JP3613271B2 - 製造制御方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 55
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 101
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 53
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 claims description 48
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 41
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 claims description 13
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 12
- 238000000195 production control method Methods 0.000 claims description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 43
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 33
- 230000008569 process Effects 0.000 description 19
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 14
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 11
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 7
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 7
- -1 etc. Substances 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 6
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000013305 food Nutrition 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 238000007405 data analysis Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004497 NIR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000012850 discrimination method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000003333 near-infrared imaging Methods 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 238000011002 quantification Methods 0.000 description 1
- 238000000611 regression analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/359—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using near infrared light
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3563—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing solids; Preparation of samples therefor
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/11—Automated chemical analysis
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Description
本発明は近赤外吸収分析方法(近赤外分光分析方法)により試料を分析し、製造工程の運転制御を行う製造制御方法に関するものである。
〔背景技術〕
化学品、食品、農産物等の分析方法として近赤外吸収分析があり、この方法により成分、特性等を分析し、製造工程の運転制御が行われている。化学工業の分野においては、化学品の製造を制御する際、原料、溶媒、水分、中間品、製品、副生物等を近赤外分析により分析し、その測定値に基づいてプラント制御を行うことが提案されている。従来の近赤外吸収分析方法は、特定領域の近赤外吸収スペクトル(以下、近赤外スペクトルという場合がある)を測定し、このスペクトルに含まれる特定の波長の吸光度の組合せから、予め作成した検量線に基づいて目的とする成分、特性等が算出され、測定値(予測値)が求められている。
一般的な近赤外吸収法の使用例は、従来分析法による分析結果と近赤外吸収法による相関のある波長域のスペクトルを用いて相関式(検量線)を作成して、定量値の予測をする方法が用いられている。この定量値はあくまで検量線から求めた予測値である。ところが近赤外の特徴(弱点)としては、水分、温度(品温)等の影響でスペクトルがシフトすることが起こる。このことは、測定対象の成分、物性等が変動しなくても、恰も、成分濃度、物性が増減したかのような挙動を示す。このような誤った結果で、プラントの運転をすると規格を外れた製品を製造することとなる。
すなわち近赤外スペクトルの特徴は、特定の成分について特定の性状、特定の測定条件では特定の吸収スペクトルが得られるが、濃度、粒度、温度等の特性ないし条件が変化すると、吸収ピークの高さや位置が変化することがあり、また共存成分の吸収ピークとの干渉により異なるスペクトルが得られることがある。このように近赤外スペクトルには複数の成分の情報が含まれており、このようなスペクトルから統計的手法により検量線(相関式)を作成し、この検量線に基づいて分析が行われる。
検量線作成は所定の組成、特性を有する標準試料を複数個採取して一般分析と近赤外分析を行い、線形重回帰分析(MLR)、部分的最小二乗法(PLS)等の統計的手法によって相関式が求められている。近赤外スペクトルは多数の吸収ピークが現れるが、あまり多くの説明変数(使用波長)を用いると、検量線がオーバーフィッティング(過剰適合)となって信頼性が下がるため、説明変数は通常MLRでは2〜5、PLSでは10前後とされている。
近赤外領域の800〜2500nmの波長領域を使って成分濃度、物性値を求める方法として、現在使用している分析装置、物性測定装置で得られた結果と相関のある近赤外スペクトル波長を選択して相関式を求め、近赤外法の予測値を求める手法が一般的である。ところが近赤外領域は800〜2500nmとされるが、このような広範囲の波長領域から2〜5あるいは10前後の波長を選択し、検量線を作成して予測値を得ても、あくまで限られた波長での情報に過ぎない。このためサンプル(プロダクト)の全容或いは微妙な変化を把握することは困難である。特に、検量線を作成できないケースでは有効な方法とは言えない。
1.サンプルの濃度、物性変化が少ないケース
2.サンプルが経時変化をするケース
上記については、検量線を作成することが困難である。
本発明の目的は、検量線を用いることなく、簡単な方法により精度よく近赤外吸収分析を行い、これより得られる分析結果に基づいて、簡単な操作により精度よく製造工程の制御を行うことができる製造制御方法を提案することである。
〔発明の開示〕
本発明は次の製造制御方法である。
(1) 製造工程から得られる複数個の標準試料について近赤外領域を含む分析領域の吸収スペクトルを得、
上記分析領域に含まれるスペクトルから選択される選択波長について、標準試料の平均強度(標準平均強度)および標準偏差を算出してデータベース化し、
製造工程から得られる分析試料について上記分析領域の吸収スペクトルを得、
得られた吸収スペクトルをデータベースと比較し、
上記選択波長における分析試料の吸収スペクトルの強度(分析強度)の標準平均強度に対する偏差(分析偏差)を求め、
分析試料の吸収スペクトルの分析偏差が標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲外の分析強度を示す波長を含む場合、範囲外の分析偏差を示す波長を、予めデータベース化した製造情報と対比して制御データを得、
得られた制御データを製造工程に入力して標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲内の製品が得られるように制御する製造制御方法。
(2) データベース化された製造情報が、選択波長に対応する成分情報である上記(1)記載の方法。
(3) 分析強度の標準平均強度に対する偏差(分析偏差)が、データベース化された標準試料の標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲内かどうかを判定する上記(1)または(2)記載の方法。
(4) 分析領域が800nm〜2500nmである上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の方法。
(5) 分析領域が400nm〜2500nmである上記(4)記載の方法。
(6) 選択波長の間隔が10nm以下である上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の方法。
(7) 選択波長の間隔が2nm以下である上記(6)記載の方法。
(8) 吸収スペクトルが微分処理したものである上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の方法。
(9) 吸収スペクトルが2次微分処理したものである上記(8)記載の方法。
(10) 複数の種類の標準試料をそれぞれ複数個用いて、種類ごとに標準平均強度および標準偏差を算出してデータベース化する上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の方法。
(11) 複数の分析試料について吸収スペクトルを得、選択波長における分析試料の平均強度(分析平均強度)の標準平均強度に対する偏差を求める上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の方法。
本発明において制御の対象とする製造工程は化学品、食品その他の製品を製造する工程である。特に化学品、例えばポリオレフィン、ポリエステル、フェノール等の製造工程が好ましい。本発明では原料、溶媒、水分、中間品、製品、副生品等から得られる分析試料を近赤外吸収分析してそれらの成分、特性等の測定値を得、その測定値に基づいて製造工程の原料、溶媒、水分等の供給量や温度、圧力その他の製造条件などを制御し所定の品質の製品を得るように制御を行う。
本発明の近赤外吸収分析方法では、まず製造工程から得られる複数個の標準試料から近赤外領域を含む分析領域の吸収スペクトルを得る。標準試料は製造工程から得られる中間品、製品のうち合格品とされる試料を種類ごとに複数個用いて、それぞれの吸収スペクトルを得る。ここで種類とは、製造の銘柄ごとに決められる成分、物性等の違いにより分類されるもので、これらの違いに応じて製造条件も異なる。本発明では複数の種類の標準試料をそれぞれ複数個用い、それぞれにつき吸収スペクトルを得るのが好ましい。標準試料の数は多いほど正確な分析が行えるが、一般的には1種類につき20〜30個程度とすることができる。
分析領域は近赤外領域の場合800〜2500nmであるが、その一部でもよく、また近赤外領域の他に可視光領域および/または赤外領域を含んでいてもよい。可視光領域および近赤外領域を含む場合400〜2500nmとすることができる。近赤外領域は試料の成分、物性等の情報を含むが、可視光領域は色に関する情報を含んでおり、製品の色に関する分析および制御を行う場合は可視光領域を含むのが好ましい。吸収スペクトルはこのような分析領域につき連続的に吸収強度を測定して形成するのが好ましいが、次に述べる選択波長の吸収強度を測定して吸収スペクトルを形成してもよい。
本発明ではこうして得られる吸収スペクトルから選択される選択波長について平均強度(標準平均強度)および標準偏差を算出してデータベース化する。選択波長は間隔をおいて複数の波長が選択されるのが好ましく、特に一定間隔をおいて複数の波長が選択されるのが好ましい。選択波長の間隔は10nm以下、好ましくは2nm以下とすることができる。このような選択波長は分析領域の全領域にわたって選択するのが好ましいが、不要部分がある場合にはその部分を省略することもできる。標準平均強度は種類ごとに各選択波長における複数の標準試料の吸収スペクトルの強度を好ましくは代数的に平均化して求め、標準偏差は標準平均強度に対する各強度の偏差から計算により求められる。
このような標準平均強度と標準偏差の算出は、標準仕様から得られる原スペクトルから直接行ってもよいが微分処理、特に2次微分処理したスペクトルから算出するのが好ましい。近赤外吸収スペクトルは水分等の影響でベースラインが長波長側で上昇し、また複数のピークが重なって表示されるが、微分処理したスペクトルはベースラインがフラット化して水平方向となる。特に2次微分処理したスペクトルはピークが反転するが、小ピークが強調され、重なった複数のピークが分離して表示されるので好ましい。このような微分処理したスペクトルを用いて平均強度および標準偏差を求め、これらをコンピュータに入力してデータベース化する。このようなデータベースは標準試料の種類ごとに作成する。
このようにして得られたデータベースを用いて分析試料の分析を行う。分析試料は製造工程から得られる試料であり、この分析試料を分析するため、特に分析試料が合格品であるかどうかを判定するために分析領域について吸収スペクトルを得、このスペクトルとデータベースとを比較する。この場合、前記選択波長における分析試料の吸収スペクトルの強度(分析強度)の標準平均強度に対する偏差(分析偏差)を求める。この場合、分析偏差がデータベース化された標準偏差(σ)に基づいて決められる許容値(例えばσ、2σまたは3σ)の範囲内かどうかを判定し、範囲内であれば合格、範囲外であれば不合格とすることができる。
分析試料は1個だけ採取して分析を行ってもよく、複数個採取して分析を行ってもよい。後者の場合、個々にデータベースと比較してもよいが、選択波長について平均強度を求め、これを標準平均強度と比較することができる。また標準試料について微分処理した吸収スペクトルについて標準平均強度および標準偏差を求めてデータベース化した場合には、分析試料の吸収スペクトルについても微分処理(2次微分処理を含む)した吸収スペクトルについて強度を比較する。
上記のように分析試料の吸収スペクトルの強度とデータベースとを比較し、分析領域に含まれる評価領域における吸収スペクトルの分析偏差が許容値例えば3σの範囲内であれば合格品、範囲外であれば不合格品と判定することができる。評価領域は分析領域と同じであってもよいが、一部であってもよい。例えば分析領域として可視光領域から近赤外領域にわたって吸収スペクトルを得る場合でも、可視光領域は評価対象とせず、近赤外領域のみを評価対象とすることができる。評価領域における評価の仕方は任意に決めることができる。例えば特定の波長について1回の範囲外の発生でも不合格にしてもよく、また複数の分析試料について測定し、範囲外の発生率が所定%以上のときに不合格にするなど、分析の目的に応じて決めることができる。範囲内か範囲外かの判定は吸収スペクトルの強度と許容値を単独に比較するだけでもよいが、偏差値等の等価の数値を求めてそれをデータベースと比較してもよい。
吸収スペクトルの吸収ピークは分析試料の組成、物性等の情報を表しているから、許容値の範囲外の強度を示す波長を含む場合、範囲外の強度(分析偏差)を示す波長を予めデータベース化した製造情報と対比して制御データを得、得られた制御データを製造工程に入力して許容値の範囲内の製品を得られるように製造工程の制御を行うことができる。例えば許容値の範囲外の波長が特定の成分に関するものである場合、その波長の強度が許容値の範囲外であるということはその成分が標準値より多いか少ないかを示している。従ってその場合にはその成分量を減少させるか、あるいは増加させるような制御データを製造工程に入力して、許容値の範囲内の吸収スペクトルが得られように製造工程を制御することができる。また不要な副生物が生成する場合も、その副生物の量が許容値を越える場合に、その副生物が生成しない条件とするための制御データを得、これを製造工程に入力することができる。製品の物性、その他の条件の場合も同様である。
上記のような製造情報は予めデータベースとしてコンピュータに入力しておく。近赤外吸収スペクトルの吸収ピークは組成、物性等の種々の製造条件の情報を表示している。吸収スペクトルは種々の条件を複合的に表示しているが、特定の条件、例えば特定の成分の情報も複数の吸収ピークの組合せとして表示される。これらの吸収ピークの波長につき、制御データをデータベース化しておくと、分析試料について許容値の範囲外の異常ピークが得られた場合に、その異常ピークの波長をデータベースと比較すると、どの製造条件に関する異常であるかが判定できる。この場合どの製造条件かとともに、正常に戻すための制御データを入力しておくと、そのまま制御データを製造工程に入力して製造工程を正常に復帰させることができる。
上記の近赤外吸収分析方法および製造制御方法では、分析試料の構成成分、物性等の個々の分析または制御要素について検量線を作成してそれぞれを定量する必要はなく、分析領域の選択波長についてその吸光度をデータベースと比較して許容値の範囲内か範囲外かの判定をするだけで、合格または不合格の判定をすることができ、またその結果に基づいて制御を行うことにより製造工程を正常に復帰させることができる。この場合、個々の成分、物性等定量を行う必要がないので分析または制御のための操作が簡素化するとともに、精度が問題となる検量線を用いないので、分析精度は高くなり、検量線の補正も不要となる。標準試料としては従来の一般分析法により合格品とされたものを用いることにより、分析精度を高くすることができ、データベースの補完はなくてもよいが、さらに多くの標準試料についてデータベース化することにより分析精度を高くすることが可能である。
上記の近赤外吸収分析方法によれば、標準試料の近赤外吸収スペクトルの選択波長の強度の平均値及び標準偏差をデータベース化し、分析試料の吸収スペクトルをデータベースと比較するようにしたので、検量線を用いることなく、簡単な方法により精度よく分析を行うことができる。
本発明の製造制御方法によれば、上記により得られる分析結果に基づいて、簡単な操作により精度よく製造工程の制御を行うことができる。
〔発明を実施するための最良の形態〕
以下、本発明の実施の形態を図面により説明する。
図1は実施形態の製造制御方法を示すフロー図であり、(A)はデータベース化工程、(B)は制御工程を示す。
図1(A)のデータベース化工程では、まずステップ1において近赤外吸収分析装置の点検を行う。ステップ2において複数の標準試料の測定を行って、それぞれの標準試料の可視光から近赤外領域に至る分析領域の吸収スペクトルを得、ステップ3においてそれぞれのスペクトルをコンピュータに取り込む。コンピュータではステップ4において選択波長ごとにデータ処理を行って平均強度および標準偏差を求め、これらを記憶してデータベース化する。このデータベース化は製品の銘柄等の種類ごとにそれぞれ複数の標準試料について測定を行い、それぞれの種類毎のデータベースとして保存する。次にステップ5において選択波長に対応する製造情報をデータベース化する。製造情報としては成分や副生物の近赤外吸収スペクトル特性の変化によるスペクトルの変化の情報、ならびに制御データ等を入力することができる。
図1(B)の制御工程では、まずステップ11において近赤外吸収分析装置の点検を行う。そしてステップ12において、製造工程から採取した分析試料の分析領域における吸光スペクトルを測定し、ステップ13においてデータベースと比較し、標準平均強度との偏差(分析偏差)を求める。そしてその分析偏差がデータベース化された標準偏差から決められる許容値の範囲内のとき正常、範囲外のとき異常と判定する。この場合、分析試料ごとに測定しデータベースと比較してもよいが、製造工程から同時または間隔をおいて複数の分析試料を採取して測定し、測定値を平均化してデータベースと比較してもよい。ステップ14において正常と判定された場合、すなわち吸収スペクトルの特定の選択波長における強度がデータベース化された許容値、例えば3σの範囲内と判定された場合は、ステップ15としてプラントアクションなし、すなわち制御操作を行わないでそのままの条件で製造を継続する。
ステップ14で正常でないと判定された場合、すなわち吸収スペクトルの選択波長における強度がデータベース化された許容値、例えば3σの範囲外と判定された場合は、ステップ16においてその異常を示す波長を検出する。そしてステップ17においてその波長と製造情報を対比して、その波長が帰属する成分、物性等の制御要素が何であるかを判定する。さらにその異常強度が許容値の範囲より大きいか、小さいかを判定し、ステップ18において正常に戻すための制御データを得、制御信号を発生する。この制御信号はステップ19として製造工程に入力し、制御操作としてプラントアクションを行い、許容値内の製品が得られるように制御を行う。この場合、制御操作は一度に行ってもよく、小刻みに何度も行ってもよく、また継続して行ってもよい。そして正常値に復帰した後はそのままの条件で製造を継続してもよく、また条件を元に戻してもよく、それぞれの制御データによって決定する。
上記の工程において、選択波長の間隔は10nm以下、好ましくは2nm以下とすることができる。近赤外の波長領域は800nm〜2500nmであり、1nm刻みで、説明変数が1700個、2nm刻み説明変数が850個、10nm刻みで170個存在する。例えば800nm〜2500nmの波長領域を2nmで分割した場合は、選択波長すなわち説明変数が850個存在することになる。本発明ではこのような選択波長における複数の標準試料の吸収スペクトルを平均化し、標準偏差を求めてデータベース化する。
標準試料のデータベース化は次のように行われる。
(各波長領域の標準偏差のデータベース化)
標準偏差:σi={(1/N−1)Σ(Xi−μi)2}1/2
N:測定回数
Xi:各波長の強度
μi:各波長のN回の平均強度(標準平均強度)
σi:各波長の標準偏差
(波長についするσi、μiをデータベース化)
σ1 σ2 σ3 σ4 …σn
μ1 μ2 μ3 μ4 …μn
製造工程中から得られる分析試料の各波長における測定値の平均値とデータベースを対比する場合は次のように行われる。
分析偏差:Xi−μi (i:1、2、3、…n)
N回測定した各波長の平均強度(分析平均強度): xi
x1、x2、x3、…xn
データベース上の標準平均強度: μi
分析平均強度と標準平均強度の比較(分析偏差): xi−μi
x1−μ1、x2−μ2、x3−μ3、…xn−μn
xi−μiをσiで除する(xi−μi)/σi
分析偏差と許容値の比較
許容値がσの場合: 1≧(xi−μi)/σi
許容値が2σの場合:2≧(xi−μi)/σi
許容値が3σの場合:3≧(xi−μi)/σi
許容値が4σの場合:4≧(xi−μi)/σi
分子を構成する原子は対象伸縮振動、非対称伸縮振動、偏角振動をしている。この振動と振動数の同じ光が分子に照射されると、光の一部は分子に吸収され、基底状態から、励起状態となる。励起された原子は赤外領域の吸収の倍音が近赤外領域で観察される。従って近赤外吸収波長には化学的帰属性があり、目的成分に応じて波長を選択できる。しかし、2成分系の試料は希で、殆どは多成分が混在、若しくは反応、重合して別の形態に変化しているのが一般的である。
吸収波長の化学的帰属性については、官能基に帰属する波長領域はすでに知られているので、これに基づき原料、反応生成物の特徴的な官能基の波長領域をデータベース化する。官能基の波長領域の一例を以下に示す。
OH 第一倍音 1345〜1550nm
第二倍音 910〜1033nm
NH 第一倍音 1415〜1516nm
第二倍音 943〜1010nm
CH(脂肪族)第一倍音 1680〜1760nm
第二倍音 1120〜1173nm
CH(芳香族)第一倍音 1615〜1665nm
第二倍音 1077〜1111nm
上記実施形態では反応系の生成物を近赤外計で測定したスペクトルを微分処理し、800nm〜2500nmの波長領域の2次微分処理した。平均スペクトルをデータベースの平均スペクトルと比較して、所定の標準偏差をプラス・マイナスに外れた波長、波長領域について、官能基のデータベースと比較する。原料、反応生成物等を特定して、コンピュータを介し、所定の標準偏差の範囲内であるようにプラントを制御する。
近赤外計の測定で得られたスペクトルの吸光度は、温度、水分流速等の状況でスペクトルのベースが変動することが判っている。このことは、得られたスペクトルをそのまま用いることは、ベース変動(吸光度変化)により吸光度の値が変化することであり、測定結果に大きく影響を与える。このベースラインの変動の影響を小さく、このスペクトルを微分処理することにより、安定した吸収スペクトル強度を得る事が出来る。
スペクトルを微分処理することは、高周波であるノイズを増幅(強調)して、あたかも近赤外の情報として誤って利用することとなる。従って、ノイズレベルは吸光度単位で50×10-6以下であることが近赤外計の性能としては、必要条件である。
シグマ判別法は生産中のプロダクトが過去、正規品として製造された銘柄と同一の製品であるかを判別する手法であり、同一品であれば99.7%の確率で3σに収束する統計解析法である。正規品と確認された各銘柄の近赤外スペクトルの微分したサンプル20ないし30点をデータベースにして、生産品中のプロダクトを比較する。800〜2500nmの波長領域において、ベースとなる標準スペクトルの標準偏差(σ)の3倍、3σの範囲から外れる場合は異常と判断する。
上記の制御は近赤外計、近赤外計制御用コンピュータとデータ解析用コンピュータより構成される近赤外システムで、一定間隔で測定された近赤外スペクトルを制御用コンピュータを介し、または直接データ解析用コンピュータに取り込み微分処理を行い、定量値、3σ値を同時もしくは、どちらか一方をCRTに表示する。
以下、本発明の実施例について説明する。
〔実施例1〕
実施例1はポリオレフィン樹脂の製造制御の例である。この製造工程は4−メチルペンテン−1を含むオレフィンモノマーを触媒の存在下に重合させてポリオレフィン樹脂を製造する工程である。
図2は一般分析法により合格品と判定された製品からなる標準試料の近赤外吸収スペクトルであり、(A)は吸光度の原スペクトル、(B)はこれを2次微分した2次微分スペクトルである。原スペクトル(A)はベースラインが長波長側で上昇して右上がりとなり、複数のピークが重なって表示されているのに対し、2次微分スペクトル(B)はベースラインがフラット化して水平方向となり、吸収ピークが顕著に表示されることがわかる。図3は複数個(実施例では20個)の標準試料を測定した2次微分スペクトルの変動幅を示す。図4は図1および図2で得られた2次微分スペクトルをデータ処理して2nm間隔の選択波長の強度の平均値および標準偏差を求めてデータベース化し、平均値を横方向の0.000の線とし、標準偏差σの3倍の3σを±3.000の線とし、製造工程から採取した複数(3個)の分析試料の2次微分スペクトルを表示した。図4は製造工程が正常に運転されている例を示し、850nm〜2500nmのスペクトルは分析試料の組成、物性等の製品情報を含んでいる。各分析試料の850nm〜2500nmのスペクトルの各ピークは3σの範囲内にあり、許容値の範囲内であることを示している。850nm未満のスペクトルは可視光領域であって分析試料の色の情報に関するものであり、これは3σの範囲外でも許容される。
図5は異常値を示す運転例であり、図4と同様に製造工程から採取した分析試料について2次微分スペクトルを表示したものである。850nm〜2500nmのスペクトルの多くのピークが3σの範囲外にあり異常値を示している。図6は原料Aの2次微分スペクトル、図7は原料Bの2次微分スペクトル、図8は原料(C)の2次微分スペクトルを示し、これらのスペクトルは製造情報としてデータベース化されている。図5における3σを外れたピークの1726nmおよび2303nmの波長に着目して製造情報のデータベースと比較すると、図7の成分(B)のピークと一致し、成分(B)が過剰であることが判明した。そこで成分(B)を少なくするような制御信号を出すことにより、正常状態に復帰した。3σを外れたピークが不純物に基因するときはその不純物を減少させるような制御信号を出すことにより制御可能であった。
〔実施例2〕
実施例2はポリエステル樹脂の製造制御例である。この製造工程はテレフタル酸を主体とする2価カルボン酸と、エチレングリコールを主体とする2価アルコールとを反応させるエステル化工程および縮合工程を経てポリエチレンテレフタレート等のポリエステルを製造する工程である。図9は一般分析法により合格品と判定された複数個の製品からなる近赤外スペクトルを二次微分したスペクトルをべースにして、ポリエステル樹脂を3σを閾値として判別した例であり、製造工程が正常に運転されている例を示す。近赤外領域において3σの領域を外れた波長域はなく、合格品と同等な製品と判断出来る。
図10は一般分析法により合格品と判定された複数個の製品からなる近赤外スペクトルを二次微分したスペクトルをべースにして、ポリエステル樹脂を3σを閾値として判別した例であり、異常値を示す運転例である。近赤外領域において3σの領域を外れた波長(2034nm)が確認できる。2034nmの吸収は色相に影響を与える特性吸収波長である。±3σの閾値を外れると安定剤の供給量を変更する運転操作をした。同様に、ポリエステル中のジエチレングリコール成分は1224nm付近に特性吸収波長があり、±3σの閾値を外れると重縮合条件を変更し生成するジエチレングリコール(自生)を増減させる運転をすることにより、正常に復帰した。この場合、−3σを越えると重縮合条件を変更するか、ジエチレングリコールモノマーを添加する運転を行う必要があった。
同様に、IV値(Inherent Viscosity)は1710nm〜1538nmに特性吸収波長があり、+3σを越える(IV値)と重合器内のレベルを下げる運転をするか、加熱ガス(不活性)の流量を下げる運転をするか、固相重合の予熱相の温度を下げる運転をし、逆に、−3σを越えると上記の逆の運転を行う必要があった。
〔実施例3〕
実施例3はフェノール類の製造工程の制御例である。
フェノール類製造工程には開裂工程があり、この開裂工程はヒドロペルオキシドを有機溶媒中で低濃度の酸類を使用して開裂反応でフェノール類を製造する工程である。ここでの管理項目は残留ヒドロペルオキシド、硫酸、水分、フェノール、ハイドロキノン等の濃度であり、これらは次の特性に相関性を有する。
残留ヒドロペルオキシド:反応効率、安全
水分:収率、反応速度
硫酸:収率、安全
フェノール:収入、反応効率
図11は一般分析法により運転管理幅内と判定された複数個の開裂工程プロダクトからなる近赤外スペクトルを二次微分したスペクトルをベースにして、開裂工程プロダクトを3σを閾値として判別した例であり、正常な運転例を示す。近赤外領域において3σの領域を外れた波長域はなく、正常な運転状態と判断できる。
図12は一般分析法により運転管理幅外と判定された複数個の開裂工程のプロダクトからなる近赤外スペクトルを二次微分したスペクトルをベースにして、開裂工程プロダクトを3σを閾値として判別した例であり、異常が発生した例を示す。近赤外領域において3σの領域を外れた波長(1978nm)が確認できる。1978nmの吸収はヒドロペルオキシドの特性吸収波長である。±3σの閾値を外れると硫酸の供給量を変更する運転操作をすることにより正常に復帰することができた。同様に、硫酸は2036nm、水分は1900nm、1400nm、フェノールは1930nmであり、これらの値が上記閾値を外れる場合に、それぞれの供給量を変えることにより、正常に復帰することができた。
〔産業上の利用可能性〕
化学品、食品、その他の製品を製造する工程において、原料、溶媒、水分、中間品、製品、副生品等から得られる分析試料を近赤外線吸収分析して、それらの成分、特性等の測定値を得、その測定値が所定値を維持するように制御を行うことにより、製造工程を正常状態で運転するように制御する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態の近赤外吸収分析方法および制御方法を示すフロー図である。
【図2】実施例1における標準試料の近赤外吸収スペクトルである。
【図3】実施例1における標準試料の2次微分スペクトルである。
【図4】実施例1の正常状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
【図5】実施例1の異常発生状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
【図6】原料Aの2次微分スペクトルである。
【図7】原料Bの2次微分スペクトルである。
【図8】原料Cの2次微分スペクトルである。
【図9】実施例2の正常状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
【図10】実施例2の異常発生状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
【図11】実施例3の正常状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
【図12】実施例3の異常発生状態における分析試料の2次微分スペクトルである。
Claims (11)
- 製造工程から得られる複数個の標準試料について近赤外領域を含む分析領域の吸収スペクトルを得、
上記分析領域に含まれるスペクトルから選択される選択波長について、標準試料の平均強度(標準平均強度)および標準偏差を算出してデータベース化し、
製造工程から得られる分析試料について上記分析領域の吸収スペクトルを得、
得られた吸収スペクトルをデータベースと比較し、
上記選択波長における分析試料の吸収スペクトルの強度(分析強度)の標準平均強度に対する偏差(分析偏差)を求め、
分析試料の吸収スペクトルの分析偏差が標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲外の分析強度を示す波長を含む場合、範囲外の分析偏差を示す波長を、予めデータベース化した製造情報と対比して制御データを得、
得られた制御データを製造工程に入力して標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲内の製品が得られるように制御する製造制御方法。 - データベース化された製造情報が、選択波長に対応する成分情報である請求項1記載の方法。
- 分析強度の標準平均強度に対する偏差(分析偏差)が、データベース化された標準試料の標準偏差に基づいて決められる許容値の範囲内かどうかを判定する請求項1または2記載の方法。
- 分析領域が800nm〜2500nmである請求項1ないし3のいずれかに記載の方法。
- 分析領域が400nm〜2500nmである請求項4記載の方法。
- 選択波長の間隔が10nm以下である請求項1ないし5のいずれかに記載の方法。
- 選択波長の間隔が2nm以下である請求項6記載の方法。
- 吸収スペクトルが微分処理したものである請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。
- 吸収スペクトルが2次微分処理したものである請求項8記載の方法。
- 複数の種類の標準試料をそれぞれ複数個用いて、種類ごとに標準平均強度および標準偏差を算出してデータベース化する請求項1ないし9のいずれかに記載の方法。
- 複数の分析試料について吸収スペクトルを得、選択波長における分析試料の平均強度(分析平均強度)の標準平均強度に対する偏差を求める請求項1ないし10のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000244026 | 2000-08-07 | ||
PCT/JP2001/006724 WO2002012969A1 (fr) | 2000-08-07 | 2001-08-06 | Procede de controle de production |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP3613271B2 true JP3613271B2 (ja) | 2005-01-26 |
Family
ID=18734777
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002517591A Expired - Fee Related JP3613271B2 (ja) | 2000-08-07 | 2001-08-06 | 製造制御方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7191037B2 (ja) |
EP (1) | EP1308800B1 (ja) |
JP (1) | JP3613271B2 (ja) |
KR (1) | KR100597016B1 (ja) |
CN (1) | CN1241076C (ja) |
DE (1) | DE60141586D1 (ja) |
TW (1) | TW542909B (ja) |
WO (1) | WO2002012969A1 (ja) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2231045C2 (ru) * | 2002-05-20 | 2004-06-20 | Общество с ограниченной ответственностью "Еврохим-СпбТрейдинг" | Способ измерения концентрации гидропероксидов алкилароматических углеводородов в жидких промышленных потоках |
AU2003228961A1 (en) * | 2002-05-20 | 2003-12-12 | General Electric Company | Method of measuring the concentration of hydroperoxides of alkylaromatic hydrocarbons |
CN101029868B (zh) * | 2006-02-28 | 2010-09-29 | 住友化学株式会社 | 反应控制方法 |
JP4525624B2 (ja) * | 2006-03-23 | 2010-08-18 | 日立化成工業株式会社 | 自動分析装置 |
JP5031281B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2012-09-19 | 株式会社Ihiインフラシステム | コンクリートの診断方法 |
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JP6175370B2 (ja) * | 2013-12-27 | 2017-08-02 | アズビル株式会社 | 乾き度測定装置及び乾き度測定方法 |
JP2015232520A (ja) * | 2014-06-10 | 2015-12-24 | アズビル株式会社 | 乾き度測定装置 |
CN104359723B (zh) * | 2014-11-21 | 2018-01-23 | 中国环境科学研究院 | 用于采集大气中过氧化物的雾液吸收装置 |
KR102185785B1 (ko) * | 2014-11-21 | 2020-12-02 | 삼성전자주식회사 | 화합물의 물성을 예측하는 방법 및 시스템 |
US10408812B2 (en) * | 2016-10-12 | 2019-09-10 | General Electric Company | Characterization and control system and method for a resin |
JP2019174328A (ja) * | 2018-03-29 | 2019-10-10 | Ckd株式会社 | 検査装置、ptp包装機、及び、検査方法 |
CN110873699A (zh) * | 2018-08-30 | 2020-03-10 | 广东生益科技股份有限公司 | 粘结片的在线质量控制方法、装置、系统和存储介质 |
EP3711852A1 (de) | 2019-03-21 | 2020-09-23 | Covestro Deutschland AG | Verfahren und vorrichtung zur quantitativen überwachung der zusammensetzung einer oligomer-/monomermischung |
CN110631907B (zh) * | 2019-09-17 | 2021-12-14 | 武汉钢铁有限公司 | 一种用于校验扩孔用钢均匀性能及冲孔、扩孔装置使用性能的标样制备方法 |
CN113655019B (zh) * | 2021-08-10 | 2024-04-26 | 南京富岛信息工程有限公司 | 一种管输原油的混油界面检测方法 |
CN114324158B (zh) * | 2021-12-21 | 2023-08-22 | 四川启睿克科技有限公司 | 一种近红外光谱数据异常点校正方法 |
CN115825002A (zh) * | 2022-12-26 | 2023-03-21 | 重庆万凯新材料科技有限公司 | 一种近红外光谱测定聚酯中端羧基含量的方法和应用 |
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---|---|---|---|---|
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JPH06259103A (ja) * | 1993-03-05 | 1994-09-16 | Hitachi Ltd | 適応制御方法、適応制御装置 |
JP3135738B2 (ja) | 1993-03-18 | 2001-02-19 | 三菱電機株式会社 | 数値制御装置 |
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-
2001
- 2001-08-06 EP EP20010954449 patent/EP1308800B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-06 WO PCT/JP2001/006724 patent/WO2002012969A1/ja not_active Application Discontinuation
- 2001-08-06 US US10/089,680 patent/US7191037B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-06 DE DE60141586T patent/DE60141586D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-06 TW TW90119124A patent/TW542909B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-08-06 CN CNB018022413A patent/CN1241076C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-06 JP JP2002517591A patent/JP3613271B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-06 KR KR1020027004457A patent/KR100597016B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW542909B (en) | 2003-07-21 |
US7191037B2 (en) | 2007-03-13 |
DE60141586D1 (de) | 2010-04-29 |
US20030028355A1 (en) | 2003-02-06 |
EP1308800A1 (en) | 2003-05-07 |
KR20020038802A (ko) | 2002-05-23 |
KR100597016B1 (ko) | 2006-07-06 |
CN1241076C (zh) | 2006-02-08 |
EP1308800A4 (en) | 2006-05-03 |
WO2002012969A1 (fr) | 2002-02-14 |
CN1386218A (zh) | 2002-12-18 |
EP1308800B1 (en) | 2010-03-17 |
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Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091105 Year of fee payment: 5 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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