシフェノキシカルボニルアミノである。スルホンアミド基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばメタンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミドである。イミド基としては炭素数４〜１０のもので、例えばＮ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドである。環の窒素原子で連結するヘテロ環基としては、炭素原子、酸素原子または硫黄原子の少なくとも１種と窒素原子からなる５〜６員のヘテロ環で、例えばピロリジノ、モルホリノ、イミダゾリノである。
【０１３４】
アルキルチオ基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜５のもので、例えばメチルチオ、２−カルボキシエチルチオである。アリールチオ基としては炭素数６〜１２のもので、例えばフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオである。ヘテロ環チオ基としては炭素数１〜５の酸素原子、窒素原子、もしくは硫黄原子を１個以上含む５員または６員環の飽和または不飽和のヘテロ環チオ基であって環を構成するヘテロ原子の数及び元素の種類は１つでも複数であっても良く、例えば２−ベンゾチアゾリルチオ、２−ピリジルチオである。
【０１３５】
スルファモイル基としては炭素数０〜１０、好ましくは炭素数０〜６のもので、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、フェニルスルファモイルである。アルコキシスルホニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばメトキシスルホニルである。アリールオキシスルホニル基としては炭素数６〜１２、好ましくは炭素数６〜１０のもので、例えばフェノキシスルホニルである。スルホニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばメタンスルホニル、ベンゼンスルホニルである。スルフィニル基としては炭素数１〜１０、好ましくは炭素数１〜６のもので、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルである。
【０１３６】
Ｚ₁ の置換基として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、カルバモイル基、アシル基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、スルホンアミド基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、スルホニル基、メルカプト基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルキルチオ基、メルカプト基であり、特に好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、アルキルチオ基、メルカプト基である。Ｚ₁ としては１または２個のメルカプト基を有するものが最も好ましい。
【０１３７】
Ｘ₂ は水素原子またはカチオンである。カチオンとしては例えばナトリウム、カリウム、リチウム、カルシウム、アンモニウム、テトラブチルアンモニウム、トリエチルアンモニウムである。Ｘ₂ として好ましくは水素原子、ナトリウム、カリウム、アンモニウムである。
【０１３８】
一般式（Ｄ）より任意の水素原子１個がとれたラジカル２種が結合してビス型構造を形成するものとして、好ましくは下記一般式（Ｒ）で示すものである。
一般式（Ｒ）
【０１３９】
【化２７】

【０１４０】
式中、Ｚ₂₁、Ｚ₂₂は式（Ｃ）のＺ₁ から水素原子１個がとれた基を表し、Ｘ₂₁、Ｘ₂₂はＸ₂ と同義である。Ｌ₂ は二価の連結基（アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、アリーレン基、二価のヘテロ環基およびそれらを−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＣＯ−、−ＳＯ₂ −等の単独または組み合わせからなる基で連結したもの）である。これらの好ましいものも式（Ｄ）と同じである。
【０１４１】
Ｌ₂ のアルキレン基としては、例えばエチレン、トリメチレン、ペンタメチレン、プロピレン、２−ブテン−１，４−イル、２−ブチン−１，４−イル、ｐ−キシリレンである。アルケニレン基としては、例えばエテン−１，２−イルである。アルキニレン基としてはエチン−１，２−イルである。アリーレン基としては、例えばフェニレンである。二価のヘテロ環基としては、例えばフラン−１，４−ジイルである。Ｌ₂ としてはアルキレン基、−ＮＨ（アルキレン）ＮＨ−基、−Ｏ（アルキレン）Ｏ−基、−Ｓ（アルキレン）Ｓ−基、−ＮＨ（アルキレン）ＣＯＮＨ（アルキレン）ＮＨ−基、−ＮＨ（アルキレン）Ｏ（アルキレン）ＮＨ−基が好ましく、−ＮＨ（アルキレン）ＮＨ−基、−Ｏ（アルキレン）Ｏ−基がさらに好ましい。
【０１４２】
一般式（Ｄ）で示される本発明の化合物のうち好ましくは下記一般式（３）〜（10）で表されるものである。
一般式（３）
【０１４３】
【化２８】

【０１４４】
式中、Ｒ₃₄およびＸ₃₁はそれぞれ一般式（Ｄ）のＺ₁ の置換基およびＸ₂ と同義である。Ｒ₃₄として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基であり、最も好ましくは水素原子、アルキル基、メルカプト基である。Ｒ₃₂は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基である。Ｒ₃₂として好ましくは水素原子、アルキル基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基であり、さらに好ましくは水素原子またはアルキル基である。
一般式（４）
【０１４５】
【化２９】

【０１４６】
式中、Ｒ₄₁、Ｒ₄₂およびＸ₄₁はそれぞれ一般式（３）のＲ₃₄、Ｒ₃₂およびＸ₃₁と同義で好ましい範囲も同様である。
一般式（５）
【０１４７】
【化３０】

【０１４８】
式中、Ｒ₅₁およびＸ₅₁はそれぞれ一般式（３）のＲ₃₄およびＸ₃₁と同義である。Ｒ₅₁として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基であり、さらに好ましくはアルキル基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基であり、最も好ましくはメルカプト基、アルキルチオ基である。
一般式（６）
【０１４９】
【化３１】

【０１５０】
式中、Ｒ₆₁、Ｒ₆₂およびＸ₆₁はそれぞれ一般式（３）のＲ₃₄、Ｒ₃₂およびＸ₃₁と同義である。Ｒ₆₁として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基であり、さらに好ましくはヒドロキシ基、アルコキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基であり、最も好ましくはヒドロキシ基、置換されていてもよいアミノ基、メルカプト基である。Ｒ₆₂として好ましくはメルカプト基である。
一般式（７）
【０１５１】
【化３２】

【０１５２】
式中、Ｒ₇₁、Ｒ₇₂およびＲ₇₃はそれぞれ一般式（６）のＲ₆₁、Ｒ₆₂と同義であり、好ましい範囲も同じである。ただしそれらのうち少なくとも一つはメルカプト基である。Ｒ₇₃がメルカプト基である場合がより好ましい。
一般式（８）
【０１５３】
【化３３】

【０１５４】
式中、Ｒ₈₁、Ｒ₈₂、Ｒ₈₃およびＲ₈₄はそれぞれ一般式（６）のＲ₆₁、Ｒ₆₂と同義であり、好ましい範囲も同じである。ただしそれらのうち少なくとも一つはメルカプト基である。Ｒ₈₃として最も好ましくは置換されていてもよいアミノ基または水素原子である。Ｒ₈₄がメルカプト基である場合がより好ましい。
一般式（９）
【０１５５】
【化３４】

【０１５６】
式中、Ｒ₉₁、Ｒ₉₂およびＲ₉₃はそれぞれ一般式（６）のＲ₆₁、Ｒ₆₂と同義であり、好ましい範囲も同じである。ただしそれらのうち少なくとも一つはメルカプト基である。Ｒ₉₂またはＲ₉₃がメルカプト基である場合がより好ましい。
一般式（10）
【０１５７】
【化３５】

【０１５８】
式中、Ｒ₁₀₁ ないしＲ₁₀₄ およびＸ₁₀₁ はそれぞれ一般式（Ｄ）のＺ₁ の置換基およびＸ₂ と同義である。Ｒ₁₀₁ ないしＲ₁₀₄ として好ましくは水素原子、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルファモイル基であり、水素原子およびスルホ基がさらに好ましく、Ｒ₁₀₃ がスルホ基である場合が最も好ましい。
【０１５９】
一般式（３）〜（10）のうち一般式（３）、（５）〜（９）がより好ましく、一般式（３）、（６）および（８）が最も好ましい。
次に本発明に於ける一般式（Ｄ）で表される化合物の具体例を示すがこれらに限定されるものではない。
【０１６０】
【化３６】

