JP3743127B2 - ガスクロマトグラフ装置 - Google Patents
ガスクロマトグラフ装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3743127B2 JP3743127B2 JP18781597A JP18781597A JP3743127B2 JP 3743127 B2 JP3743127 B2 JP 3743127B2 JP 18781597 A JP18781597 A JP 18781597A JP 18781597 A JP18781597 A JP 18781597A JP 3743127 B2 JP3743127 B2 JP 3743127B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- column
- flow path
- sample
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N30/00—Investigating or analysing materials by separation into components using adsorption, absorption or similar phenomena or using ion-exchange, e.g. chromatography or field flow fractionation
- G01N30/02—Column chromatography
- G01N30/04—Preparation or injection of sample to be analysed
- G01N30/06—Preparation
- G01N30/10—Preparation using a splitter
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガスクロマトグラフ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図3は、従来のキャピラリガスクロマトグラフ装置の流路構成の一例を示す図である。カラム10の入口に設けられた試料気化室11の頭部にはシリコンゴム製のセプタム12が取り付けられ、試料気化室11内部には略円筒形状のガラスインサート13が内装されており、カラム10先端は、そのガラスインサート13の内側に突出して挿入されている。試料気化室11の側方にはキャリアガス(Heガス等)を導入するためのキャリアガス流路14、セプタム12が発生する不所望のガスを排出するためのパージ流路16、及び、カラム10に導入する試料の量を調節するべく試料気化室11に注入された試料の一部をキャリアガスと共に排出するためのスプリット流路19が接続されている。
【0003】
キャリアガス流路14にはガス流量を調節するための流量調節器15が、パージ流路16にはニードル弁17及び圧力センサ18が、またスプリット流路19には排出ガスの流量を調節するための電磁弁20が設けられている。パージ流路16上の圧力センサ18と試料気化室11との間にはガス抵抗が殆ど無いため、圧力センサ18によって検出されるガス圧は試料気化室11内のガス圧と同一と看做すことができる。
【0004】
図示せぬ制御部は、圧力センサ18により検出されるガス圧が所定値となるように、また、スプリット流路19とカラム10とに流れるガス流量の比率(スプリット比)が所定値に維持されるように、流量調節器15及び電磁弁20を制御する。このようにしてカラム10に一定流量のキャリアガスが流れている状態で、シリンジ22先端のニードル23をセプタム12に突き刺して貫通させ、液体試料を試料気化室11内に注入する。試料気化室11は図示せぬヒータにより所定温度に加熱されているため、注入された試料は短時間の間に気化する。そして、キャリアガス流に乗ってガラスインサート13内を通過し、一部はカラム10内に運ばれ、他はスプリット流路19を通して外部へ排出される。カラム10を通過する間に試料中の各成分は時間的に分離され、カラム10の出口に設けられている検出器21により順次検出される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
液体試料には、不揮発性の成分や沸点が極めて高く気化しにくい成分が含まれていることがある。このため、クロマトグラフ分析を繰り返す間に、ガラスインサート13内壁やカラム10の入口近傍にこれらの成分が付着して汚れてくるから、通常、一定回数の分析を行なう毎に洗浄を行なう必要がある。そこで従来は、カラム10を試料気化室11から取り外し、試料気化室11の中からガラスインサート13を引き抜いて、酸や有機溶媒等の洗浄剤を用いてガラスインサート13の洗浄を行なっている。しかしながら、そのような洗浄を行なうには、キャリアガスの供給を停止し、試料気化室11やカラム10を常温にまで冷却しなければならず、大変な手間を要する作業であった。また、一旦、クロマトグラフ装置の運転を完全に停止してしまうと、洗浄終了後に分析を行なえるような安定した状態にまで復帰させるのに長い時間を要するため、分析作業の効率の向上を阻害する一因にもなっていた。
