JP3729638B2 - メモリデバイス - Google Patents

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    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F12/00Accessing, addressing or allocating within memory systems or architectures
    • G06F12/14Protection against unauthorised use of memory or access to memory

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ブロック毎にデータの書き込み・消去を行うメモリデバイスに関し、特に、ブロック毎に書き込み・消去を禁止する記憶データ保護機能と、その書き込み・消去の禁止を解除する保護解除機能とを有するメモリデバイスに関する。
【0002】
【従来の技術】
ブロック毎に書き込み・消去が行われるメモリデバイスとして、不揮発性メモリセルを利用したフラッシュメモリが知られている。かかるフラッシュメモリは、誤操作による書き込み・消去を防止する為に、書き込み・消去を禁止する記憶データの保護機能が設けられる。例えば、コンピュータを起動する時に読み込まれるイニシャル・プログラム・ロード用のプログラム等を記憶するブート領域に対応するメモリブロックについては、最初に書き込み・消去を禁止するように設定することで、通常状態においてそのメモリブロックに誤って他のデータが書き込まれたり、記憶データが消去されたりすることがないようにする。但し、初期において或いは一定の場合において、かかるメモリブロックにはデータの書き込みや消去を行う必要があり、上記の保護機能を解除する機能も設けられている。
【0003】
図10は、従来例のデータの保護解除機能を説明する図表である。従来例のメモリデバイスは、ブロック毎に書き込み・消去を禁止する保護指定データを記憶する保護指定記憶部と、その保護を解除する保護解除信号とを有する。通常状態では、保護解除信号は、保護指定データを有効にする為に非解除状態にある。その場合は、図表のケース1、2に示される通り、保護指定記憶部から読み出した保護指定信号に応じて、書き込み・消去回路の書き込み・消去を禁止する保護信号が、非保護または保護状態に制御される。一方、図表のケース3、4に示される通り、保護解除状態になると、保護指定記憶部からの保護指定信号の状態にかかわらず、非保護状態となり、書き込み・消去が許可される。
【0004】
上記のメモリデバイスでは、保護指定されているメモリブロックに対して特に書き込みや消去を行いたい場合は、単に保護解除信号により保護指定データを無視するようにするだけであり、わざわざ保護指定記憶部のデータの変更を行う必要がないので、一部のメモリブロックへの書き込み・消去や全体のデータ変更などのさまざまな書き込み・消去処理に柔軟に対応することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記の従来例では、保護解除信号により保護解除状態にすると、本来データの変更をすべきでないメモリブロックに対しても誤って書き込み・消去がなされる場合が発生する。即ち、保護解除信号により保護指定データを無視する一時的保護解除という簡便な機能をとった為に、その一時的保護解除により、保護の優先度の高いメモリブロックに対しても簡単にデータの変更がなされてしまうことになる。そのため、ブートメモリ領域内のブートプログラムなどの高いセキュリティ性を有するデータに対して、誤って変更・消去してしまう危険性が高くなり、好ましくない。
【0006】
そこで、本発明の目的は、保護解除状態になっても書き込み・消去の禁止状態(保護状態)を維持することができるメモリデバイスを提供することにある。
【0007】
更に、本発明の目的は、保護解除状態になっても、更に別の操作を行わなければ書き込み・消去の禁止状態(保護状態)を解除できないメモリデバイスを提供することにある。
【0008】
更に、本発明の目的は、保護レベルを複数階層にすることができるメモリデバイスを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成する為に、本発明は、メモリブロック単位で書き込み・消去が行われるメモリデバイスにおいて、書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部に加えて、保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部を有する。そして、保護解除信号により保護指定データを無視する保護解除状態になっても、特定ブロック指定データにより特定ブロックと指定されている場合は、保護解除信号を無効化する。その結果、保護解除状態になっても特定ブロックと指定されているメモリブロックへの書き込み・消去は禁止され、データ保護のレベルを二重にすることができる。そして、特定ブロックに指定されたメモリブロックに書き込み・消去を行う場合は、単に保護解除信号を保護解除状態にするのではなく、保護指定データの変更というより煩雑な操作を必要とすることにより、データ保護のセキュリティ性をより高いレベルにすることができる。
【0010】
上記の目的を達成する為に、本発明は、複数のメモリブロックを有し、前記メモリブロック単位で書き込みまたは消去が行われるメモリデバイスにおいて、
書き込み・消去信号に応答して、選択されたメモリブロックに書き込みまたは消去を行う書き込み・消去回路と、
書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部と、
保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部とを有し、
保護解除がされない場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記保護指定データに応じて、前記書き込み・消去回路の書き込み・消去動作が禁止され、保護解除がされた場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記特定ブロック指定データが非指定状態であれば前記書き込み・消去動作が許可され、前記特定ブロック指定データが指定状態であれば、前記保護指定データに応じて前記書き込み・消去動作が禁止されることを特徴とする。
【0011】
上記発明により、メモリブロック内に記憶されているデータの保護のレベルを二重にすることができ、誤って書き込み・消去によりデータが変更されることを防止することができる。
【0012】
更に、上記の目的を達成する為に、本発明は、複数のメモリブロックを有し、前記メモリブロック単位で書き込みまたは消去が行われるメモリデバイスにおいて、
書き込み・消去信号に応答して、選択されたメモリブロックに書き込みまたは消去を行う書き込み・消去回路と、
書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部と、
第1の保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部とを有し、
第2の保護解除がされない状態において、前記第1の保護解除がされない場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記保護指定データに応じて、前記書き込み・消去回路の書き込み・消去動作が禁止され、前記第1の保護解除がされた場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記特定ブロック指定データが非指定状態であれば前記書き込み・消去動作が許可され、前記特定ブロック指定データが指定状態であれば、前記保護指定データに応じて前記書き込み・消去動作が禁止され、
前記第2の保護解除がされた状態において、前記特定ブロック指定データにかかわらず前記書き込み・消去動作が許可されることを特徴とする。
【0013】
上記の発明によれば、保護指定記憶部によるデータの保護に加えて、第1及び第2の保護解除状態があり、第1の保護解除状態は特定ブロック指定記憶部に依存して保護の解除が行われ、第2の保護解除状態により全てのメモリブロックの保護の解除が行われるので、保護のレベルを多層化することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面に従って説明する。しかしながら、本発明の技術的範囲がその実施の形態に限定されるものではない。
【0015】
図1は、第1の実施の形態例の保護回路図の構成図である。図1において、メモリ領域1は4つのメモリブロックで構成される。各メモリブロック0乃至3は、ブロック選択信号BLKによってそれぞれ選択され、書き込み(プログラム)・消去及び読み出しが行われる。このメモリ領域1を構成する各メモリブロック内には、複数のメモリセルが設けられ、これらメモリセルは、後述するとおり例えば不揮発性メモリセルで構成される。不揮発性メモリセルの一般的な構造は、ワード線に接続されるコントロールゲートと、ビット線に接続されるドレイン電極と、ソース線に接続されるソース電極と、データを記憶するフローティングゲートからなる。かかる不揮発性メモリセルへの書き込み(プログラム)は、例えばワード線電圧を9Vにし同時にビット線電圧を5V、ソース線電圧を0Vにすることで電子をフローティングゲートに注入することで行われる。また、メモリセルへの消去はワード線電圧を−9Vにし、ビット線をフローティング、ソース線電圧を5Vにすることで、フローティングゲート内の電子を除去することで行われる。このように、メモリセルへの書き込み・消去を行うためには、ワード線、ビット線及びソース線の電圧をそれぞれ最適なレベルに制御する必要がある。このような制御を行うのは、書き込み・消去回路2である。書き込み・消去回路2は、書き込み・消去信号WEが供給され、書き込み状態または消去状態に応じて、上記したとおりワード線、ビット線及びソース線の電圧をそれぞれ制御する。
【0016】
メモリ領域1に記憶されたデータを保護するために、保護回路部10が保護信号PRTを書き込み・消去回路2に供給する。保護回路部10が、例えばHレベルの保護信号PRTを書き込み・消去回路2に供給する場合は、書き込み・消去信号WEにかかわらず、メモリ領域内のデータの書き込み及び消去が禁止される。
【0017】
不揮発性メモリセルを利用したフラッシュメモリにおいて、ブロック毎に書き込み・消去を行うために、メモリ領域1内の各ブロックはブロック選択信号BLKにより選択される。従って、各メモリブロック毎に書き込み・消去を禁止するために、保護回路部10内に、書き込み・消去を禁止する保護指定データをメモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部12が設けられる。この保護指定記憶部12には、ブロック選択信号BLKが供給され、ブロック選択信号BLKに対応する保護指定データが保護指定信号14として出力される。
【0018】
保護解除信号20は、外部から供給される信号64に従って生成され、例えばHレベルで保護解除状態にされる。保護解除信号20が非解除状態(Lレベル)の場合は、通常、保護指定記憶部12内に記憶される保護指定データに従って保護信号PRTが生成される。従って、記録されたデータを保護すべきメモリブロックに対して、対応する保護指定記憶部12内の領域に保護指定データ(Hレベル)を記憶することで、通常状態における誤った書き込み・消去が防止される。一方、保護解除信号20を保護解除状態(Hレベル)にすることにより、保護指定記憶部12内の保護指定データが無視され、保護信号PRTは非保護状態(Lレベル)となり、メモリブロックへの書き込み・消去が許可される。
【0019】
保護回路部10は、保護指定記憶部12に加えて、保護解除を禁止する特定ブロック指定データをメモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部16を有する。この特定ブロック指定記憶部16内には、メモリブロック内のデータの保護レベルをより高くするために、保護解除を禁止する特定ブロック指定データがメモリブロックに対応して記憶される。すなわち、特定ブロック指定データが指定状態(Hレベル)の場合は、保護解除信号20により保護指定記憶部12内の保護指定データを無視する保護解除状態になっても、対象となるメモリブロックは、特定ブロックと指定されて保護解除信号20を無効化する。
【0020】
その結果、保護解除状態になっても特定ブロックと指定されているメモリブロックへの書き込み・消去は禁止され、データ保護のレベルを二重にすることができる。そして特定ブロックに指定されたメモリブロックに書き込み・消去を行う場合は、単に保護解除信号20を保護解除状態(Lレベル)にするのではなく、特定ブロック指定記憶部16内の特定ブロック指定データの変更又は保護指定記憶部12内の保護指定データの変更というより煩雑な操作を必要とすることになり、データ保護のセキュリティレベルをより高くすることができる。
【0021】
上記の保護機能を実現するために、保護回路部10内には、ノアゲート22、24、インバータ28、30が設けられる。そして、保護指定信号14、特定ブロック指定信号18及び保護解除信号20が、ノアゲート22、24及びインバータ28、30によってデコードされ、保護信号PRTが生成される。
【0022】
図2は、第1の実施の形態例の保護解除機能を示す図表である。図1に示されるとおり、仮に、保護指定記憶部12には、領域0、1に保護状態(Hレベル)のデータが、領域2、3に非保護状態のデータ(Lレベル)がそれぞれ記憶され、特定ブロック指定記憶部16には、領域0に特定ブロックに指定するデータ(Hレベル)が、領域1、2及び3に指定ブロックに指定しないデータ(Lレベル)がそれぞれ記憶されているとする。かかる状態において、保護解除機能がどの様になるかについて、図2の図表に従って説明する。
【0023】
ケース1と2は、保護解除信号20が非解除状態(Lレベル)の場合である。このような通常状態において、ブロック選択信号BLKに応答して保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14が、非保護状態(Lレベル)の場合は、保護信号PRTも非保護状態(Lレベル)になり、書き込み・消去が許可される。一方、保護指定信号14が保護状態(Hレベル)の場合は、保護信号PRTも保護状態(Hレベル)になり、書き込み・消去は禁止される。従って、上記した例では、メモリブロック0又は1が選択される場合は、書き込み・消去が禁止され、メモリブロック2又は3が選択される場合は、書き込み・消去が許可される。
【0024】
次に、図2のケース3、4に示されるとおり、保護解除信号20が解除状態(Hレベル)の場合は、特定ブロック指定記憶部16内に記憶された特定ブロック指定データに従って、保護信号PRTの保護状態又は非保護状態が決定される。今仮にメモリブロック1が選択されたとすると、特定ブロック指定記憶部16から読みだされた特定ブロック指定信号18が非特定ブロック状態(Lレベル)であり、保護指定信号14にかかわらず、保護信号PRTは非保護状態(Lレベル)となり、書き込み・消去が許可される。すなわち保護解除信号20によって、保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14が無視される。
【0025】
更に、図2のケース5、6に示されるとおり、保護解除信号20が解除状態(Hレベル)であって、特定ブロック選択信号18が特定ブロック指定状態(Hレベル)の場合は、保護解除信号20による保護指定信号14を無視する機能は禁止され、保護指定記憶部12から読みだされる保護指定信号14によって、保護信号PRTが決定される。従って、保護指定信号14が非保護状態(Lレベル)であれば、保護信号PRTも非保護状態(Lレベル)となり、書き込み・消去が許可される。一方、保護指定信号14が保護状態(Hレベル)の場合は、同様に保護信号PRTも保護状態(Hレベル)となり、書き込み・消去が禁止される。
【0026】
図3は、書き込み・消去回路の構成を示す図である。図1において説明したとおり、書き込み・消去回路2には、書き込み・消去信号WEと保護信号PRTとが供給される。保護信号PRTはインバータ48を介して、アンドゲート46に入力され、書き込み・消去信号WEの有効化又は無効化が行われる。書き込み・消去信号WEは、例えば2ビットの信号であり、いずれかのビットがHレベルになることにより、書き込み又は消去が指示される。保護信号PRTが保護状態(Hレベル)の場合は、アンドゲート46の出力が強制的にLレベルとなり、書き込み・消去回路2内のワード線電圧制御回路40と、ビット線電圧制御回路42及びソース線電圧制御回路44の制御が禁止される。その結果、書き込み・消去が禁止される。
【0027】
一方、保護信号PRTが非保護状態(Lレベル)の場合は、書き込み・消去信号WEがそのまま、ワード線電圧制御回路40と、ビット線電圧制御回路42とソース線電圧制御回路44に供給される。そして、それぞれの電圧制御回路の出力のワード線昇圧電圧41と、ビット線昇圧電圧43及びソース線昇圧電圧45は、書き込み時と消去時において、図3に示されるようなレベルまたは状態に制御される。その結果、書き込み・消去が許可される。前述したとおり、書き込み時においては、ワード線電圧41が9V、ビット線電圧43が5V、ソース線電圧45が0Vとなり、電子がフローティングゲート内に注入される。また消去時において、ワード線電圧41は−9V、ビット線電圧43はフローティング状態、そしてソース線電圧45は5Vとなり、フローティングゲート内の電子が除去される。
【0028】
図4は、不揮発性メモリセルを利用したフラッシュメモリの1メモリブロック内の構造を示す図である。図4においてメモリセルブロックMCB内には、複数のワード線WLと複数のビット線BLとが設けられ、それらの交差位置に不揮発性メモリセルMCが配置される。メモリセルMCの各ドレイン電極は、ビット線BLに接続され、各コントロールゲートはワード線WLに接続され、そして各ソース電極はソース線SLに共通に接続される。Xデコーダ50には、XアドレスXAddとブロック選択信号BLKとが供給され、ブロック選択状態においてXアドレスに従って一本のワード線WLを選択する。選択されたワード線WLは、ワード線電圧制御回路40によって生成されるワード線電圧41に制御される。Yデコーダ52には、YアドレスYAddとブロック選択信号BLKが供給され、ブロック選択状態においてYアドレスに従って一本のビット線BLを選択する。
【0029】
読み出し状態においては、選択されたビット線BLはセンスアンプ54に接続され、メモリセル内に記憶されたデータが出力される。また書き込み・消去動作状態においては、ワード線WLがワード線電圧制御回路40の生成するワード線電圧41に、ビット線BLがビット線電圧制御回路42の生成するビット線電圧43にそれぞれ制御される。同様に、ソース線SLもソース電圧制御回路44によってその電圧が制御される。
【0030】
図4には、図1に示した保護回路部10が示され、保護回路部10によって生成される保護信号PRTによって、前述したとおりメモリブロックへの書き込み・消去動作が許可又は禁止される。保護回路部10の構成は、図1に示されたものと同じである。
【0031】
図5は、保護指定記憶部又は特定ブロック指定記憶部の具体的な構成を示す図である。この記憶部内には、電源VCCに負荷抵抗RLを介して4つの記憶セルC0乃至C3が平行に接続される。各記憶セルC0乃至C3は、不揮発性メモリと同じものが利用されている。各記憶セルのゲートにはブロック選択信号BLK0乃至BLK3がそれぞれ供給され、負荷抵抗RLと記憶セルとの接続点に保護指定信号14または特定ブロック指定信号18が出力される。これらの記憶セルは通常消去状態であり、非保護状態又は非特定状態の時は、ブロック選択信号BLKのHレベルに応答して導通状態となり、出力信号はLレベルとなる。また、これらの記憶セルに書き込みを行うことにより、保護状態または特定状態にすることができ、ブロック選択信号BLKのHレベルによっても、出力の保護指定信号14または特定ブロック指定信号18がHレベルになる。
【0032】
図6は、第1の実施の形態例の保護解除機能の変形例を示す図表である。図6に示された変形例は、図2に示された図表と比較することによって相違点が明確になる。すなわち、ケース1、2の通常状態においては、図2と同様の保護非解除機能を有する。次にケース3、4においても、図2の場合と同様に、保護指定信号14の状態にかかわらず保護解除信号20の解除状態(Hレベル)によって、保護信号PRTは非保護状態となり、書き込み・消去が許可される。ケース5、6が図2に示された場合と異なる。図6の変形例では、ケース5、6において保護解除信号20が解除状態(Hレベル)であって、特定ブロック指定信号18が特定ブロック指定状態(Hレベル)の場合には、保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14の状態にかかわらず、保護信号PRTは保護状態(Hレベル)となり、書き込み・消去動作が禁止される。
【0033】
上記したとおり、図6に示した変形例では、保護解除信号20が解除状態であって、特定ブロック指定信号18が特定ブロック指定状態の場合には、強制的に書き込み・消去が禁止される。その結果、特定ブロック指定記憶部16の記憶データと保護指定記憶部12の記憶データとの間に整合性をとる必要がなく、常に特定ブロック指定記憶部16内の記憶データが優先される。
【0034】
図7は、上記の変形例を実現するための保護回路部10の回路図である。図6におけるケース1,2の場合は、保護解除信号20が非解除状態のLレベルであるので、NORゲート29は、保護指定記憶部12からの保護指定信号14を反転して通過させる。また、インバータ30の出力がHレベルであるので、NORゲート24の出力は強制的にLレベルとなり、ゲート29の出力はNORゲート22を反転して通過する。その結果、保護信号PRTが保護指定信号14に応じたレベルとなる。
【0035】
次に、図6のケース3〜6の場合は、保護解除信号20が解除状態のHレベルになり、保護指定信号14にかかわらずNORゲート29の出力はLレベルとなる。一方、インバータ30の出力はLレベルとなり、特定ブロック指定信号18が反転されてNORゲート24を通過する。更に、その出力がNORゲート22を反転して通過し、保護信号PRTが特定ブロック指定信号18に応じたレベルとなる。
【0036】
図8は、第2の実施の形態例の保護回路部の構成図である。前述の第1の実施の形態例では、メモリブロック内のデータの保護のレベルは、2段階になっていたが、図8に示した第2の実施の形態例では、3段階の保護レベルになっている。すなわち、図8の第2の実施の形態例では、第1の保護解除信号20に加えて、第2の保護解除信号60が追加される。そして追加された第2の保護解除信号60は、ノアゲート22に供給される。
【0037】
図9は、第2の実施の形態例の保護解除機能を示す図表である。この図表を参照して第2の実施の形態例の保護解除機能について説明する。
【0038】
第2の実施の形態例は、第1の保護解除信号20によって特定ブロック以外のブロックに対する書き込み・消去を許可する保護解除機能と、第2の保護解除信号60によって、特定ブロックを含めた全てのブロックに対する書き込み・消去を許可する保護解除機能を持つ。図9に示されるケース1は、第1及び第2の保護解除信号が共に非解除状態(Lレベル)の場合である。この様な通常状態では、保護解除機能は保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14に依存して決められる。すなわち、図2又は図6に示されたケース1及び2の場合と同じである。
【0039】
図9に示されたケース2の場合は、第1の保護解除信号20が解除状態(Hレベル)であり、第2の保護解除信号60が非解除状態(Lレベル)である。このケース2の場合は、特定ブロック以外のメモリブロックの書き込み・消去が許可される保護解除状態である。但し、特定ブロックの場合は、保護指定信号14に依存して保護が解除されるか或いは強制的に保護状態となる。すなわち図2のケース3乃至6の場合、あるいは図6の変形例のケース3乃至6の場合に該当する。
【0040】
図9に示されたケース3及び4の場合は、第2の保護解除信号60が解除状態(Hレベル)の場合である。このケース3及び4の場合は、第1の保護解除信号20にかかわらず、更に保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14の状態にかかわらず、すべてのメモリブロックのデータの保護が解除され、強制的に保護信号PRTが非保護状態(Lレベル)にされる。その結果、すべてのメモリブロックへの書き込み・消去が許可される。
【0041】
以上のとおり、第2の実施の形態例では、第1及び第2の保護解除信号が非解除状態の場合は、保護指定記憶部12から出力される保護指定信号14に依存して、保護信号PRTの保護状態若しくは非保護状態が決定される。さらに第1の保護解除信号20が解除状態(Hレベル)になると、特定ブロック指定記憶部16から出力される特定ブロック指定信号18に依存して、保護信号PRTの状態が決定され、特定ブロックに指定されたメモリブロックのデータが保護される。そして、第2の保護解除信号60が解除状態(Hレベル)になると、特定ブロックであっても保護信号PRTは非保護状態(Lレベル)となり、すべてのメモリブロックに対して書き込み・消去が許可される。
【0042】
第1及び第2の実施の形態例において、保護解除信号20、60は外部信号によって生成される。図1及び図8に示されるとおり、外部信号64又は66が供給される保護解除信号発生部62が設けられ、この外部信号64又は66に高い電圧が供給されるとき、保護解除信号発生部62は、保護解除信号20及び60を解除状態(Hレベル)になるように制御する。
【0043】
【発明の効果】
以上説明したとおり、本発明によれば、通常状態においてはメモリブロック毎に書き込み・消去の禁止または許可を指定することができ、さらに保護解除状態になっても特定ブロックに対しては書き込み・消去の禁止状態(保護状態)を維持することができ、メモリブロック内のデータが誤って変更又は消去される危険性が低くなる。更に保護解除信号を複数設けることによって保護解除状態を複数階層にし、メモリブロック内のデータの保護レベルを複数レベルにすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態例の保護回路図の構成図である。
【図2】第1の実施の形態例の保護解除機能を示す図表である。
【図3】書き込み・消去回路の構成を示す図である。
【図4】不揮発性メモリセルを利用したフラッシュメモリの1メモリブロック内の構造を示す図である。
【図5】保護指定記憶部又は特定ブロック指定記憶部の具体的な構成を示す図である。
【図6】第1の実施の形態例の保護解除機能の変形例を示す図表である。
【図7】変形例を実現するための保護回路部10の回路図である。
【図8】第2の実施の形態例の保護回路部の構成図である。
【図9】第2の実施の形態例の保護解除機能を示す図表である。
【図10】従来例のデータの保護解除機能を説明する図表である。
【符号の説明】
1 メモリブロック
2 書き込み・消去回路
12 保護指定記憶部
16 特定ブロック指定記憶部
20 保護解除信号(第1の保護解除信号)
60 第2の保護解除信号

Claims (12)

  1. 複数のメモリブロックを有し、前記メモリブロック単位で書き込みまたは消去が行われるメモリデバイスにおいて、
    書き込み・消去信号に応答して、選択されたメモリブロックに書き込みまたは消去を行う書き込み・消去回路と、
    書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部と、
    保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部とを有し、
    保護解除信号により保護解除がされない場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記保護指定データに応じて、前記書き込み・消去回路の書き込み・消去動作が禁止され、前記保護解除信号により保護解除がされた場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記特定ブロック指定データが非指定状態であれば前記書き込み・消去動作が許可され、前記特定ブロック指定データが指定状態であれば前記書き込み・消去動作が禁止されることを特徴とするメモリデバイス。
  2. 請求項において、前記保護解除を指示する前記保護解除信号が、外部から供給される信号にしたがって生成されることを特徴とするメモリデバイス。
  3. 請求項において、前記メモリブロックは、複数の不揮発性メモリセルを有することを特徴とするメモリデバイス。
  4. 請求項において、前記書き込み・消去回路は、前記不揮発性メモリセルのワード線電圧を制御するワード線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのビット線電圧を制御するビット線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのソース電圧を制御するソース電圧制御回路とを有することを特徴とするメモリデバイス。
  5. 複数のメモリブロックを有し、前記メモリブロック単位で書き込みまたは消去が行われるメモリデバイスにおいて、
    書き込み・消去信号に応答して、選択されたメモリブロックに書き込みまたは消去を行う書き込み・消去回路と、
    書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部と、
    第1の保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部とを有し、
    第2の保護解除信号により第2の保護解除がされない状態において、第1の保護解除信号により前記第1の保護解除がされない場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記保護指定データに応じて、前記書き込み・消去回路の書き込み・消去動作が禁止され、前記第1の保護解除信号により前記第1の保護解除がされた場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記特定ブロック指定データが非指定状態であれば前記書き込み・消去動作が許可され、前記特定ブロック指定データが指定状態であれば、前記保護指定データに応じて前記書き込み・消去動作が禁止され、
    前記第2の保護解除信号により前記第2の保護解除がされた状態において、前記特定ブロック指定データにかかわらず前記書き込み・消去動作が許可されることを特徴とするメモリデバイス。
  6. 請求項において、前記第1の保護解除を指示する前記第1の保護解除信号と、前記第2の保護解除を指示する前記第2の保護解除信号とが、外部から供給される信号にしたがって生成されることを特徴とするメモリデバイス。
  7. 請求項において、前記メモリブロックは、複数の不揮発性メモリセルを有することを特徴とするメモリデバイス。
  8. 請求項において、前記書き込み・消去回路は、前記不揮発性メモリセルのワード線電圧を制御するワード線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのビット線電圧を制御するビット線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのソース電圧を制御するソース電圧制御回路とを有することを特徴とするメモリデバイス。
  9. 複数のメモリブロックを有し、前記メモリブロック単位で書き込みまたは消去が行われるメモリデバイスにおいて、
    書き込み・消去信号に応答して、選択されたメモリブロックに書き込みまたは消去を行う書き込み・消去回路と、
    書き込み・消去を禁止する保護指定データを前記メモリブロック毎に記憶する保護指定記憶部と、
    第1の保護解除を禁止する特定ブロック指定データを前記メモリブロック毎に記憶する特定ブロック指定記憶部とを有し、
    第2の保護解除信号により第2の保護解除がされない状態において、第1の保護解除信号により前記第1の保護解除がされない場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記保護指定データに応じて、前記書き込み・消去回路の書き込み・消去動作が禁止され、前記第1の保護解除信号により前記第1の保護解除がされた場合は、選択されたメモリブロックに対応する前記特定ブロック指定データが非指定状態であれば前記書き込み・消去動作が許可され、前記特定ブロック指定データが指定状態であれば前記書き込み・消去動作が禁止され、
    前記第2の保護解除信号により前記第2の保護解除がされた状態において、前記特定ブロック指定データにかかわらず前記書き込み・消去動作が許可されることを特徴とするメモリデバイス。
  10. 請求項において、前記第1の保護解除を指示する前記第1の保護解除信号と、前記第2の保護解除を指示する前記第2の保護解除信号とが、外部から供給される信号にしたがって生成されることを特徴とするメモリデバイス。
  11. 請求項において、前記メモリブロックは、複数の不揮発性メモリセルを有することを特徴とするメモリデバイス。
  12. 請求項11において、前記書き込み・消去回路は、前記不揮発性メモリセルのワード線電圧を制御するワード線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのビット線電圧を制御するビット線電圧制御回路と、前記不揮発性メモリセルのソース電圧を制御するソース電圧制御回路とを有することを特徴とするメモリデバイス。
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