【０１６１】
【化３７】

【０１６２】
【化３８】

【０１６３】
【化３９】

【０１６４】
【化４０】

【０１６５】
【化４１】

【０１６６】
【化４２】

【０１６７】
【化４３】

【０１６８】
【化４４】

【０１６９】
【化４５】

【０１７０】
【化４６】

【０１７１】
【化４７】

【０１７２】
【化４８】

【０１７３】
【化４９】

【０１７４】
【化５０】

【０１７５】
本発明の一般式（Ｄ）で表される化合物は以下に示される特許およびそれに引用された特許・文献に記載されている。すなわち特開平４−３０１８３７号、同５−６１１５９号、同６−２３０５２５号、特開昭５８−１６９１４７号、同６２−５６９５９号、米国特許３２１２８９２号、特開平３−５３２４４号、同３−２８２４５７号、同５−６１１５９号、同５−３０３１７９号、同４−３６２９４２号、特公昭４６−１１６３０号、特開平６−１７５３０２号、同６−２５８７８３号、特開平８−６２１５号等である。
【０１７６】
本発明の一般式（Ｄ）で表される化合物を現像液に添加する場合は、現像液１リットル当たり０．０１ミリモルから１０ミリモルの範囲が好ましく、０．１ミリモルから５ミリモルの範囲が特に好ましい。またハロゲン化銀感光材料に添加する場合は、バック層または最上の保護層等非感光性層に添加することが好ましい。本発明の化合物の添加量は感光材料１m²当たり１×１０^-6モルから５×１０^-3モルの範囲が好ましく、１×１０^-5モルから１×１０^-3モルの範囲が特に好ましい。
【０１７７】
また、現像ムラ防止剤として特開昭６２−２１２６５１号記載の化合物、溶解助剤として特開昭６１−２６７７５９号記載の化合物を用いることができる。
さらに必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでもよい。
【０１７８】
現像処理温度及び時間は相互に関係し、全処理時間との関係において決定されるが、一般に現像温度は約２０℃〜約５０℃、好ましくは２５〜４５℃で、現像時間は５秒〜２分、好ましくは７秒〜１分３０秒である。
【０１７９】
本発明においては、現像開始液及び現像補充液の双方が、「該液１リットルに０．１モルの水酸化ナトリウムを加えたときのｐＨ上昇が０．２５以下」の性質を有することが好ましい。使用する現像開始液ないし現像補充液がこの性質を有することを確かめる方法としては、試験する現像開始液ないし現像補充液のｐＨを１０．０に合わせ、ついでこの液１リットルに水酸化ナトリウムを０．１モル添加し、この時の液のｐＨ値を測定し、ｐＨ値の上昇が０．２５以下であれば上記に規定した性質を有すると判定する。本発明では特に、上記試験を行った時のｐＨ値の上昇が０．２以下である現像開始液及び現像補充液を用いることが好ましい。
【０１８０】
現像開始液及び現像補充液に上記の性質を与える方法としては、緩衝剤を使用するのが好ましい。緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭６２−１８６２５９号に記載のホウ酸、特開昭６０−９３４３３号に記載の糖類（例えばサッカロース）、オキシム類（例えばアセトオキシム）、フェノール類（例えば５−スルホサリチル酸）、第３リン酸塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩）などが用いられ、好ましくは炭酸塩、ホウ酸が用いられる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用量は、好ましくは、０．３モル／リットル以上、特に０．４モル／リットル以上である。
【０１８１】
ｐＨの設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属塩（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）を用いることができる。
【０１８２】
本発明においては、現像開始液のｐＨが８．５〜１２．０であり、特に好ましくは８．５〜１１．０、最も好ましくは９．４〜１０．５の範囲である。現像補充液のｐＨおよび連続処理時の現像タンク内の現像液のｐＨもこの範囲である。ｐＨの設定のために用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属塩（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）を用いることができる。
【０１８３】
ハロゲン化銀写真感光材料１平方メートルを処理する際に、現像液の補充液量は２００ミリリットル以下、好ましくは１８０〜０ミリリットル、特に１６０〜１０ミリリットルである。
現像補充液は、現像開始液と同一の組成を有していてもよいし、現像で消費される成分について開始液よりも高い濃度を有していてもよい。
【０１８４】
処理液の搬送コスト、包装材料コスト、省スペース等の目的で、処理液を濃縮化し、使用時に希釈して用いるようにすることは好ましいことである。現像液の濃縮化のためには、現像液に含まれる塩成分をカリウム塩化することが有効である。
【０１８５】
本発明の定着工程で使用する定着液は、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により酒石酸、クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢酸、５−スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、ニトリロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が好ましい。
本発明に用いられる定着液の定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであり、定着速度の点からはチオ硫酸アンモニウムが好ましいが、近年の環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが使われても良い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変えることができ、一般には約０．１〜約２モル／リットルである。特に好ましくは０．２〜１．５モル／リットルである。
定着液には所望により、硬膜剤（例えば水溶性アルミニウム化合物）、保恒剤（例えば、亜硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衝剤（例えば、酢酸）、ｐＨ調整剤（例えば、アンモニア、硫酸）、キレート剤、界面活性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。
界面活性剤としては、例えば硫酸化物、スルフォン化物などのアニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭５７−６７４０号公報記載の両性界面活性剤などが挙げられる。また、公知の消泡剤を添加してもよい。湿潤剤としては、例えばアルカノールアミン、アルキレングリコールなどが挙げられる。定着促進剤としては、例えば特公昭４５−３５７５４号、同５８−１２２５３５号、同５８−１２２５３６号各公報記載のチオ尿素誘導体、分子内に３重結合を持つアルコール、米国特許第４１２６４５９号記載のチオエーテル化合物、特開平４−２２９８６０号記載のメソイオン化合物などが挙げられ、また特開平２−４４３５５号記載の化合物を用いてもよい。
また、ｐＨ緩衝剤としては、例えば酢酸、リンゴ酸、こはく酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、アジピン酸などの有機酸、ホウ酸、リン酸塩、亜硫酸塩などの無機緩衝剤が使用できる。好ましいものとして酢酸、酒石酸、亜硫酸塩が用いられる。
ここでｐＨ緩衝剤は、現像液の持ち込みによる定着剤のｐＨ上昇を防ぐ目的で使用され、０．０１〜１．０モル／リットル、より好ましくは０．０２〜０．６モル／リットル程度用いる。
また、色素溶出促進剤として、特開昭６４−４７３９号記載の化合物を用いることもできる。
【０１８６】
本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好ましい添加量は０．０１モル〜０．２モル／リットル、さらに好ましくは０．０３〜０．０８モル／リットルである。
定着温度は、約２０℃〜約５０℃、好ましくは２５〜４５℃で、定着時間は５秒〜１分、好ましくは７秒〜５０秒である。
定着液の補充量は、感光材料の処理量に対して５００ml／m²以下であり、特に２００ml／m²以下が好ましい。
【０１８７】
現像、定着処理が済んだ感光材料は、次いで水洗または安定化処理される。
水洗または安定化処理は、水洗水量は通常ハロゲン化銀感光材料１m²当り、２０リットル以下で行われ、３リットル以下の補充量（０も含む、すなわちため水水洗）で行うこともできる。すなわち、節水処理が可能となるのみならず、自現機設置の配管を不要とすることができる。
水洗水の補充量を少なくする方法として、古くより多段向流方式（例えば２段、３段など）が知られている。この多段向流方式を本発明に適用すれば定着後の感光材料は徐々に正常な方向、つまり定着液で汚れていない処理液の方に順次接触して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなされる。
水洗を少量の水で行う場合は、特開昭６３−１８３５０号、同６２−２８７２５号などに記載のスクイズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けることがより好ましい。あるいは、また、少量水洗時に問題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加やフィルター濾過を組み合わせてもよい。
更に、本発明の方法で水洗または安定化浴に防黴手段を施した水を処理に応じて補充することによって生ずる水洗又は安定化浴からのオーバーフロー液の一部又は全部は特開昭６０−２３５１３３号に記載されているようにその前の処理工程である定着能を有する処理液に利用することもできる。
また、少量水洗時に発生し易い水泡ムラ防止および／またはスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理されたフィルムに転写することを防止するために水溶性界面活性剤や消泡剤を添加してもよい。
また、感光材料から溶出した染料による汚染防止に、特開昭６３−１６３４５６号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよい。
また、前記水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、その例として特開平２−２０１３５７号、同２−１３２４３５号、同１−１０２５５３号、特開昭４６−４４４４６号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴として使用してもよい。
この安定浴にも必要に応じてアンモニウム化合物、Ｂｉ、Ａｌなどの金属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜ｐＨ調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加えることもできる。水洗工程もしくは安定化工程に用いられる水としては水道水のほか脱イオン処理した水やハロゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤（オゾン、過酸化水素、塩素酸塩など）等によって殺菌された水を使用することが好ましいし、また、特開平４−３９６５２号、特開平５−２４１３０９号記載の化合物を含む水洗水を使用してもよい。
水洗または安定浴温度及び時間は０〜５０℃、５秒〜２分が好ましい。
【０１８８】
本発明に用いられる処理液は特開昭６１−７３１４７号に記載された酸素透過性の低い包材で保管することが好ましい。
本発明に用いられる処理液は粉剤および固形化しても良い。その方法は、公知のものを用いることができるが、特開昭６１−２５９９２１号、特開平４−８５５３３号、特開平４−１６８４１号記載の方法を使用することが好ましい。特に好ましくは特開昭６１−２５９９２１号記載の方法である。
補充量を低減する場合には処理槽の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第３０２５７７９号明細書、同第３５４５９７１号明細書などに記載されており、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなっており、本発明の方法も、他の工程（例えば、停止工程）を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工程の代わりに安定工程による四工程でも構わない。
【０１８９】
現像、定着処理が済んだ感光材料は、ついで水洗または安定化処理される。水洗または安定化浴に使用される水は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でもよい。これらの補充量は水道水圧により異なり、一般的には感光材料１m²あたり約１７リットル〜約８リットルであるが、それ以下の補充量で行うこともできる。特に３リットル以下の補充量（０も含む。すなわち、ため水水洗）では、節水処理が可能となるのみならず、自動現像機設置の配管を不要とすることもできる。水洗を少量の水で行う場合は、特開昭６３−１８３５０号、同６２−２８７２５２号等に記載のスクイズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けることがより好ましい。また、少量水洗時に問題となる公害負荷低減のために、種々の酸化剤（例えばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩など）添加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
【０１９０】
水洗水の補充量を少なくする方法として、古くより多段向流方式（例えば２段、３段等）が知られており、水洗補充量は感光材料１m²あたり２００〜５０ミリリットルが好ましい。この多段向流方式を本発明に適用すれば、定着後の感光材料は徐々に正常な方向、つまり定着液で汚染されていない処理液の方に順次接触して処理されていくので、さらに効率の良い水洗がなされる。この効果は、独立多段方式（向流にせず、多段の水洗槽または安定浴に新液を補充する方法）でも同様に得られる。
【０１９１】
さらに、本発明の方法で水洗または安定化浴に水垢防止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のものを使用することができ、特に限定はしないが、水洗水または安定化液に防ばい剤（いわゆる水垢防止剤）を添加する方法、水洗水または安定化液に通電する方法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これらの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされても良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良い。
さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好ましい。
防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用できる。たとえばグルタルアルデヒド、アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン性界面活性剤、酸化剤（例えばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩など）、メルカプトピリジンオキサイド（例えば２−メルカプトピリジン−Ｎ−オキシドなど）などがあり、単独で使用しても良いし、複数のものを併用しても良い。防ばい剤は処理に応じて水洗または安定化浴に添加しても良いし、あらかじめ水洗水または安定化液に添加しておいてこれを補充しても良い。防ばい剤の補充は感光材料の処理に応じてなされても良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良い。
さらには、一定期間ごとに異なる防ばい剤を使用することも、耐性菌の発生を抑える上では好ましい。
通電する方法としては、特開平３−２２４６８５号、同３−２２４６８７号、同４−１６２８０号、同４−１８９８０号などに記載の方法が使用できる。
【０１９２】
少量水洗時に発生しやすい水泡ムラ防止および／またはスクイズローラーに付着する処理剤成分が処理されたフィルムに転写することを防止するために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止に、特開昭６３−１６３４５６号に記載の色素吸着剤を水洗槽に設置しても良い。
【０１９３】
水洗または安定化浴からのオーバーフロー液の一部または全部は、特開昭６０−２３５１３３号に記載されているように、定着能を有する処理液に混合利用することもできる。また微生物処理（例えば硫黄酸化菌、活性汚泥処理や微生物を活性炭やセラミック等の多孔質担体に担持させたフィルターによる処理等）や、通電や酸化剤による酸化処理をして、生物化学的酸素要求量（ＢＯＤ）、化学的酸素要求量（ＣＯＤ）、沃素消費量等を低減してから排水したり、銀と親和性のあるポリマーを用いたフィルターやトリメルカプトトリアジン等の難溶性銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降させてフィルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下させることも、自然環境保全の観点から好ましい。
【０１９４】
また、水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、その例として特開平２−２０１３５７号、同２−１３２４３５号、同１−１０２５５３号、特開昭４６−４４４４６号に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴として使用しても良い。この安定浴にも必要に応じてアンモニウム化合物、Ｂｉ、Ａｌ等の金属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜ｐＨ調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加えることもできる。
【０１９５】
水洗、安定化浴に添加する防ばい剤等の添加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様に固形剤とすることもできる。
【０１９６】
本発明に使用する現像液、定着液、水洗水、安定化液の廃液は燃焼処分することが好ましい。また、これらの廃液は例えば特公平７−８３８６７号、ＵＳ５４３９５６０号等に記載されているような濃縮装置で濃縮液化または固化させてから処分することも可能である。
【０１９７】
処理剤の補充量を低減する場合には、処理槽の空気との接触面積を小さくすることによって液の蒸発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第３０２５７７９号、同３５４５９７１号などに記載されており、本明細書においては単にローラー搬送型プロセッサーとして言及する。ローラー搬送型プロセッサーは現像、定着、水洗および乾燥の四工程からなっており、本発明の方法も、他の工程（例えば停止工程）を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。水洗工程のかわりに安定化工程による四工程でもかまわない。
【０１９８】
本発明の現像処理では、現像および定着時間が４０秒以下、好ましくは６〜３５秒、各液の温度は２５〜５０℃が好ましく、３０〜４０℃が好ましい。水洗または安定浴の温度および時間は０〜５０℃で４０秒以下が好ましい。本発明の方法によれば、現像、定着および水洗（または安定化）された感光材料は水洗水を絞りきる、すなわちスクイズローラーを経て乾燥しても良い。乾燥は約４０〜約１００℃で行われ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜かえられる。乾燥方法は公知のいずれの方法を用いることができ特に限定はないが、温風乾燥や、例えば特開平４−１５５３４号、同５−２２５６号、同５−２８９２９４号に開示されているようなヒートローラーによる乾燥、遠赤外線による乾燥などがあり、複数の方法を併用しても良い。
【０１９９】
感光材料の現像処理方法が適用される写真感光材料には特別な制限はなく、一般の黒白感光材料に加えて反転処理されるカラー感光材料（例えばカラー反転フィルムまたはペーパー）も用いることができる。特に医療画像のレーザープリンター用写真感光材料や印刷用感材並びに、医療用直接撮影Ｘ−レイ感材医療用間接撮影Ｘ−レイ感材、ヒドラジン造核系硬調フィルム、ＣＲＴ画像記録用感材、マイクロ用感材、一般黒白ネガフィルム、黒白印画紙などに用いることが好ましい。
【０２００】
ハロゲン化銀乳剤のハロゲン組成は特に制限はなく、塩化銀、沃化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀のようなハロゲン化銀を親水性コロイドに分散したものである。
ハロゲン化銀乳剤は、通常当業界でよく知られた方法（例えば、シングルジェット法、ダブルジェット法、コントロールドジェット法など）によって水溶性銀塩（例えば、硝酸銀）と水溶性ハロゲン塩とを水および親水性コロイドの存在下で混合し、物理熟成および金増感および／または硫黄増感などの化学熟成を経て製造される。本発明で用いられるハロゲン化銀の粒子形状には特別な制限はなく、立方体、８面体、球状の他、Research Disclosure ２２５３４（January １９８３）に記載された高アスペクト比の平板状のハロゲン化銀粒子などのいずれも用いることができる。
【０２０１】
本発明において用いられるハロゲン化銀乳剤のハロゲン組成に特別な制限はないが、本発明の目的をより効果的に達成するうえで、塩化銀含有率５０モル％以上の塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀が好ましい。沃化銀の含有率は５モル％を下回ること、特に２モル％より少ないことが好ましい。
【０２０２】
本発明において、スキャナー露光の様な高照度露光に適した感光材料及び線画撮影用感光材料は、高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウム化合物を含有する。
本発明に用いられるロジウム化合物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たとえば、ハロゲン化ロジウム(III) 化合物、またはロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III）錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアミンロジウム(III）錯塩、トリザラトロジウム(III）錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液（例えば塩酸、臭酸、フッ酸等）、あるいはハロゲン化アルカリ（例えばＫＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＢｒ、ＮａＢｒ等）を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
添加量は、ハロゲン化銀乳剤の銀１モル当たり１×１０^-8〜５×１０^-6モル、好ましくは５×１０^-8〜１×１０^-6モルである。
これらの化合物の添加は、ハロゲン化銀乳剤粒子の製造時及び乳剤を塗布する前の各段階において適宜行うことができるが、特に乳剤形成時に添加し、ハロゲン化銀粒子中に組み込まれることが好ましい。
本発明に用いられる写真乳剤は、P.Glafkides 著 Chimie et Physique Photographique(Paul Montel社刊、1967年) 、G.F.Dufin 著 Photographic Emulsion Chemistry(The Focal Press刊、1966年) 、V.L.Zelikman et al著 Making and Coating Photographic Emulsion(The Focal Press 刊、1964年）などに記載された方法を用いて調製することができる。
【０２０３】
可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいずれを用いても良い。
粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方法（いわゆる逆混合法）を用いることもできる。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを一定に保つ方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成させることが好ましい。より好ましくは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭５３−８２４０８号、同５５−７７７３７号に記載されている。好ましいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオンである。
コントロールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手段である。
また、粒子サイズを均一にするためには、英国特許第１，５３５，０１６号、特公昭４８−３６８９０号、同５２−１６３６４号に記載されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国特許第４，２４２，４４５号、特開昭５５−１５８１２４号に記載されているように水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く成長させることが好ましい。
本発明の乳剤は単分散乳剤が好ましく変動係数が２０％以下、特に好ましくは１５％以下である。
単分散ハロゲン化銀乳剤中の粒子の平均粒子サイズは０．５μm 以下であり、特に好ましくは０．１μm 〜０．４μm である。
【０２０４】
Ｘ−レイ感材の場合には、写真感光材料の銀量は、支持体の両側の合計として８．０ｇ／m²以下より好ましくは４．０ｇ／m²以下であることが望ましい。感材には、必要に応じてハロゲン化銀乳剤層以外に親水性コロイド層を有することができ、公知の方法に準じて表面保護層を設けることが好ましい。乳剤層を含む親水性コロイド層を有する側のゼラチン量は２．０ｇ／m²以上５．０ｇ／m²未満の範囲にあることが好ましく、特に２．５ｇ／m²以上４．０ｇ／m²未満の範囲に設定されていることが好ましい。感材のメルティング・タイムは２０分以上１００分以下に設定されていることが好ましい。このメルティング・タイムの測定方法は特開昭６３−２２１３４１号に記載の方法に従う。
【０２０５】
ハロゲン界面活性剤写真感光材料は支持体上に少なくとも１層のハロゲン界面活性剤乳剤層を有するものであるが、直医Ｘ−レイ感材の場合は特開昭５８−１２７９２１号、同５９−９０８４１号、同５８−１１１９３４号、同６１−２０１２３５号等に記載されている如く、支持体の両方の側にそれぞれ少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するものが好ましい。
写真材料は、その他、必要に応じて、中間層、フィルター層、ハレーション防止層などを有することができる。
感光材料の銀量としては、好ましくは０．５ｇ／m²〜５ｇ／m²（片面で）、より好ましくは１ｇ／m²〜３ｇ／m²（片面で）である。
迅速処理適性としては５ｇ／m²をこえないことが好ましい。また一定の画像濃度、コントラストを得るためには０．５ｇ／m²以上が好ましい。
【０２０６】
Ｘ−レイ感材で用いる乳剤粒子は、乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のような規則的な結晶形を有するものでよく、球状、板状、じゃがいも状のような不規則な結晶形を有するものでもよく、種々の結晶形の粒子の混合からなりたってもよい。
ハロゲン化銀粒子の組成としては、沃臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、塩臭化銀、沃塩化銀、塩化銀のいずれであってもよいが、高感度で迅速処理性に優れるという観点から沃化銀含量が０．６モル％以下の沃臭化銀、塩化銀含量が２０モル％以上１００モル％未満、特に５０モル％以上９９モル％未満の沃塩臭化銀、塩臭化銀であることが望ましい。
【０２０７】
平板状粒子の利用は好ましい態様である。平板状粒子に関しては RESEARCH DISCLOSURE ２２５巻 Item ２２５３４、２０〜５８、１月号（１９８３）および特開昭５８−１２７９２１号、特開昭５８−１１３９２６号、特開昭５８−１１３９２７号、特開昭５８−１１３９２８号、米国特許第４，４３９，５２０号を参照することができる。
【０２０８】
本発明で用いられるＸ−レイ感材の場合には、少なくとも分散媒とハロゲン化銀粒子を含むハロゲン化銀乳剤において、該ハロゲン化銀粒子の全投影面積の５０％以上、好ましくは６０％〜１００％、より好ましくは７０〜１００％が主平面が（１００）又は（１１１）面であるアスペクト比２以上の平板状粒子である。ここに、平板状粒子とはアスペクト比（直径／厚さ）が１より大きい粒子である。主平面は平板状粒子の最大外表面を指す。該平板状粒子の厚さは０．３５μm 以下であり０．０５〜０．３μm がより好ましく、０．０５〜０．２５μm が更に好ましい。好ましいアスペクト比は２以上、好ましくは３〜３０、より好ましくは５〜２０である。ここで直径とは、該平板状粒子の投影面積と等しい面積を有する円の直径を指し、厚さは２つの主平面間の距離を指す。Ｃｌ^- 含率２０モル％以上、好ましくは３０モル％〜１００％、より好ましくは４０〜１００モル％、更に好ましくは５０〜１００モル％が好ましい。
【０２０９】
Ｘ−レイ感材に用いられるハロゲン化銀乳剤として、環境対応システムとして好ましいのは塩臭化銀および／または塩化銀平板状乳剤である。塩臭化銀および／または塩化銀平板状乳剤には、晶癖として主に（１１１）面を有する乳剤と、主に（１００）面を有する乳剤とが知られている。（１１１）塩臭化銀平板状乳剤としては、特公昭６４−８３２５号、同６４−８３２６号、特開昭６２−１１１９３６号、特開昭６２−１６３０４６号などが公知である。
一方、（１００）塩臭化銀平板状乳剤としては、特開昭５１−８８０１７号、特公昭６４−８３２３号、欧州特許０，５３４，３９５Ａ１などに記載されている。しかし、粒子サイズ分布が狭く高感度であるという理由で特願平５−２８７２２６および特願平５−２７１０５７に記載の技術が特に望ましく、特願平５−３１６６７７にあるような（１００）塩化銀平板状粒子とアスコルビン酸現像処理の組合せも好ましい態様である。
平板状ハロゲン化銀乳剤を使用することによって、本発明によるランニング処理の際の写真性の安定性をさらに上げることができる。また、塗布銀量を少なくすることができるために、特に定着工程と乾燥工程の負荷が軽減され、この点からも迅速処理が可能になる。
【０２１０】
平板状ハロゲン化銀乳剤は、クナック（Cugnac）およびシャトー（Chateau)「物理的熟成時の臭化銀結晶の形態学の進展（イボルーション・オブ・ザ・モルフォルジー・オブ・シルバー・プロマイド・クリスタルズ・デュアリング・フィジカル・ライプニング）」サイエンス・エ・インダストリエ・フォトグラフィー、３３巻、 No.２（１９６２）、ｐ．１２１−１２５、ダフィン（Duffin) 著「フォトグラフィク・エマルジョン・ケミストリー（Photographic emulsion chemistry ）」フォーカル・プレス（Focal Press)、ニューヨーク、１９６６年、ｐ．６６〜ｐ．７２、A.P.H.トリベリ（Tribvlli) 、W.F.スミス（Smith)フォトグラフィック・ジャーナル（Photographic Journal) 、８０巻、２８５頁（１９４０年）等に記載されているが特開昭５８−１２７，９２１、特開昭５８−１１３，９２７、特開昭５８−１１３，９２８に記載された方法等を参照すれば容易に調製できる。
【０２１１】
本発明のハロゲン化銀乳剤は化学増感されることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの知られている方法を用いることができ、単独または組み合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法などが好ましい。
本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のｐＨ、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀１モル当り１０^-7〜１０^-2モルであり、より好ましくは１０^-5〜１０^-3モルである。
【０２１２】
本発明に用いられるセレン増感剤としては、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわち、通常、不安定型および／または非不安定型セレン化合物を添加して４０℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。不安定型セレン化合物としては特公昭４４−１５７４８号、同４３−１３４８９号、特願平２−１３０９７号、同２−２２９３００号、同３−１２１７９８号等に記載の化合物を用いることができる。特に特願平３−１２１７９８号中の一般式（VIII）および（IX) で示される化合物を用いることが好ましい。
【０２１３】
本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特願平４−１４６７３９号に記載の方法で試験することができる。
具体的には米国特許第１，６２３，４９９号、同第３，３２０，０６９号、同第３，７７２，０３１号、英国特許第２３５，２１１号、同第１，１２１，４９６号、同第１，２９５，４６２号、同第１，３９６，６９６号、カナダ特許第８００，９５８号、特願平２−３３３８１９号、同３−５３６９３号、同３−１３１５９８号、同４−１２９７８７号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション（J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635(1980), ibid 1102(1979), ibid 645(1979) 、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トランザクション（J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド・テルリウム・カンパウンズ（The Chemistry of Organic Serenium and Tellunium Compounds), Vol 1(1986) 、同Vol 2(1987) に記載の化合物を用いることができる。特に特願平４−１４６７３９号中の一般式（II)(III)(IV)で示される化合物が好ましい。
【０２１４】
本発明で用いられるセレンおよびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀１モル当たり１０^-8〜１０^-2モル、好ましくは１０^-7〜１０^-3モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、ｐＨとしては５〜８、ｐＡｇとしては６〜１１、好ましくは７〜１０であり、温度としては４０〜９５℃、好ましくは４５〜８５℃である。
本発明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的には、塩化金酸、カリウムクロレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-7〜１０^-2モル程度を用いることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。
本発明においては、還元増感を用いることができる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることができる。
本発明のハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許（ＥＰ）−２９３，９１７号に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
本発明に用いられる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上（例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの）併用してもよい。
【０２１５】
本発明において、返し用感光材料として特に適したハロゲン化銀乳剤は９０モク％以上、より好ましくは９５モル％以上が塩化銀からなるハロゲン化銀であり、臭化銀を０〜１０モル％含む塩臭化銀もしくは塩沃臭化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が増加すると明室下でのセーフライト安全性の悪化、あるいはγが低下して好ましくない。
【０２１６】
また、本発明の返し用感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤は、遷移金属錯体を含むことが望ましい。遷移金属としては、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｃｒ、などが挙げられる。
配位子としては、ニトロシル及びチオニトロシル架橋配位子、ハロゲン化物配位子（フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物）、シアン化物配位子、シアネート配位子、チオシアネート配位子、セレノシアネート配位子、テルロシアネート配位子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられる。アコ配位子が存在する場合には、配位子の１つ又は２つを占めることが好ましい。
【０２１７】
具体的には、ロジウム原子を含有せしめるには、単塩、錯塩など任意の形の金属塩にして粒子調製時に添加することができる。
ロジウム塩としては、一塩化ロジウム、二塩化ロジウム、三塩化ロジウム、ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム等が挙げられるが、好ましく水溶性の三価のロジウムのハロゲン錯化合物、例えばヘキサクロロロジウム(III) 酸もくしはその塩（アンモニウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩など）である。
これらの水溶性ロジウム塩の添加量はハロゲン化銀１モル当り１．０×１０^-6モル〜１．０×１０^-3モルの範囲で用いられる。好ましくは１．０×１０^-5モル〜１．０×１０^-3モル、特に好ましくは５．０×１０^-5〜５．０×１０^-4モルである。
【０２１８】
又、以下の遷移金属錯体も好ましい。
１ 〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｃｌ₅ 〕^-2
２ 〔Ｒｕ（ＮＯ）₂ Ｃｌ₄ 〕^-1
３ 〔Ｒｕ（ＮＯ）（Ｈ₂ Ｏ）Ｃｌ₄ 〕^-1
４ 〔Ｒｈ（ＮＯ）Ｃｌ₅ 〕^-2
５ 〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣＮ₅ 〕^-2
６ 〔Ｒｅ（ＮＯ）ＣｌＣＮ₄ 〕^-2
７ 〔Ｒｈ（ＮＯ）₂ Ｃｌ₄ 〕^-1
８ 〔Ｒｈ（ＮＯ）（Ｈ₂ Ｏ）Ｃｌ₄ 〕^-1
９ 〔Ｒｕ（ＮＯ）ＣＮ₅ 〕^-2
10 〔Ｒｕ（ＮＯ）Ｂｒ₅ 〕^-2
11 〔Ｒｈ（ＮＳ）Ｃｌ₅ 〕^-2
12 〔Ｏｓ（ＮＯ）Ｃｌ₅ 〕^-2
13 〔Ｃｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅ 〕^-3
14 〔Ｒｅ（ＮＯ）₂ Ｃｌ₅ 〕^-1
15 〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ₄(ＴｅＣＮ）〕^-2
16 〔Ｒｕ（ＮＳ）Ｉ₅ 〕^-2
17 〔Ｒｅ（ＮＳ）Ｃｌ₄(ＳｅＣＮ）〕^-2
18 〔Ｏｓ（ＮＳ）Ｃｌ（ＳＣＮ）₄ 〕^-2
19 〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅ 〕^-2
【０２１９】
本発明に用いられる分光増感色素としては、特に制約はない。
【０２２０】
本発明の感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光または赤外光に分光増感されてもよい。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。
本発明に使用される有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item １７６４３IV−Ａ項（１９７８年１２月p.２３) 、同 Item １８３１Ｘ項（１９７９年８月p.４３７）に記載もしくは引用された文献に記載されている。
特に各種スキャナー、イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素を有利に選択することができる。
例えば、Ａ）アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭６０−１６２２４７号に記載の（Ｉ）−１から（Ｉ）−８の化合物、特開平２−４８６５３号に記載のＩ−１からＩ−２８の化合物、特開平４−３３０４３４号に記載のＩ−１からＩ−１３の化合物、米国特許２，１６１，３３１号に記載の Example１から Example１４の化合物、西独特許９３６，０７１号記載の１から７の化合物、Ｂ）ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭５４−１８７２６号に記載のＩ−１からＩ−３８の化合物、特開平６−７５３２２号に記載のＩ−１からＩ−３５の化合物および特開平７−２８７３３８号に記載のＩ−１からＩ−３４の化合物、Ｃ）ＬＥＤ光源に対しては特公昭５５−３９８１８号に記載の色素１から２０、特開昭６２−２８４３４３号に記載のＩ−１からＩ−３７の化合物および特開平７−２８７３３８号に記載のＩ−１からＩ−３４の化合物、Ｄ）半導体レーザー光源に対しては特開昭５９−１９１０３２号に記載のＩ−１からＩ−１２の化合物、特開昭６０−８０８４１号に記載のＩ−１からＩ−２２の化合物、特開平４−３３５３４２号に記載のＩ−１からＩ−２９の化合物および特開昭５９−１９２２４２号に記載のＩ−１からＩ−１８の化合物、Ｅ）製版カメラのタングステンおよびキセノン光源に対しては特開昭５５−４５０１５号に記載の一般式〔Ｉ〕で表される（１）から（１９）の化合物、特願平７−３４６１９３号に記載のＩ−１からＩ−９７の化合物および特開平６−２４２５４７号に記載の４−Ａから４−Ｓの化合物、５−Ａから５−Ｑの化合物、６−Ａから６−Ｔの化合物などが有利に選択される。
【０２２１】
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャー(Research Disclosure) １７６巻１７６４３（１９７８年１２月発行）第２３頁IVのＪ項、あるいは前述の特公昭４９−２５５００、同４３−４９３３、特開昭５９−１９０３２、同５９−１９２２４２等に記載されている。
【０２２２】
本発明に用いられる増感色素は２種以上を併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メチルセルソルブ、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、３−メトキシ−１−プロパノール、３−メトキシ−１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。
また、米国特許第３，４６９，９８７号明細書等に開示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭４４−２３３８９号、同４４−２７５５５号、同５７−２２０９１号等に開示されているように、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中に添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添加する方法、米国特許第３，８２２，１３５号、同第４，００６，０２５号明細書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭５３−１０２７３３号、同５８−１０５１４１号に開示されているように親水性コロイド中に色素を直接分散させ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭５１−７４６２４号に開示されているように、レッドシフトさせる化合物を用いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添加する方法を用いることもできる。また、溶液に超音波を用いることもできる。
【０２２３】
本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であることが認められている乳剤調製のいかなる工程中であってもよい。例えば米国特許第２，７３５，７６６号、同第３，６２８，９６０号、同第４，１８３，７５６号、同第４，２２５，６６６号、特開昭５８−１８４１４２号、同６０−１９６７４９号等の明細書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工程または／および脱塩前の時期、脱銀工程中および／または脱塩後から化学熟成の開始前までの時期、特開昭５８−１１３９２０号等の明細書に開示されているように、化学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。また、米国特許第４，２２５，６６６号、特開昭５８−７６２９号等の明細書に開示されているように、同一化合物を単独で、または異種構造の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前または工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加してもよく、分割して添加する化合物および化合物の組み合わせの種類を変えて添加してもよい。
【０２２４】
本発明の増感色素の添加量は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、カブリ防止剤の種類等により異なるが、ハロゲン化銀１モルあたり、４×１０^-6〜８×１０^-3モルで用いることができる。例えばハロゲン化銀粒子サイズが０．２〜１．３μｍの場合には、ハロゲン化銀粒子の表面積１m²あたり、２×１０^-7〜３．５×１０^-6モルの添加量が好ましく、６．５×１０^-7〜２．０×１０^-6モルの添加量がより好ましい。
【０２２５】
本発明の処理に用いられるグラフィックアーツ用の超硬調感光材料は、ヒドラジン造核剤を含有することが好ましく、更にはこれに加えて造核促進剤を含有していることが好ましい。
【０２２６】
ヒドラジン造核剤としては、下記一般式（Ｅ）で表される化合物が好ましく用いられる。
一般式（Ｅ）
【０２２７】
【化５１】

【０２２８】
式中、Ｒ₂₀は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ₁₀は水素原子またはブロック基を表し、Ｇ₁₀は−ＣＯ−、−ＣＯＣＯ−、−Ｃ＝Ｓ−、−ＳＯ₂ −、−ＳＯ−、−ＰＯ（Ｒ₃₀）−基（Ｒ₃₀はＲ₁₀に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、Ｒ₁₀と異なっていてもよい。）、チオカルボニル基、またはイミノメチレン基を表す。Ａ₁₀、Ａ₂₀はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す。
【０２２９】
一般式（Ｅ）において、Ｒ₂₀で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換の、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基である。
一般式（Ｅ）において、Ｒ₂₀で表わされる芳香族基は単環もくしは縮合環のアリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。Ｒ₂₀で表わされるヘテロ環基としては、単環または縮合環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えばピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピペリジン環、トリアジン環等が挙げられる。
Ｒ₂₀として好ましいものはアリール基であり、特に好ましくはフェニル基である。
【０２３０】
Ｒ₂₀は置換されていてもよく、代表的な置換基としては例えばハロゲン原子（フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子）、アルキル基（アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む）、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基（例えばピリジニオ基）、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）アミノ基、Ｎ−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、（アルコキシもしくはアリールオキシ）カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、（アルキルもしくはアリール）スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、（アルキルまたはアリール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。
【０２３１】
これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
【０２３２】
Ｒ₂₀が有していてもよい置換基として好ましくは、炭素数１〜２０のアルキル基（活性メチレン基を含む）、アラルキル基、ヘテロ環基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、イミド基、チオウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基（その塩を含む）、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、スルホ基（その塩を含む）、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【０２３３】
一般式（Ｅ）において、Ｒ₁₀は水素原子またはブロック基を表すが、ブロック基とは具体的に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表す。
Ｒ₁₀で表わされるアルキル基として好ましくは、炭素数１〜１０のアルキル基であり、例えばメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、２−カルボキシテトラフルオロエチル基、ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、ジフルオロカルボキシメチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチル基、ｏ−ヒドロキシベンジル基などが挙げられる。アルケニル基として好ましくは炭素数１から１０のアルケニル基であり、例えばビニル基、２−エトキシカルボニルビニル基、２−トリフルオロ−２−メトキシカルボニルビニル基等が挙げられる。アルキニル基として好ましくは単素数１から１０のアルキニル基であり、例えばエチニル基、２−メトキシカルボニルエチニル基等が挙げられる。アリール基としては単環もしくは縮合環のアリール基が好ましく、ベンゼン環を含むものが特に好ましい。例えばフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−メタンスルホンアミドフェニル基、２−カルバモイルフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ヒドロキシメチルフェニル基などが挙げられる。
ヘテロ環基として好ましくは、少なくとも１つの窒素、酸素、および硫黄原子を含む５〜６員の、飽和もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環のヘテロ環基で、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基（Ｎ−置換）、イミダゾリル基、インダゾリル基（４−ニトロインダゾリル基等）、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基（Ｎ−メチル−３−ピリジニオ基等）、キノリニオ基、キノリル基などがある。モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、ピリジニオ基、インダゾリル基等が特に好ましい。アルコキシ基としては炭素数１〜８のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としてはフェノキシ基が好ましく、アミノ基としては無置換アミノ基、及び炭素数１〜１０のアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基（４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む）が好ましい。アミノ基の例としては、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルアミノ基、プロピルアミノ基、２−ヒドロキシエチルアミノ基、アニリノ基、ｏ−ヒドロキシアニリノ基、５−ベンゾトリアゾリルアミノ基、Ｎ−ベンジル−３−ピリジニオアミノ基等が挙げられる。ヒドラジノ基としては置換もしくは無置換のヒドラジノ基、または置換もしくは無置換のフェニルヒドラジノ基（４−ベンゼンスルホンアミドフェニルヒドラジノ基など）が特に好ましい。
【０２３４】
Ｒ₁₀で表される基は置換されていても良く、好ましい置換基としてはＲ₂₀の置換基として例示したものがあてはまる。
【０２３５】
一般式（Ｅ）に於いてＲ₁₀はＧ₁₀−Ｒ₁₀の部分を残余分子から分裂させ、−Ｇ₁₀−Ｒ₁₀部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなものであってもよく、その例としては、例えば特開昭６３−２９７５１号などに記載のものが挙げられる。
【０２３６】
一般式（Ｅ）で表されるヒドラジン誘導体は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれていてもよい。かかる吸着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第４，３８５，１０８号、同４，４５９，３４７号、特開昭５９−１９５２３３号、同５９−２００２３１号、同５９−２０１０４５号、同５９−２０１０４６号、同５９−２０１０４７号、同５９−２０１０４８号、同５９−２０１０４９号、特開昭６１−１７０７３３号、同６１−２７０７４４号、同６２−９４８号、同６３−２３４２４４号、同６３−２３４２４５号、同６３−２３４２４６号に記載された基があげられる。またこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平２−２８５３４４号に記載された基が挙げられる。
【０２３７】
一般式（Ｅ）のＲ₁₀またはＲ₂₀はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。バラスト基は８以上の炭素数を有する、写真性に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例えば特開平１−１００５３０号に記載のものが挙げられる。
【０２３８】
一般式（Ｅ）のＲ₁₀またはＲ₂₀は、置換基としてヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この時一般式（Ｅ）で表される化合物は、ヒドラジノ基に関しての多量体を表し、具体的には例えば特開昭６４−８６１３４号、特開平４−１６９３８号、特開平５−１９７０９１号、Ｗ０９５−３２４５２号、Ｗ０９５−３２４５３号、特願平７−３５１１３２号、特願平７−３５１２６９号、特願平７−３５１１６８号、特願平７−３５１２８７号、特願平７−３５１２７９号等に記載された化合物が挙げられる。
【０２３９】
一般式（Ｅ）に於いてＡ₁₀、Ａ₂₀は水素原子、炭素数２０以下のアルキルまたはアリールスルホニル基（好ましくはフェニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−０．５以上となるように置換されたフェニルスルホニル基）、炭素数２０以下のアシル基（好ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−０．５以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖、分岐、又は環状の置換もしくは無置換の脂肪族アシル基（ここに置換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等が挙げられる））である。
Ａ₁₀、Ａ₂₀としては水素原子が最も好ましい。
【０２４０】
次に本発明において、特に好ましいヒドラジン誘導体について述べる。
Ｒ₂₀は置換フェニル基が特に好ましく、スルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基、またはカルバモイル基を介してバラスト基、ハロゲン化銀への吸着基、４級のアンモニオ基を含む基、４級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、アルカリ性の現像処理液中で解離しうる基（カルボキシ基、スルホ基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル基等）、もしくは多量体を形成しうるヒドラジノ基（−ＮＨＮＨ−Ｇ₁₀−Ｒ₁₀で表される基）の少なくとも１つが置換されていることが好ましい。Ｒ₂₀は最も好ましくはベンゼンスルホンアミド基で置換されたフェニル基で、そのベンゼンスルホンアミド基のベンゼン環の置換基としては、同じく前述の何れか１つの基を、直接もしくは連結基を介して有することが好ましい。
【０２４１】
Ｒ₁₀で表わされる基のうち好ましいものは、Ｇ₁₀が−ＣＯ−基の場合には、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、置換アリール基（置換基としては電子吸引性基またはｏ−ヒドロキシメチル基が特に好ましい）であり、最も好ましくはアルキル基である。
Ｇ₁₀が−ＣＯＣＯ−基の場合にはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳しくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基が好ましい。
また、Ｇ₁₀が−ＳＯ₂ −基の場合には、Ｒ₁₀はアルキル基、アリール基または置換アミノ基が好ましい。
【０２４２】
一般式（Ｅ）に於いてＧ₁₀は好ましくは−ＣＯ−基または−ＣＯＣＯ−基であり、特に好ましくは−ＣＯ−基である。
【０２４３】
次に一般式（Ｅ）で示される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【０２４４】
【表２８】

【０２４５】
【表２９】

【０２４６】
【表３０】

【０２４７】
【表３１】

【０２４８】
【表３２】

【０２４９】
【表３３】

【０２５０】
【表３４】

【０２５１】
【表３５】

【０２５２】
【表３６】

【０２５３】
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好ましく用いられる。本発明に用いられるヒドラジン誘導体はまた、下記の特許に記載された種々の方法により、合成することができる。
特公平６−７７１３８号に記載の（化１）で表される化合物で、具体的には同公報３頁、４頁に記載の化合物。特公平６−９３０８２号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物で、具体的には同公報８頁〜１８頁に記載の１〜３８の化合物。特開平６−２３０４９７号に記載の一般式（４）、一般式（５）および一般式（６）で表わされる化合物で、具体的には同公報２５頁、２６頁に記載の化合物４−１〜化合物４−１０、２８頁〜３６頁に記載の化合物５−１〜５−４２、および３９頁、４０頁に記載の化合物６−１〜化合物６−７。特開平６−２８９５２０号に記載の一般式（１）および一般式（２）で表される化合物で、具体的には同公報５頁〜７頁に記載の化合物１−１）〜１−17) および２−１）。特開平６−３１３９３６号に記載の（化２）および（化３）で表される化合物で、具体的には同公報６頁〜１９頁に記載の化合物。特開平６−３１３９５１号に記載の（化１）で表される化合物で、具体的には同公報３頁〜５頁に記載の化合物。特開平７−５６１０号に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物で、具体的には同公報５頁〜１０頁に記載の化合物Ｉ−１〜Ｉ−３８。特開平７−７７７８３号に記載の一般式（II）で表される化合物で、具体的には同公報１０頁〜２７頁に記載の化合物II−１〜II−１０２。特開平７−１０４４２６号に記載の一般式（Ｈ）および一般式（Ｈａ）で表される化合物で、具体的には同公報８頁〜１５頁に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−４４。特願平７−１９１００７号に記載の、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するメニオン性基を有することを特徴とする化合物で、特に一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（Ｃ）、一般式（Ｄ）、一般式（Ｅ）、一般式（Ｆ）で表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物Ｎ−１〜Ｎ−３０。特願平７−１９１００７号に記載の一般式（１）で表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物Ｄ−１〜Ｄ−５５。
【０２５４】
本発明のヒドラジン系造核剤は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いることができる。
【０２５５】
本発明のヒドラジン造核剤は、支持体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイド層に添加することが好ましい。
本発明の造核剤添加量はハロゲン化銀１モルに対し１×１０^-6〜１×１０^-2モルが好ましく、１×１０^-5〜５×１０^-3モルがより好ましく、２×１０^-5〜５×１０^-3モルが最も好ましい。
【０２５６】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、造核促進剤が含有されることが好ましい。
本発明に用いられる造核促進剤としては、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体またはヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその例を列挙する。特開平７−７７７８３号公報４８頁２行〜３７行に記載の化合物で、具体的には４９頁〜５８頁に記載の化合物Ａ−１）〜Ａ−７３）。特開平７−８４３３１号に記載の（化２１）、（化２２）および（化２３）で表される化合物で、具体的には同公報６頁〜８頁に記載の化合物。特開平７−１０４４２６号に記載の一般式〔Ｎａ〕および一般式〔Ｎｂ〕で表される化合物で、具体的には同公報１６頁〜２０頁に記載のＮａ−１〜Ｎａ−２２の化合物およびＮｂ−１〜Ｎｂ−１２の化合物。特願平７−３７８１７号に記載の一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）、一般式（６）および一般式（７）で表される化合物で、具体的には同明細書に記載の１−１〜１−１９の化合物、２−１〜２−２２の化合物、３−１〜３−３６の化合物、４−１〜４−５の化合物、５−１〜５−４１の化合物、６−１〜６−５８の化合物および７−１〜７−３８の化合物。
【０２５７】
ハロゲン化銀写真感光材料には、ハロゲン化銀乳剤層またはその他の親水性コロイド層中に、下記一般式（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）、（Ｉ）で表されるオニウム塩化合物、またはアミノ化合物の少なくとも一種を造核促進剤として含有することが好ましい。
一般式（Ｆ）
【０２５８】
【化５２】

【０２５９】
式中、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基を表し、Ｑは窒素原子またはリン原子を表す。ＬはＱ⁺ とその炭素原子で結合するｍ₂ 価の有機基を表し、ここにｍ₂ は１から４の整数を表す。Ｘ₄ ^n-はｎ価の対アニオンを表し、ここにｎは１から３の整数を表す。但しＲ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀またはＬが、その置換基にアニオン基を有し、Ｑ⁺ と分子内塩を形成する場合、Ｘ₄ ^n-は必要ない。
一般式（Ｇ）
【０２６０】
【化５３】

【０２６１】
一般式（Ｈ）
【０２６２】
【化５４】

【０２６３】
式中、Ａ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ は４級化された窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるための有機残基を表す。Ｂ、Ｃはそれぞれ、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−ＳＯ₂ −、−ＳＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ＲＮ）−、−Ｃ＝Ｏ−、−Ｐ＝Ｏ−を単独または組み合わせて構成される２価の連結基を表す。ただし、ＲＮは水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基を表わす。Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は各々アルキル基、アラルキル基を表す。
Ｘ₄ ^n-はｎ価の対アニオンを表し、ここにｎは１から３の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、Ｘ₄ ^n-は必要ない。
一般式（Ｉ）
【０２６４】
【化５５】

【０２６５】
式中Ｚ₂ は、４級化された窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるための有機残基を表す。Ｒ₁₅はアルキル基、アラルキル基を表す。Ｘ₄ ^n-はｎ価の対アニオンを表し、ここにｎは１から３の整数を表す。但し分子内塩を形成しうる場合、Ｘ₄ ^n-は必要ない。
【０２６６】
本発明に用いられる一般式（Ｆ）、（Ｇ）、（Ｈ）および（Ｉ）で表されるオニウム塩化合物について、以下詳細に説明する。
まず一般式（Ｆ）について、詳細に説明する。
【０２６７】
【化５６】

【０２６８】
式中Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基を表わし、これらはさらに置換基を有していてもよい。Ｑはリン原子または窒素原子を表す。
ＬはＱ⁺ とその炭素原子で結合するｍ₂ 価の有機基を表わし、ここにｍ₂ は１から４の整数を表す。Ｘ₄ ^n-はｎ価の対アニオンを表わし、ｎは１から３の整数を表す。但しＲ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀またはＬが、その置換基にアニオン基を有し、Ｑ⁺ と分子内塩を形成する場合、Ｘ₄ ^n-は必要ない。
Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀で表わされる基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert−ブチル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又は分枝状のアルキル基；置換もしくは無置換のベンジル基などのアラルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などのアリール基；アリル基、ビニル基、５−ヘキセニル基、などのアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基；フェニルエチニル基等のアルキニル基；ピリジル基、キノリル基、フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙げられる。
これらの基上に置換した置換基の例としては、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀で表わされる基の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、（アルキルもしくはアリール）アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、（アルキルまたはアリール）チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基（カルボキシラートを含む）、スルホン酸基（スルホナトートを含む）、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル基等が挙げられる。
Ｌで表わされる基の例としては、ｍ₂ が１を表す時、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀と同義の基が挙げられるが、この他にｍ₂ が２以上の整数を表す時、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチレン基、ドデカメチレン基などのポリメチレン基、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基などのアリーレン基、トリメチレンメチル基、テトラメチレンメチル基などの多価アルキレン基、フェニレン−１，３，５−トルイル基、フェニレン−１，２，４，５−テトライル基などの多価アリーレン基などが挙げられる。
Ｘ₄ ^n-で表わされる対アニオンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレートイオン、ｐ−トルエンスルホネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
一般式（Ｆ）において、Ｒ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀は好ましくは炭素数２０以下の基であり、Ｑがリン原子を表す時、炭素数１５以下のアリール基が特に好ましく、Ｑが窒素原子を表す時、炭素数１５以下のアルキル基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。ｍ₂ は１または２が好ましく、ｍ₂ が１を表わす時、Ｌは好ましくは炭素数２０以下の基であり、総炭素数１５以下のアルキル基、アラルキル基、またはアリール基が特に好ましい。ｍ₂ が２を表わす時、Ｌで表わされる２価の有機基は、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基、さらにこれらの基と−ＣＯ−基、−Ｏ−基、−Ｎ（ＲＮ′）−基（ＲＮ′は水素原子またはＲ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀と同義の基を表わし、分子内に複数のＲＮ′が存在する時、これらは同じであっても異なっていても良く、さらには互いに結合していても良い）、−Ｓ−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂ −基を組み合わせて形成される２価の基である。ｍ₂ が２を表わす時、Ｌはその炭素原子でＱ⁺ と結合する総炭素数２０以下の２価の基であることが好ましい。ｍ₂ が２以上の整数を表わす時、分子内にＲ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀はそれぞれ複数存在するが、その複数のＲ₁₀、Ｒ₂₀、Ｒ₃₀はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Ｘ₄ ^n-で表わされる対アニオンとしては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオンが好ましく、ｎは１または２が好ましい。
本発明の一般式（Ｆ）で表わされる化合物の多くのものは公知であり、試薬として市販のものである。一般的合成法としては、Ｑがリン原子の時、ホスフィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステルなどのアルキル化剤と反応させる方法：あるいはホスホニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方法がある。またＱが窒素原子の時、１級、２級、もしくは３級のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステル等のアルキル化剤と反応させる方法がある。
一般式（Ｆ）で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものでなはい。
【０２６９】
【化５７】

【０２７０】
【化５８】

【０２７１】
【化５９】

【０２７２】
【化６０】

【０２７３】
【化６１】

【０２７４】
【化６２】

【０２７５】
【化６３】

【０２７６】
次に一般式（Ｇ）および一般式（Ｈ）について更に詳細に説明する。
【０２７７】
【化６４】

【０２７８】
式中、Ａ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ は４級化された窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるための有機残基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。Ａ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ が形成する不飽和ヘテロ環の例としては、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピラゾール環などを挙げることができる。特に好ましくは、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
Ｂ、Ｃで表わされる２価の基は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、−ＳＯ₂ −、−ＳＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ＲＮ）−、−Ｃ＝Ｏ−、−Ｐ＝Ｏ−を単独または組合せて構成されるものが好ましい。ただし、ＲＮはアルキル基、アラルキル基、アリール基、水素原子を表わす。特に好ましい例として、Ｂ、Ｃはアルキレン、アリーレン、−Ｃ＝Ｏ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ＲＮ）−を単独または組合せて構成されるものを挙げることができる。
Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は炭素数１〜２０のアルキル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、置換あるいは無置換のアルキル基（例えば、メチル基、ヒドロキシエチル基など）、置換あるいは無置換のアリール基（例えば、フェニル基、トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、置換あるいは無置換のアシル基（例えば、ベンゾイル基、ｐ−ブロモベンゾイル基、アセチル基など）、（アルキルもしくはアリール）オキシカルボニル基、スルホ基（スルホナートを含む）、カルボキシ基（カルボキシラートを含む）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基など）、アリールオキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、チオウレイド基（アルキルもくしはアリール）アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基等が挙げられる。
特に好ましくは、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄は各々炭素数１〜１０のアルキル基である。好ましい置換基の例として、カルバモイル基、オキシカルボニル基、アシル基、アリール基、スルホ基（スルホナートを含む）、カルボキシ基（カルボキシラートを含む）、ヒドロキシ基を挙げることができる。
Ａ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ は４級化された窒素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有していてもよい。この場合の置換基の例としては、上記にＲ₁₃、Ｒ₁₄のアルキル基の置換基として挙げた置換基から選ばれる。置換基として好ましくは、炭素数０〜１０のアリール基、アルキル基、カルバモイル基、（アルキルもしくはアリール）アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、（アルキルもしくはアリール）チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルホ基（スルホナートを含む）、カルボキシ基（カルボキシラートを含む）等が挙げられる。
Ｘ₄ ^n-で表わされる対アニオンについては、一般式（Ｆ）と同じものであり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０２７９】
本発明の化合物は、一般によく知られた方法により容易に合成することができるが、以下の文献が参考になる。（参照、Quart.Rev., 16, 163(1962).)
一般式（Ｇ）及び一般式（Ｈ）の具体的化合物を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０２８０】
【化６５】

【０２８１】
【化６６】

【０２８２】
【化６７】

【０２８３】
【化６８】

【０２８４】
次に一般式（Ｉ）について更に詳細に説明する。
【０２８５】
【化６９】

【０２８６】
Ｚ₂ を含む含窒素不飽和ヘテロ環は、窒素原子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでいてもよく、さらにベンゼン環が縮環していてもよく、また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の例としては、一般式（Ｇ）および一般式（Ｈ）のＡ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ が形成する含窒素不飽和ヘテロ環の例と同じものが挙げられる。好ましい範囲もまた同じであり、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環が好ましい。
Ｚ₂ を含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換基を有する時、その置換の例は一般式（Ｇ）および一般式（Ｈ）のＡ₃ 、Ａ₄ 、Ａ₅ 、Ａ₆ が形成する含窒素不飽和ヘテロ環が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。
Ｒ₁₅はアルキル基またはアラルキル基を表すが、これらは炭素数１〜２０で、置換もしくは無置換で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよい。その置換基としては、一般式（Ｇ）のＲ₁₃、Ｒ₁₄で表されるアルキル基が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。Ｘ₄ ^n-で表われる対アニオンについては、一般式（Ｆ）と同じものであり、その好ましい範囲もまた同じである。
【０２８７】
本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般によく知られた方法により容易に合成することができるが、以下の文献が参考になる。（参照、Quart.Rev., 16, 163(1962).)
次に本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２８８】
【化７０】

【０２８９】
【化７１】

【０２９０】
造核促進剤として、本発明に好ましく用いられるアミノ化合物としては、以下に示す化合物が用いられる。
【０２９１】
特開平７−８４３３１号に記載の（化２１）、（化２２）および（化２３）で表される化合物で、具体的には同公報６頁〜８頁に記載の化合物。特開平７−１０４４２６号に記載の一般式〔Ｎａ〕で表される化合物で、具体的には同公報１６頁〜２０頁に記載のＮａ−１〜Ｎａ−２２の化合物。特願平７−３７８１７号に記載の一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般式（４）、一般式（５）、一般式（６）および一般式（７）で表される化合物で、具体的には同明細書に記載の１−１〜１−１９の化合物、２−１〜２−２２の化合物、３−１〜３−３６の化合物、４−１〜４−５の化合物、５−１〜５−４１の化合物、６−１〜６−５８の化合物および７−１〜７−３８の化合物。
【０２９２】
本発明の造核促進剤は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類（メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、造核促進剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いることができる。
【０２９３】
本発明の造核促進剤は、支持体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層あるいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイド層に添加することが好ましい。
本発明の造核促進剤添加量はハロゲン化銀１モルに対し１×１０^-6〜２×１０^-2モルが好ましく、１×１０^-5〜２×１０^-2モルがより好ましく、２×１０^-5〜１×１０^-2モルが最も好ましい。
【０２９４】
更に超硬調システムにおいては、現像抑制剤を放出するレドックス化合物を併用することができる。このレドックス化合物としては特開平２−２９３，７３６号、同２−３０８，２３９号、特開平１−１５４０６０号、同１−２０５８８５号等に記載の化合物を用いることができる。その使用量はハロゲン化銀１モル当
り１×１０^-6〜５×１０^-2モル、特に１×１０^-5モル〜１×１０^-2モルの範囲で用いるのが好ましい。
【０２９５】
感光材料の写真乳剤層または他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良（例えば、現像促進、硬調化、増感）等種々の目的で、種々の界面活性剤を含んでもよい。
例えばサポニン（ステロイド系）、アルキレンオキサイド誘導体（例えばポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール／ポリプロピレングリコール縮合物、ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエチレングリコールアルキルアリールエーテル類、ポリエチレングリコールエステル類、ポリエチレングリコールソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアルキルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオキサイド付加物類）、グリシドール誘導体（例えばアルケニルコハク酸ポリグリセリド、アルキルフェノールポリグリセリド）、多価アルコールの脂肪酸エステル類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性剤；アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリン酸エステル類、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン類、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボキシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミノオキシド類などの両性界面活性剤；アルキルアミン塩類、脂肪族あるいは芳香族第４級アンモニウム塩類、ピリジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第４級アンモニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用いることができる。
【０２９６】
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の蛋白質ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセタール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用いることができる。
ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンのほか、酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
【０２９７】
乳剤層中又はその他へ親水性コロイド層中に現像処理工程に於て流出するような有機物質を含有せしめることが特にＸ−レイ感材においては好ましい。流失する物質がゼラチンの場合は硬膜剤によるゼラチンの架橋反応にかかわらないゼラチン種が好ましく、たとえばアセチル化ゼラチンやフタル化ゼラチンなどがこれに該当し、分子量は小さいものが好ましい。一方、ゼラチン以外の高分子物質としては米国特許第３，２７１，１５８号に記載されているようなポリアクリルアミド、あるいはまたポリビニールアルコール、ポリビニルピロリドンなどの親水性ポリマーが有効に用いることができ、デキストランやサッカロース、プルラン、などの糖類も有効である。中でもポリアクリルアミドやデキストランが好ましく、ポリアクリルアミドは特に好ましい物質である。これらの物質の平均分子量は好ましくは２万以下、より好ましくは１万以下が良い。処理での流出量は、ハロゲン化銀粒子以外の塗布された有機物質の総重量の１０％以上、５０％以下が有効で、好ましくは１５％以上、３０％以下消失することが好ましい。
処理で流出する有機物質を含有する層は乳剤層でも表面保護層でもよいが、該有機物質の塗布総量が同一の場合は乳剤層だけに含有させたものよりも、表面保護層と乳剤層に含有させたほうが好ましく、さらに表面保護層のみに含有させたほうが、より好ましい。乳剤層が多層構成の感材では、該、有機物質の塗布総量が同一の場合、より表面保護層に近い乳剤層に多く含有させたほうが好ましい。
【０２９８】
帯電防止剤としては、特に特開昭６２−１０９０４４号、同６２−２１５２７２号に記載の含フッ素界面活性剤あるいは重合体、特開昭６０−７６７４２号、同６０−８０８４６号、同６０−８０８４８号、６０−８０８３９号、同６０−７６７４１号、同５８−２０８７４３号、同６２−１７２３４３号、同６２−１７３４５９号、同６２−２１５２７２号などに記載されているノニオン系界面活性剤、あるいは又、特開昭５７−２０４５４０号、同６２−２１５２７２号に記載されている導電性ポリマー又はラテックス（ノニオン性、アニオン性、カチオン性、両性）を好ましく用いうる。又無機系帯電防止剤としては、特開昭５７−１１８２４２号などに記載の導電性酸化スズ、酸化亜鉛又はこれらの金属酸化物にアンチモン等をドープした複合酸化物を好ましく用いることができる。
【０２９９】
マット剤として米国特許第２９９２１０１号、同２７０１２４５号、同４１４２８９４号、同４３９６７０６号に記載の如きポリメチルメタクリレートのホモポリマー又はメチルメタクリレートとメタクリル酸とのコポリマー、デンプンなどの有機化合物、シリカ、二酸化チタン、硫酸、ストロンチウムバリウム等の無機化合物の微粒子を用いることができる。粒子サイズとしては１．０〜１０μｍ、特に２〜５μｍであることが好ましい。
【０３００】
ハロゲン化銀写真感光材料は、特定の波長域の光を吸収させる目的、すなわちハレーションやイラジエーションをしたり、フィルター層を設け写真乳剤層に入射すべき光の分光組成を制御したりする目的で、写真乳剤層またはその他の層に染料またはコロイド銀を添加してもよい。直接医療用レントゲンフィルムのような両面フィルムにおいては、クロスオーバーカットを目的とする層を乳剤層の下に設けてもよい。この様な染料には、ピラゾロン核やバルビツール酸核を有するオキソノール染料、アゾ染料、アゾメチン染料、アントラキノン染料、アリーリデン染料、スチリル染料、トリアリールメタン染料、メロシアニン染料、シアニン染料などが挙げられる。染料について、さらに詳しく説明する。
【０３０１】
この様な染料には、例えば英国特許第５０６，３８５号、同１，１７７，４２９号、同１，１３１，８８４号、同１，３３８，７９９号、同１，３８５，３７１号、同１，４６７，２１４号、同１，４３８，１０２号、同１，５５３，５１６号、特開昭４８−８５１３０号、同４９−１１４４２０号、同５２−１１７１２３号、同５５−１６１２３３号、同５９−１１１６４０号、特公昭３９−２２０６９号、同４３−１３１６８号、同６２−２７３５２７号、米国特許第３，２４７，１２７号、同３，４６９，９８５号、同４，０７８，９３３号等に記載されたピラゾロン核やバルビツール核やバルビツール酸核を有するオキソノール染料、米国特許第２，５３３，４７２号、同３，３７９，５３３号、英国特許第１，２７８，６２１号、特開平１−１３４４４７号、同１−１８３６５２号等記載されたその他のオキソノール染料、英国特許第５７５，６９１号、同６８０，６３１号、同５９９，６２３号、同７８６，９０７号、同９０７，１２５号、同１，０４５，６０９号、米国特許第４，２５５，３２６号、特開昭５９−２１１０４３号等に記載されたアゾ染料、特開昭５０−１００１１６号、同５４−１１８２４７号、英国特許第２，０１４，５９８号、同７５０，０３１号等に記載されたアゾメチン染料、米国特許第２，８６５，７５２号に記載されたアントラキノン染料、米国特許第２，５３８，００９号、同２，６８８，５４１号、同２，５３８，００８号、英国特許第５８４，６０９号、同１，２１０，２５２号、特開昭５０−４０６２５号、同５１−３６２３号、同５１−１０９２７号、同５４−１１８２４７号、特公昭４８−３２８６号、同５９−３７３０３号、欧州特許第２８０２５２号等に記載されたアリーリデン染料、特公昭２８−３０８２号、同４４−１６５９４号、同５９−２８８９８号等に記載されたスチリル染料、英国特許第４４６，５３８号、同１，３３５，４２２号、特開昭５９−２２８２５０号等に記載されたトリアリールメタン染料、英国特許第１，０７５，６５３号、同１，１５３，３４１号、同１，２８４，７３０号、同１，４７５，２２８号、同１，５４２，８０７号等に記載されたメロシアニン色素、米国特許第２，８４３，４８６号、同３，２９４，５３９号、特開昭６２−１２３４５４号、特開平１−２９１２４７号等に記載されたシアニン染料などが挙げられる。
【０３０２】
これらの染料の拡散を防ぐために、以下の方法が挙げられる。例えば、染料にバラスト基を入れて耐拡散性にする。
また、例えば解離したアニオン染料と反対の電荷をもつ親水性ポリマーを媒染剤として層に共存させ、染料分子との相互作用によって染料を特定層中に局在化させる方法が、米国特許２，５４８，５６４号、同４，１２４，３８６号、同３，６２５，６９４号等に開示されている。
このような親水性ポリマーとしてはアニオン変換ポリマーが好ましい。アニオン変換ポリマーとしては既知の各種の四級アンモニウム塩（又はホスホニウム塩）ポリマーが使える。四級アンモニウム塩（又はホスホニウム塩）ポリマーは、媒染剤ポリマーや帯電防止剤ポリマーとして広く次にあげる刊行物などで知られている。特開昭５９−１６６９４０、米国特許第３，９５８，９９５、特開昭５５−１４２３３９、特開昭５４−１２６０２７、特開昭５４−１５５８３５、特開昭５３−３０３２８、特開昭５４−９２２７４に記載されている水分散ラテックス；米国特許第２，５４８，５６４、同３，１４８，０６１、同３，７５６，８１４に記載のポリビニルピリジニウム塩；米国特許第３，７０９，６９０に記載の水溶性四級アンモニウム塩ポリマー；米国特許第３，８９８，０８８に記載の水不溶性四級アンモニウム塩ポリマーなどがあげられる。
さらに所望の層から他の層にまたは処理液中に移動し、写真的に好ましからざる影響を及ぼさないため、エチレン性不飽和基を少くとも２以上（好ましくは２〜４）有するモノマーを共重合させ、架橋された水性ポリマーラテックスにして用いることが特に好ましい。
【０３０３】
さらに、水に不溶性の染料固体を用いて特定層を染色する方法が、特開昭５６−１２６３９号、同５５−１５５３５０号、同５５−１５５３５１号、同６３−２７８３８号、同６３−１９７９４３号、特開平２−２９７５４３号、同３−１６７５４６号、同４−１２７１４３号、欧州特許第１５，６０１号、国際特許ＷＯ８８／０４７９４号等に開示されている。
また、染料が吸着した金属塩微粒子を用いて特定層を染色する方法が米国特許第２，７１９，０８８号、同２，４９６，８４１号、同２，４９６，８４３号、特開昭６０−４５２３７号等に開示されている。
【０３０４】
感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させることができる。すなわちアゾール類たとえばベンゾチアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトテトラゾール類、メルカプトチアゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチアゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、など；メルカプトピリミジン類；メルカプトトリアジン類；たとえばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物；アザインデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイデン類（特に４−ヒドロキシ置換（１，３，３ａ，７）テトラアザインデン類）、ペンタアザインデン類など；ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルフォン酸アミド等のようなカブリ防止剤または安定剤として知られた多くの化合物を加えることができる。これらのものの中で、好ましくはベンゾトリアゾール（例えば、５−メチル−ベンゾトリアゾール）及びニトロインダゾール類（例えば５−ニトロインダゾール）である。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよい。さらに特開昭６２−３０２４３に記載の現像中に抑制剤を放出するような化合物を、安定剤あるいは黒ポツ防止の目的で含有させることができる。
【０３０５】
写真感光材料には安定剤、促進剤等種々の目的でハイドロキノン誘導体、フェニドン誘導体などの現像主薬を含有することができる。
写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例えばクロム塩（クロムミヨウバン、酢酸クロムなど）、アルデヒド類、（ホルムアルデヒド、グルタールアルデヒドなど）、Ｎ−メチロール化合物（ジメチロール尿素など）、ジオキサン誘導体、活性ビニル化合物（１，３，５−トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、１，３−ビニルスルホニル−２−プロパノールなど）、活性ハロゲン化合物（２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンなど）、ムコハロゲン酸類（ムコクロル酸など）、などを単独または組み合わせて用いることができる。
【０３０６】
写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性コロイド層に現像時画像の濃度に対応して、現像抑制剤を放出するハイドロキノン誘導体（いわゆる、ＤＩＲ−ハイドロキノン）を含有してもよい。
それらの具体例は米国特許第３，３７９，５２９号、米国特許第３，６２０，７４６号、米国特許第４，３７７，６３４号、米国特許第４，３３２，８７８号、特開昭４９−１２９，５３６号、特開昭５４−６７，４１９号、特開昭５６−１５３，３３６号、特開昭５６−１５３，３４２号、特開昭５９−２７８，８５３号、同５９−９０４３５号、同５９−９０４３６号、同５９−１３８８０８号などに記載の化合物を挙げることができる。
【０３０７】
感光材料には寸度安定性の目的で水不溶または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことができる。たとえばアルキル（メタ）アクリレート、アルコキシアクリル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、などの単独もしくは組合わせ、またはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、などの組合せを単量体成分とするポリマーを用いることができる。
【０３０８】
写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アスコルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フタル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポリマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの化合物に関しては特開昭６１−２２３８３４号、同６１−２２８４３７号、同６２−２５７４５号、及び同６２−５５６４２号明細書の記録を参考にすることができる。これらの化合物の中でも特に好ましいのは、低分子化合物としてはアスルコルビン酸であり、高分子化合物としてはアクリル酸の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如き２個以上の不飽和基を有する架橋性モノマーからなるコポリマーの水分散性ラテックスである。
【０３０９】
この様にして製造されたハロゲン化銀乳剤はセルロースアセテートフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルムなどの支持体にディップ法、エアーナイフ法、ビード法、エクストルージョンドクター法、両面塗布法などによって塗布乾燥される。
【０３１０】
感光材料に用いられる支持体には、α−オレフィンポリマ−（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン／ブテン共重合体）等をラミネ−トした紙、合成紙の可撓性支持体、金属などが含まれる。中でも、ポリエチレンテレフタレ−トが特に好ましい。本発明に用いることので切る下引き層としては特開昭９−３９７２号記載のポリヒドロキシベンゼン類和含む有機溶剤系での下引き加工層、特開昭４９−１１１１８号、同５２−１０４９１号等に記載の水系ラテックス下引き加工層が挙げられる。又、該下引き層は通常、表面を科学的ないし物理的に処理することができる。該処理としては薬品処理、機械委処理、コロナ放電処理、などの表面活性化処理が挙げられる。
【０３１１】
本発明はまたカラー感光材料にも利用できる。この場合には種々のカラーカプラーを使用することができる。ここでカラーカプラーとは、芳香族第一級アミン現像薬の酸化体とカップリング反応して色素を生成しうる化合物をいう。有用なカラーカプラーの典型例には、ナフトールもしくはフェノール系化合物、ピラゾロンもしくはピラゾロアゾール系化合物および開鎖もしくは複素環のケトメチレン化合物がある。本発明で使用しうるこれらのシアン、マゼンタおよびイエローカプラーの具体例はリサーチ・ディスクロージャー（ＲＤ）１７６４３（１９７８年１２月）VII −Ｄ項および同１８７１７（１９７９年１１月）に引用された特許に記載されている。
【０３１２】
本発明の感光材料に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限はなく、例えば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。
【０３１３】
特開平３−３９９４８号公報第１０頁右下１１行目から同公報第１２頁左下５行目に記載のポリヒドロキシベンゼン化合物。具体的には、同公報に記載の化合物(III) −１〜２５の化合物。
【０３１４】
特開平１−１１８８３２号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される実質的には可視域に吸収極大を持たない化合物。具体的には、同公報に記載の化合物Ｉ−１〜Ｉ−２６の化合物。
【０３１５】
特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下１９行目から同公報１８頁右上４行目に記載のかぶり防止剤。
【０３１６】
特開平２−１０３５３６号公報第１８頁左下１２行目から同頁左下２０行目に記載のポリマーラテックス。
【０３１７】
特開平２−１０３５３６号公報第１９頁左上１５行目から同公報１９頁右上１５行目に記載のマット剤、滑り剤、可塑剤。
【０３１８】
特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右上５行目から同頁右上１７行目に記載の硬膜剤。
【０３１９】
特開平２−１０３５３６号公報第１８頁右下６行目から同公報１９頁左上１行目に記載の酸基を有する化合物。
【０３２０】
特開平２−１８５４２号公報第２頁左下１３行目から同公報第３頁右上７行目に記載の導電性物質。具体的には、同公報第２頁右下２行目から同頁右下１０行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化合物Ｐ−１〜Ｐ−７の導電性高分子化合物。
【０３２１】
特開平２−１０３５３６号公報第１７頁右下１行目から同頁右上１８行目に記載の水溶性染料。
【０３２２】
特開平２−２９４６３８号公報及び特願平３−１８５７７３号に記載の固体分散染料。
【０３２３】
特開平２−１２２３６号公報第９頁右上７行目から同頁右下３行目に記載の界面活性剤。特開平２−１０３５３６号公報第１８頁左下４行目から同頁左下７行目に記載のＰＥＧ系界面活性剤。特開平３−３９９４８号公報第１２頁左下６行目から同公報第１３頁右下５行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には、同公報に記載の化合物VI−１〜VI−１５の化合物。
特開平５−２７４８１６号公報に記載の酸化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物。好ましくは同公報に記載の一般式（Ｒ−１）、一般式（Ｒ−２）、一般式（Ｒ−３）で表されるレドックス化合物。具体的には、同公報に記載の化合物Ｒ−１〜Ｒ−６８の化合物。
【０３２４】
特開平２−１８５４２号公報第３頁右下１行目から２０行目に記載のバインダー。
【０３２５】
本発明の実施に際して用いうる支持体としては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムを挙げることができる。これらの支持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜選択される。
【０３２６】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０３２７】
グラフィックアーツ用感光材料での実施例を以下に示す。
性能評価用ハロゲン化銀感光材料の作製
感光材料−１（Ａｒレーザー露光用）
＜ハロゲン化銀乳剤の調製＞
〔乳剤Ａ〕
硝酸銀水溶液と、臭化カリウムと塩化ナトリウムと銀１モル当たり３．５×１０^-7モルに相当する K₃IrCl₆と２．０×１０^-7モルに相当する K₂Rh(H₂O)Cl₅ を含むハロゲン塩水溶液、塩化ナトリウムと１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオンを含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながらダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ０．２５μｍ、塩化銀含有率７０モル％の塩臭化銀粒子を調製した。
【０３２８】
その後、常法に従って、フロキュレーション法により水洗し、銀１モル当たりゼラチン４０ｇを加え、更に銀１モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム７mgとベンゼンスルフィン酸２mgを加えた後、ｐＨ６．０、ｐＡｇ７．５に調整し、銀１モル当たりセレン増感剤（Ｓｅ−１）１mg、チオ硫酸ナトリウム１mg、及び、塩化金酸４mgを加えて６０℃で最適感度になるように化学増感した。その後、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１５０mgを加え、更に、防腐剤としてプロキセル１００mgを加えた。得られた粒子は、平均粒子サイズ０．２５μｍ、塩化銀含有率７０モル％の塩臭化銀立方体粒子であった。（変動係数１０％）
【０３２９】
【化７２】

【０３３０】
＜塗布試料の作製＞
塩化ビニリデン共重合体からなる下塗層（０．５μｍ）を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（１５０μｍ）支持体上に、支持体側から、ＵＬ、ＥＭ、ＭＬ、ＰＣの層構成になる様に、塗布し試料を作成した。
以下に各層の調製方法及び塗布量を示す。各塗布液は、ポリスチレンスルホン酸ナトリウムにより、適度な粘度に調整して塗布した。
【０３３１】
（ＵＬ）
ゼラチンに水を加え４０℃で溶解した後に、化合物（Ｗ）を１５mg／m²となる様に添加し、更にゼラチンに対して７０wt％のラテックスコポリマー（ブチルアクリレート；アクリル酸；２−アセトアセトキシエチルメタクリレート＝８０：４：１６wt比）、ゼラチンに対して３．０wt％の化合物（Ｂ）を添加して、ゼラチン０．３ｇ／m²になるように塗布した。
【０３３２】
（ＥＭ）
前記乳剤−Ａを４０℃で溶解した後に、増感色素（Ｓ−１) を４．５×１０^-4モル／モルＡｇ、増感色素（Ｓ−２）１．５×１０^-4モル／モルＡｇ、ＫＢｒ４．５×１０^-3モル／モルＡｇ、化合物（Ａ）９．０×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｃ）３．２×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｄ）７．０×１０^-4モル／モルＡｇ、酢酸７．０×１０^-3モル／モルＡｇ、ハイドロキノン９．７×１０^-3モル／モルＡｇ、前記ヒドラジン化合物Ｅ−２ｂ １．４×１０^-4モル／モルＡｇ、前記造核促進剤Ｆ−１２ ２．６×１０^-4モル／モルＡｇ、更に、ゼラチンに対して１５wt％のポリエチルアクリレートラテックス、ゼラチンに対して１５wt％のラテックスコポリマー（ブチルアクリレート；アクリル酸；２−アセトアセトキシエチルメタクリレート＝80：４：16）、ゼラチンに対して４wt％の化合物（Ｂ）を添加してＡｇ３．２ｇ／m²となる様に塗布した。
【０３３３】
（ＭＬ）
ゼラチン溶液に、化合物（Ｅ）７mg／m²、ゼラチンに対して１５ｗｔ％のポリエチルアクリレート、ゼラチンに対して３．５ｗｔ％の化合物（Ｂ）を添加して、ゼラチンが０．５ｇ／m²となる様にして塗布した。
【０３３４】
（ＰＣ）
ゼラチン溶液に、平均粒子サイズ３．５μｍの不定形なＳｉＯ₂ マット剤４０mg／m²、シリコーンオイル２０mg／m²および塗布助剤として化合物（Ｆ）５mg／m²、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２５mg／m²及び化合物（Ｇ）２０mg／m²を添加して塗布した。ゼラチンは、０．３ｇ／m²であった。
【０３３５】
【化７３】

【０３３６】
【化７４】

【０３３７】
またバック層およびバック保護層は次に示す処方にて塗布した。
〔バック層処方〕
ゼラチン 3 ｇ／m²
ラテックス ポリエチルアクリレート 2 ｇ／m²
界面活性剤 P-ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 40mg／m²
化合物〔Ｂ〕 110mg／m²
SnO₂/Sb(重量比90／10、平均粒径0.20μｍ） 200mg／m²
染料 染料〔ａ〕、染料〔ｂ〕、染料〔ｃ〕の混合物
染料〔ａ〕 70mg／m²
染料〔ｂ〕 100mg／m²
染料〔ｃ〕 50mg／m²
【０３３８】
【化７５】

【０３３９】
〔バック保護層〕
ゼラチン 0.8mg／m²
ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径4.5 μｍ） 30mg／m²
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg／m²
ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg／m²
酢酸ナトリウム 40mg／m²
【０３４０】
＜写真性能評価用露光試料の作成＞
４８８nmピークをもつ干渉フィルター及びステップウェッジを介して、発光時間１０^-6 secのキセノンフラッシュ光で露光を行った。
＜写真性能評価＞
１．Ｓ_1.5 （感度）
−ｌｏｇ（Ｏ、Ｄ1.5 を与えるに必要な露光量の逆数）の相対値で示した。数値が大きいほど感度が高いことを意味する。
２．γ（階調）
γ＝光学濃度（３．０−０．３）÷△log Ｅ
式中△log Ｅは、Ｏ、Ｄ３．０を与えるのに必要な露光量（log Ｅ３．０）とＯ、Ｄ０．３を与えるのに必要な露光量（log Ｅ０．３）の差を意味する。
３．Ｄ0510(Dm)
濃度０．５を与える露光量からlogEで１．０露光量を増やしたところの濃度の値で示した。
感光材料−２（Ｈｅ／Ｎｅ、ＬＤレーザー露光用）
＜ハロゲン化銀乳剤の調製＞
〔乳剤Ｂ〕
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記の１液に２液と３液を攪拌しながら、同時に２４分間にわたって加え、０．１８μｍの粒子を形成した。続いて下記の４液、５液を８分間にわたって加え、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加えて粒子形成を終了した。
その後、常法に従って、フロキュレーション法により水洗し、銀１モル当たりゼラチンを加えた後、ｐＨ５．２、ｐＡｇ７．５に調整し、銀１モル当たりチオ硫酸ナトリウム４mgとＮ，Ｎ−ジメチルセレノ尿素２mgと塩化金酸１０mg、及び、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム４mgとベンゼンスルフィン酸１mgを添加し、５５℃にて最適感度となる様に化学増感した。
更に、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン５０mg、防腐剤としてフェノキシエタノールを１００ｐｐｍになるように添加し、最終的に塩化銀含有率７０モル％、平均粒子サイズ０．２０μｍの沃塩臭化銀立方体粒子を得た。（変動係数９％）
【０３４１】
＜１液＞
水 1.0 リットル
ゼラチン 20 ｇ
塩化ナトリウム 2 ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン 20 mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 3 mg
＜２液＞
水 600 ml
硝酸銀 150 ｇ
＜３液＞
水 600 ml
塩化ナトリウム 45 ｇ
臭化カリウム 21 ｇ
Ｋ₃ ＩｒＣｌ₆ （０．００１％水溶液） 15 ml
（ＮＨ₄)₃ ＲｈＢｒ₆ （０．００１％水溶液） 1.5 ml
＜４液＞
水 200 ml
硝酸銀 50 ｇ
＜５液＞
水 200 ml
塩化ナトリウム 15 ｇ
臭化カリウム 7 ｇ
Ｋ₄ Ｆｅ（ＣＮ）₆ 30 mg
【０３４２】
＜塗布試料の作製＞
Ａｒレーザー露光用試料のＥＭ層を下記の様に変更した他は、Ａｒレーザー用試料と同様にして作製した。
（ＥＭ）
前記乳剤−Ｂをゼラチンと共に４０℃で溶解した後に、ＫＢｒ３．６×１０^-3モル／モルＡｇ、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン７．６×１０^-4モル／モルＡｇ、増感色素（Ｓ−３）２．５×１０^-4モル／モルＡｇ、又は増感色素（Ｓ−４）３．３×１０^-5モル／モルＡｇ、前記ヒドラジン化合物Ｅ−２ｂ ２．０×１０^-4モル／モルＡｇ、前記造核促進剤Ｆ−１２ ５．７×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｈ）２．５×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｃ）５．０×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物（Ｄ）１．６×１０^-3モル／モルＡｇ、ゼラチンに対して１５ｗｔ％のコロイダルシリカ、更にゼラチンに対して１５ｗｔ％のポリエチルアクリレートラテックス、ゼラチンに対して２０ｗｔ％のラテックスコポリマー（ブチルアクリレート；アクリル酸；２−アセトアセトキシエチルメタクリレート＝８０：４：１６）、及びゼラチンに対して４ｗｔ％の化合物（Ｂ）を添加して、Ａｇ３．５ｇ／m²となる様にして塗布した。化合物（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）は、感光材料−１と同じ物である。
【０３４３】
【化７６】

【０３４４】
＜写真性能評価用露光試料の作成＞
６３３nm又は６７０nmにピークをもつ干渉フィルター及びステップウェッジを介して、発光時間１０^-6 secのキセノンフラッシュ光で露光を行なった。
＜写真性能評価＞
Ａｒレーザー用感材と同様にγ、Ｄ0510で評価した。
【０３４５】
感光材料−３（カメラ撮影用）
＜ハロゲン化銀乳剤の調製＞
〔乳剤Ｃ〕
硝酸銀６４ｇを溶解した硝酸銀水溶液２５０mlと、完成乳剤の銀１モル当たり２．０×１０^-7モルに相当する K₃IrCl₆と１．０×１０^-7モルに相当する K₂Rh(H₂O)Cl₅ を含む臭化カリウム２０ｇと塩化ナトリウム１４ｇを溶解したハロゲン塩水溶液２５０mlを、塩化ナトリウム（０．３％）と１，３−ジメチル−２−イミダゾリジンチオン（０．００２％）とクエン酸（０．０５％）を含有する２％ゼラチン水溶液に、攪拌しながら３８℃で１２分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ０．１６μｍ、塩化銀含有率５５モル％の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行った。続いて、硝酸銀１０６ｇを溶解した硝酸銀水溶液３００mlと臭化カリウム２８ｇと塩化ナトリウム２６ｇを溶解したハロゲン塩水溶液３００mlをダブルジェット法により１２分間かけて添加し粒子形成を行った。
【０３４６】
その後、銀１モル当たり１．０×１０^-3モルのＫＩを加えてコンバージョンを行い、常法に従ってフロキュレーション法により水洗した。そして、銀１モル当たりゼラチン４０ｇを加え、ｐＨ６．０、ｐＡｇ７．５に調整した後、銀１モル当たりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム３mg、ベンゼンスルフィン酸１mg、チオ硫酸ナトリウム２mg、セレン増感剤（Ｓｅ−２）２mg、及び、塩化金酸８mgを加えて６０℃で７０分間加熱し化学増感した。その後、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１５０mg及び防腐剤としてプロキセル１００mgを加えた後、増感色素（Ｓ−５）４００mgを添加し、１０分後降温した。得られた粒子は、平均粒子サイズ０．２２μｍ、塩化銀含有率６０モル％の沃塩臭化銀立方体粒子であった。（変動係数１０％）
【０３４７】
【化７７】

【０３４８】
＜塗布試料の作製＞
両面が塩化ビニリデンを含む防湿下塗りからなるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、該支持体側から、Ｅｍ（銀量２．７ｇ／m²、ゼラチン１．３ｇ／m²）、ＰＣＵ（ゼラチン０．５ｇ／m²）、ＰＣＯ（ゼラチン０．４ｇ／m²）となる様に塗布した。得られた試料の乳剤面の膜面ｐＨは５．８であった。
【０３４９】
（ＥＭ）
前記乳剤−Ｃを溶解した後に、銀１モル当たり、２×１０^-4モルの下記構造式（ａ）で表される短波シアニン色素、５×１０^-3モルの臭化カリウム、２×１０^-4モルの１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、２×１０^-4モルの下記構造式（ｂ）で表されるメルカプト化合物、３×１０^-4モルの下記構造式（ｃ）で表されるトリアジン化合物、３×１０^-4モルの前記ヒドラジン化合物例Ｅ−１ｂ、４．４×１０^-4モルの前記化合物例Ｆ−１２で表わされる造核促進剤を添加し、さらに、ハイドロキノン１００mg／m²、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム１０mg／m²、コロイダルシリカ（日産化学製スノーテックスＣ）１５０mg／m²、ポリエチルアクリレートの分散物５００mg／m²、１，２−ビス（ビニルスルホニルアセトアミド）エタン８０mg／m²塗布されるように加え乳剤層塗布液を調製した。塗布液のｐＨは５．６に調整した。
【０３５０】
（ＰＣＵ）
防腐剤としてプロキセルを含むゼラチン溶液に（ｄ）で表される化合物を１０mg／m²、（ｅ）で表される化合物を１００mg／m²、ポリエチルアクリレートの分散物を３００mg／m²塗布されるように添加し、調製した。
【０３５１】
（ＰＣＯ）
防腐剤としてプロキセルを含むゼラチン溶液に（ｄ）で表される化合物を１０mg／m²、（ｅ）で表される化合物を１００mg／m²、ポリエチルアクリレートの分散物を３００mg／m²塗布されるように添加し、さらに、防腐剤としてプロキセルを含むゼラチン溶液に、平均粒子サイズ約３．５μの不定形なＳｉＯ₂ マット剤５０mg／m²、コロイダルシリカ（日産化学製スノーテックスＣ）１００mg／m²、流動パラフィン３０mg／m²、塗布助剤として下記構造式（ｆ）で表されるフッ素界面活性剤５mg／m²とｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩３０mg／m²塗布されるように添加し調製した。
【０３５２】
【化７８】

【０３５３】
またバック層は、次に示す処方にて塗布した。

【０３５４】
【化７９】

【０３５５】
（ＯＣ層）
ゼラチン 1.5 ｇ／m²
ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径２．５μ） 20 mg／m²
ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15 mg／m²
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15 mg／m²
酢酸ナトリウム 50 mg／m²
プロキセル 1 mg／m²
【０３５６】
＜写真性能評価用露光試料の作成＞
タングステン感光計を用い色温度３２００°Ｋのフィルター及びステップウェッジを介して露光を行なった。
＜写真性能評価＞
Ａｒレーザー用感材と同様にγ、Ｄ0510で評価した。
【０３５７】
感光材料−４（返し用）
＜ハロゲン化銀乳剤の調製＞
乳剤−Ｄ
３０℃に保った塩化ナトリウム及び銀１モル当たり３×１０^-5モルのベンゼンチオスルホン酸ナトリウム、５×１０^-3モルの４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデンを含むｐＨ２．０の１．５％ゼラチン水溶液中に、硝酸銀水溶液と銀１モル当たり４．０×１０^-5モルの K₂Ru(NO)Cl₅を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェット法により電位９５ｍｖにおいて３分３０秒間で最終粒子の銀量の半分を同時添加し、芯部の粒子０．１０μｍを調整した。
その後、硝酸銀水溶液と銀１モル当たり４．０×１０^-5モルの K₂Ru(NO)Cl₅を含む塩化ナトリウム水溶液を前述と同様に７分間で添加し、平均粒子サイズ０．１３μｍの塩化銀粒子を調製した。（変動係数１３％）
【０３５８】
その後、当業界でよく知られたフロキュレーション法により水洗し、可溶性塩を除去した後ゼラチンを加え、防腐剤としてプロキセルを銀１モル当たり６０mg加えた後、ｐＨ５．７、ｐＡｇ７．５に調整し、更に銀１モル当たり２×１０^-5モルのチオ硫酸ナトリウム、１×１０^-5モルのセレン増感剤（Ｓｅ−２）、及び、４×１０^-5モルの塩化金酸を加えて６５℃で６０分間加熱し化学増感した。その後、安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデンを銀１モル当たり１×１０^-3モル添加した。最終粒子として、ｐＨ５．７、ｐＡｇ７．５、Ｒｕ４×１０^-5モル／Ａｇモルとなった。
【０３５９】
＜塗布試料の作製＞
（支持体・下塗層）
二軸延伸したポリエチレンテレフタレート支持体（厚味１００μｍ）の両面の下記組成の下塗層第１層及び第２層を塗布した。
＜下塗層１層＞
コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体▲１▼ 15 ｇ
２，４−ジクロル−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン 0.25 ｇ
ポリスチレン微粒子（平均粒径３μ） 0.05 ｇ
化合物−Ｏ 0.20 ｇ
コロイダルシリカ（スノーテックスＺＬ：粒径７０〜
１００μｍ日産化学（株）製） 0.12 ｇ
水を加えて 100ｇ
さらに、１０重量％のＫＯＨを加え、ｐＨ＝６に調整した塗布液を乾燥温度１８０℃２分間で、乾燥膜厚が０．９μになる様に塗布した。
【０３６０】
＜下塗層第２層＞
ゼラチン 1 ｇ
メチルセルロース 0.05 ｇ
化合物−Ｐ 0.02 ｇ
C₁₂H₂₅O(CH₂CH₂O)₁₀H 0.03 ｇ
化合物−Ａ 3.5×10^-3ｇ
酢酸 0.2 ｇ
水を加えて 100 ｇ
この塗布液を乾燥温度１７０℃２分間で、乾燥膜厚が０．１μになる様に塗布し、下塗層を含む支持体を作製した。
【０３６１】
【化８０】

【０３６２】
上記支持体上に支持体側からＥＭ、ＰＣ、ＯＣの順になる様に同時重層塗布した。以下に各層の調製、方法とその塗布量を示す。
【０３６３】
（ＥＭ）
乳剤−Ｄに下記化合物を添加し、下塗層を含む下記支持体上にゼラチン塗布量が０．９ｇ／m²、塗布銀量が２．７ｇ／m²となるようにハロゲン化銀乳剤層を塗布した。

【０３６４】
（ＰＣ）
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が０．６ｇ／m²となるように塗布した。

【０３６５】
（ＯＣ）
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が０．４５ｇ／m²となるように塗布した。

【０３６６】
【化８１】

【０３６７】
ついで、支持体の反対側の面に、下記に示す導電層及びバック層（ＢＣ）を同時塗布した。
（導電層）
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が０．０６ｇ／m²となるように塗布した。
SnO₂/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.25μ) 186 mg／m²
ゼラチン（Ca⁺⁺含有量３０００ppm) 60 mg／m²
ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 13 mg／m²
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 12 mg／m²
ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 10 mg／m²
化合物−Ａ 1 mg／m²
【０３６８】
（ＢＣ）
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が１．９４ｇ／m²となるように塗布した。

【０３６９】
【化８２】

【０３７０】
＜写真性能評価用露光試料の作成＞
得られた試料を大日本スクリーン（株）社製、明室プリンターＰ−６２７ＦＭを用い、ステップウェッジを介して露光した。
＜写真性能評価＞
Ａｒレーザー用感材の評価と同様にγ、Ｄ0510で評価した。
【０３７１】
本発明に用いた現像液及び定着液処方を下記に示す。
現像液１
水 700 ml
ＫＯＨ 55.1ｇ
Ｎａ₂ Ｓ₂ Ｏ₅ 69.1ｇ
ジエチレントリアミン−５酢酸 2.0ｇ
Ｋ₂ ＣＯ₃ 61.5ｇ
５−メチル−ベンゾトリアゾール 0.35ｇ
化合物−１ 0.288g
化合物−２ 0.10ｇ
エリソルビン酸ナトリウム 3.08ｇ
ジエチレングリコール 5.0ｇ
ＫＢｒ 6.6ｇ
ハイドロキノン 23.3g
^* モノール 7.5g
ｐＨ（ＮａＯＨ又は酢酸で調整） 9.7
ｕｐ−ｔｏ（Ｈ₂ Ｏ） 1リットル
* モノール；Ｎ−メチル−パラ−アミノフェノール・1/2 硫酸塩
【０３７２】
【化８３】

【０３７３】
＜定着液処方＞
定着液Ａ
チオ硫酸アンモニウム 359.1 ｇ
エチレンジアミン４酢酸・２Ｎａ，２水塩 0.09 ｇ
チオ硫酸ナトリウム・５水塩 32.8 ｇ
亜硫酸ナトリウム 75.0 ｇ
水酸化ナトリウム 37.2 ｇ
氷酢酸 87.3 ｇ
酒石酸 8.76 ｇ
グルコン酸ナトリウム 6.6 ｇ
硫酸アルミニウム 25.3 ｇ
ｐＨ（硫酸又は水酸化ナトリウムで調整） 5.05
ｕｐ−ｔｏ（水） 1 リットル
上記の液１リットルに対して水を２リットル加えて使用した。
【０３７４】
＜定着液Ｂ＞
下記の固形剤と液剤を水を加えて１０リットルとする様にして使用液とした。定着液は、下記処方を固形剤部分と液剤部分共に高密度ポリエチレン製（肉厚平均＝５００μm 、巾としては２００〜１０００μm ）の容器に充填したものを用いた。溶解後の液量が１０リットルとし、ｐＨ＝４．８５であった。
【０３７５】
＜固形剤パート＞
チオ硫酸アンモニウム 1200 ｇ
チオ硫酸ナトリウム 150 ｇ
酢酸ナトリウム 400 ｇ
メタ重亜硫酸ナトリウム 200 ｇ
＜液剤パート＞
硫酸アルミニウム（２７％） 300 ｇ
硫酸（７５％） 30 ｇ
グルコン酸ナトリウム 20 ｇ
ＥＤＴＡ 0.3 ｇ
クエン酸 40 ｇ
固形剤パートは混合して充填されている。
【０３７６】
実施例−１
前記現像液−１のモノールを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物と等モル入替えた他は、現像液−１と全く同様にして、現像液を調製した。使用した一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物は、表−３７に示す通りである。
前記の感光材料−１をこれらの現像液で現像処理を行なった。現像処理は、ＦＧ−７１０Ｓ自動現像機（富士写真フイルム（株）社製）を用いて行ない、現像３５℃１１秒及び３５℃３０秒で行ない、次いで定着、水洗、乾燥を連続して行なった。定着液は、前記の定着液Ａを用いて行なった。
結果を表３７に示す。
【０３７７】
【表３７】

【０３７８】
表３７の結果から、本発明の処理では、いずれも初期現像が速く、かつ、十分な超硬調な性能が得られる。
【０３７９】
実施例−２
前記感光材料−２及び、感光材料−３を実施例−１の処理液を用いて、同様に現像処理を行なった結果、実施例−１と同様に、本発明では初期現像が速く、かつ、超硬調な性能が得られた。
【０３８０】
実施例−３
前記感光材料−４を実施例−１の処理液を用いて、実施例−１と同じ自動現像機を用いて、３８℃１１秒及び３８℃２０秒の現像時間で処理し、次いで連続して定着、水洗、乾燥を行なった。
その結果、返し感材の処理においても、本発明の現像液処理では、初期現像が速く、かつ、超硬調な性能が得られることが確認された。
【０３８１】
実施例−４
実施例−１の定着液Ａを定着液Ｂに替えて処理したところ、実施例−１と同様の結果が得られた。
【０３８２】
次にエリソルビン酸ナトリウムを現像主薬に用いた現像液処方を下記に示す。現像液２
水 700 ml
水酸化ナトリウム 2.5ｇ
ジエチレントリアミン−５酢酸 4.0ｇ
炭酸ナトリウム・一水塩 51.0ｇ
亜硫酸ナトリウム 5.0ｇ
エリソルビン酸ナトリウム 40.0ｇ
^* モノール 7.5g
臭化カリウム 2.0g
化合物（Ｘ） 0.075g
ジエチレングリコール 25.0ｇ
化合物（Ｙ） 0.72ｇ
酢酸（９０％） 10ml
ｐＨ（ＮａＯＨ又は酢酸で調整） 9.7
ｕｐ−ｔｏ（Ｈ₂ Ｏ） 1リットル
* モノール；Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノール・1/2 硫酸塩
【０３８３】
【化８４】

【０３８４】
実施例−５
前記現像液−２のモノールを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物と等モル入替えた他は、現像液−２と全く同様にして、現像液を調製した。使用した一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物は、表−３８に示す通りである。
前記の感光材料−１をこれらの現像液で現像処理を行なった。現像処理は、ＦＧ−７１０Ｓ自動現像機（富士写真フイルム（株）社製）を用いて行ない、現像３５℃１１秒及び３５℃３０秒で行ない、次いで定着、水洗、乾燥を連続して行なった。定着液は、前記の定着液Ａを用いて行なった。
結果を表３８に示す。
【０３８５】
【表３８】

【０３８６】
表３８の結果から、本発明の処理においても、いずれも初期現像が速く、かつ、十分な超硬調な性能が得られる。
【０３８７】
実施例−６
処理液−２のエリソルビン酸ナトリウムを本発明の化合物Ｃ−６、Ｃ−７：Ｃ−１９、Ｃ−２３、Ｃ−３７及びＣ−４３に等モルで入れ替え、また、モノールを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）で表される化合物に入れ替えた処理液を調製し、感光材料−１〜感光材料−４を現像処理した結果、前記実施例−５と同様の結果が得られた。
【０３８８】
次にＸ−レイ用感光材料での実施例を以下に示す。
｛１００｝ＡｇＣｌ平板乳剤Ａの調製
反応容器にゼラチン水溶液１５８２μm （ゼラチン−１（メチオニン含率が約４０μモル／ｇの脱イオン化アルカリ処理骨ゼラチン）１９．５ｇ、ＨＮＯ₃ １Ｎ液７．８mlを含み、ｐＨ４．３）、ＮａＣｌ−１液（１００ml中にＮａＣｌ １０ｇを含む）を１３ml入れ、温度を４０℃に保ちながら、Ａｇ−１液（１００ml中にＡｇＮＯ₃ ２０ｇを含む）とＸ−１液（１００ml中にＮａＣｌ ７．０５ｇを含む）を６２．４ml／分で１５．６mlずつ同時混合添加した。３分間攪拌した後、Ａｇ−２液（１００ml中にＡｇＮＯ₃ ２ｇを含む）とＸ−２液（１００ml中にＫＢｒ １．４ｇを含む）を８０．６ml／分で２８．２mlずつ同時混合した。３分間攪拌した後、Ａｇ−１液とＸ−１液を６２．４ml／分で４６．８mlずつ同時混合添加した。２分間攪拌した後、ゼラチン水溶液２０３ml（酸化処理ゼラチン１１．３ｇ、ＮａＣｌ １．３ｇ、ｐＨを５．５に調整するためにＮａＯＨ１Ｎ液を含む）を加え、ｐＣｌを１．８とした後、温度を７５℃に昇温し、ｐＣｌを１．８とした後１０分間熟成した。その後、ジスルフィド化合物Ａをハロゲン化銀１モルあたり１×１０^-4モル添加し、さらにＡｇＣｌ微粒子乳剤（平均粒子直径０．１μm ）を２．６８×１０^-2モル／分のＡｇＣｌの添加速度で２０分添加した。添加後１０分間熟成した後、沈降剤を加え、温度を３５℃に下げ、沈降水洗した。ゼラチン水溶液を加え、６０℃でｐＨ６．０に調節した。
【０３８９】
【化８５】

【０３９０】
該粒子のレプリカの透過型電子顕微鏡写真像（以下ＴＥＭと記す）を観察した。得られた乳剤は、銀を基準としてＡｇＢｒを０．４４モル％含む高塩化銀｛１００｝平板粒子であった。該粒子の形状特性値は下記のようであった。

【０３９１】
（１１１）ＡｇＣｌ平板乳剤Ｂの調製
塩化銀平板粒子を以下のように調製した。

【０３９２】
【化８６】

【０３９３】

【０３９４】
３５℃に保った溶液（１）に、攪拌しながら溶液（２）と溶液（３）を１分間かけて一定添加速度で同時に加え、溶液の温度を１５分間かけて７０℃に上昇させた。この時点で全銀量の約５．７％に相当する粒子が形成された。次に、溶液（４）と溶液（５）を２４分間かけて一定添加速度同時に加え、さらに溶液（６）と溶液（７）を４０分間かけてｐＣｌ＝１．０になるように硝酸銀溶液の添加速度を一定にし、コントロールダブルジェット法にて成長を行ない、塩化銀平板乳剤が得られた
乳剤を沈降法により水洗・脱塩した後ゼラチン３０ｇとＨ₂ Ｏを加え、さらにフェノキシエタノール２．０ｇ及び増粘剤としてポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．８ｇを添加し、苛性ソーダでｐＨ６．０になるように再分散した。
こうして得られた乳剤は、ａ₁ ＝９０％、ａ₃ ＝１．５５μm 、ａ₄ ＝０．１８μm 、ａ₂ ＝８．６、円相当投影面積径の変動係数１９％の（１１１）面を主平面とした塩化銀平板乳剤である。
【０３９５】
｛１１１｝ＡｇＢｒ平板状乳剤Ｃの調製
水１リットル中に臭化カリウム６．０ｇ、平均分子量１万５千の低分子量ゼラチン７．０ｇを添加し５５℃に保った容器中へ攪拌しながら硝酸銀水溶液３７cc（硝酸銀４．００ｇ）と臭化カリウム５．９ｇを含む水溶液３８ccをダブルジェット法により３７秒間で添加した。つぎにゼラチン１８．６ｇを添加した後７０℃に昇温して硝酸銀水溶液８９cc（硝酸銀９．８０ｇ）を２２分間かけて添加した。ここで２５％のアンモニア水溶液７ccを添加、そのままの温度で１０分間物理熟成したのち１００％酢酸溶液を６．５cc添加した。引き続いて硝酸銀１５３ｇの水溶液と臭化カリウムの水溶液をｐＡｇ８．５に保ちながらコントロールダブルジェット法で３５分かけて添加した。次に２Ｎのチオシアン酸カリウム溶液１５ccを添加した。５分間そのままの温度で物理熟成したのち３５℃に温度を下げた。ａ₁ ＝９５％、平均投影面積直径ａ₃ ＝１．５０μm 、厚みａ₄ ＝０．１８５μm 、平均アスペクト比ａ₂ ＝８．１、直径の変動係数は１８．５％の単分散純臭化銀平板状粒子を得た。
この後、沈降法により可溶性塩類を除去した。再び４０℃に昇温してゼラチン３０ｇとフェノキシエタノール２．３５ｇおよび増粘剤としてポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．８ｇを添加し、苛性ソーダと硝酸銀溶液でｐＨ５．９０、ｐＡｇ８．００に調整した。
【０３９６】
｛１１１｝ＡｇＢｒＣｌ平板乳剤Ｄの調製
反応容器にゼラチン水溶液１５８２μm （ゼラチン−１（メチオニン含率が約４０μモル／ｇの脱イオン化アルカリ処理骨ゼラチン）１９．５ｇ、ＨＮＯ₃ １Ｎ液７．８mlを含み、ｐＨ４．３）、ＮａＣｌ−１液（１００ml中にＮａＣｌ １０ｇを含む）を１３ml入れ、温度を４０℃に保ちながら、Ａｇ−１液（１００ml中にＡｇＮＯ₃ ２０ｇを含む）とＸ−１液（１００ml中にＮａＣｌ ７．０５ｇを含む）を６２．４ml／分で１５．６mlずつ同時混合添加した。３分間攪拌した後、Ａｇ−２液（１００ml中にＡｇＮＯ₃ ２ｇを含む）とＸ−２液（１００ml中にＫＢｒ １．４ｇを含む）を８０．６ml／分で２８．２mlずつ同時混合した。３分間攪拌した後、Ａｇ−１液とＸ−１液を６２．４ml／分で４６．８mlずつ同時混合添加した。２分間攪拌した後、ゼラチン水溶液２０３ml（ゼラチン−１１３ｇ、ＮａＣｌ １．３ｇ、ｐＨを５．５に調整するためにＮａＯＨ１Ｎ液を含む）を加え、ｐＣｌを１．８とした後、温度を７５℃に昇温し、ｐＣｌを１．８とした後１０分間熟成した。この後、Ａｇ−３液（１００ml中に１００％ＡｇＮＯ₃ ５０mlを含む）とＸ−３液（１００ml中にＮａＣｌ ２３．５ｇ、ＫＢｒ ７１．４ｇを含む）を用意し、硝酸銀の添加速度を２．６８×１０^-2モル／分に設定して、コントロールダブルジェット法によりｐＣｌ＝１．８で２０分間成長させた。
添加後１０分間熟成した後、沈降剤を加え、温度を３５℃に下げ、沈降水洗した。ゼラチン水溶液を加え、６０℃でｐＨ６．０に調節した。該粒子のレプリカの透過型電子顕微鏡写真像（以下ＴＥＭと記す）を観察した。得られた乳剤は、銀を基準としてＡｇＢｒをおよそ５３モル％含む高塩化銀｛１００｝平板粒子であった。該粒子の形状特性値は下記のようであった。

【０３９７】
（１１１）ＡｇＣｌ平板乳剤Ｅ、Ｆの調製
塩化銀平板粒子を以下のように調製した。

【０３９８】
【化８７】

【０３９９】

【０４００】
３５℃に保った溶液（１）に、攪拌しながら溶液（２）と溶液（３）を１分間かけて一定添加速度で同時に加え、溶液の温度を１５分間かけて７０℃に上昇させた。この時点で全銀量の約５．７％に相当する粒子が形成された。ここで、ジスルフィド化合物−Ｂをハロゲン化銀１モルに対し１×１０^-4モルを添加し、次に溶液（４）と溶液（５）を２４分間かけて一定添加速度同時に加え、さらに溶液（６）と溶液（７）を４０分間かけてｐＣｌ＝１．８になるように硝酸銀溶液の添加速度を一定にし、コントロールダブルジェット法にて成長を行ない、塩化銀平板乳剤が得られた
乳剤を沈降法により水洗・脱塩した後ゼラチン３０ｇとＨ₂ Ｏを加え、さらにフェノキシエタノール２．０ｇ及び増粘剤としてポリスチレンスルホン酸ナトリウム０．８ｇを添加し、苛性ソーダでｐＨ６．０になるように再分散した。
こうして得られた乳剤は、Ｂｒを約５０％含み、ａ₁ ＝９０％、ａ₃ ＝１．５５μm 、ａ₄ ＝０．１８μm 、ａ₂ ＝８．６、円相当投影面積径の変動係数１９％の（１１１）面を主平面とした塩化銀平板乳剤である。
【０４０１】
【化８８】

【０４０２】
上記平板状粒子の調整において、アスペクト比、粒子サイズ等の粒子形状が元の平板状粒子とほぼ同じになる様な成長条件を選択し（７）液中のＫＢｒ含量を調整する事で塩化銀含率が１７％と２４％になる（１１１）面を主平面とする塩臭化銀平板乳剤を調製した。
【０４０３】
単分散立方体ハロゲン化銀乳剤Ｇの調製
水１リットルにゼラチン３２ｇを溶解し、５３℃に加温された容器に臭化カリウム０．３ｇ、塩化ナトリウム５ｇおよび
化合物〔Ｉ〕
【０４０４】
【化８９】

【０４０５】
４６mgを入れた後、８０ｇの硝酸銀を含む水溶液４４４mlと臭化カリウム４５ｇ及び塩化ナトリウム５．５ｇを含む水溶液４５２mlをダブルジェット法により約２０分間かけて添加し、その後８０ｇの硝酸銀を含む水溶液４００mlと臭化カリウム４６．４ｇ、塩化ナトリウム５．７ｇ及びヘキサクロロイリジウム(III) 酸カリウム（１０^-7モル／モル銀）を含む水溶液４１５mlとをダブルジェット法により約２５分間かけて添加して、平均粒子サイズ（投影面積直径）０．３４μm の立方体単分散塩臭化銀粒子（投影面積直径の変動係数１０％）を作製した。
この乳剤を凝集法により脱塩処理後、ゼラチン６２ｇ、フェノキシエタノール１．７５ｇを加え、ｐＨ６．５、ｐＡｇ８．５に合わせた。
【０４０６】
化学増感
以上の如く調製した粒子を攪拌しながら６０℃に保った状態で化学増感を施した。まず、チオスルホン酸化合物−Ｉをハロゲン化銀１モルあたり１０^-4モル添加し、つぎに直径０．１０μm のＡｇＢｒ微粒子を全銀量に対して１．０モル％添加し、５分後１％のＫＩ溶液をハロゲン化銀１モルあたり１０^-3モル添加しさらに３分後、二酸化チオ尿素を１×１０^-6モル／モルＡｇ添加し、２２分間そのまま保持して還元増感を施した。つぎに４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザインデンを３×１０^-4モル／モルＡｇと増感色素−１，２をそれぞれ添加した。さらに塩化カルシウムを添加した。さらに塩化金酸１×１０^-5モル／モルＡｇおよびチオシアン酸カリウム３．０×１０^-3モル／モルＡｇを添加し、引き続きチオ硫酸ナトリウム（６×１０^-6モル／モルＡｇ）及びセレン化合物−Ｉ（４×１０^-6モル／モルＡｇ）を添加した。さらに３分後に核酸（０．５ｇ／モルＡｇ）を添加した。４０分後に水溶性メルカプト化合物−１を添加し３５℃に冷却した。
こうして乳剤の調製（化学熟成）を終了した。
【０４０７】
【化９０】

【０４０８】
（乳剤塗布層の調製）
化学増感を施した乳剤に対してハロゲン化銀１モル当たり下記の薬品を添加して乳剤塗布液とした。
・ゼラチン（乳剤中のゼラチンも含めて） １１１ｇ
・デキストラン（平均分子量３．９万） ２１．５ｇ
・ポリアクリル酸ナトリウム（平均分子量４０万） ５．１ｇ
・ポリスチレンスルホン酸ナトリウム（平均分子量６０万） １．２ｇ
・沃化カリウム ７８mg
・硬膜剤 １，２−ビス（ビニルスルホニルアセトアミド）エタン
膨潤率が２３０％の値となるように添加量を調整
・化合物−１ ４２．１mg
・化合物−２ １０．３ｇ
・化合物−３ ０．１１ｇ
・化合物−４ ８．５mg
・化合物−５ ０．４３ｇ
（ＮａＯＨでｐＨ６．１に調整）
【０４０９】
【化９１】

【０４１０】
上記塗布液に対し、染料−Ｉが片面当たり１０mg／m²となるように染料乳化物−Ｉを添加した。
【０４１１】
【化９２】

【０４１２】
（染料乳化物ａの調製）
上記化合物を６０ｇおよび２，４−ジアミルフェノールを６２．８ｇ、ジシクロヘキシルフタレートを６２．８ｇ及び酢酸エチル３３３ｇを６０℃で溶解した。つぎにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムの５％水溶液６５ccとゼラチン９４ｇ、水５８１ccを添加し、ディゾルバーにて６０℃、３０分間乳化分散した。つぎにｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを２ｇおよび水６リットルを加え、４０℃に降温した。つぎに旭化成製限外濾過ラボモジュールＡＣＰ１０５０を用いて、全量が２kgとなるまで濃縮し、ｐ−ヒドロキシ安息香酸メチルを１ｇ加えて染料乳化物ａとした。
（表面保護層塗布液の調製）
表面保護層塗布液を、各成分が下記の塗布量となるように調製した。
・ゼラチン ０．７８０ｇ／m²
・ポリアクリル酸ナトリウム（平均分子量４０万） ０．０２５
・ポリスチレンスルホン酸ナトリウム（平均分子量６０万）０．００１２
・ポリメチルメタクリレート（平均粒径３．７μm ） ０．０７２
・化合物−６ ０．０１８
・化合物−７ ０．０３７
・化合物−８ ０．００６８
・化合物−９ ０．００３２
・化合物−１０ ０．００１２
・化合物−１１ ０．００２２
・化合物−１２ ０．０３０
・プロキセル ０．００１０
（ＮａＯＨでｐＨ６．８に調整）
【０４１３】
【化９３】

【０４１４】
（支持体の調製）
比較用支持体の調製
（１）下塗層用染料分散物Ｂの調製
下記の染料化合物−ＩＩを特開昭６３−１９７９４３号に記載の方法でボールミル処理した。
【０４１５】
【化９４】

【０４１６】
水４３４ccおよび Triton Ｘ２００（登録商標）界面活性剤（ＴＸ−２００（登録商標））の６．７％水溶液７９１ccとを２リットルのボールミルに入れた。染料２０ｇをこの溶液に添加した。酸化ジルコニウム（ＺｒＯ₂)のビーズ４００ml（２mm径）を添加し、内容物を４日間粉砕した。この後、１２．５％ゼラチン１６０ｇを添加した。脱泡した後、濾過によりＺｒＯ₂ ビーズを除去した。得られた染料分散物を観察したところ、粉砕された染料の粒径は０．０５〜１．１５μm にかけての広い分布を有していて、平均粒径は０．３７μm であった。
さらに、遠心分離操作を行うことで０．９μm 以上の大きさの染料粒子を除去した。こうして染料分散物ｄを得た。
【０４１７】
（２）支持体の調製
二軸延伸された厚さ１７５μm のポリエチレンテレフタレートフィルム上にコロナ放電を行い、下記の組成より成る第１下塗液を塗布量が４．９cc／m²と成るようにワイヤーコンバーターにより塗布し、１８５℃にて１分間乾燥した。
つぎに反対面にも同様にして第１下塗層を設けた。使用したポリエチレンテレフタレートには染料化合物−１、３、４を各々０．０４wt％含有されているものを用いた。
・ブタジエン−スチレン共重合体ラテックス溶液
（固形分４０％ブタジエン／スチレン重量比＝３１／６９） １５８cc
・２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジンナトリウム塩
４％溶液 ４１cc
・蒸留水 ８０１cc
* ラテックス溶液中には、乳化分散剤として化合物−１３をラテックス固形
分に対し０．４wt％含有
【０４１８】
【化９５】

【０４１９】
（３）下塗層の塗布
上記の両面の第１下塗層上に下記の組成からなる第２の下塗層を塗布量が下記に記載の量となるように片側ずつ、両面にワイヤー・バーコーダー方式により１５５℃で塗布、乾燥した。
・ゼラチン ８０mg／m²
・染料化合物−２（染料固形分として） ８
・化合物−１４ １．８
・化合物−１２ ０．２７
・マット剤 平均粒径２．５μm のポリメチルメタクリレート ２．５mg／m²
【０４２０】
【化９６】

【０４２１】
（写真材料の調製）
前述のごとく準備した支持体上に先の乳剤層と表面保護層とを組み合わせ同時押し出し法により両面に塗布した。片面当りの塗布銀量は１．４ｇ／m²とした。こうして塗布試料１〜７を作成した。
得られた写真材料の膨潤率を、特開昭５８−１１１９３３号記載の方法で測定すると１８０％であった。
【０４２２】
（写真性能の評価）
写真材料を富士写真フイルム（株）製の富士グレネックススクリーン ＨＲ−４及びＨＧ−Ｍスクリーン並びにデュポン社製ＵＶスーパーラピッドスクリーンを使用して両側から０．０５秒の露光を与えた。露光後、富士写真フイルム（株）製ＣＥＰＲＯＳ−３０にて下記の現像液、定着液を用いてＴＰ処理し感度の評価を行った。感度は試料１を基準とし、カブリに加えて１．０の濃度を与える露光量の比の逆数で示した。
【０４２３】
濃縮現像液の調製
下記処方のエリソルビン酸ナトリウムを現像主薬とする濃縮現像液Ａを調整した。
ジエチレントリアミン五酢酸 ８．０ｇ
亜硫酸ナトリウム ２０．０ｇ
炭酸ナトリウム・１水塩 ５２．０ｇ
炭酸カリウム ５５．０ｇ
エリソルビン酸ナトリウム ６０．０ｇ
４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェニル−３−
ピラゾリドン １３．２ｇ
３，３′−ジフェニル−３，３′−ジチオプロピオン酸 １．４４ｇ
ジエチレングリコール ５０．０ｇ
化合物−１５ １０ｇ
水を加えて１リットルとする。
水酸化ナトリウムでｐＨ１０．１に調整する。
【０４２４】
【化９７】

【０４２５】
現像補充液の調製
上記濃縮現像液を２倍希釈し、現像補充液として使用した。
【０４２６】
現像母液の調製
上記濃縮現像液２リットルを水で希釈し４リットルとし、下記組成のスタータ液を希釈した現像液１リットルあたり５５ml添加、ｐＨ９．５の現像液を現像母液とした。
スタータ液
臭化カリウム １１．１ｇ
酢酸 １０．８ｇ
水を加えて５５mlとする。
【０４２７】
濃縮定着液の調製
以下の処方の濃縮定着液を調製した。
水 ０．５リットル
エチレンジアミンテトラ酢酸・２水塩 ０．０５ｇ
チオ硫酸ナトリウム ２００ｇ
重亜硫酸ナトリウム ９８．０ｇ
水酸化ナトリウム ２．９ｇ
ＮａＯＨでｐＨ５．２に調整し、水を加えて１リットルとする。
【０４２８】
定着補充液の調製
上記濃縮定着液を２倍希釈し、定着補充液として使用した。
【０４２９】
定着母液の調製
上記濃縮定着液２リットルを水で希釈し４リットルとした。ｐＨは５．４であった。
【０４３０】
写真材料の処理工程
上記現像母液および定着母液を用いて、現像補充液および定着補充液を感光材料１m²当り６５ml補充しながら処理した。
工 程 温 度 処理時間
現 像 ３５℃ ８秒
定 着 ３５℃ ８秒
水 洗 ２５℃ ７秒
乾 燥 ５５℃ ６秒
【０４３１】
実施例−７
前記現像濃縮液の４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェニル−３−ピラゾリドンを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物と等モル入れ替えた他は、前記現像濃縮液と全く同様にして、現像液２〜２３を調製した。
前記の塗布試料−１をこれらの現像液で現像処理を行なった。現像処理はＣＥＰＲＯＳ ３０自動現像機（富士写真フイルム（株）製）を用いて行ない、現像３５℃８秒で処理、次いで定着、水洗、乾燥を連続して行なった。定着液は、前記定着液を用いて行なった。結果を表３９に示す。
【０４３２】
【表３９】

【０４３３】
表３９の結果から、本発明の処理では、迅速処理において、優れた写真性能が得られる。
【０４３４】
実施例−８
前記塗布試料２〜７を実施例−７の処理液を用いて、同様に現像処理を行なった結果、実施例−７と同様に、本発明では迅速処理において高感でかぶりの低い優れた写真性能が得られた。
【０４３５】
実施例−９
実施例−７の処理液のエリソルビン酸ナトリウムを本発明の化合物Ｃ−６、Ｃ−７、Ｃ−１９、Ｃ−２３、Ｃ−３７及びＣ−４３に等モルで入れ替え、又、モノールを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）で表される化合物に入れ替えた処理液を調製し、塗布試料２〜７を現像処理した結果、前記実施例−７〜８と同様の結果が得られた。
【０４３６】
次にハイドロキノンを現像主薬に用いた現像液処方及び定着液処方を以下に示した。
【０４３７】
（処理）
自動現像機・・・富士フイルム（株）社製ＣＥＰＲＯＳ−３０
濃縮液の調製
＜現像液濃縮液＞
パーツ剤Ａ
水酸化カリウム 330 ｇ
亜硫酸カリウム 630 ｇ
亜硫酸ナトリウム 255 ｇ
炭酸カリウム 90 ｇ
ホウ酸 45 ｇ
ジエチレングリコール 180 ｇ
ジエチレントリアミン五酢酸 30 ｇ
１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン）エチル−５−メルカプト
テトラゾール 0.75ｇ
ハイドロキノン 450 ｇ
４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェニル−３−
ピラゾリドン 60 ｇ
水を加えて 4125 ml
【０４３８】
パーツ剤Ｂ
ジエチレングリコール 525 ｇ
３，３′ジチオビスヒドロ桂皮酸 3 ｇ
氷酢酸 102.6ｇ
２−ニトロインダゾール 3.75ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン 34.5 ｇ
水を加えて 750 ml
【０４３９】
パーツ剤Ｃ
グルタールアルデヒド（５０ｗｔ／ｗｔ％） 150 ｇ
臭化カリウム 15 ｇ
メタ重亜硫酸カリウム 105 ｇ
水を加えて 750 ml
【０４４０】
＜定着液濃縮液＞
チオ硫酸アンモニウム（７０ｗｔ／vol ％） 3000 ml
エチレンジアミン四酢酸・二ナトリウム・二水塩 0.45 ｇ
亜硫酸ナトリウム 225 ｇ
ホウ酸 60 ｇ
１−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン）−エチル−５−メルカプ
トテトラゾール 15 ｇ
酒石酸 48 ｇ
氷酢酸 675 ｇ
水酸化ナトリウム 225 ｇ
硫酸（３６Ｎ） 58.5 ｇ
硫酸アルミニウム 150 ｇ
水を加えて 6000 ml
ｐＨ 4.68
【０４４１】
（処理液の調製）
上記現像液濃縮液を補充容器に各パーツ剤毎に充填した。この補充容器はパーツ剤Ａ、Ｂ、Ｃの各部分容器が容器自身によって一つに連結されているものである。
また、上記定着液濃縮液も同種の容器に充填した。
まず、現像槽内にスターターとして、酢酸５４ｇと臭化カリウム５５．５ｇを含む水溶液３００mlを添加した。
上記処理剤入容器を逆さにして自現機の側面に装着されている処理液ストックタンクの穿孔刃にさしこんで、キャップの封止膜を破り、容器内の各処理剤をストックタンクに充填した。
これらの各処理剤を下記の割合で自現機の現像槽、定着槽に、それぞれ自現機に設置されているポンプを作動して満たした。
また、感材が４切サイズ換算で８枚処理される毎にも、この割合で、処理剤原液と水とを混合して自現機の処理槽に補充した。
【０４４２】
現像液
パーツ液Ａ 51 ml
パーツ液Ｂ 10 ml
パーツ液Ｃ 10 ml
水 125 ml
ｐＨ 10.50
定着液
濃縮液 80 ml
水 120 ml
ｐＨ 4.62
水洗槽には水道水を満たした。
【０４４３】
また、水あか防止剤として、放線菌を平均粒径１００μｍ、平均孔径３μｍのパーライトに担持させたもの０．４ｇをポリエチレン製のビン（ビン開口部を３００メッシュのナイロン布で覆い、この布より水および菌の流通が可能）に充填したものを３個用意し、そのうちの２個を水洗槽の底部に、１個を水洗水のストックタンク（液量０．２リットル）の底部にそれぞれ沈めた。

センシトメトリーの評価において本発明の感材は、良好な結果を示した。
【０４４４】
実施例−１０
前記現像濃縮液の４−ヒドロキシメチル−４−メチル−１−フェニル−３−ピラゾリドンを本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）の化合物と等モル入れ替えた他は、前記現像濃縮液と全く同様にして、現像液２〜１８を調製した。
前記の塗布試料−１をこれらの現像液で現像処理を行なった。現像処理はＣＥＰＲＯＳ ３０自動現像機（富士写真フイルム（株）製）を用いて行ない、現像３５℃８．８秒で処理、次いで定着、水洗、乾燥を連続して行なった。定着液は、前記定着液を用いて行なった。結果を表４０に示す。
【０４４５】
【表４０】

【０４４６】
表４０の結果から、本発明の処理では、現像主薬がハイドロキノンであっても迅速処理において、優れた写真性能が得られる。
【０４４７】
実施例−１１
乳剤Ａの調製
１液
水 １リットル
ゼラチン ２０ｇ
塩化ナトリウム ３．０ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０mg
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム ８mg
２液
水 ０．４リットル
硝酸銀 １００ｇ
３液
水 ０．４リットル
塩化ナトリウム ２７．１ｇ
臭化カリウム ２１．０ｇ
ヘキサクロロイリジウム(III) 酸アンモニウム(0.001％水溶液） ２０ml
ヘキサクロロジウム(III) 酸カリウム(0.001％水溶液） ６ml
【０４４８】
４２℃、ｐＨ４．５に保たれた１液に２液と３液を攪拌しながら同時に１５分間にわたって加え、核粒子を形成した。続いて下記４液、５液を１５分間にわたって加えた。さらにヨウ化カリウム０．１５ｇを加え粒子形成を終了した。
４液
水 ０．４リットル
硝酸銀 １００ｇ
５液
水 ０．４リットル
塩化ナトリウム ２７．１ｇ
臭化カリウム ２１．０ｇ
ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム(0.1％水溶液） １０ml
【０４４９】
その後常法にしたがってフロキュレーション法によって水洗し、ゼラチン４０ｇを加えた。
ｐＨ５．７、ｐＡｇを７．５に調整し、チオ硫酸ナトリウム１．０mgと塩化金酸４．０mg、トリフェニルホスフィンセレニド１．５mg、ベンゼンチオスルフォン酸ソーダ８mg、ベンゼンチオスルフィン酸ソーダ２mgを加え、５５℃で最適感度になるように化学増感した。
さらに安定剤として、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ−７−テトラザインデン１００mg、防腐剤として、フェノキシエタノールを加え、最終的に塩化銀を７０モル％含む、平均粒子径０．２５μｍの塩沃臭化銀立方体乳剤Ａを得た。
塗布試料の作成
乳剤Ａに増感色素(1) ３．８×１０^-4モル／モルＡｇを加えて分光増感を施した。さらにＫＢｒ３．４×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物(1) ３．２×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物(2) ８．０×１０^-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０^-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０^-3モル／モルＡｇ、化合物(3) を１．０×１０^-4モル／モルＡｇ、化合物(4) を６．０×１０^-4モル／モルＡｇ、さらにゼラチンに対して３５wt％のポリエチルアクリレートラテックス、ゼラチンに対して２０wt％の粒径１０ｍμのコロイダルシリカ、ゼラチンに対して４wt％の化合物(5) を添加して、ポリエステル支持体上にＡｇ３．７ｇ／m²、ゼラチン１．６ｇ／m²になるように塗布した。この上に下記組成の保護層上層および保護層下層、この下に下記組成のＵＬ層を塗布した。
保護層上層
ゼラチン ０．３ｇ／m²
平均３．５μｍのシリカマット剤 ２５mg／m²
化合物(6)(ゼラチン分散物） ２０mg／m²
粒径１０〜２０μｍのコロイダルシリカ ３０mg／m²
化合物(7) ５mg／m²
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２０mg／m²
化合物(8) ２０mg／m²
保護層下層
ゼラチン ０．５ｇ／m²
化合物(9) １５mg／m²
１，５−ジヒドロキシ−２−ベンズアルドキシム １０mg／m²
ポリエチルアクリレートラテックス １５０mg／m²
ＵＬ層
ゼラチン ０．５ｇ／m²
ポリエチルアクリレートラテックス １５０mg／m²
化合物(5) ４０mg／m²
化合物(10) １０mg／m²
【０４５０】
なお、本発明で使用したサンプルの支持体は下記組成のバック層および導電層を有する。
バック層
ゼラチン ３．３ｇ／m²
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ８０mg／m²
化合物(11) ４０mg／m²
化合物(12) ２０mg／m²
化合物(13) ９０mg／m²
１，３−ジビニルスルホニル−２−プロパノール ６０mg／m²
ポリメチルメタクリレート微粒子（平均粒径６．５μｍ） ３０mg／m²
化合物(5) １２０mg／m²
導電層
ゼラチン ０．１ｇ／m²
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２０mg／m²
ＳｎＯ₂ ／Ｓｂ（９／１重量比、平均粒子径０．２５μ） ２００mg／m²
【０４５１】
【化９８】

【０４５２】
【化９９】

【０４５３】
感材中の化合物(3) と(4) の種類と添加量は表４２に示すように適宜変更した。
〈現像液組成〉
【０４５４】
【表４１】

【０４５５】
〈定着液〉
以下に定着液濃縮液１リットルあたりの処方を示す。
チオ硫酸アンモニウム ３６０ｇ
エチレンジアミン・四酢酸・２Ｎａ・２水塩 ０．０９ｇ
チオ硫酸ナトリウム・５水塩 ３３．０ｇ
メタ亜硫酸ナトリウム ５７．０ｇ
水酸化ナトリウム ３７．２ｇ
酢酸（１００％） ９０．０ｇ
酒石酸 ８．７ｇ
グルコン酸ナトリウム ５．１ｇ
硫酸アルミニウム ２５．２ｇ
ｐＨ ４．８５
使用にあたっては、上記濃縮液１部に対して水２部の割合で希釈する。使用液のｐＨは４．８である。
【０４５６】
評価は以下の方法で行った。
現像液のサーモでの容器着色は、調整した現像液を１００mlサイズのポリ瓶（材質はポリエチレン）に密栓で空気が入らないようにして６０℃で１週間保存後、ポリ瓶への容器着色を調べ、官能評価で１〜５点で評価した。点数が高いほど着色が少なく、４点以上が実用的に許容レベルである。
【０４５７】
写真性の評価は、作成した試料を光学クサビを用い、６３３nmにピークをもつ干渉フィルターを介して、発光時間１０^-5sec のキセノンフラッシュ光で露光した。現像時間、温度は３５℃２０秒で処理した。感度は、表１９の No.１で処理したときに濃度１．５を得るのに必要な露光量の逆数を１００として相対値で示した。数値が大きい方が高感度である。階調（ガンマ）は次式で表した。この値が大きいほど写真特性が硬調である。
＊ガンマ＝(3.0−0.3)／〔log(濃度3.0 を与える露光量）−log(濃度0.3 を与える露光量）〕
【０４５８】
評価結果を表４２に示した。
【０４５９】
【表４２】

【０４６０】
本発明の化合物を用いた組み合わせでは、感度も良好で、超硬調な画像が容器の着色無しに得られることがわかる。Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノールを用いた場合には、超硬調な画像と容器着色を両立することができない。
【０４６１】
実施例−１２
実施例１１で用いた、感材、現像液と定着液を用い、富士写真フイルム社製ＦＧ−５２０ＡＧを用いてランニングテストを行った。ランニング条件は、１日にハーフ露光した大全紙サイズ（５０．８×６１．０cm) の試料を１６枚処理し、６日稼働して１日休むというランニングを１ラウンドとして、６ラウンド行った。写真性評価のサンプルは実施例１１と同じように露光した。ランニング時の定着液の補充量は、現像液の補充量に対して１．５倍補充して行った。
【０４６２】
処理条件は、現像時間＝２０秒、現像温度＝３５℃、定着温度＝３４℃で行い、母液は、実施例１１の現像液をそのまま用い、補充液のｐＨは表４３に記載のように調整して行った。ランニング疲労液での感度としては９５〜１０５に入っていることが実用上必要である。
ランニング後の点質は、大日本スクリーン（株）製のヘリウム光源カラースキャナーＳＧ−６０８を使用して１００線にて５０％の平網を塗布感材に出力し、前記の処理条件で現像処理を行い、２００倍のルーペで網点のキレを目視評価した。評価結果を、（良）５〜１（悪）の５点法で表に示した。実用的には３点以上が必要である。
評価結果を表４３に示した。
【０４６３】
【表４３】

【０４６４】
本発明の化合物を用いた組み合わせでは、ランニングでも写真性の変化が少なく、点質も良いことがわかる。特に低補充にした場合は、補充液のｐＨを上げることによって安定な処理性を得ることができる。
【０４６５】
【発明の効果】
本発明の一般式（Ａ）もしくは（Ｂ）で表される特定構造のｐ−アミノフェノール類を、補助現像主薬として現像液に用いることにより、迅速処理において高感で品質の良い画像の提供、特に、ヒドラジン化合物を含有する写真感光材料を用いて迅速かつ超硬調なネガ画像を提供することができる。

Claims (5)

1. 下記一般式（Ａ）あるいは（Ｂ）で表される現像剤。
   一般式（Ａ）
   

   

   ［式中、Ｒ¹ およびＸ¹ は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ² は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｍ¹ は０から３の整数を表し、ｍ² は０から４の整数を表す。ｍ¹ およびｍ² が２以上の整数を表すとき、それぞれ複数のＸ¹ およびＲ²は同じでも異なっていてもよい。Ｚ₁ は窒素原子およびベンゼン環の２重結合と共同で、５員環もしくは６員環を形成しうる原子団を表す。但しＺ₁ が６員環を形成する時、ｍ ¹ は１から３の整数であって、かつＸ¹ はアルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、もしくはチオウレイド基を表す。］
   一般式（Ｂ）
   

   

   ［式中、Ｘ² はアルキルチオ基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、またはチオウレイド基を表し、Ｘ²²は水素原子または置換基を表す。ｍ³ は１から４の整数を表し、ｍ³ および４−ｍ³ が２以上の整数を表すとき、複数のＸ² およびＸ²²は同じでも異なっていてもよい。Ｒ³ およびＲ⁴ は、各々一般式（Ａ）におけるＲ² と同義の基を表す。ただし、Ｒ³ およびＲ⁴ のうち少なくとも一つはアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表し、Ｒ³ とＲ⁴ は連結して窒素原子と共同でヘテロ環を形成してもよい。］
2. 下記一般式（Ａ）で表される現像剤。
   一般式（Ａ）
   

   

   ［式中、Ｒ ¹ およびＸ ¹ は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ ² は水素原子、アルキル 基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ｍ ¹ は０から３の整数を表し、ｍ ² は０から４の整数を表す。ｍ ¹ およびｍ ² が２以上の整数を表すとき、それぞれ複数のＸ ¹ およびＲ ² は同じでも異なっていてもよい。Ｚ ₁ は窒素原子およびベンゼン環の２重結合と共同で、５員環もしくは６員環を形成しうる原子団を表す。但し、Ｚ ₁ が６員環を形成する時、ｍ ¹ は１から３の整数であって、かつＸ ¹ はアルキルチオ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、ウレイド基、もしくはチオウレイド基を表す。］
3. 前記一般式（Ａ）において、Ｚ ₁ が窒素原子およびベンゼン環の２重結合と共同で、５員環を形成しうる原子団であることを特徴とする請求項１または２に記載の現像剤。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の現像剤の少なくとも一種を含有することを特徴とする現像処理組成物。
5. 露光されたハロゲン化銀写真感光材料を、請求項１〜３のいずれか１項に記載の現像剤の少なくとも一種と現像主薬の少なくとも一種を含有する現像液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。