【0006】
本発明は上記課題を解決するために成されたものであり、その目的とするところは、ガラスインサートを容易に、しかも自動的に洗浄することができるガスクロマトグラフ装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために成された本発明は、カラム入口に設けた試料気化室にキャリアガス流路及びスプリット流路を接続し、該スプリット流路を通して試料気化室内のガスの一部を排出しながらクロマトグラフ分析を行なうガスクロマトグラフ装置において、
a)試料気化室に洗浄用溶媒を供給するための溶媒導入管と、
b)カラム出口側のガス排出口の手前側に設けた流路閉鎖手段と、
c)該流路閉鎖手段よりも上流側のカラムに接続されたガス導入管と、
を備え、前記流路閉鎖手段を閉じた状態で前記ガス導入管を介してカラムを遡るようにガスを導入すると共に、前記溶媒導入管を介して試料気化室内に洗浄用溶媒を導入し、該洗浄用溶媒をスプリット流路を介して外部へ排出するようにしたことを特徴としている。
【0008】
【発明の実施の形態】
本発明に係るガスクロマトグラフ装置では、試料気化室に内装したインサートを洗浄する際に、キャリアガス流路を通して試料気化室にキャリアガスを導入すると共に、溶媒導入管を通して洗浄用溶媒を試料気化室に導入する。また、流路閉鎖手段を閉鎖してガス導入管を通してカラムに適当なガス(好ましくは不活性ガス)を導入する。カラムの出口側を流路閉鎖手段により閉塞すると、導入されたガスはカラムを遡り試料気化室へ流れ込む。試料気化室へ供給されたキャリアガス及び洗浄用溶媒は混じりあってインサート内部を通り、スプリット流路を介して外部に排出される。また、カラムを逆流して試料気化室へ流れ込んだガスもスプリット流路を介して外部に排出される。このガス流の圧力によって洗浄用溶媒はカラムへは入り込まず、その全量がスプリット流路を介して外部へ排出される。インサート内壁に付着した成分は気化はしにくいが洗浄用溶媒には比較的よく溶けるため、インサートの汚れは除去される。
【0009】
なお、上記ガス導入管としては、カラム出口側に設けた検出器又はその近傍に設けたメイクアップガス導入管や空気導入管を利用することができる。また、洗浄時には、洗浄用溶媒が試料気化室内で気化しないように、少なくとも試料気化室の温度を洗浄用溶媒の沸点以下に下げておくことが好ましい。
【0010】
【発明の効果】
本発明に係るガスクロマトグラフ装置によれば、ガラスインサートを試料気化室に内装したままで洗浄を実行することができるので、試料気化室及びカラムの温度を常温にまで下げる、キャリアガスの供給を停止する、試料気化室を開放する、といった従来必要であった一連の作業が全く不要になり、洗浄作業の手間及び時間が大幅に削減できる。また、洗浄作業を自動化することができるので、例えば夜間や週末等の分析を行なっていない期間に自動洗浄の工程をスケジュールに組み入れることができる。このため、分析作業の一層の効率化が図れると共に、ガラスインサートの汚れに起因するゴーストピークの発生等の分析結果の不具合をより確実に回避することができる。
【0011】
【実施例】
以下、本発明のガスクロマトグラフ装置の一実施例を図を参照しつつ説明する。図1及び図2は本実施例のキャピラリガスクロマトグラフ装置の流路を中心とする構成図であって、図1は通常のクロマトグラフ分析時の流路、図2はガラスインサート洗浄時の流路を示している。
【0012】
本実施例のクロマトグラフ装置では、流量調節器15と試料気化室11との間のキャリアガス流路14上に四方弁24を設け、四方弁24の一端には、洗浄用溶媒を満たした溶媒貯留槽25とシリンジポンプ26とを設けた溶媒供給路27を接続している。また、カラム10出口に設けた検出器21のガス排気路29には、排気電磁弁30を設けている。
【0013】
本実施例では、検出器21として水素炎イオン化検出器(FID)が用いられている。FIDの空気、水素及びメイクアップガスの各流路31、33、35にはそれぞれ調圧器32、34、36が設けられている。また、通常、FIDではノズル28を内装する燃焼室は排気路29を除いても完全には密封されていないが、ガス漏れが生じる可能性のある部分に適当なシールを行なって排気路29以外からガスが漏れないようにしておくことが好ましい。
【0014】
制御部37は特に制御信号線を図示していないが、温度制御部38の制御の他に、後述のように四方弁24の流路切換を始めとする各電磁弁20、30の開閉動作等、の制御を行なっている。
【0015】
まず、通常のクロマトグラフ分析時には、制御部37は、四方弁24を図1に示すように切り換えると共に、排気電磁弁30を開放し、空気、水素ガス、メイクアップガス調圧器32、34、36を所定のガス圧に制御する。また、流量調節器15及びスプリット流路の電磁弁20を所定のスプリット比となるように制御する。
【0016】
流量調節器15にて所定流量に制御されたキャリアガスは、四方弁24を通って第1分岐流路14a及び第2分岐流路14bから試料気化室11に導入される。スプリット比により決まる所定割合のキャリアガスがガラスインサート13を通ってカラム10に導入され、残りはスプリット流路19を通って外部に排出される。試料気化室11は図示せぬヒータにより所定温度(例えば試料に含まれる特定成分の沸点以上の温度)になるように加熱されている。このような状態で、ニードル23をセプタム12に突き刺して試料気化室11に液体試料を注入すると、試料は気化しキャリアガス流に乗って一部はカラム10へ導入され、残りはスプリット流路19を通って外部へ排出される。
【0017】
カラム10に導入された試料は、カラム10を通過する間に時間的に分離して検出器21に到達する。検出器21では、カラム10から出る試料ガスに、水素ガス流路33及びメイクアップガス流路35を通して供給される水素ガス及びメイクアップガス(通常はキャリアガスと同様の不活性ガス)が混合されてノズル28の先端で燃焼される。また、この水素炎フレームを取り囲むように空気流路31を通して供給された空気が流される。水素炎フレーム中に特定成分が混入するとイオンが発生するので、このイオンを電極で捕集してイオン電流を検出することによりその成分を検出することができる。燃焼した後のガスは空気と共に排気路29を介して外部へ排出される。
【0018】
上記分析の過程で、試料気化室11に注入される液体試料に含まれる不揮発性及び高沸点成分はガラスインサート13の内壁に付着し、分析を繰り返すと次第に汚れが酷くなる。そこで、次のようにしてガラスインサート13の洗浄を行なう。
【0019】
すなわち、制御部37は、四方弁24を図2に示すように切り換えると共に排気電磁弁30を閉鎖する。スプリット比は上記分析時よりも大きくなるように(つまりスプリット流路19の流量の割合が増加するように)、電磁弁20の開度を大きく調節すると共に、逆にキャリアガスの流入量は減少するように流量調節器15を制御する。また、空気調圧器32及び水素ガス調圧器34は閉鎖する一方、メイクアップガスの供給圧は上記分析時よりも増加するようにメイクアップガス調圧器36を制御する。更に、温度制御部38は、試料気化室11の温度が洗浄用溶媒の沸点よりも低い所定の温度になるように図示せぬヒータを制御する。
【0020】
排気路29は排気電磁弁30により閉塞されるので、メイクアップガス流路35を通して供給されたメイクアップガスが燃焼室に充満した後にはノズル28から更にカラム10に流れ込み、分析時のキャリアガス流とは逆にカラム10を遡って試料気化室11側へと進む。このガス流は、上記のようにメイクアップガスの供給圧を上げ、逆に試料気化室11内の圧力を下げることにより、よりスムーズに試料気化室11へと流れ込む。
【0021】
一方、キャリアガスは四方弁24を介して第1分岐流路14aを通って試料気化室11に流れ込む。また、シリンジポンプ26は、溶媒貯留槽25中の洗浄用溶媒を十分に吸引した後に高い圧力をもって溶媒供給路27にその溶媒を送出する。この洗浄用溶媒は、四方弁24を介して第2分岐流路14bから試料気化室11に送り込まれる。試料気化室11内の温度は該溶媒の沸点以下になっているので、導入された洗浄用溶媒は気化せずに液体のままキャリアガスと混じり合ってガラスインサート13内部を通る。この際に、ガラスインサート13に付着していた成分は溶媒中に溶け出す。溶媒及びキャリアガスはカラム10入口に到達するが、カラム10入口からはメイクアップガスが逆流してくるので、カラム10中に侵入することなくスプリット流路19側へ進む。そして、洗浄用溶媒、キャリアガス及びメイクアップガスは入り混じってスプリット流路19を通して外部に排出される。
【0022】
所定時間、洗浄用溶媒を試料気化室11に送り込んでガラスインサート13の洗浄を十分に行なった後に洗浄用溶媒の送出を停止し、キャリアガス及びメイクアップガスのみを試料気化室11に暫時流す。これにより、試料気化室11内部に残留している洗浄用溶媒を揮散させて、その内部を乾燥させる。このようにして、ガラスインサート13の洗浄は終了する。
【0023】
なお、上記説明では検出器21はFIDとしたが、周知のいずれの検出器も使用することができる。ここで、TCDやECD等の試料セルが密封された検出器では特にシールを行なう必要はない。
【0024】
また、上記実施例では、制御部37が四方弁24等を制御して自動的に洗浄が行なわれるようにしていたが、これらの操作をオペレータが実行することによりインサートの洗浄を行なうこともできる。この場合でも、装置の動作を停止し試料気化室11を分解する等の作業は不要であるので、従来の洗浄方法と比べて手間や時間は大幅に削減できる。
【0025】
また、上記実施例において、試料気化室11の温度は洗浄用溶媒の沸点以下に維持する必要があるが、洗浄時にカラム10の温度をカラム10の耐熱温度以下の適当な高温に維持することにより、いわゆるカラム10のエージングを行なうようにしてもよい。このとき、カラム10内壁に付着していた高沸点成分は気化して、カラム10中を流通するメイクアップガスにより運び去られる。この気化した高沸点成分は試料気化室11に入り込むと洗浄用溶媒中に溶け込み、試料気化室11から排出されるので、試料気化室11内部を汚染することはない。
【0026】
また、メイクアップガスは通常He等の不活性ガスが使用されるため、カラム10の温度が比較的高温に維持されていても、該ガスがカラム10内壁に塗布されている固定相を損なうことはない。更には、洗浄時にカラム10の温度を常温付近にまで低下させるようにすれば、不活性なメイクアップガスの代わりに空気流路31を通して供給される空気をカラム10に逆流させることができる。なぜなら、カラム10が低温であれば、空気中の酸素が固定相を酸化する等の現象が生じにくいからである。
【0027】
また、上記実施例は一例であって、本発明の趣旨に沿って適宜変更や修正を行なえることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のガスクロマトグラフ装置の一実施例の構成図。
【図2】 図1のガスクロマトグラフ装置においてガラスインサート洗浄時の流路を示す構成図。
【図3】 従来のガスクロマトグラフ装置の流路を示す構成図。
【符号の説明】
10…カラム 11…試料気化室
13…ガラスインサート 14…キャリアガス流路
15…流量調節器 19…スプリット流路
20…電磁弁 21…検出器
24…四方弁 27…溶媒供給路
29…ガス排気路 30…排気電磁弁
35…メイクアップガス流路 32、34、36…調圧器
37…制御部 38…温度制御部
Claims (1)
- カラム入口に設けた試料気化室にキャリアガス流路及びスプリット流路を接続し、該スプリット流路を通して試料気化室内のガスの一部を排出しながらクロマトグラフ分析を行なうガスクロマトグラフ装置において、
a)試料気化室に洗浄用溶媒を供給するための溶媒導入管と、
b)カラム出口側のガス排出口の手前側に設けた流路閉鎖手段と、
c)該流路閉鎖手段よりも上流側のカラムに接続されたガス導入管と、
を備え、前記流路閉鎖手段を閉じた状態で前記ガス導入管を介してカラムを遡るようにガスを導入すると共に、前記溶媒導入管を介して試料気化室内に洗浄用溶媒を導入し、該洗浄用溶媒をスプリット流路を介して外部へ排出するようにしたことを特徴とするガスクロマトグラフ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18781597A JP3743127B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | ガスクロマトグラフ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18781597A JP3743127B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | ガスクロマトグラフ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1114613A JPH1114613A (ja) | 1999-01-22 |
JP3743127B2 true JP3743127B2 (ja) | 2006-02-08 |
Family
ID=16212732
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18781597A Expired - Fee Related JP3743127B2 (ja) | 1997-06-25 | 1997-06-25 | ガスクロマトグラフ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3743127B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5548035B2 (ja) * | 2010-06-08 | 2014-07-16 | エフアイエス株式会社 | ガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフの使用方法 |
WO2020129137A1 (ja) * | 2018-12-17 | 2020-06-25 | 株式会社島津製作所 | ガスクロマトグラフ、メンテナンスモード設定方法およびメンテナンスモード設定プログラム |
WO2020129136A1 (ja) * | 2018-12-17 | 2020-06-25 | 株式会社島津製作所 | ガスクロマトグラフ、メンテナンス切り替えモード設定方法およびメンテナンス切り替えモード設定プログラム |
KR102176595B1 (ko) * | 2018-12-28 | 2020-11-09 | 주식회사 유엔지니어링 | 고주파 가열 연소를 이용한 toc 측정 시스템 |
-
1997
- 1997-06-25 JP JP18781597A patent/JP3743127B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1114613A (ja) | 1999-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000019165A (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
JP4743270B2 (ja) | ガスクロマトグラフ | |
JPWO2010119801A1 (ja) | 液体クロマトグラフ | |
JP5870387B2 (ja) | ガスクロマトグラフ用のヘリウム保存装置 | |
US6062065A (en) | Method and apparatus in gas chromatography for introducing a sample | |
US4124358A (en) | Sample-injection device for process gas chromatography with capillary columns | |
JP3743127B2 (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
JPH06201650A (ja) | 高速液体クロマトグラフ・質量分析計の直結方法およびその装置 | |
JP3854716B2 (ja) | 液体クロマトグラフ | |
JP3367293B2 (ja) | ガスクロマトグラフの試料導入方法 | |
JPH1151920A (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
JP4179189B2 (ja) | ガスクロマトグラフ装置 | |
KR100305292B1 (ko) | 휘발성 유기화합물 분석장치의 열탈착 시료주입장치 | |
JP3120611U (ja) | ガスクロマトグラフ | |
JP3102441B2 (ja) | ガスクロマトグラフ | |
CN113242969B (zh) | 气相色谱仪、维护切换模式设定方法以及存储有维护切换模式设定程序的计算机可读取介质 | |
JP2002228637A (ja) | ガスクロマトグラフ質量分析装置 | |
JP3435344B2 (ja) | 液体クロマトグラフ | |
JP3290893B2 (ja) | 気相成分分析装置 | |
JPH075409Y2 (ja) | 試料農縮導入装置 | |
JPH10170491A (ja) | ガスクロマトグラフ用検出器 | |
JPH09274025A (ja) | ガスクロマトグラフ用試料注入装置 | |
JP4240665B2 (ja) | 校正用ガス調製装置及びガス分析装置 | |
JP2000002695A (ja) | 試料大量注入法及び装置 | |
JP3541558B2 (ja) | ガスクロマトグラフの試料導入装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040406 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20051014 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051025 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051107 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091125 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091125 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101125 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111125 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121125 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121125 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131125 Year of fee payment: 8 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |