JP3562436B2 - 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 - Google Patents
精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3562436B2 JP3562436B2 JP2000120919A JP2000120919A JP3562436B2 JP 3562436 B2 JP3562436 B2 JP 3562436B2 JP 2000120919 A JP2000120919 A JP 2000120919A JP 2000120919 A JP2000120919 A JP 2000120919A JP 3562436 B2 JP3562436 B2 JP 3562436B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- distillation
- acryloxy
- organosilicon compound
- purified
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- -1 acryloxy Chemical group 0.000 title claims description 107
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims description 34
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 99
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 claims description 15
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 14
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N N-isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine Chemical compound C1=CC(NC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 claims description 5
- ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dimethylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CN(C)C([S-])=S.CN(C)C([S-])=S ZOUQIAGHKFLHIA-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 2
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 claims 1
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 claims 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 22
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 20
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 14
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000003405 preventing effect Effects 0.000 description 4
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002832 nitroso derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CSARTRYLWLBEQF-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(diethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CCCOC(=O)C(C)=C CSARTRYLWLBEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXTWEYZIAFMOKZ-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(diethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(CC)CCCOC(=O)C=C BXTWEYZIAFMOKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKQXCDUCLYWRHA-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)Cl OKQXCDUCLYWRHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSBJCQMIXISILC-UHFFFAOYSA-N 3-[chloro(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCOC(=O)C=C CSBJCQMIXISILC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXBRKGPWLNMYCA-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(ethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C(C)=C VXBRKGPWLNMYCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBHUANZUUYEVJJ-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(ethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C MBHUANZUUYEVJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(Cl)Cl QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C GBAQKTTVWCCNHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVPTGZDLJKYQV-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(ethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C ROVPTGZDLJKYQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UULWRBNKTKMMHF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(ethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)CCCOC(=O)C=C UULWRBNKTKMMHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUTSHINWYBIRDG-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(diethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CCCOC(=O)C(C)=C WUTSHINWYBIRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZXDQQWCXYGRHX-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(diethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](CC)(CC)CCCOC(=O)C=C ZZXDQQWCXYGRHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCRUJAKCJLCJCP-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C ZCRUJAKCJLCJCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOGMJCPBZJUYGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCOC(=O)C=C LEPRPXBFZRAOGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXKQNCDDHDBAPD-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diphenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UXKQNCDDHDBAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001483078 Phyto Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- CDOMXXVCZQOOMT-UHFFFAOYSA-N [phenoxy(phenyl)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(C=1C=CC=CC=1)(=O)OC1=CC=CC=C1 CDOMXXVCZQOOMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- MQDOGYRERAPWMG-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-di(propan-2-yl)carbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CC(C)N(C(C)C)C([S-])=S.CC(C)N(C(C)C)C([S-])=S MQDOGYRERAPWMG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dibutylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CCCCN(C([S-])=S)CCCC.CCCCN(C([S-])=S)CCCC IXPUJMULXNNEHS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OBBCYCYCTJQCCK-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-diethylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CCN(CC)C([S-])=S.CCN(CC)C([S-])=S OBBCYCYCTJQCCK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UQMKZLGQBFCRSN-UHFFFAOYSA-L copper;n,n-dipropylcarbamodithioate Chemical compound [Cu+2].CCCN(C([S-])=S)CCC.CCCN(C([S-])=S)CCC UQMKZLGQBFCRSN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物は、有機官能シランカップリング剤として有用性の高い化合物である。
アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物は、加熱により容易に重合が始まることから、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を蒸留によって精製する場合には、重合防止剤の使用が不可欠であった。
該重合防止剤としては従来から、ヒドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、ニトロソ化合物、更には、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールに代表されるヒンダードフェノール系化合物とフェノチアジンなどの芳香族硫黄化合物との混合物などが使用されている。
【0003】
【本発明が解決する課題】
しかしながら、ヒドロキノンや2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノンを重合防止剤として使用した場合には、蒸留時、該重合防止剤が目的物とともに留出することから、蒸留釜内の該重合防止剤濃度が低くなり、蒸留釜内でのアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の重合(ゲル化)を防止することは困難であった。
【0004】
また、前述の蒸留釜内におけるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の重合を防止することを目的として、該重合防止剤を多量に使用した場合には、留出物中の該重合防止剤の濃度が高くなり、該留出物に含まれるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を重合させポリマーを得ようとする際に、重合を著しく阻害する場合があった。
【0005】
更に、ヒドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、ニトロソ化合物を重合防止剤として使用した場合には、加熱により該重合防止剤が熱分解し、それによって留出物が着色することがあった。
【0006】
一方、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールに代表されるヒンダードフェノール系化合物とフェノチアジンなどの芳香族硫黄化合物との混合物を重合防止剤として使用した場合には、留出物の着色も少なく、重合防止効果も比較的安定であるものの、蒸留釜と蒸留塔とを備えた工業的規模の蒸留工程においては、該重合防止剤の効果は充分とは云えない場合があった。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前述の従来技術の問題点に鑑み鋭意研究した結果、少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を製造する方法において、蒸留塔より、芳香族アミン化合物および芳香族硫黄化合物から選ばれた1種以上と、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する精製された有機ケイ素化合物との混合溶液を蒸留塔内に供給し、芳香族アミン化合物または芳香族硫黄化合物から選ばれた1種以上と、ヒンダードフェノール化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅、りん含有化合物、およびアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液を蒸留釜に入れ、酸素を含有する不活性気体の雰囲気下蒸留することを特徴とする精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法であれば、蒸留釜と蒸留塔とを備えた工業的規模の蒸留工程において、留出物が着色することなく、安定してアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を精製することが可能であることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成させた。
【0008】
本発明は、下記の(1)〜(3)の構成からなる。
(1)少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、下記一般式(I)に示される精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物を製造する方法において、蒸留塔より、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、およびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する精製された有機ケイ素化合物との混合溶液を蒸留塔内に供給し、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、およびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、ヒンダードフェノール化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅、トリフェニルフォスファイト、および一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液を蒸留釜に入れ、酸素を含有する不活性気体の雰囲気下蒸留することを特徴とする精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
(式中、nは0〜2のであり、R1はメチル基またはエチル基であり、R2はメトキシ基またはエトキシ基または塩素である。R3は水素またはメチル基である。)
【0009】
(2)少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、下記一般式(I)に示される精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物を製造する方法において、蒸留塔より、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンおよびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する精製された有機ケイ素化合物との混合溶液を蒸留塔内に供給し、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンおよびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、ジメチルジチオカルバミン酸銅、トリフェニルフォスファイト、および一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液を蒸留釜に入れ、酸素を含有する不活性気体の雰囲気下蒸留することを特徴とする精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
(式中、nは0〜2のであり、R 1 はメチル基またはエチル基であり、R 2 はメトキシ基またはエトキシ基または塩素である。R 3 は水素またはメチル基である。)
【0010】
(3)酸素を含有する不活性気体に含まれる酸素の割合が、該不活性気体容量に対し1〜2容量%の範囲である前記第1項または第2項記載の精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の製造方法。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明は、少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を含有する液体を蒸留することにより、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を製造する方法である。
【0012】
本発明で使用する蒸留装置は、少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置であって、蒸留塔から液体を蒸留釜に供給できる構造を有するものであれば、特に限定されるものではない。また、本発明に使用する蒸留装置は減圧蒸留可能なものであっても良い。
【0013】
また、本発明の蒸留方法は、前述の蒸留装置の蒸留釜にアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を含有する液体を供給し(以下、蒸留釜に供給する該液体を「蒸留仕込み液」と記述する。)、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を含有する液体を、蒸留塔に供給しつつ蒸留を行うものである。
【0014】
該蒸留装置にかけるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を含有する液体としては、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液などを挙げることができる。
【0015】
本発明の製造方法によって製造(蒸留、精製)されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物は、具体的には、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルモノメチルジメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルモノメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルモノエチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルジエチルモノエトキシシラン、
【0016】
γ−アクリロキシプロピルトリクロロシシラン、γ−アクリロキシプロピルモノメチルジクロロシシラン、γ−アクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルモノエチルジクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルジエチルクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルモノメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルモノメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、
【0017】
γ−メタクリロキシプロピルモノエチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルモノメチルジクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルジメチルクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルモノエチルジクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルジエチルクロロシランおよびγ−メタクリロキシプロピルジエチルモノエトキシシラン等を挙げることができる。
【0018】
ヒンダードフェノール化合物としては、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールを挙げることができ、芳香族アミン化合物としては、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンやN−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミンなどを挙げることができ、芳香族硫黄化合物としてはフェノチアジンを挙げることができる。
【0019】
ジアルキルジチオカルバミン酸銅としては、ジメチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジ−n−プロピルジチオカルバミン酸銅、ジイソプロピルジチオカルバミン酸銅、およびジ−n−ブチルジチオカルバミン酸銅などを挙げることができ、りん含有化合物としては、トリフェニルホスファイトを挙げることができる。
【0020】
蒸留仕込み液に、芳香族アミン化合物および芳香族硫黄化合物から選ばれた1種以上、ヒンダードフェノール化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅、およびりん含有化合物を添加することは、重合防止効果を向上させる点で有効であり、蒸留塔からの芳香族アミン化合物または芳香族硫黄化合物の供給は、より重合防止効果を高めるために有効である。
【0021】
本発明において、芳香族アミン化合物および芳香族硫黄化合物から選ばれた1種以上、ヒンダードフェノール化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅、および、りん含有化合物の蒸留仕込み液への添加割合は、蒸留仕込み液100重量部に対してそれぞれ0.001〜10重量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.01〜5重量部の範囲である。
【0022】
蒸留塔より供給される、芳香族アミン化合物および芳香族硫黄化合物から選ばれた1種以上とアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物との混合液における、芳香族アミン化合物または芳香族硫黄化合物の混合割合は、アクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物100重量部に対して0.1〜10重量部の範囲であることが好ましく、より好ましくは1〜7重量部の範囲である。
【0023】
蒸留塔から供給される混合溶液の供給部位は、蒸留塔の上部、中部あるいは下部などが挙げられるが、蒸留塔の上部であるほうが好ましい。
【0024】
本発明に使用する酸素を含有する不活性気体に含まれる酸素の含有割合は、安全性の観点から一般に低いことが好ましく、不活性気体容量に対し1〜2容量%の範囲であることが好ましい。
【0025】
該不活性気体とは、具体的に、窒素、ヘリウム、アルゴンなどを挙げることができる。
【0026】
また、シラン化合物の加水分解防止、収率低下防止の観点から、本発明に使用する酸素を含有する不活性気体に含まれる水分は、1000ppm以下であることが好ましい。
【0027】
【実施例】
実施例および比較例により本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
還流冷却器、温度計、キャピラリー、5mm×5mmのSUS316製ヘリパックパッキングを内部に有する、内径50mmのSUS316製蒸留塔、および5リットルのSUS316製蒸留釜を備えた減圧蒸留装置を使用した。
予め、蒸留仕込み液として、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを主成物とする粗反応液(該粗反応液100重量部中、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールを0.1重量部の割合で含有し、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを96.5重量部含有する。)を2490g、重合防止剤としてN,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、およびジメチルジチオカルバミン酸銅を各5.0g(該蒸留仕込み液100重量部対して0.2重量部の割合)とトリフェニルホスファイトを1.2g(該蒸留仕込み液100重量部に対して0.05重量部の割合)を蒸留釜に仕込み、次いで、該蒸留仕込み液に酸素を1容量%含有する窒素をキャピラリーより吹き込み、蒸留塔の上部より、フェノチアジンをγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン100重量部に対して0.2重量部の割合で添加した混合液120mlを約7ml/hr(該蒸留仕込み液100重量部に対して0.1重量部に相当するフェノチアジン)で供給しながら17.5時間かけて、117℃、0.03kPaの条件で蒸留した。蒸留終了後、蒸留釜内の残留液を抜き出した後、装置内の洗浄を行った。
その結果、無色透明(ハーゼン色数10以下)で純度99重量%以上のγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン2238g(蒸留収率89.6%)を得た。装置内に重合物は生成しておらず、蒸留釜残の粘度は、使用した粗反応液の2.3cStに対して8.6cStであった。
【0028】
実施例2
実施例1に準じた蒸留操作を、61.5時間かけて3回繰り返した。但し、その間蒸留装置の洗浄は行わなかった。
その結果、無色透明(ハーゼン色数10以下)で純度99重量%以上のγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを蒸留収率90.0%で得た。装置内に重合物は生成しておらず、蒸留釜残の粘度は粗反応液の2.3cStに対して10.5cStであった。
【0029】
比較例1
還流冷却器、温度計、キャピラリー、5mm×5mmのガラス製ラシヒリングを内部に有する、内径40mmのガラス製蒸留塔、および1リットルのガラス製蒸留釜を備えた減圧蒸留装置を使用した。
予め、蒸留仕込み液として、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを主成物とする粗反応液(該粗反応液100重量部中、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノールを0.1重量部の割合で含有し、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを96.0重量部含有する。)を800g、重合防止剤としてN−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩(該蒸留仕込み液100重量部対して0.2重量部の割合)を蒸留釜に仕込み、次いで、該蒸留仕込み液に酸素を1容量%含有する窒素をキャピラリーより吹き込み、7時間かけて117℃、0.03kPaで蒸留した。その結果、純度99重量%以上のγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを蒸留収率62.7%で得たが、黄色の着色があり、ハーゼン色数500であった。蒸留釜壁面にゲル化物が発生し、蒸留釜残の粘度は粗反応液の2.6cStに対して15.7cStであった。
【0030】
比較例2
重合防止剤としてN,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンの蒸留仕込み液への添加割合を、蒸留仕込み液100重量部に対して0.5重量部とし、ジメチルジチオカルバミン酸銅を使用しなかったこと以外は、実施例1に準じて蒸留を行った。その結果、蒸留収率55.1%のところで蒸留釜内の液がゲル化した。得られたγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランは、無色透明(ハーゼン色数10以下)で純度99重量%以上であった。
【0031】
比較例3
重合防止剤としてN,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンのかわりにフェノチアジンを、蒸留仕込み液100重量部に対して1重量部の割合で添加し、ジメチルジチオカルバミン酸銅を使用せず、蒸留塔の塔頂からのフェノチアジンの供給を行わなかった以外は、実施例1に準じて蒸留操作を行った。
この結果、低沸成分を留去したところで釜液がゲル化し、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランを単離することはできなかった。
【0032】
【発明の効果】
本発明の蒸留精製方法であれば、蒸留釜と蒸留塔とを備えた工業的規模の蒸留工程において、留出物が着色することなく、安定して精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物を製造することが可能である。
Claims (3)
- 少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、下記一般式(I)に示される精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物を製造する方法において、蒸留塔より、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、およびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する精製された有機ケイ素化合物との混合溶液を蒸留塔内に供給し、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N−フェニル−N’−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、およびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、ヒンダードフェノール化合物、ジアルキルジチオカルバミン酸銅、トリフェニルフォスファイト、および一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液を蒸留釜に入れ、酸素を含有する不活性気体の雰囲気下蒸留することを特徴とする精製されたアクリロキ
シ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
(式中、nは0〜2のであり、R1はメチル基またはエチル基であり、R2はメトキシ基またはエトキシ基または塩素である。R3は水素またはメチル基である。) - 少なくとも蒸留塔と蒸留釜とを有する蒸留装置を用いて、下記一般式(I)に示される精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物を製造する方法において、蒸留塔より、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンおよびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する精製された有機ケイ素化合物との混合溶液を蒸留塔内に供給し、N,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミンおよびフェノチアジンから選ばれた1種以上と、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、ジメチルジチオカルバミン酸銅、トリフェニルフォスファイト、および一般式(I)で示されるアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の粗反応液を蒸留釜に入れ、酸素を含有する不活性気体の雰囲気下蒸留することを特徴とする精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法。
(式中、nは0〜2のであり、R 1 はメチル基またはエチル基であり、R 2 はメトキシ基またはエトキシ基または塩素である。R 3 は水素またはメチル基である。) - 酸素を含有する不活性気体に含まれる酸素の割合が、該不活性気体容量に対し1〜2容量%の範囲である請求項1または2記載の精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基を含有する有機ケイ素化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000120919A JP3562436B2 (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000120919A JP3562436B2 (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001302678A JP2001302678A (ja) | 2001-10-31 |
JP3562436B2 true JP3562436B2 (ja) | 2004-09-08 |
Family
ID=18631658
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000120919A Expired - Lifetime JP3562436B2 (ja) | 2000-04-21 | 2000-04-21 | 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3562436B2 (ja) |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2647243B2 (ja) * | 1990-09-19 | 1997-08-27 | 東燃株式会社 | γ―メタクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法 |
JP2647242B2 (ja) * | 1990-09-19 | 1997-08-27 | 東燃株式会社 | γ―メタクリロキシプロピルシラン化合物の製造方法 |
JP2725593B2 (ja) * | 1993-04-15 | 1998-03-11 | 株式会社日本触媒 | (メタ)アクリル酸およびそのエステルの重合防止方法 |
JP2938722B2 (ja) * | 1993-07-12 | 1999-08-25 | 信越化学工業株式会社 | アクリル官能性シラン化合物の重合禁止剤 |
JP2977185B2 (ja) * | 1995-07-10 | 1999-11-10 | チッソ株式会社 | アクリルシランの蒸留方法 |
JP2947137B2 (ja) * | 1995-08-28 | 1999-09-13 | チッソ株式会社 | アクリルシランの蒸留方法 |
JPH09316026A (ja) * | 1996-05-27 | 1997-12-09 | Mitsubishi Chem Corp | (メタ)アクリル酸及びそのエステルの重合防止方法 |
-
2000
- 2000-04-21 JP JP2000120919A patent/JP3562436B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001302678A (ja) | 2001-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH05186478A (ja) | 抑制されたアクリルオキシシラン及びメタクリルオキシシラン | |
JP2004256544A (ja) | 不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法 | |
US20120004437A1 (en) | Method for producing (meth)acrylosilanes | |
EP1368359B1 (en) | Continuous transesterification process for alkoxyorganosilicon compounds | |
JP3562436B2 (ja) | 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JPWO2004106278A1 (ja) | (メタ)アクリル酸n−アルキルアミノアルキルエステルの製造方法 | |
JP5274454B2 (ja) | エーテル結合を有するエチレン性不飽和基含有イソシアネート化合物の製造方法 | |
EP1417209B1 (en) | High boiling inhibitors for distillable, polymerizable monomers | |
JP6008600B2 (ja) | 4−ヒドロキシブチルアクリレートの製造方法 | |
CN113292592B (zh) | 一种脱除三甲基氯硅烷中甲基二氯硅烷、四氯化硅杂质的方法 | |
JPH09316026A (ja) | (メタ)アクリル酸及びそのエステルの重合防止方法 | |
US6204403B1 (en) | Process for manufacturing acrylamidoalkylalkoxysilanes | |
TWI249523B (en) | Process for preparing high purity (meth)acryloyloxyalkyl isocyanate | |
KR101289368B1 (ko) | 불포화 오르가노실리콘 화합물의 중합을 방지하는 방법 | |
JP2003501435A (ja) | アクリルアミドアルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JP6844106B2 (ja) | 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 | |
JP6018402B2 (ja) | 4−ヒドロキシブチルアクリレートの製造方法 | |
JP3682805B2 (ja) | 飽和脂肪族カルボン酸アミドの製造方法 | |
JP2003313193A (ja) | (メタ)アクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JP2947169B2 (ja) | アクリルシランの蒸留方法 | |
US6475347B1 (en) | High boiling inhibitors for distillable, polymerizable monomers | |
JPH0920787A (ja) | アクリルシランの蒸留方法 | |
JPH11222469A (ja) | アルキルアミノ(メタ)アクリレートの製造法 | |
JP2001172235A (ja) | ジメチルアミノエチルアクリレートの製造方法 | |
JP2006290850A (ja) | (メタ)アルキル酸モルホリノアルキル類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040108 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040331 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040511 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040524 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3562436 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 9 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |