JP2004256544A - 不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法 - Google Patents
不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004256544A JP2004256544A JP2004054525A JP2004054525A JP2004256544A JP 2004256544 A JP2004256544 A JP 2004256544A JP 2004054525 A JP2004054525 A JP 2004054525A JP 2004054525 A JP2004054525 A JP 2004054525A JP 2004256544 A JP2004256544 A JP 2004256544A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound
- stabilizing
- carbon atoms
- compounds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 30
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 title claims abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 45
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 28
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 7
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 18
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- -1 methacryloxymethyl Chemical group 0.000 claims description 9
- MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Methylenebis(2,6-di-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 MDWVSAYEQPLWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 5
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N oxo-[[1-[2-[2-[2-[4-(oxoazaniumylmethylidene)pyridin-1-yl]ethoxy]ethoxy]ethyl]pyridin-4-ylidene]methyl]azanium;dibromide Chemical compound [Br-].[Br-].C1=CC(=C[NH+]=O)C=CN1CCOCCOCCN1C=CC(=C[NH+]=O)C=C1 UUEVFMOUBSLVJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)COC(=O)C(C)=C YBUIRAZOPRQNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DNQFCBLYUTWWCH-UHFFFAOYSA-N [ethoxy(dimethyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)COC(=O)C(C)=C DNQFCBLYUTWWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HZIABGAGAIMOQZ-UHFFFAOYSA-N [methoxy(dimethyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)COC(=O)C(C)=C HZIABGAGAIMOQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 claims description 2
- UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C(C)=C UZIAQVMNAXPCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C(C)=C UOKUUKOEIMCYAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SOGIFFQYRAXTDR-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[SiH](C)OCC SOGIFFQYRAXTDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract 1
- 230000002085 persistent effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 241001550224 Apha Species 0.000 description 5
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- IMDPTYFNMLYSLH-UHFFFAOYSA-N 3-silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[SiH3] IMDPTYFNMLYSLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000010354 butylated hydroxytoluene Nutrition 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 4
- LLLCSBYSPJHDJX-UHFFFAOYSA-M potassium;2-methylprop-2-enoate Chemical compound [K+].CC(=C)C([O-])=O LLLCSBYSPJHDJX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N [azido(phenoxy)phosphoryl]oxybenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(=O)(N=[N+]=[N-])OC1=CC=CC=C1 SORGEQQSQGNZFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 238000000199 molecular distillation Methods 0.000 description 2
- 230000009965 odorless effect Effects 0.000 description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RPVFYIHRKXUWDA-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-1-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-1-yl)oxypiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1ON1C(C)(C)CCCC1(C)C RPVFYIHRKXUWDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 2,6-di-tert-butylphenol Chemical group CC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)C)=C1O DKCPKDPYUFEZCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMZVBRIIHDRYGK-UHFFFAOYSA-N 2,6-ditert-butyl-4-[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 VMZVBRIIHDRYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBVYKVSZCGXRW-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-hydroxy-4,6-di(propan-2-yl)phenyl]methyl]-3,5-di(propan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)C1=CC(C(C)C)=CC(O)=C1CC1=C(O)C=C(C(C)C)C=C1C(C)C TXBVYKVSZCGXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPQAUEDTKNBRNG-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoylsilicon Chemical compound CC(=C)C([Si])=O ZPQAUEDTKNBRNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHGODYVRWCETCV-UHFFFAOYSA-N 3,5-ditert-butyl-2-[(2,4-ditert-butyl-6-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC(O)=C1CC1=C(O)C=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C AHGODYVRWCETCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHVRITKMNGKMBC-UHFFFAOYSA-N 3-[2-methoxyethoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C UHVRITKMNGKMBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYLGLFRJQNBSSN-UHFFFAOYSA-N 3-[2-methoxyethoxy(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C CYLGLFRJQNBSSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQNCMVGYSANBSP-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2-methoxyethoxy)-methylsilyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(OCCOC)CCCOC(=O)C(C)=C IQNCMVGYSANBSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQUOFKHZTLRYSK-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2-methoxyethoxy)-methylsilyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(OCCOC)CCCOC(=O)C=C RQUOFKHZTLRYSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C=C UDWIZRDPCQAYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C=C MCDBEBOBROAQSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIWKWGKHZFFEEA-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(phenoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC[Si](C)(C)OC1=CC=CC=C1 XIWKWGKHZFFEEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWMSQFUYMBPRHY-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(propan-2-yloxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C HWMSQFUYMBPRHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JSOZORWBKQSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBFOBNYTYHFPN-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C DGBFOBNYTYHFPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C JBDMKOVTOUIKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCRUJAKCJLCJCP-UHFFFAOYSA-N 3-[methoxy(dimethyl)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCOC(=O)C=C ZCRUJAKCJLCJCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXZYWQFVRMKXGX-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl(diphenoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](C)(CCCOC(=O)C(=C)C)OC1=CC=CC=C1 OXZYWQFVRMKXGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLPTYZFTHPIKAZ-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl(diphenoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](CCCOC(=O)C=C)(C)OC1=CC=CC=C1 MLPTYZFTHPIKAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMZKIKYKUFCIEG-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl-di(propan-2-yloxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C(C)=C UMZKIKYKUFCIEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKJUNSCWORCQSY-UHFFFAOYSA-N 3-[methyl-di(propan-2-yloxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C=C DKJUNSCWORCQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris(2-methoxyethoxy)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)CCCOC(=O)C(C)=C DMZPTAFGSRVFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNZVYZIRTOVNKZ-UHFFFAOYSA-N 3-[tris(2-methoxyethoxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)CCCOC(=O)C=C PNZVYZIRTOVNKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C(C)=C CHPNMYQJQQGAJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 3-tri(propan-2-yloxy)silylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)CCCOC(=O)C=C JMGZKPMMFXFSGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C=C XDQWJFXZTAWJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEZWLMITWQYZPJ-UHFFFAOYSA-N 3-triphenoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(CCCOC(=O)C(=C)C)OC1=CC=CC=C1 QEZWLMITWQYZPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SALHVONPYZUNHU-UHFFFAOYSA-N 3-triphenoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(CCCOC(=O)C=C)OC1=CC=CC=C1 SALHVONPYZUNHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDZBDNMBCLGJAP-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-hydroxy-3,5-di(propan-2-yl)phenyl]methyl]-2,6-di(propan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)C1=C(O)C(C(C)C)=CC(CC=2C=C(C(O)=C(C(C)C)C=2)C(C)C)=C1 JDZBDNMBCLGJAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXKQNCDDHDBAPD-UHFFFAOYSA-N 4-n,4-n-diphenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UXKQNCDDHDBAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000233855 Orchidaceae Species 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DISKRCLCFKXMDQ-UHFFFAOYSA-N [2-[methyl(diphenoxy)silyl]oxyphenyl] prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C(=CC=CC=1)OC(=O)C=C)(C)OC1=CC=CC=C1 DISKRCLCFKXMDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGJNFVSQYOATAS-UHFFFAOYSA-N [2-methoxyethoxy(dimethyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(C)COC(=O)C(C)=C FGJNFVSQYOATAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PECBQSBGLMGTRY-UHFFFAOYSA-N [2-methoxyethoxy(dimethyl)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(C)COC(=O)C=C PECBQSBGLMGTRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCBMYDMAHPHLR-UHFFFAOYSA-N [bis(2-methoxyethoxy)-methylsilyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(COC(=O)C(C)=C)OCCOC UOCBMYDMAHPHLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWTZPZVMJBRESD-UHFFFAOYSA-N [bis(2-methoxyethoxy)-methylsilyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](C)(COC(=O)C=C)OCCOC AWTZPZVMJBRESD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXDZOSLIAABYHM-UHFFFAOYSA-N [diethoxy(methyl)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COC(=O)C(C)=C GXDZOSLIAABYHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOQDVGQHVVOWLF-UHFFFAOYSA-N [diethoxy(methyl)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)COC(=O)C=C SOQDVGQHVVOWLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIJDAGBZCJCLNO-UHFFFAOYSA-N [dimethoxy(methyl)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)COC(=O)C=C UIJDAGBZCJCLNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTMABOLVCNSMLV-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(phenoxy)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC[Si](C)(C)OC1=CC=CC=C1 NTMABOLVCNSMLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRDFUBPFPAIYEM-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(phenoxy)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC[Si](C)(C)OC1=CC=CC=C1 XRDFUBPFPAIYEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOCNRFDDGCYAMK-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(propan-2-yloxy)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(C)COC(=O)C(C)=C ZOCNRFDDGCYAMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBCCEVVODHCMCV-UHFFFAOYSA-N [dimethyl(propan-2-yloxy)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(C)COC(=O)C=C KBCCEVVODHCMCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKHXHWJEIICKBV-UHFFFAOYSA-N [ethoxy(dimethyl)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(C)COC(=O)C=C GKHXHWJEIICKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRWLOUSCVHTXDD-UHFFFAOYSA-N [methyl(diphenoxy)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](C)(COC(=O)C(=C)C)OC1=CC=CC=C1 DRWLOUSCVHTXDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHGGEMFYFBRDNK-UHFFFAOYSA-N [methyl(diphenoxy)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](COC(=O)C=C)(C)OC1=CC=CC=C1 QHGGEMFYFBRDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCZLNPGUFIRUCZ-UHFFFAOYSA-N [methyl-di(propan-2-yloxy)silyl]methyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)COC(=O)C(C)=C FCZLNPGUFIRUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAGCGEALFHYRRM-UHFFFAOYSA-N [methyl-di(propan-2-yloxy)silyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](C)(OC(C)C)COC(=O)C=C FAGCGEALFHYRRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008378 aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000000998 batch distillation Methods 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- UZYROSQHTXHLEU-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(diethoxymethyl)silane Chemical compound CCOC(OCC)[SiH2]CCl UZYROSQHTXHLEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N chloromethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](CCl)(OC)OC FPOSCXQHGOVVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(CCl)OC ZXZMFKUGAPMMCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCSLOBFDVTWIBL-UHFFFAOYSA-N chloromethyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)CCl ZCSLOBFDVTWIBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012045 crude solution Substances 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical compound [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- RIZMRRKBZQXFOY-UHFFFAOYSA-N ethion Chemical compound CCOP(=S)(OCC)SCSP(=S)(OCC)OCC RIZMRRKBZQXFOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011552 falling film Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000001188 haloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methyl-cyclopentane Natural products CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKCQRGCWKDEOSO-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCN(CC)CC CKCQRGCWKDEOSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- ZPWJACAGXBYLDA-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)silylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)COC(=O)C(C)=C ZPWJACAGXBYLDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRUHAKPKYAFGNA-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yloxy)silylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)O[Si](OC(C)C)(OC(C)C)COC(=O)C=C RRUHAKPKYAFGNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N triethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)COC(=O)C=C WDUXKFKVDQRWJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilylmethyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)COC(=O)C=C JPPHEZSCZWYTOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBGBRBHQBNQOIO-UHFFFAOYSA-N triphenoxysilylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(COC(=O)C(=C)C)OC1=CC=CC=C1 WBGBRBHQBNQOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZHPAOUJMOBOU-UHFFFAOYSA-N tris(2-methoxyethoxy)silylmethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCO[Si](COC(=O)C=C)(OCCOC)OCCOC QYZHPAOUJMOBOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1896—Compounds having one or more Si-O-acyl linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
【課題】不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法を提供する。
【解決手段】ハロゲンアルキルシランを不飽和有機酸の塩と反応させることにより得られる式II
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
の不飽和基を有する有機ケイ素化合物を、その製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に、一般式I
【化1】
の化合物を用いて安定化する。
【効果】不飽和有機ケイ素化合物を安定化するための式Iの化合物の必要量が公知の化合物の場合よりも少なく、安定化効果が持続的であり、式Iの化合物を使用する際に着色および臭いに関して式IIの生成物の品質が明らかに改善された。
【選択図】なし
【解決手段】ハロゲンアルキルシランを不飽和有機酸の塩と反応させることにより得られる式II
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
の不飽和基を有する有機ケイ素化合物を、その製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に、一般式I
【化1】
の化合物を用いて安定化する。
【効果】不飽和有機ケイ素化合物を安定化するための式Iの化合物の必要量が公知の化合物の場合よりも少なく、安定化効果が持続的であり、式Iの化合物を使用する際に着色および臭いに関して式IIの生成物の品質が明らかに改善された。
【選択図】なし
Description
本発明は不飽和有機ケイ素化合物を安定化する方法に関する。
不飽和有機官能基、たとえばビニル基、アクリル基またはメタクリル基を有する有機ケイ素化合物は、無機材料および有機材料の間での接着促進剤として、たとえばガラス繊維のためのサイズ剤において、有機ポリマー中の架橋剤として、または充填剤の処理のために広く使用されている。
このような化合物のための製造方法はたとえばSiH結合を有するシランと(場合により複数)不飽和の有機化合物との間で金属化合物により触媒される反応(以下ではヒドロシリル化ともよぶ)、またはハロゲンアルキル置換されたアルコキシシランとアクリル酸もしくはメタクリル酸の塩との反応(以下では求核置換ともよぶ)を含む。これらの方法全てに共通していることは、これらの反応が高温下で発熱しながら進行することである。このことにより反応の間に、不飽和有機基の反応により生成物が重合する危険が生じ、このことにより生成物は失われ、かつ使用した反応装置を費用をかけて洗浄しなくてはならない。さらに多くの場合、不飽和有機基を有するシランをさらに蒸留により精製し、その際、このために必要とされる熱負荷は同様に著しく高い重合の危険性を生じる。最終的にこれらの化合物は貯蔵している間に重合する危険が生じる。
不飽和有機基を有する有機ケイ素化合物の重合を防止するための数多くの方法は、いわゆるラジカル重合抑制剤の使用を含んでいる。これらの化合物は、製造方法とは無関係に、不飽和基を有する有機ケイ素化合物の製造の間に、蒸留による後処理の間に、および貯蔵の間に使用される。
US5,145,979には、ヒドロシリル化により不飽和有機基を有する有機ケイ素化合物を製造する際に、立体障害フェノール、芳香族アミンおよび/またはアルキルアミンの混合物が安定化作用を有することが記載されている。DE4437667A1、EP0483479A1またはEP0483480A1には、求核置換により不飽和有機ケイ素化合物を製造する際に安定化のためにN,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミン(DPPA)を使用することが記載されている。EP1004587A2には、N,N′−二置換されたp−フェニレンジアミンのクラスからの化合物と、2,6−ジ−t−ブチル−4−アルキル−フェノールのクラスからの化合物からなる、2種類の異なった重合抑制剤の組合せが記載されている。これに対してEP708081B1にはN,N′−二置換されたp−キノジイミンを単独で、または安定化作用のあるその他の化合物と組み合わせて、求核置換により不飽和基を有する有機ケイ素化合物を製造する際に使用することが記載されている。
複数の抑制剤を使用する全ての方法に共通していることは、使用される重合抑制剤の1つが極めて高い沸点を有しており、従って塔底液を安定化し、その一方で別の抑制剤は蒸留される生成物と同様に揮発性であり、従って気相を安定化することである。しかしN,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミンのようなアミンまたはたとえば2,6−ジアルキル−4−N,N−ジアルキルアミノメチルフェノールのようなアミノ基を有する立体障害フェノールの使用は、蒸留の熱的な条件下で揮発性のアミン不純物を形成し、該不純物によって蒸留した生成物が黄色に着色し、かつ不快な、魚を思い出させるような臭いを有する。
上記の方法ではさらに、安定化化合物を比較的大量に添加しなくてはならず、このような化合物はしばしば極めて高価であり、かつ記載の方法はしばしば、酸素を含有する気体混合物と接触すると、安全技術的に危険であると判断されているという欠点が共通している。さらに多くの上記の化合物の場合、不飽和有機ケイ素化合物に作用する安定化効果にも係わらず、不飽和有機ケイ素化合物が重合し、かつこのことによって損失するという危険が存在する。
US5,145,979
DE4437667A1
EP0483479A1
EP0483480A1
EP1004587A2
EP708081B1
従って本発明の課題は、すでに少量で効果的に不飽和有機ケイ素化合物の重合を防止し、ひいては経済的であり、着色性または臭いを有する化合物の形成により生成物の品質に影響を与えることのない化合物を見出すことである。この課題は特に、ハロゲンアルキルシランと不飽和有機酸の塩との反応により得られる不飽和基を有する有機ケイ素化合物の粗製反応混合物の蒸留に関して解決されるべきである。
上記課題は本発明により、意外にもハロゲンアルキルシランと不飽和酸の塩との反応により得られる、不飽和基を有する有機ケイ素化合物を、その製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に安定化するために、一般式I
本発明の対象は、ハロゲンアルキルシランを不飽和有機酸の塩と反応させることにより得られる式II
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
[式中、R4は水素原子を表すか、1〜10個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、R5は1〜40個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、該基は場合により窒素、酸素、硫黄またはリンの元素から選択される1つもしくは複数のヘテロ原子を有していてもよく、R6およびR7は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、かつwは0または1の値を表し、xは0または1の値を表し、yは0または1の値を表し、かつzは0、1または2の値を表してもよく、その際、wおよびxは両方が同時に1であってはならない]の不飽和基を有する有機ケイ素化合物を製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に、一般式I
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
[式中、R4は水素原子を表すか、1〜10個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、R5は1〜40個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、該基は場合により窒素、酸素、硫黄またはリンの元素から選択される1つもしくは複数のヘテロ原子を有していてもよく、R6およびR7は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、かつwは0または1の値を表し、xは0または1の値を表し、yは0または1の値を表し、かつzは0、1または2の値を表してもよく、その際、wおよびxは両方が同時に1であってはならない]の不飽和基を有する有機ケイ素化合物を製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に、一般式I
この場合、式I中でR1およびR2は、1〜20個の炭素原子を有し、場合により酸素、硫黄、リンまたは窒素のようなヘテロ原子を有していてもよい、同じか、または異なった直鎖状または分枝鎖状のアルキル鎖を表す。分枝鎖状のアルキル基、たとえばイソプロピル基、イソ−ブチル基またはt−ブチル基が有利であり、特にt−ブチル基が有利である。基R1、R2およびヒドロキシ基は本発明による式Iの化合物中で芳香族環の任意の位置にあってよく、有利にはヒドロキシ基およびメチレン架橋は相互にオルト位またはパラ位に存在し、かつ基R1およびR2は有利には相互にメタ位またはパラ位に存在する。
基R3は水素または1〜20個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基から選択され、飽和もしくは不飽和であるか、かつ/またはヘテロ原子により置換されていてもよい同じか、もしくは異なった置換基である。基R3は有利には水素であるか、または1〜4個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基であり、かつ特に有利には水素である。
本発明により使用することができる化合物のための例は4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレン−ビス−(3,5−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−イソプロピルフェノール)および2,2′−メチレン−ビス−(3,5−ジ−イソプロピルフェノール)である。特に有利であるのは、商品名Ionox 220(Degussa社)およびRalox 02 S(Raschig社)で入手可能な4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の使用である。
本発明による化合物は式
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
[式中、R4は水素原子を表すか、または1〜10個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、R5は1〜40個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、該基は場合により窒素、酸素、硫黄またはリンの元素から選択される1つもしくは複数のヘテロ原子を有していてもよく、R6およびR7は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状、環状または分枝鎖状の炭化水素基を表し、かつwは0または1の値を表し、xは0または1の値を表し、yは0または1の値を表し、かつzは0、1または2の値を表してもよく、その際、wおよびxは両方が同時に1であってはならない]の不飽和有機ケイ素化合物を安定化するために特に好適である。
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
[式中、R4は水素原子を表すか、または1〜10個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、R5は1〜40個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、該基は場合により窒素、酸素、硫黄またはリンの元素から選択される1つもしくは複数のヘテロ原子を有していてもよく、R6およびR7は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状、環状または分枝鎖状の炭化水素基を表し、かつwは0または1の値を表し、xは0または1の値を表し、yは0または1の値を表し、かつzは0、1または2の値を表してもよく、その際、wおよびxは両方が同時に1であってはならない]の不飽和有機ケイ素化合物を安定化するために特に好適である。
本発明による式Iの化合物により安定化することができる、不飽和基を有する式IIの有機ケイ素化合物の例は、アクリルシラン、たとえばアクリルオキシメチルトリメトキシシラン、アクリルオキシメチルトリエトキシシラン、アクリルオキシメチルトリフェニルオキシシラン、アクリルオキシメチルトリイソプロポキシシラン、アクリルオキシメチルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、アクリルオキシメチル(メチル)ジメトキシシラン、アクリルオキシメチル(メチル)ジエトキシシラン、アクリルオキシメチル(メチル)ジフェニルオキシシラン、アクリルオキシメチル(メチル)ジイソプロポキシシラン、アクリルオキシメチル(メチル)ビス(2−メトキシエトキシ)シラン、アクリルオキシメチル(ジメチル)メトキシシラン、アクリルオキシメチル(ジメチル)エトキシシラン、アクリルオキシメチル(ジメチル)フェニルオキシシラン、アクリルオキシメチル(ジメチル)イソプロポキシシラン、アクリルオキシメチル(ジメチル)(2−メトキシエトキシ)シラン、3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリフェニルオキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−アクリルオキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(メチル)ジフェニルオキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(メチル)ジイソプロポキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(メチル)ビス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−アクリルオキシプロピル(ジメチル)メトキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(ジメチル)エトキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(ジメチル)フェニルオキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(ジメチル)イソプロポキシシラン、3−アクリルオキシプロピル(ジメチル)(2−メトキシエトキシ)シランまたはメタクリルシラン、たとえばメタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクロルオキシメチルトリフェニルオキシシラン、メタクリルオキシメチルトリイソプロポキシシラン、メタクリルオキシメチルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、メタクリルオキシメチル(メチル)ジメトキシシラン、メタクリルオキシメチル(メチル)ジエトキシシラン、メタクリルオキシメチル(メチル)ジフェニルオキシシラン、メタクリルオキシメチル(メチル)ジイソプロポキシシラン、メタクリルオキシメチル(メチル)ビス(2−メトキシエトキシ)シラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)メトキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)エトキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)フェニルオキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)イソプロポキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)(2−メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリフェニルオキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリイソプロポキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリルオキシプロピル(メチル)ジメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(メチル)ジエトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(メチル)ジフェニルオキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(メチル)ジイソプロポキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(メチル)ビス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−メタクリルオキシプロピル(ジメチル)メトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(ジメチル)エトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(ジメチル)フェニルオキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(ジメチル)イソプロポキシシランおよび3−メタクリルオキシプロピル(ジメチル)(2−メトキシエトキシ)シランである。
本発明により使用可能な式Iの化合物は、式IIの不飽和有機ケイ素化合物を、その製造、その蒸留精製の間に安定化するため、または比較的長期間(数ヶ月または数年)にわたる貯蔵の間の安定化のためにも使用することができる。
一般式Iの抑制剤の使用下での式IIの不飽和基を有する有機ケイ素化合物の粗製混合物の蒸留精製は一般に公知の方法により、たとえば精留塔を有しているか、または有していない撹拌装置からのバッチ蒸留により、またはたとえば薄膜式蒸発器もしくは流下薄膜式蒸発器を使用する分子蒸留によっても行うことができる。
本発明により使用可能な式Iの化合物は、式IIの不飽和有機ケイ素化合物の重合を防止するために十分な量であることを前提として、任意の量で使用することができる。有利には式Iの化合物を、式IIの不飽和基を有する有機ケイ素化合物に対して、0.001〜1質量%の量で、および特に有利には0.005〜0.5質量%の量で使用する。
式Iの本発明による化合物は単独で、または式IIの不飽和有機化合物の重合を抑制することができることが公知である1種もしくは複数種の別の化合物を任意の量で組み合わせて使用することができる。このような化合物の例は芳香族もしくは脂肪族アミン、たとえばN,N−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、またはその他の立体障害フェノール、たとえば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、または芳香族エーテルまたはキノン、たとえばヒドロキノンモノメチルエーテルまたはヒドロキノン、またはたとえば2,2,6,6−テトラメチルピペリジニルオキシド(TEMPO)のような有機ラジカルである。有利にはこれらの化合物を式Iの化合物と同量で使用する。式Iの化合物を単独で使用することは特に有利である。
式Iの安定化化合物の使用下での、不飽和基を有する式IIの不飽和有機ケイ素化合物の製造は、場合により相間移動触媒の存在下でハロゲンアルキルケイ素化合物と、不飽和有機酸の塩との反応により行う。製造は80〜160℃の温度で、有利には90〜150℃および特に有利には100〜120℃で行うことができる。製造は任意の圧力で、有利には0.1〜3バールおよび特に有利には250〜1013バールで行うことができる。
例1:
カリウムメタクリレートを3−クロロプロピルトリメトキシシランと共に(モル比1.05:1)1%のnBu4PCl、5%のアセトンおよび500ppmの4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の存在下に4時間、115℃に加熱することにより、濾過後、アセトン5%、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン94%および相応するジシロキサン1%からなる粗製反応混合物が得られた。減圧下でアセトンを除去した後、ブロー圧力3ミリバール(沸点103℃)で蒸留ブリッジ(Destillationsbruecke)を介した蒸留により、純度99.6%を有する3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランが得られた。生成物はAPHA色数3を有しており、かつわずかな固有臭を有しているにすぎなかった。蒸留塔頭頂部(Destillationsblase)中にも蒸留ブリッジ中にも、または受け器にもポリマー材料は観察されなかった。蒸留の収率は95%であった。
カリウムメタクリレートを3−クロロプロピルトリメトキシシランと共に(モル比1.05:1)1%のnBu4PCl、5%のアセトンおよび500ppmの4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の存在下に4時間、115℃に加熱することにより、濾過後、アセトン5%、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン94%および相応するジシロキサン1%からなる粗製反応混合物が得られた。減圧下でアセトンを除去した後、ブロー圧力3ミリバール(沸点103℃)で蒸留ブリッジ(Destillationsbruecke)を介した蒸留により、純度99.6%を有する3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランが得られた。生成物はAPHA色数3を有しており、かつわずかな固有臭を有しているにすぎなかった。蒸留塔頭頂部(Destillationsblase)中にも蒸留ブリッジ中にも、または受け器にもポリマー材料は観察されなかった。蒸留の収率は95%であった。
例2:
例1で得られた3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの粗製反応混合物をアセトンの除去後、100ml/hの供給速度で12時間にわたり、Leybold−Heraeus KD3のタイプの分子蒸留によって蒸留した。140℃および4ミリバールの調整により約5%の流出量を調整した。ふたたび純度99.5%を有する3−メタクリルオキシプロピルシランが得られ、該化合物は無臭であり、かつAPHA色数6を有していた。ふたたび蒸留装置中、生成物受け器中および塔底(留出物)中でポリマー成分は観察されなかった。
例1で得られた3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの粗製反応混合物をアセトンの除去後、100ml/hの供給速度で12時間にわたり、Leybold−Heraeus KD3のタイプの分子蒸留によって蒸留した。140℃および4ミリバールの調整により約5%の流出量を調整した。ふたたび純度99.5%を有する3−メタクリルオキシプロピルシランが得られ、該化合物は無臭であり、かつAPHA色数6を有していた。ふたたび蒸留装置中、生成物受け器中および塔底(留出物)中でポリマー成分は観察されなかった。
例3(本発明によらない例):
例1においてと同様に3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4′,4−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール1000ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後に蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。予測される生成物の30%が得られた後で蒸留を中断した。というのも、蒸留塔の塔底液がゲル化したからである。得られた生成物は純度99.3%であり、APHA数は15であり、かつGCにおいて2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール0.11%の含有率を有していた。この例は、本発明によらない重合抑制剤の高い揮発性が生成物の損失につながることを示している。
例1においてと同様に3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4′,4−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール1000ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後に蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。予測される生成物の30%が得られた後で蒸留を中断した。というのも、蒸留塔の塔底液がゲル化したからである。得られた生成物は純度99.3%であり、APHA数は15であり、かつGCにおいて2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール0.11%の含有率を有していた。この例は、本発明によらない重合抑制剤の高い揮発性が生成物の損失につながることを示している。
例4(本発明によらない例):
例1においてと同様に、3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール1000ppmおよびN,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミン500ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後、蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。予測される生成物の80%が得られた後で蒸留を中断した。というのも、蒸留塔の塔底液がゲル化したからである。得られた生成物は純度99.3%を有しており、APHA色数は35であり、かつGCにおいて2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール0.09%の含有率を有していた。その他に該生成物は不快な、魚のような臭いを有していた。この例は、重合防止剤の揮発性以外に、アミンの非揮発性重合抑制剤の使用もまた生成物の着色および不快な臭いという欠点があることを示している。
例1においてと同様に、3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール1000ppmおよびN,N′−ジフェニル−p−フェニレンジアミン500ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後、蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。予測される生成物の80%が得られた後で蒸留を中断した。というのも、蒸留塔の塔底液がゲル化したからである。得られた生成物は純度99.3%を有しており、APHA色数は35であり、かつGCにおいて2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノール0.09%の含有率を有していた。その他に該生成物は不快な、魚のような臭いを有していた。この例は、重合防止剤の揮発性以外に、アミンの非揮発性重合抑制剤の使用もまた生成物の着色および不快な臭いという欠点があることを示している。
例5(本発明によらない例):
例1においてと同様に、3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−(N,N−ジメチルアミノメチル)−フェノール1000ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後、蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。得られた生成物は純度99.5%であり、APHA色数は40であり、かつ不快な、魚のような臭いを有していた。この例は、アミン含有のフェノール系重合抑制剤の使用は、生成物の着色および不快な臭いという欠点を有していることを示している。
例1においてと同様に、3−メタクリルオキシプロピルシランの粗製反応混合物が得られたが、ただし、4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)の代わりに、2,6−ジ−t−ブチル−4−(N,N−ジメチルアミノメチル)−フェノール1000ppmを使用した。この粗生成物1kgをアセトンの除去後、蒸留ブリッジを介して3ミリバール(沸点103℃)で蒸留した。得られた生成物は純度99.5%であり、APHA色数は40であり、かつ不快な、魚のような臭いを有していた。この例は、アミン含有のフェノール系重合抑制剤の使用は、生成物の着色および不快な臭いという欠点を有していることを示している。
第1表には、それぞれ相応するハロゲンアルキルシランと(メタ)アクリル酸塩との反応により得られた、(メタ)アクリルオキシアルキルシランの別の粗製反応混合物を蒸留する際の観察がまとめられている。
a)Ionox 220:4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、BHT:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、DPPA:N,N′−ジフェニル−p−フェニレン−ジアミン、Ethanox 703:2,6−ジ−t−ブチル−4−(N,N−ジメチルアミノメチル)フェノール
b)DB:蒸留ブリッジ;DSV:薄膜式蒸発器
c)N:中立的な臭い;A:アミン臭
d)カリウムメタクリレート+クロロメチル−トリメトキシシランから得られた
e)本発明によらない例
f)蒸留液20%が得られた後、蒸留塔の塔底液がゲル化
g)薄膜式蒸発器中でポリマーの形成後に中断
h)トリエチルアンモニウム−アクリレート+クロロメチル(ジメチル)−メトキシシランから製造、
i)蒸留液の40%が得られた後で蒸留塔の塔底液がゲル化
j)カリウムメタクリレート+クロロメチル−(ジメトキシ)メチルシランから製造
k)蒸留液の70%が得られた後で蒸留塔の塔底液がゲル化
l)カリウムメタクリレート+クロロメチル(ジエトキシ)メチルシランから製造。
b)DB:蒸留ブリッジ;DSV:薄膜式蒸発器
c)N:中立的な臭い;A:アミン臭
d)カリウムメタクリレート+クロロメチル−トリメトキシシランから得られた
e)本発明によらない例
f)蒸留液20%が得られた後、蒸留塔の塔底液がゲル化
g)薄膜式蒸発器中でポリマーの形成後に中断
h)トリエチルアンモニウム−アクリレート+クロロメチル(ジメチル)−メトキシシランから製造、
i)蒸留液の40%が得られた後で蒸留塔の塔底液がゲル化
j)カリウムメタクリレート+クロロメチル−(ジメトキシ)メチルシランから製造
k)蒸留液の70%が得られた後で蒸留塔の塔底液がゲル化
l)カリウムメタクリレート+クロロメチル(ジエトキシ)メチルシランから製造。
安定化効率:
不飽和基を有する式IIの有機ケイ素化合物を安定化するための本発明による式Iの化合物の効率を試験するために、種々の不飽和有機ケイ素化合物の合成からの不安定な粗生成物バッチを種々の安定剤(組合せ)を用いて空気およびアルゴン下で添加し、かつどのくらいの時間が経過した後で粗製混合物は140または150℃で重合してゲル化するかを試験した。
不飽和基を有する式IIの有機ケイ素化合物を安定化するための本発明による式Iの化合物の効率を試験するために、種々の不飽和有機ケイ素化合物の合成からの不安定な粗生成物バッチを種々の安定剤(組合せ)を用いて空気およびアルゴン下で添加し、かつどのくらいの時間が経過した後で粗製混合物は140または150℃で重合してゲル化するかを試験した。
この結果は次の第2表および第3表にまとめられている。
a)本発明による例
b)本発明によらない例
この表から明らかであるように、公知の化合物である2,6−ジ−t−ブチル−4−N−ジメチルアミノメチレン−フェノールおよび2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノールと比較して、たとえこれらの化合物を別の抑制剤と共に使用する場合であっても、本発明により使用することができる式Iの化合物は、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの粗製溶液の熱的な安定性の明らかな改善をもたらす。
b)本発明によらない例
この表から明らかであるように、公知の化合物である2,6−ジ−t−ブチル−4−N−ジメチルアミノメチレン−フェノールおよび2,6−ジ−t−ブチル−4−メチル−フェノールと比較して、たとえこれらの化合物を別の抑制剤と共に使用する場合であっても、本発明により使用することができる式Iの化合物は、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランの粗製溶液の熱的な安定性の明らかな改善をもたらす。
試験23〜27を140℃で空気雰囲気中で繰り返した。結果は第3表にまとめられている。
a)本発明による例
b)本発明によらない例
ふたたび本発明により使用することができる一般式Iの化合物は最も良好な安定化作用があることが明らかである。
b)本発明によらない例
ふたたび本発明により使用することができる一般式Iの化合物は最も良好な安定化作用があることが明らかである。
本発明の利点は次のとおりである:
− 不飽和(ケイ素含有)化合物を安定化するための式Iの化合物の必要量は公知の化合物の場合よりも少ない。
− 不飽和(ケイ素含有)化合物を安定化するための式Iの化合物の必要量は公知の化合物の場合よりも少ない。
− 安定化効果が持続的である。
− 式Iの化合物を使用する際に着色および臭いに関して式IIの生成物の品質が明らかに改善された。
Claims (4)
- ハロゲンアルキルシランを不飽和有機酸の塩と反応させることにより得られる式II
H2C=C(R4)[C(O)O]w(O)x−(R5)y−Si(R6)z(OR7)3−z
II
[式中、R4は水素原子を表すか、1〜10個の炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、R5は1〜40個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、該基は窒素、酸素、硫黄またはリンの元素から選択される1つもしくは複数のヘテロ原子を有していてもよく、R6およびR7は1〜10個の炭素原子を有する直鎖状、環状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表し、かつwは0または1の値を表し、xは0または1の値を表し、yは0または1の値を表し、かつzは0、1または2の値を表してもよく、その際、wおよびxは両方が同時に1であってはならない]の不飽和基を有する有機ケイ素化合物を製造および/または蒸留および/または貯蔵の間に、一般式I
- 式Iの化合物が4,4′−メチレン−ビス−(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)である、請求項1記載の式IIの不飽和基を有する有機ケイ素化合物を安定化する方法。
- 式IIの化合物が、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル(ジメトキシ)メチルシラン、メタクリルオキシメチルトリメトキシシラン、メタクリルオキシメチルトリエトキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメトキシ)メチルシラン、メタクリルオキシメチル(ジエトキシ)メチルシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)メトキシシラン、メタクリルオキシメチル(ジメチル)エトキシシランまたは相応するアクリル化合物である、請求項1記載の式IIの不飽和基を有する有機ケイ素化合物を安定化する方法。
- 使用される式Iの安定化化合物の量が式IIの有機ケイ素化合物の0.005〜1質量%である、請求項1記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10308579A DE10308579B3 (de) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | Verfahren zur Stabilisierung ungesättigter Organosiliziumverbindungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004256544A true JP2004256544A (ja) | 2004-09-16 |
Family
ID=32336650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004054525A Withdrawn JP2004256544A (ja) | 2003-02-27 | 2004-02-27 | 不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6841694B2 (ja) |
EP (1) | EP1469002A1 (ja) |
JP (1) | JP2004256544A (ja) |
CN (1) | CN1542013A (ja) |
DE (1) | DE10308579B3 (ja) |
PL (1) | PL365546A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013520457A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | エステル官能性シランの製造方法 |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005057459A1 (de) * | 2005-12-01 | 2007-06-06 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung ungesättigter Organosiliciumverbindungen |
GB0812186D0 (en) * | 2008-07-03 | 2008-08-13 | Dow Corning | Modified polyolefins |
GB0812187D0 (en) * | 2008-07-03 | 2008-08-13 | Dow Corning | Modified polyethylene |
GB0812185D0 (en) * | 2008-07-03 | 2008-08-13 | Dow Corning | Polymers modified by silanes |
KR20120100704A (ko) | 2009-04-30 | 2012-09-12 | 다우 코닝 코포레이션 | 실란에 의해 개질된 엘라스토머 조성물 |
GB201000121D0 (en) | 2010-01-06 | 2010-02-17 | Dow Corning | Modified polyolefins |
GB201000130D0 (en) | 2010-01-06 | 2010-02-24 | Dow Corning | Organopolysiloxanes containing an unsaturated group |
GB201000120D0 (en) | 2010-01-06 | 2010-02-17 | Dow Corning | Process for forming crosslinked and branched polymers |
GB201000117D0 (en) | 2010-01-06 | 2010-02-17 | Dow Corning | Organopolysiloxanes containing an unsaturated group |
WO2012050761A2 (en) * | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Dow Corning Corporation | Process for preparing an acryloyloxysilane |
JP5856176B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2016-02-09 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | アクリロイルオキシシランの調製方法 |
CN103534101A (zh) | 2010-11-03 | 2014-01-22 | 道康宁公司 | 硅烷改性的环氧化弹性体组合物 |
EP2665756B1 (en) | 2011-01-19 | 2022-03-30 | Dow Silicones Corporation | Method for producing silyl-functionalized polyolefins and silyl-functionalized polyolefins with silyl monomer incorporation |
US8580886B2 (en) * | 2011-09-20 | 2013-11-12 | Dow Corning Corporation | Method for the preparation and use of bis (alkoxysilylorgano)-dicarboxylates |
US11713328B2 (en) * | 2018-08-23 | 2023-08-01 | Versum Materials Us, Llc | Stable alkenyl or alkynyl-containing organosilicon precursor compositions |
CN115286656A (zh) * | 2022-08-05 | 2022-11-04 | 广州华星光电半导体显示技术有限公司 | 添加剂及其制备方法、配向组合物和显示器件 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5145979A (en) * | 1990-08-23 | 1992-09-08 | Tonen Corporation | Processes for the preparation of γ-methacryloxypropylsilane compounds |
DE4034613A1 (de) * | 1990-10-31 | 1992-05-07 | Huels Chemische Werke Ag | Alkoxysilylgruppen aufweisende pyridiniumsalze |
DE4034612A1 (de) * | 1990-10-31 | 1992-05-07 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur herstellung von methacryloxy- oder acryloxygruppen enthaltenden organosilanen |
DE4437667A1 (de) * | 1994-10-21 | 1996-04-25 | Huels Chemische Werke Ag | Verfahren zur Herstellung von N,N'-disubstituierten p-Chinondiiminen, deren Verwendung und Methacryloxy- oder Acryloxy-Gruppen enthaltende Organosilane, Verfahren zu deren Stabilisierung und deren Herstellung |
DE19854218A1 (de) * | 1998-11-25 | 2000-05-31 | Degussa | 3-Methacryloxy- und 3-Acryloxyisobutylalkoxysilane |
CA2374252A1 (en) | 1999-06-07 | 2000-12-14 | Crompton Corporation | Process for manufacturing acrylamidoalkylalkoxysilanes |
DE10118489C1 (de) | 2001-04-12 | 2002-07-25 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung ungesättigter Organosiliciumverbindungen |
-
2003
- 2003-02-27 DE DE10308579A patent/DE10308579B3/de not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-02-04 US US10/771,769 patent/US6841694B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-19 EP EP04003766A patent/EP1469002A1/de not_active Ceased
- 2004-02-24 PL PL36554604A patent/PL365546A1/xx unknown
- 2004-02-26 CN CNA2004100067578A patent/CN1542013A/zh active Pending
- 2004-02-27 JP JP2004054525A patent/JP2004256544A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013520457A (ja) * | 2010-02-22 | 2013-06-06 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | エステル官能性シランの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1469002A1 (de) | 2004-10-20 |
DE10308579B3 (de) | 2004-06-24 |
US6841694B2 (en) | 2005-01-11 |
US20040171859A1 (en) | 2004-09-02 |
PL365546A1 (en) | 2004-09-06 |
CN1542013A (zh) | 2004-11-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2004256544A (ja) | 不飽和基を有する有機ケイ素化合物の安定化法 | |
JP2663081B2 (ja) | 抑制されたアクリルオキシシラン及びメタクリルオキシシラン | |
JP2837190B2 (ja) | メタクリルオキシ基またはアクリルオキシ基を有するオルガノシランの安定化法 | |
JP2012504572A (ja) | (メタ)アクリルシランの製造方法 | |
US20090306370A1 (en) | Method Of Manufacturing An Organic Silicon Compound That Contains A Methacryloxy Group Or An Acryloxy Group | |
US6147239A (en) | Process for preparing n, n'-disubstituted p-quinonediimines, their use and organosilanes containing methacryloxy or acryloxy groups, processes for their stabilization and their preparation | |
JP5115729B2 (ja) | トリアルキルシリル基で保護されたアセト酢酸エステル基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法 | |
EP1417209B1 (en) | High boiling inhibitors for distillable, polymerizable monomers | |
JP3555646B2 (ja) | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 | |
JP5247997B2 (ja) | メタクリロキシ基またはアクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
US6204403B1 (en) | Process for manufacturing acrylamidoalkylalkoxysilanes | |
EP1189910B1 (en) | Process for manufacturing acrylamidoalkylalkoxysilanes | |
US8247590B2 (en) | Method for preventing polymerization of unsaturated organosilicon compounds | |
US6475347B1 (en) | High boiling inhibitors for distillable, polymerizable monomers | |
JP3555645B2 (ja) | アクリロキシ基又はメタクリロキシ基含有クロロシランの製造方法 | |
JP6844106B2 (ja) | 不飽和カルボン酸シリルエステルの蒸留方法 | |
JP3562436B2 (ja) | 精製されたアクリロキシ基もしくはメタクリロキシ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 | |
JPH06228163A (ja) | ゲル化性シラン化合物の蒸留方法 | |
JP2947169B2 (ja) | アクリルシランの蒸留方法 | |
JP4120033B2 (ja) | 含フッ素アルコキシシランの製造方法 | |
JPS58174390A (ja) | N−アリ−ルアミノアルキルアルコキシシランの製造方法 | |
JPH05230143A (ja) | 重合性有機ケイ素化合物の重合禁止剤およびその重合防止方法 | |
JPH1087670A (ja) | スチリルシランの製造方法 | |
JPH0940780A (ja) | アクリルシランの蒸留方法 | |
JP2015074628A (ja) | (メタ)アクリルアミドアルキルアルコキシシランの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060824 |