JP3564131B2 - スルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン - Google Patents

Description

本発明は新規なスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン、その複数の製造方法及び新規な中間体、並びにその除草剤としての使用に関する。
あるスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン例えば4,5−ジメチル−２−（２−クロロフェニルスルホニル−アミノカルボニル）−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オンが除草特性を有することは既に開示されている（ヨーロッパ特許出願公開第341,489号/LeA26062;同第422,469号/LeA27154;同第425,948号/LeA27155;同第431,291号/LeA27156参照）。しかしながら、これらの化合物の活性は全てに関しては満足できるものではない。
一般式

式中、Ｑは酸素、硫黄または基

の１つを表わし、
R¹は水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキリデンアミノを表わすか、或いは各々随時置換されいてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキルアミノ、シクロアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノよりなる群からの基を表わし、
R²は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ハロゲンを表わすか、或いは各々随時置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、アリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アジリジノ、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノよりなる群からの基を表わし、
R³は各々随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アルキルスルホニル、アルキルアミノスルホニル、ジアルキルアミノスルホニル、アリール及びアラルキルよりなる群からの基を表わし、
R⁴は水素、ヒドロキシル、アミノ、シアノ、アルコキシカルボニルを表わすか、或いは各々随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニルオキシ、アラルコキシ、アリールオキシまたはジアルコキシ（チオ）ホスホリル或いは基Q¹−R⁵を表わし、ここに
Q¹は−CO−または−SO₂−を表わし、そして
R⁵は各々随時置換されていてもよいアルキル、シクロアルキルまたはアリールを表わす、
の新規なスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン及び式（Ｉ）の化合物の塩が見い出された。
式（Ｉ）の新規なスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンは
（ａ） 一般式（II）

式中、R¹及びR²は上記の意味を有する、
のクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンを適当ならば酸受容体の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で一般式（III）
R³−Ｑ−Ｈ （III）
式中、Ｑ及びR³は上記の意味を有する、
の親核性化合物と反応させるか、或いは
（ｂ） 一般式（IV）

式中、R¹及びR²は上記の意味を有する、
のトリアゾリノンを適当ならば希釈剤の存在下でクロロスルホニルイソシアネートと反応させ、生じる上記の式（II）のクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンを中間体の単離をせずに適当ならば酸受容体の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で一般式（III）の親核性化合物と反応させ、そして適当ならば工程（ａ）または（ｂ）により得られる式（Ｉ）の化合物を常法により塩に転化する場合に得られる。
本発明による式（Ｉ）の化合物の製造に対して可能である他の方法は下記に与えられ、その際にＱ、R¹、R²及びR³は各々の場合に上記の意味を有する：
（ｃ） 式（Ｖ）のイソシアネートと式（IV）のトリアゾリノンとの反応：

（ｄ） 式（VI）のアミノスルホニル化合物と式（VII）のオキシカルボニルトリアゾリノンとの反応（R:アルキル、アラルキル、アリール）：

（ｅ） 式（VIII）のスルホニルウレタンと式（IV）のトリアゾリノンとの反応（R:アルキル、アラルキル、アリール）：

一般式（Ｉ）の新規なスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンは強い除草活性に特徴がある。
驚くべきことに、式（Ｉ）の新規な化合物は公知であり、そして同様の構造を有する4,5−ジメチル−２−（２−クロロフェニルスルホニル−アミノカルボニル）−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オンよりかなり強い除草活性を示す。
本発明は好ましくはＱが酸素、硫黄または基

の１つを表わし、R¹が水素、ヒドロキシル、アミノを表わすか、C₂〜C₁₀−アルキリデンアミノを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルカルボニルまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよりC₁〜C₆−アルキルを表わすか、各々随時フッ素、塩素及び／または臭素で置換されていてもよいC₃〜C₆−アルケニルまたはC₃〜C₆−アルキニルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素及び／またはC₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよいC₃〜C₆−シクロアルキルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ及び／またはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニル−C₁〜C₃−アルキルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ、フッ素及び／もしくは塩素置換されたC₁〜C₃−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、フッ素及び／もしくは塩素置換されたC₁〜C₃−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニル及び／またはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、フェニル、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されいてもよいC₁〜C₆−アルコキシを表わすか、C₃〜C₆−アルケニルオキシを表わすか、各々随時フッ素、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₄−アルキルアミノ、C₃〜C₆−シクロアルキルアミノまたはジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アミノを表わすか、C₁〜C₆−アルカノイルアミノを表わすか、或いはC₁〜C₆−アルコキシカルボニルアミノを表わし、R²が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ハロゲンを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、C₃〜C₆−シクロアルキル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルまたはC₂〜C₆−アルケニルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素及び／またはC₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよいC₃〜C₆−シクロアルキルを表わすか、シクロヘキセニルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ及び／またはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニル−C₁〜C₃−アルキルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ、フッ素及び／もしくは塩素置換されたC₁〜C₃−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、フッ素及び／もしくは塩素置換されたC₁〜C₃−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニル及び／またはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、随時フッ素、塩素、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルコキシを表わすか、C₃〜C₆−アルケニルオキシ、C₃〜C₆−アルキニルオキシまたはC₃〜C₆−シクロアルキルオキシを表わすか、各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ、ジフルオロメトキシまたはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェノキシまたはベンジルオキシを表わすか、各々随時フッ素、塩素、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルチオ、C₁〜C₆−アルキルスルフィニル、C₁〜C₆−アルキルスルホニル、C₃〜C₆−アルケニルチオ、C₃〜C₆−アルキニルチオまたはC₃〜C₆−シクロアルキルチオを表わすか、各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ、ジフルオロメトキシまたはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニルチオまたはベンジルチオを表わすか、C₁〜C₆−アルキルアミノまたはC₃〜C₆−アルケニルアミノを表わすか、各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、トリフルオロメチル、C₁〜C₄−アルコキシ、ジフルメトキシまたはトリフルオロメトキシで置換されていてもよいフェニルアミノまたはベンジルアミノを表わすか、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アミノを表わすか、或いは各々随時C₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよいアジリジノ、ピロリジノまたはモルホリノを表わし、R³が各々随時ハロゲン、シアノ、カルボニル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニルまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキル、C₃〜C₆−アルケニルまたはC₃〜C₆−アルキニルを表わすか、各々随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−ハロゲノアルキルまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₃〜C₆−シクロアルキルまたはC₃〜C₆−シクロアルキル−C₁〜C₄−アルキルを表わすか、各々随時ハロゲンで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルスルホニル、C₁〜C₆−アルキルアミノスルホニルまたはジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アミノスルホニルを表わすか、各々随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、ニトロ、（各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよい）C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニルまたはC₁〜C₄−アルキルスルホニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニルオキシ、C₁〜C₄−アルキルアミノスルホニルオキシ、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）アミノスルホニルオキシ、C₁〜C₄−ハロゲノアルキルスルホニルオキシ、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）アミノカルボニルまたはC₁〜C₄−アルキルアミノカルボニルオキシ、（各々の場合に随時ハロゲンまたはC₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよい）C₃〜C₆−シクロアルキルまたはC₃〜C₆−シクロアルキル−C₁〜C₄−アルキル、（各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−ハロゲノアルキル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−ハロゲノアルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、C₁〜C₄−ハロゲノアルキルチオ、C₁〜C₄−アルコキシカルボニルまたはC₁〜C₄−アルコキシ−アミノで置換されていてもよい）フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルフィニル、フェニルスルホニル、フェニルスルホニルオキシ、フェニルアミノ、フェニルカルボニルまたはフェニル−C₁〜C₄−アルキル、（各々の場合に随時ハロゲン、C₃〜C₆−シクロアルキルまたはC₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよい）C₁〜C₄−アルキル−カルボニル、C₃〜C₆−シクロアルキルカルボニルまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニル、ナフチル、テトラリニル、フェニル−C₁〜C₄−アルキル、ナフチル−C₁〜C₄−アルキルまたはテトラリニル−C₁〜C₄−アルキルを表わし、R⁴が水素、ヒドロキシル、アミノ、シアノを表わすか、各々随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニル、C₁〜C₄−アルキルアミノ、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アミノまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキル、C₃〜C₆−アルケニルまたはC₃〜C₆−アルキニルを表わすか、C₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルを表わすか、C₁〜C₆−アルコキシ、C₃〜C₆−アルケニルオキシ、ベンジルオキシ、フェノキシまたはジ−（C₁〜C₄−アルコキシ）−（チオ）−ホスホリルを表わすか、或いは基Q¹−R⁵を表わし、ここにQ¹が−CO−または−SO₂−を表わし、そしてR⁵が随時ハロゲンまたはC₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルを表わすか、随時ハロゲンまたはC₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよいC₃〜C₆−シクロアルキルを表わすか、或いは随時ハロゲン、C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−ハロゲノアルキルまたはC₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよいフェニルを表わす式（Ｉ）の化合物に関する。本発明は更に好ましくはＱ、R¹、R²及びR³が好適なものとして上に挙げられる意味を有する式（Ｉ）の化合物のナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アンモニウム、C₁〜C₄−アルキルアンモニウム、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アンモニウム、トリ−（C₁〜C₄−アルキル）−アンモニウム、C₅−またはC₆−シクロアルキルアンモニウム及びジ−（C₁〜C₂−アルキル）−ベンジルアンモニウム塩に関する。
殊に、本発明はＱが酸素または基

を表わし、R¹が水素、ヒドロキシル、アミノを表わすか、C₃〜C₈−アルキリデンアミノを表わすか、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、ジクロロメチル、フルオロエチル、クロロエチル、ジフルオロエチル、ジクロロエチル、トリフルオロエチル、トリクロロエチル、クロロジフルオロエチル、テトラフルオロエチル、シアノメチル、シアノエチル、メトキシエチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチルを表わすか、アリル、クロロアリル、ジクロロアリル、プロパルギルを表わすか、クロロプロピル、ベンジルまたはフェニルを表わすか、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシを表わすか、アリルオキシ、ｎ−、ｉ−もしくはｓ−ブトキシを表わすか、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノを表わすか、或いはシクロプロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、アセチルアミノ、メトキシカルボニルアミノまたはエトキシカルボニルアミノを表わし、R²が水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、フッ素、塩素、臭素を表わすか、メチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、メチルチオエチルまたはエチルチオエチルを表わすか、クロロプロピル、ジフルオロクロロプロピルまたはジクロロシクロプロピルを表わすか、フェニルまたはベンジルを表わすか、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシを表わすか、メトキシメトキシ、エトキシメトキシ、メトキシエトキシまたはエトキシエトキシを表わすか、フェノキシまたはベンジルオキシを表わすか、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−もしくはｉ−プロピルチオ、アリルチオ、プロパルギルチオ、シクロプロピルメチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルチオまたはベンジルチオを表わすか、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノ、フェニルアミノまたはベンジルアミノを表わすか、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロピルアミノ、メチルエチルアミノ、メチルプロピルアミノを表わすか、アジリジノを表わすか、或いは各々随時メチルまたはエチルで置換されていてもよいピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノを表わし、R³が各々随時フッ素、塩素、シアノ、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルまたはｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを表わすか、各々随時フッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シクロプロピルエチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチルまたはシクロヘキシルエチルを表わすか、随時フッ素または塩素で置換されていてもよいメチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニルまたはブチルスルホニルを表わすか、随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボキシル、ニトロ、（各々の場合に随時フッ素、塩素、シアノ、メトキシ、エトキシ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよい）メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニルまたはエチルスルホニル、メチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、メチルアミノスルホニルオキシ、エチルアミノスルホニルオキシ、ジメチルアミノスルホニルオキシ、ジエチルアミノスルホニルオキシ、トリフルオロメチルスルホニルオキシ、ジメチルアミノカルボニルまたはジエチルアミノカルボニル、（各々の場合に随時塩素、メチルまたはエチルで置換されていてもよい）シクロヘキシルまたはシクロヘキシルメチル、（各々の場合に随時フッ素、塩素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、メチルチオ、エチルチオ、トリフルオロメチルチオ、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよい）フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、フェニルスルホニルオキシ、フェニルアミノ、フェニルカルボニル、フェニルメチルまたはフェニルエチル、（随時フッ素、塩素、シクロペンチル、シクロヘキシル、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよい）アセチル、シクロプロピルカルボニル、メトキシカルボニルまたはエトキシカルボニルで置換されていてもよいフェニルを表わすか、各々随時フッ素、塩素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいナフチルまたはテトラリニルを表わすか、或いは各々随時フッ素、塩素、メチル、エチル、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいナフチルメチル、ナフチルエチル、テトラリニルメチルまたはテトラリニルエチルを表わし、R⁴が水素、シアノ、シアノメチル、シアノエチル、ジフルオロメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、アリル、プロパルギル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシ、エトキシ、アリルオキシまたはベンジルオキシを表わすか、或いは基Q¹−R⁵を表わし、ここにQ¹が−CO−または−SO₂−を表わし、そしてR⁵が各々随時フッ素、塩素、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいメチル、エチルまたはプロピルを表わすか、各々随時フッ素、塩素、メチルまたはエチルで置換されていてもよいシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルを表わすか、或いは随時フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、トリフルオロメチル、メトキシまたはエトキシで置換されていてもよいフェニルを表わす式（Ｉ）の化合物に関する。
上記の基の定義は一般にか、または好適な範囲が挙げられる場合は式（Ｉ）の最終生成物及び同様に各々の場合に製造に対して必要とされる出発物質または中間体に適用される。これらの基の定義は必要に応じて相互に一緒にすることができ、即ちまた示される好適な範囲間の組合せも可能である。
基の定義において挙げられる炭化水素基例えばアルキル、アルケニルまたはアルキニル、またヘテロ原子との組合せのもの例えばアルコキシ、アルキルチオまたはアルキルアミノは特記されない場合でも直鎖状もしくは分枝鎖状のものである。
ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好ましくはフッ素、塩素または臭素、殊にフッ素または塩素を表わす。
本発明による式（Ｉ）の化合物の例は下の表１に示される。

例えば、出発物質として２−クロロスルホニルアミノカルボニル−４−エトキシ−５−エチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン及び２−フルオロ−フェノールを用いる場合、本発明による工程（ａ）における反応の経路は次式により要約し得る：

例えば、出発物質として４−エチル−５−エチルチオ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン並びにクロロスルホニルイソシアネート及び次に２−アミノ安息香酸メチルを用いる場合、本発明による工程（ｂ）における反応の経路は次式により要約し得る：

式（II）は本発明による式（Ｉ）の化合物の製造工程（ａ）において出発物質として用いられるクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの一般的定義を与える。
式（II）において、R¹及びR²は好ましくは、または殊にR¹及びR²に対して好適または殊に好適なものとして本発明による式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に挙げられた意味を有する。
式（II）の出発物質の例として次のものを挙げ得る:4,5−ジメチル−、4,5−ジエチル−、４−エチル−５−メチル−、５−エチル−４−メチル−、４−メチル−５−プロピル−、４−エチル−５−プロピル−、４−シクロプロピル−５−エチル−、５−シクロプロピル−４−メチル−、５−シクロプロピル−４−エチル−、４−メチル−５−クロロ−、４−エチル−５−クロロ−、４−メチル−５−ブロモ−、４−エチル−５−ブロモ−、４−シクロプロピル−５−クロロ−、４−シクロプロピル−５−ブロモ−、４−メトキシ−５−メチル−、４−エトキシ−５−メチル−、４−エトキシ−５−エチル−、４−メトキシ−５−エチル−、４−メチル−メトキシ−、４−エチル−５−メトキシ−、４−メチル−５−エトキシ−、４−エチル−５−エトキシ−、４−メチル−５−メチルチオ−、４−メチル−５−エチルチオ−、４−エチル−５−メチルチオ、４−エチル−５−エチルチオ−、４−シクロプロピル−５−メトキシ−、４−シクロプロピル−５−エトキシ−、４−シクロプロピル−５−メチルチオ−、４−シクロプロピル−５−エチルチオ−、４−エトキシ−５−シクロプロピル−、４−メトキシ−５−シクロプロピル−、４−メトキシ−５−エトキシ−、4,5−ジメトキシ−、4,5−ジエトキシ−、４−メチル−５−ジメチルアミノ−、４−エチル−５−ジメチルアミノ−及び４−シクロプロピル−５−ジメチルアミノ−２−クロロスルホニルアミノカルボニル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン。
一般式（II）のクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンは未だ文献からは未知であり、従って新規な物質で、また本発明の目的物質である。
式（II）の新規な化合物は一般式（IV）

式中、R¹及びR²は上記の意味を有する、
のトリアゾリノンを−20乃至50℃の温度で適当ならば希釈剤例えば塩化メチレンの存在下でクロロスルホニルイソシアネートと反応させ、そして生成物を常法で処理する場合に得られる（製造実施例参照）。
式（III）は本発明による式（Ｉ）の化合物の製造工程（ａ）及び（ｂ）において出発物質として用いられる親核性化合物の一般的定義を与える。
式（III）において、Ｑ及びR³は好ましくは、または殊にＱ及びR³に対して好適または殊に好適なものとして本発明による式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に上に挙げられた意味を有する。
式（III）の出発物質は有機合成に対して公知の化学薬品である。
式（IV）は本発明による式（Ｉ）の化合物の製造工程（ａ）及び（ｂ）において出発物質として用いられるトリアゾリノンの一般的定義を与える。
式（IV）において、R¹及びR²は好ましくは、または殊にR¹及びR²に対して好適または殊に好適なものとして本発明による式（Ｉ）の化合物の記載に関連して既に挙げられた意味を有する。
式（IV）の出発物質は公知であり、そして／またはそれ自体公知である方法により製造し得る（ヨーロッパ特許出願公開第283,876号、同第294,666号、同第301,946号、同第298,371号、同第341,489号、同第399,294号、同第398,096号、同第422,469号、同第425,948号、同第431,291号、同第477,646号、ドイツ国特許出願公開第4,110,795号参照）。
本発明による式（Ｉ）の新規な化合物の製造工程（ａ）及び（ｂ）は好ましくは希釈剤を用いて行う。適当な希釈剤は実質的に全ての不活性有機溶媒である。これらのものには好ましくは脂肪族及び芳香族の、随時ハロゲン化されていてもよい炭化水素例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、石油エーテル、ベンジン、リグロイン、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロロホルム、四塩化炭素、クロロベンゼン及びジクロロベンゼン、エーテル例えばジエチルエーテル、ジブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、ジグリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、エステル例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、ニトリル例えばアセトニトリル及びプロピオニトリル、アミド例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びＮ−メチルピロリドン、並びにまたジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキサメチルリン酸トリアミドが含まれる。
本発明による工程（ａ）及び（ｂ）に使用し得る酸受容体はこのタイプの反応に通常使用し得る全ての酸結合剤である。次のものが好適である：アルカリ金属水酸化物例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、アルカリ土金属水酸化物例えば水酸化カルシウム、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属アルコラート例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリウム、ナトリウムｔ−ブチラート及びカリウムｔ−ブチラート、更に塩基性窒素化合物例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチルジイソプロピルアミン、エチルジシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N−ジメチル−アニリン、ピリジン、２−メチル−、３−メチル−、４−メチル−、2,4−ジメチル−、2,6−ジメチル−、２−エチル−、４−エチル−及び５−エチル−２−メチル−ピリジン、1,5−ジアザビシクロ−［4,3,0］−ノン−５−エン（DBN）、1,8−ジアザビシクロ−［5,4,0］−ウンデス−７−エン（DBU）及び1,4−ジアザビシクロ−［2,2,2］−オクタン（DABCO）。
本発明による工程（ａ）及び（ｂ）を行う場合、反応温度は実質的な範囲内で変え得る。一般に、本法は−20乃至80℃間の温度、好ましくは−10乃至50℃間の温度で行う。
本発明による工程（ａ）及び（ｂ）は一般に大気圧下で行う。しかしながらまた、昇圧または減圧下で行うことができる。
本発明による工程（ａ）及び（ｂ）を行う際に、各々の場合に必要とされる出発物質は一般にほぼ等モル量で用いる。しかしながらまた、各々の場合に用いる成分の１つを大過剰に用いることができる。一般に、反応は適当な希釈剤中にて酸受容体の存在下で行い、そして反応混合物を各々の場合に必要とされる温度で数時間撹拌する。本発明による工程（ａ）及び（ｂ）における処理は各々の場合に常法により行う（製造実施例参照）。
適当ならば、塩は本発明による式（Ｉ）の化合物から製造し得る。かかる塩は通常の塩生成法により簡単に、例えば式（Ｉ）の化合物を適当な溶媒例えば塩化メチレン、アセトン、ｔ−ブチルメチルエーテルまたはトルエンに溶解するか、または分散し、そして適当な塩基を加えることにより得られる。次に塩は適当ならば長期間撹拌した後に、濃縮または吸引濾過により単離し得る。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができる。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選択的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使用することができる：
次の属の双子葉雑草：カラシ属（Sinapis）、マメグンバイナズナ属（Leipidium）、ヤエムグラ属（Galium）、ハコベ属（Stellaria）、シカギク属（Matricaria）、カミツレモドキ属（Anthemis）、ガリンソガ属（Galinsoga）、アカザ属（Chenopodium）、イラクサ属（Urtica）、キオン属（Senecio）、ヒユ属（Amaranthus）、スベリヒユ属（Portulaca）、オナモミ属（Xanthium）、ヒルガオ属（Convolvulus）、サツマイモ属（Ipomoea）、タデ属（Polygonum）、セスバニア属（Sesbania）、オナモミ属（Ambrosia）、アザミ属（Cirsium）、ヒレアザミ属（Carduus）、ノゲシ属（Sonchus）、ナス属（Solanum）、イヌガラシ属（Rorippa）、キカシグサ属（Rotala）、アゼナ属（Lindernia）、ラミウム属（Lamium）、クワガタソウ属（Veronica）、イチビ属（Abutilon）、エメクス属（Emex）、チヨウセンアサガオ属（Datura）、スミレ属（Viola）、チシマオドリコ属（Galeopsis）、ケシ属（Papaver）、センタウレア属（Centaurea）、ツメクサ属（Trifolium）、キツネノボタン属（Ranunculus）及びタンポポ属（Taraxacum）。
次の属の双子葉栽培植物：ワタ属（Gossypium）、ダイズ属（Glycine）、フダンソウ属（Beta）、ニンジン属（Daucus）、インゲンマメ属（Phaseolus）、エンドウ属（Pisum）、ナス属（Solanum）、アマ属（Linum）、サツマイモ属（Ipomoea）、ソラマメ属（Vicia）、タバコ属（Nicotiana）、トマト属（Lycopersicon）、ラツカセイ属（Arachis）、アブラナ属（Brassica）、アキノノゲシ属（Lactuca）、キユウリ属（Cucumis）及びウリ属（Cucurbita）。
次の属の単子葉雑草：ヒエ属（Echinochloa）、エノコログサ属（Setaria）、キビ属（Panicum）、メヒシバ属（Digitaria）、アワガリエ属（Phleum）、スズメノカタビラ属（Poa）、ウシノケグサ属（Festuca）、オヒシバ属（Eleusine）、ブラキアリア属（Brachiaria）、ドクムギ属（Lolium）、スズメノチヤヒキ属（Bromus）、カラスムギ属（Avena）、カヤツリグサ属（Cyperus）、モロコシ属（Sorghum）、カモジグサ属（Agropyron）、シノドン属（Cynodon）、ミズアオイ属（Monochoria）、テンツキ属（Fimbristylis）、オモダカ属（Sagittaria）、ハリイ属（Eleocharis）、ホタルイ属（Scirpus）、パルパルム属（Paspalum）、カモノハシ属（Ischaemum）、スフエノクレア属（Sphenoclea）、ダクチロクテニウム属（Dactyloctenium）、ヌカボ属（Agrostis）、スズメノテツポウ属（Alopecurus）及びアペラ属（Apera）。
次の属の単子葉栽培植物：イネ属（Oryza）、トウモロコシ属（Zea）、コムギ属（Triticum）、オオムギ属（Hordeum）、カラスムギ属（Avena）、ライムギ属（Secale）、モロコシ属（Sorghum）、キビ属（Panicum）、サトウキビ属（Saccharum）、アナナス属（Ananas）、クサスギカズラ属（Asparagus）およびネギ属（Allium）。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれらの属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ。
化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線路上、樹木が存在するか或いは存在しない道路及び広場上の雑草の完全防除に適する。同等に、化合物は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木の植林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及びホップの栽培植物の中の雑草の防除に、そして１年生栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することができる。
本発明による式（Ｉ）の化合物は発芽前及び発芽後法により単子葉の栽培植物における双子葉の雑草の選択的防除に殊に適している。
更にまた、本発明による化合物（Ｉ）は興味ある２次的作用、即ち葉作用性殺虫作用、並びに例えばイネにおけるいもち病（Pyricularia or yzae）及びうどんこ病（Erysipheg raminis）に対して殊に殺菌・殺カビ（fungicidal）作用を示す。
本活性化合物は普通の組成物例えば、溶液、乳液、水和剤、懸濁剤、粉末、泡沫剤、塗布剤、可溶性粉末、粒剤、懸濁−乳化濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及び合成物質、及び重合物質中の極く細かいカプセルに変えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合物を伸展剤、即ち液体溶媒及び／または固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び／または分散剤及び／または発泡剤と混合して製造される。
また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素化された脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えばシクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適している。
固体の担体として、例えばアンモニウム塩及び粉砕した天然鉱物、例えばカオリン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイトまたはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシリケートが適している；粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウモロコシ穂軸及びタバコの茎が適している；乳化剤及び／または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している；分散剤として、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに紛状、粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセテート並びに天然リン脂質例えばセフアリン及びレシチン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる。更に添加剤は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び微量の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブデン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量％間、好ましくは0.5乃至90重量％間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑草を防除するために用いることができ、仕上げた配合物または槽混合が可能である。
混合物に適する除草剤は公知の除草剤例えばアニリド例えばジフルフェニカン及びプロパニル；アリールカルボン酸例えばジクロロピコリン酸、ジカンバ及びピコロラム；アリールオキシアルカン酸例えば2,4−Ｄ、2,4−DB、2,4−DP、フルロキシピル、MCPA、MCPP及びトリクロピル；アリールオキシ−フェノキシ−アルカン酸エステル例えばジクロホップ−メチル、フェノキサプロップーエチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル及びキザロホップ−エチル；アジノン例えばクロリダゾン及びノルフルラゾン；カルバメート例えばクロルプロファム、デスメジファム、フェンメジファム及びプロファム、クロロアセトアニリド例えばアラクロル、アセトクロル、ブタクロル、メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル及びプロパクロル；ジニトロアニリン例えばオリザリン、ペンジメタリン及びトリフルラリン；ジフェニルエステル例えばアシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリコフェン、ホメサフェン、ハロサフェン、ラクトフェン及びオキシフルオロフェン；ウレア例えばクロルトルロン、ジウロン、フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン及びメタベンズチアズロン；ヒドロキシアミン例えばアロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム及びトラルコキシジム；イミダゾリノン例えばイマゼタピル、イマザメタベンズ、イマザピル及びイマザキン；ニトリル例えばブロモキシニル、ジクロベニル及びイオキシニル；オキシアセトアミド例えばメフェナセット；スルホニルウレア例えばアミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチル、クロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、プリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、トリアスルフロン及びトリベヌロン−メチル；チオカルバメート例えばブチレート、シクロエート、ジ−アレート、EPTC、エスプロカルブ、モリネート、プロスルホカルブ、チオベンカルブ及びトリ−アレート；トリアジン例えばアトラジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン及びターブチラジン；トリアジノン例えばヘキサジノン、メタミトロン及びメトリブジン；他のもの例えばアミノトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フルオロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、キンクロラック、キンメラック、スルホセート及びトリジファンがある。
また他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤（fungicides）、殺虫剤（insecticides）、殺ダニ剤（acaricides）、殺線虫剤（nematicides）、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混合物が可能である。
除草剤として使用する場合、本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態またはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは普通の方法で、例えば液剤散布（watering）、スプレー、アトマイジング（atomising）または粒剤散布（scattering）によって施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後のいずれかに施用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入することができる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることができる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する。一般に、施用量は土壌表面１ヘクタール当り活性化合物10g乃至10kg間、好ましくは50g乃至5kg/ha間である。
本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例から知ることができる。
製造実施例：
実施例１

［工程（ａ）］
２−クロロスルホニルアミノカルボニル−４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン2.84g（0.01モル）を塩化メチレン100ml中に導入し、そして２−メトキシ−フェニル1.24g（0.01モル）及びトリエチルアミン2.02g（0.02モル）を20℃でこの混合物に加えた。反応混合物を20℃で60分間撹拌した。次にこのものを各々の場合に水150mlを用いて３回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプの真空下で濃縮し、そして残渣をイソプロパノールから再結晶した。
融点107℃の２−（２−メトキシ−フェノキシ）−スルホニルアミノカルボニル−４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オンのトリエチルアンモニウム塩2.5g（理論値の53％）が得られた。
実施例２

［工程（ａ）］
２−クロロスルホニルアミノカルボニル−４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン5.69g（0.02モル）を塩化メチレン150ml中に導入し、そして塩化メチレン20ml中の２−アミノ安息香酸エチル6.6g（0.04モル）の溶液を20℃でこの混合物に加えた。反応混合物を20℃で60分間撹拌した。次にこのものを各々の場合に水150mlを用いて３回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプの真空下で濃縮し、そして残渣をイソプロパノールから再結晶した。
融点135℃の２−（２−エトキシ−カルボニル−フェニルアミノ）−スルホニルアミノカルボニル−４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン5.7g（理論値の69％）が得られた。
実施例３

［工程（ａ）］
２−クロロスルホニルアミノカルボニル−４−エチル−５−メトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン5.69g（0.02モル）を塩化メチレン150ml中に導入し、そして塩化メチレン20ml中の２−メトキシ−−Ｎ−メチルアニリン2.74g（0.02モル）及びトリエチルアミン2.02g（0.02モル）の溶液を20℃でこの混合物に加えた。反応混合物を20℃で60分間撹拌した。次にこのものを各々の場合に水150mlを用いて３回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプの真空下で濃縮し、そして残渣をイソプロパノールから再結晶した。
融点134℃の２−（２−メトキシ−Ｎ−メチル−フェニルアミノ）−スルホニルアミノカルボニル−４−エチル−５−メトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン3.2g（理論値の40％）が得られた。
実施例４

［工程（ｂ）］
４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン4.3g（0.03モル）を塩化メチレン150ml中に導入し、そして混合物を−10℃に冷却した。次に塩化メチレン20ml中のクロロスルホニルイソシアネート4.3g（0.03モル）の溶液を加え、そして混合物を30分間撹拌した。次に、塩化メチレン20ml中の２−アミノ安息香酸メチル4.53g（0.03モル）及びトリエチルアミン6.06g（0.06モル）の溶液を20℃で滴下しながら加え、そして反応混合物を更に30分間撹拌した。続いてこのものを各々の場合に水150mlを用いて３回洗浄し、硫酸ナトリウムを用いて乾燥し、そして濾過した。濾液を水流ポンプの真空下で濃縮し、残渣を酢酸エチルと共に撹拌し、そして結晶として得られた生成物を吸引濾過により単離した。
融点142℃（分解）の２−（２−メトキシカルボニル−フェニルアミノ）−スルホニルアミノカルボニル−４−メチル−５−エトキシ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オンのトリエチルアンモニウム塩11g（理論値の73％）が得られた。
製造実施例１〜４と同様に、そして本発明による製造方法の一般的記載に従って製造し得る式（Ｉ）の化合物の他の例は下の表２に示すものである。

実施例183として表２に示される化合物は例えばまた次のように製造することができる［工程（ｃ）］：

４−シクロプロピル−５−クロロ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン2.0g（12.5ミリモル）をアセトニトリル40mlに溶解し、そして（２−エトキシ−フェノキシ）−スルホニルイソシアネート4.3g（26.9ミリモル）を撹拌しながら加えた。反応混合物を20℃で６時間撹拌した。次にこのものを真空中で濃縮し、残渣をジエチルエーテルと共に撹拌し、そして結晶生成物を吸引濾過により単離した。
融点121℃の２−（２−エトキシ−フェニルオキシ）−スルホニルアミノカルボニル−４−シクロプロピル−５−クロロ−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン4.9g（理論値の97％）が得られた。
式（II）の出発物質
実施例（II−１）

５−エトキシ−４−メチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン28.8g（0.20モル）を塩化メチレン250ml中に導入し、そして混合物を−10℃に冷却した。クロロスルホニルイソシアネート28.3g（0.20モル）をこの混合物に加え、そして反応混合物を冷却せずに30分間撹拌した。次に溶媒を水流ポンプの真空下での蒸留により注意して除去した。
融点106℃の結晶性残渣として２−クロロスルホニルアミノカルボニル−５−エトキシ−４−メチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン53g（理論値の93％）が得られた。
実施例（II−２）

4,5−ジメチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン22.6g（0.20モル）を塩化メチレン250ml中に導入し、そして混合物を−10℃に冷却した。次に、クロロスルホニルイソシアネート28.3g（0.20モル）を加え、そして混合物を−５〜−10℃で20分間撹拌し、その際に透明な溶液が最初に生成し、次に生成物を結晶として分別した。この生成物を吸引濾過により単離した。
融点150℃（分解）の２−クロロスルホニルアミノカルボニル−4,5−ジメチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン45g（理論値の88％）が得られた。
実施例（II−３）

クロロスルホニルイソシアネート9.9g（72ミリモル）を−10〜０℃で塩化メチレン250ml中の５−ジメチルアミノ−４−メチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン10g（72ミリモル）に徐々に加えた。反応混合物を30分間撹拌した後、このものを室温（20℃）にもどした。次に、溶媒を水流ポンプの真空下での蒸留により除去した。
２−クロロスルホニルアミノカルボニル−５−ジメチルアミノ−４−メチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン19.1g（理論値の94％）が非晶性残渣として得られた。
使用例：
使用例において、下の化合物（Ａ）を比較物質として用いた：

２−（２−クロロ−フェニルスルホニルアミノカルボニル）−4,5−ジメチル−2,4−ジヒドロ−3H−1,2,4−トリアゾル−３−オン（ヨーロッパ特許出願公開第341,489号に開示）。
実施例Ａ
発芽前試験
溶 媒：アセトン５重量部
乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重量部
活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
試験植物の種子を通常の土壌中にまき、24時間後、活性化合物の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の量を一定に保持することが適当である。調製物中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活性化合物の量のみが決めてとなる。３週間後、植物に対する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、％損傷として評価した。数字は次を意味する：
％＝作用なし（未処理対照と同様）
100％＝全て撲滅
この試験において、例えば製造実施例２、４、13、33、39、41、43、45、58、64及び65による化合物は従来のものと比較して明らかに優れた活性を示した。その結果を表Ａに示す。

実施例Ｂ
発芽後試験
溶 媒：アセトン５重量部
乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエーテル１重量部
活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物１重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
高さ５〜15cmの試験植物に、単位面積当り所望の活性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物の調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の特定の量が１ヘクタール当り水2000lとして施用されるように選定した。３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照の発育と比較して％損傷として評価した。数字は次の意味を表わす：
0％＝作用なし（未処理対照と同様）
100％＝全て撲滅
この試験において、例えば製造実施例２、４、13、14、33、39、41及び43による化合物は従来のものと比較して明らかに優れた活性を示した。その結果を表Ｂに示す。

Claims (5)

1. 一般式
   

   

   式中、Ｑは
   

   

   を表わし、
   R¹は随時C₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルを表わすか、C₃〜C₆−シクロアルキルを表わすか、
   或いはC₁〜C₆−アルコキシを表わし、
   R²はハロゲンを表わすか、随時C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルキルチオで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルキルを表わすか、C₃〜C₆−シクロアルキルを表わすか、随時C₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよいC₁〜C₆−アルコキシを表わすか、C₁〜C₆−アルキルチオを表わすか、或いはジ−（C₁〜C₄−アルキル）−アミノを表わし、
   R³は随時ハロゲン、シアノ、カルボキシル、ニトロ、（各々の場合に随時ハロゲン、シアノ、C₁〜C₄−アルコキシまたはC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよい）C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−アルコキシ、C₁〜C₄−アルキルチオ、C₁〜C₄−アルキルスルフィニルまたはC₁〜C₄−アルキルスルホニル、C₁〜C₄−アルキルスルホニルオキシ、C₁〜C₄−アルキルアミノスルホニルオキシ、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）アミノスルホニルオキシ、C₁〜C₄−ハロゲノアルキルスルホニルオキシ、ジ−（C₁〜C₄−アルキル）アミノカルボニルまたはC₁〜C₄−アルキルアミノカルボニルオキシ、（各々の場合に随時ハロゲンまたはC₁〜C₄−アルキルで置換されていてもよい）C₃〜C₆−シクロアルキルまたはC₃〜C₆−シクロアルキル−C₁〜C₄−アルキル、C₁〜C₄−アルキル−カルボニルまたは随時C₁〜C₄−アルコキシで置換されていてもよいC₁〜C₄−アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよいフェニルを表わし、
   R⁴は水素を表すか、或いはC₁〜C₆−アルキルを表わす、
   のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン及び式（Ｉ）の化合物の塩。
2. 一般式（II）
   

   

   式中、R¹及びR²は請求の範囲第１項記載の意味を有する、
   のクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンを適当ならば酸受容体の存在下及び適当ならば希釈剤の存在下で一般式（III）
   R³−Ｑ−Ｈ （III）
   式中、Ｑ及びR³は請求の範囲第１項記載の意味を有する、
   の親核性化合物と反応させ、そして適当ならば得られる式（Ｉ）の化合物を常法により塩に転化することを特徴とする、請求の範囲第１項記載の式（Ｉ）のスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノンの製造方法。
3. 少なくとも１つの請求の範囲第１項記載の式（Ｉ）の化合物を含有することを特徴とする、除草剤組成物。
4. 請求の範囲第１項記載の一般式（Ｉ）の化合物を雑草またはその環境上に作用させることを特徴とする、雑草の防除方法。
5. 一般式（II）
   

   

   式中、R¹は水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキリデンアミノを表わすか、或いは各々随時置換されていてもよいアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルアミノ、シクロアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルカノイルアミノ及びアルコキシカルボニルアミノよりなる群からの基を表わし、そして
   R²は水素、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ハロゲンを表わすか、或いは各々随時置換されていてもよいアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、アルリールオキシ、アラルキルオキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、アリールチオ、アラルキルチオ、アルキルアミノ、アルケニルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アジリジノ、ピロリジノ、ピペリジノまたはモルホリノよりなる群からの基を表わす、
   のクロロスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン。