JP3512706B2 - 高い比弾性率を有するガラス及びガラスセラミックス並びにそれらの使用 - Google Patents

高い比弾性率を有するガラス及びガラスセラミックス並びにそれらの使用

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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高い比弾性率を有
するガラス及びガラスセラミック並びにそれらの使用又
は用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】ガラスは、その表面が平坦でありかつ表
面粗さが殆どないために、金属、例えばアルミニウム又
は金属合金に比べてデータ記録媒体（ハードディスク）
の基板としての使用に有利である。最も均一な材料であ
るガラスを磨いて、非常に滑らかな表面をガラス体に与
えることが可能である。また、ガラス基板の製造プロセ
スは対応するアルミニウム基板の製造方法に比べて短時
間であり、また経済的である。
【０００３】ハードディスクに用いる基板ガラスは、大
きな化学的、熱的及び機械的応力に耐えられるものでな
ければならない。即ち、それはコーティング（例えばカ
ソードスパッタリング）の際に、高温に曝され、急冷さ
れるからである。ハードディスクが使用されるときに高
い機械的応力が生じ、例えば製造中に締付力が回転軸に
かかり、また現在使用されている３，５００〜１０，０
００ｒｐｍの高い回転速度で作動中に、遠心力及び歳差
運動により付加的な応力がかかる。特に厚さ０．２５〜
３．００ｍｍの薄いガラスは、予備応力付加処理（プレ
ストレス処理）された場合にのみこれらの応力に耐える
ことができる。熱的プレストレス処理により機械的強度
を増大させることができる最小厚さは３ｍｍであるた
め、上記の用途に用いる場合、ガラスは、例えばイオン
交換により、化学的にプレストレス処理されねばならな
い。裂けや割れを引き起こしかねない、例えば、乱暴に
輸送したときにかかるＧ−衝撃負荷は、プレストレス処
理により対抗させることができる。さらに破壊強度を高
めることもできる。
【０００４】特にアルカリ金属イオンを用いてガラスの
イオン交換を行なうと、種々の目的が達成される。その
うち最も重要な２つは、（ａ）傾斜材料を製造するため
に光学値もしくはデータを変えること、及び（ｂ）曲げ
力に対するガラスの感受性を減少させるために、ガラス
材料の表面領域に圧縮応力を生じさせることである。傾
斜ガラス（ａ）においては、加工プロセスが困難になっ
たり及び／又は費用がかかりすぎないようにするため
に、所定の屈折率プロファイルを導入することが望まし
い。応力複屈折（光線が通常の光線と異常な光線に分か
れること）の問題を抑えるために、ガラスに応力がかか
らないようにするべきである。下記のようにＡｇ+イオ
ンと組み合わされたときにのみ応力複屈折の発生を防止
できるアルカリ金属イオンが、この用途においてイオン
交換のために用いられる。この場合、Ｎａ+イオンとＡ
ｇ+イオンのイオン半径が殆ど等しいためにイオン交換
の際に応力が生じないので、Ｎａ+イオンをＡｇ+イオン
と交換することが好ましい。
【０００５】対照的に、表面圧縮応力をイオン交換によ
り生じさせる場合、互いのイオン半径が著しく異なるイ
オン同士を互いに交換することが好ましい。しかしなが
ら、この場合、ガラスがイオン交換中にも変化しない三
次元基本構造を有し、それによって、例えば、塩浴中の
イオンが、ガラスから拡散して出たイオンの位置に、直
接ガラス内に拡散して入る場合にのみ、プレストレス処
理が可能となる。従って、イオン交換はガラス転移温度
Ｔg以下において行なわれる。さもなくば三次元構造が
緩み、そしてプレストレスが生じないであろうからであ
る。ガラスから拡散して出たイオンよりもイオン半径が
大きいイオンがガラス内に拡散して入ると、圧縮応力が
生じる。典型的にはＮａ+イオンがＫ+イオンと交換され
るが、しかしながらＬｉ+イオンがＮａ+イオンにより、
又はＫ+イオンがＣｓ+イオンにより交換されると、化学
的プレストレスが生じる。アルミノ珪酸塩ガラスはイオ
ン交換に特に適していることが知られている。その中で
アルカリイオンが特に移動し易く、また弛緩（緩和）に
対して安定な開放三次元構造は、四面体構造のＳｉ位置
へのＡｌの挿入及びアルカリイオンによる関連した電荷
補償により調製される。
【０００６】将来ハードディスクの回転速度が高まる方
向にあることより、ハードディスク基板を製造するため
に用いられるガラスの機械的安定性に対する要求は増大
している。ハードディスク市場における開発は、データ
記録媒体の寸法を従来と同一に保ちながら又は減少させ
ながら、データ記録媒体の容量をより大きくし、かつデ
ータ変換速度をより速くする方向に向かっている。デー
タ変換速度をより速くするためには、ドライブ装置に取
り付けられたハードディスクの回転速度をより速くし、
また読み取り装置のフライト高さを低くする必要があ
る。同一寸法のディスクでは、ハードディスク上のトラ
ック密度を高くするか、あるいはディスクドライブ装置
中のハードディスクの数を増加させることにより、容量
を増大することができる。しかしながら、回転速度を高
めると、ハードディスクの外周端縁部に強い揺れ（フラ
ッター）や脈動が生じるため、所望されるトラック密度
をより高くすることや、またトラックスペースを減少さ
せること及び狭い幅でハードディスクを重ねることがで
きなくなる。また、このフラッター運動のために、読み
取り／書き込みスピードを高めまた情報密度を増加させ
るために求められるような、ハードディスク上の読み取
り−書き込みヘッドのフライト高さもしくはグライド高
さを低くすることができなくなる。
【０００７】従って、ハードディスクには高い形状安定
性が求められる。即ち、ハードディスクは外周端縁部に
おいて可能な限り小さい時間依存性の揺れを有するべき
である。最大ディスク揺れＷは、以下の式（Ｉ）により
与えられる。 Ｗ＝｛[ρ×ｒA 4]/[Ｅ×ｄ2]｝ｆ(ν) ・・・ （Ｉ） ここで、 ρ＝密度、 ｒA＝ハードディスクの外径、 Ｅ＝弾性率、 ｄ＝ハードディスクの厚さ、 ｆ(ν)＝幾何学的固有パラメータ。
【０００８】ハードディスクの主な仕様又は必要条件
は、上記式より導かれる。幾何学的形状寸法が同一の場
合（即ち、ｄ及びｒAが一定の場合）、最大ディスク揺
れＷは、弾性率Ｅが大きくなるほど及び／又は密度ρが
小さくなるほど小さくなる。通常、これらのパラメータ
の比率Ｅ／ρは、比弾性率を表わしている。それは可能
な限り高い値をとるべきである。しかしながら、公知の
イオン交換可能なアルカリアルミノ珪酸塩ガラスは、特
に高弾性率を有しておらず、典型的にはＥ＜９０ＧＰａ
である。特に最近の環境にやさしい光学ガラスは、一般
に高弾性率のガラスとして知られている。弾性率を得る
ために、それらはいわゆる典型的なガラス形成剤とし
て、例えばＬａ2Ｏ、Ｔａ2Ｏ5を含有するか又は高い割
合のＴｉＯ2を含有しているが、しかしながらそれはイ
オン交換できるような所望の三次元構造をほとんど有し
ておらず、また構造変性剤であるためにガラスが早期に
結晶化する傾向がある。
【０００９】ハードディスク基板に適したガラスの他の
必要条件としてさらに熱膨張係数があり、それは応力を
避けるためにドライブ装置のクランプ材料及びスピンド
ル材料の熱膨張係数（α20/300≧１２×１０-6／Ｋ）と
違いすぎないことが必要である。とりわけ、ガラスセラ
ミック材料は、化学的プレストレス処理なしでも破壊靭
性を有するため、前記用途として興味のある材料であ
る。しかしながら、現在使用されているガラスセラミッ
クにおいては、微結晶サイズのために表面粗さは高いも
のに止まっている。表面が充分に平滑でないと、特に読
み取り−書き込み用ヘッドのフライト高さもしくは滑走
高さでは、ディスク上に読み取り−書き込み用ヘッドが
配置された際にディスクの機械的損傷が生じ、それによ
って記録データが破損される危険性がある。
【００１０】前記の用途に用いられる公知のガラス及び
ガラスセラミックは、主にＳｉＯ2を多く含有するアル
ミノ珪酸塩ガラス又はリチウムアルミノ珪酸塩ガラスセ
ラミックであるが、これらは高いＳｉＯ2含有量と高い
Ａｌ2Ｏ3含有量のため溶融特性に劣っており、またヤン
グ率もかなり低い。ＳｉＯ2高含有の例としては、６２
〜７５質量％のＳｉＯ2を含有量するドイツ特許出願公
開ＤＥ４２０６２６８Ａ１号に開示された情報記録媒体
用基板のための化学的に改良されたガラス組成物が挙げ
られる。また、ＳｉＯ2を６５〜８３質量％含有し、α
−石英及び珪酸リチウムを含有するヨーロッパ特許出願
公開ＥＰ６２６３５３Ａ１号に開示された磁気ディスク
基板用のガラスセラミックも挙げられる。公知のガラス
及びガラスセラミック並びに他の材料は、ハードディス
ク用、特に高速回転数に設定されるハードディスク用材
料に求められる全ての要求を満たしていないというより
か、むしろ多岐に渡る不利益を有する。
【００１１】種々の公報には、屈折率勾配を生じさせる
ためのイオン交換可能なガラスが開示されている。ヨー
ロッパ特許出願公開ＥＰ０２８７３４５Ａ１号は、屈折
率勾配を有するレンズに用いるガラスを開示しており、
このガラスはＬｉ2Ｏの他に比較的高いＮａ2Ｏ及び／又
はＫ2Ｏ含有量を有する。任意成分や他の成分、例えば
０〜１０質量％のＭｇＯが存在するため、これらのガラ
スは幾分低いヤング率、特に低い比ヤング率を有するの
でハードディスク基板の作製には適していない。さらに
Ｂ2Ｏ3及びＡｌ2Ｏ3が単なる任意成分として存在してい
る。特公昭５９−４１９３４号及び特開昭６３−６４９
４１号に開示されたＬｉ2Ｏ及びＮａ2Ｏを含有する収光
レンズ用ガラスについても同様のことがいえ、単一のア
ルミノホウケイ酸塩ガラスは開示されていない。また、
特開昭６３−１７０２４７号に開示されている屈折率勾
配を与えるためのイオン交換可能なガラスにおいても、
Ａｌ2Ｏ3（最高で７モル％）及びＢ2Ｏ3は任意成分であ
る。ガラスの実施例は開示されていないが、ガラスの密
度を極めて高くする成分、例えばＢａＯが存在するた
め、比較的広範な組成範囲において、それはイオン交換
性の他に高い比弾性率を有することとなる。またこの公
報は形状安定性（高い比弾性率）を与えるためのガラス
の組成の選択について教示しておらず、また同時に破壊
強度（高いプレストレス）を与えるためのガラスの組成
の選択についても教示していない。開示されたガラスは
ハードディスク基板として使用するには適していない。
【００１２】特開平４−１９８０４１号には結晶化ガラ
スが開示されており、それは建築材料に用いられる。こ
れらのガラスはＭｇＯ及びＺｎＯと一緒に高含有量のガ
ラス形成剤を含有している。ＺｎＯ成分はＭｇＯ成分よ
りも多くなければならないが、これは溶融及び粘度特性
にとって不利である。
【００１３】ハードディスク基板にとって高ヤング率が
重要であることは、ヨーロッパ特許公開第８５８９７４
Ａ１号で強調されている。そこに記載されたガラス群
は、高い転移温度を有し、またそれらの組成、特にＢ2
Ｏ3が少量存在するか又は存在しないために、容易に溶
融又は加工できない。また国際出願公開ＷＯ９６／１１
８８８は記録媒体用ガラス基板を開示しており、それは
任意成分のみを含有し、またほんの少量のＢ2Ｏ3を含有
しているために、溶融性に劣っている。これらのＬｉ2
Ｏを含有していないガラスは、最大８質量％のＭｇＯを
任意に含有し、少なくとも１１質量％のＲＯを含有して
いるため、高い比ヤング率を達成することができない。
【００１４】低密度で高強度及び非常に高い比弾性率Ｅ
／ρを有するＡｌ−Ｂ−Ｃから成る複合材料が、ＩＤＥ
ＭＡ、オルターネイティブ・サブストレイツ III（Alte
rnative Substrates III）（カリフォルニア州、サンホ
セ、１９９５年９月５日）、第５５〜６０頁；ディー．
ジェイ．ペレッティ（D. J. Perettie）ら「ザ・オルタ
ーネイト・オルターネイテイブ・サブストレイト−“化
学強化された”アルミニウム（The Alternate Alternat
ive Substrate-“Chemically Strengthened”Aluminu
m）」に記載されている。しかしながら、この材料は、
高品質のハードディスクに求められる表面品質に研磨す
るためにはかなりの努力が必要である。この材料からハ
ードディスクを作製することは、その大きな耐摩耗性の
ために非常に高価なものにつく。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
比弾性率、即ち、高ヤング率及び低い密度を有し、また
比較的大きな熱膨張係数を有し、溶融し易く、さらに充
分な破壊靭性を有するか又は化学的プレストレス処理に
よって充分な破壊靭性を有することとなる、良好な表面
特性を有する材料を提供することにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明の一側面によると、酸化物基準で以下の量的
割合で以下の成分 ＳｉＯ2 ２５〜５０質量％、Ｂ2Ｏ3 ＞５〜
１６質量％、 Ａｌ2Ｏ3 １０〜１７質量％、Ｐ2Ｏ5 ０〜
８質量％、 Ｌｉ2Ｏ ５〜１５質量％、Ｎａ2Ｏ ０〜
１０質量％、 Ｋ2Ｏ ０〜１０質量％、ＭｇＯ １０
〜３０質量％、 ＣａＯ ０〜１０質量％、ＳｒＯ
０〜８質量％、 ＺｎＯ ０〜８質量％、ＴｉＯ2 ０．１
〜１０質量％、 ＺｒＯ2 ０〜８質量％を含 有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が４５質
量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）の合計
量が３０質量％以下である高い比弾性率を有するガラス
又はガラスセラミックが提供される。これらは、必要に
応じて慣用量の少なくとも一種の清澄剤を含有すること
ができる。本発明の他の側面は、ハードディスク基板の
製造における前記ガラス又はガラスセラミックの使用
（用途）に関する。換言すれば、上記本発明のガラス又
はガラスセラミックから製造されるハードディスク基
板、特に記録媒体として使用されるハードディスク基板
の製造方法が提供される。
【００１７】
【発明の実施の形態】本発明の材料は、２５〜５０質量
％、好ましくは３０〜４５質量％のＳｉＯ2及び１０〜
１７質量％、好ましくは１０〜１５質量％のＡｌ2Ｏ3を
含有する。ヤング率を高める成分が典型的なアルミノ珪
酸塩ガラス中に前記のような好ましい量で存在すること
で、密度を増大し過ぎることなく、お互いにヤング率を
高めることとなる。Ａｌ2Ｏ3はまた材料のヌープ硬度を
高める。ヌープ硬度は押込み硬度の尺度である。安定し
た三次元構造を形成するために、ガラス形成剤として５
質量％より多く、１４質量％以下のＢ2Ｏ3が存在する。
従って、典型的なガラス形成剤（ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、
Ｂ2Ｏ3）の合計量は、４０質量％より多く、８１質量％
以下である。これらの成分の合計量は好ましくは少なく
とも５０質量％である。上記のガラス形成剤が存在する
ため、安定していて弛緩（緩和）されてはいないベース
ガラスがイオン交換の後に得られる。ガラスの溶融は、
上記割合のＢ2Ｏ3が存在することにより実質的に改善さ
れる。上記Ｂ2Ｏ3含量によって粘度がより低下し、また
ガラスをより長く（longer）する。従って、材料が粘性
挙動を示し、それによって直接熱成形法により薄いディ
スクを成形することが可能になる。Ｂ2Ｏ3含量が上記範
囲を超えると、耐薬品性、ヤング率及びヌープ硬度が低
下してしまう。このため、Ｂ2Ｏ3の望ましい濃度上限は
１４質量％である。
【００１８】なお、同様のガラスではあるが、Ｂ2Ｏ3を
任意に含有するガラス（但し、Ｂ2Ｏ3含量はほんの少量
である。）は、ドイツ特許出願第１９８０２９１９．５
号に開示されており、同一出願人によりすでに特許出願
されている。
【００１９】１又はそれよりも多くのアルカリ土類金属
酸化物がヤング率を上げる成分として存在する。１０〜
３０質量％、好ましくは１５〜３０質量％のＭｇＯ、０
〜１０質量％、好ましくは０〜８質量％のＣａＯ及び０
〜８質量％のＳｒＯが、アルカリ土類金属酸化物として
存在できる。しかしながら、０〜８質量％のＺｎＯもま
た存在してもよい。２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量
は４５質量％以下、好ましくは４０質量％以下、特に好
ましくは３５質量％以下であり、最も好ましくは３０質
量％以下である。
【００２０】本発明の材料は、フラックス材料としてア
ルカリ金属酸化物を５〜３０質量％含有する。これより
も濃度が高いとヤング率及びヌープ硬度の両方共低下
し、また耐薬品性も低下してしまう。これらの酸化物の
最大量は好ましくは２０質量％、特に好ましくは１７質
量％であり、最も好ましくは１５質量％である。アルカ
リ金属酸化物のうち、Ｎａ2Ｏは０〜１０質量％、好ま
しくは０〜６質量％存在してもよく、またＫ2Ｏは０〜
１０質量％、好ましくは０〜８質量％存在してもよい。
イオン交換により本発明の材料を化学的にプレストレス
処理するためにはＬｉ2Ｏが必要になるので、必須成分
としてＬｉ2Ｏは５〜１５質量％、好ましくは５〜１２
質量％存在する。Ｋ2Ｏ及びＮａ2Ｏの割合が極めて高い
と、所望の高ヤング率又は高い比ヤング率を得ることは
できないであろう。
【００２１】本発明の材料は、８質量％以下の量でＰ2
Ｏ5を含有することができる。ここでＰ2Ｏ5は、アルカ
リ土類アルミノ珪酸塩組成物のイオン交換を容易にする
ものであり、イオン交換の際に三次元構造を維持するた
めに前記量が求められる。少なくとも１質量％のＰ2Ｏ5
が存在することが好ましい。しかしながら、８質量％よ
りも高い割合であるとヤング率及びヌープ硬度がかなり
低くなってしまう。Ｐ2Ｏ5の上限濃度は比較的低いこと
が有利である。というのも、Ｐ2Ｏ5の溶融及び蒸発の問
題があるにもかかわらず、これらＰ2Ｏ5含有組成物の取
扱いが可能だからである。
【００２２】本発明の材料はまた０．１〜１０質量％の
ＴｉＯ2を含有する。このＢ2Ｏ3及び比較的高濃度のＲ2
Ｏ含有組成物に充分な耐薬品性を保証するためには、好
ましくは１〜８質量％のこのＴｉＯ2成分が必要とな
る。同様の理由により、本発明の材料は８質量％まで、
好ましくは５質量％までＺｒＯ2を含有することができ
る。両成分は高いヤング率を得るためにプラスに寄与す
る。
【００２３】Ｌｉ2Ｏ及びＴｉＯ2が所定の割合で、また
所望によりＺｒＯ2が高含量のＭｇＯと共に存在するこ
とにより、即ちＭｇＯ含量が２１質量％以上、及びＴｉ
Ｏ2＋ＺｒＯ2の合計量が６質量％以上あることにより、
溶融及び熱成形後の冷却中、ガラスの結晶化に際して、
加工は結晶化誘起成分及び結晶化阻害成分の割合がバラ
ンスされるように制御される。冷却速度が遅いと結晶化
が促進される。サイズ及び分布が極めて均一である微細
結晶相が形成され、その硬度はガラス相中で均一である
ため、本発明の材料は滑らかな表面を形成し易くなる。
結晶化成分を増やすと（即ち２価の酸化物（ＲＯ）の割
合を増やすと）、ヤング率及びヌープ硬度が高くなる。
結晶相部分が増すと、それでも材料はイオン交換可能で
はあるが、イオン交換の際にプレストレスが殆ど又は全
く生じないか、又は急速な緩和が生じることとなるが、
しかしながら、これらのガラスセラミック材料はプレス
トレス処理を行なうまでもなくすでに充分な破壊靱性を
有している。相の比（ガラス相に対する結晶相の割合）
及び微結晶のサイズに従って、ガラスセラミックは透
明、半透明又は不透明となる。従って、良好な表面加工
性は、透過性に依存しない。ＲＯ含量が前記した量より
も多いと、材料は典型的な脆性特性を有することにな
る。
【００２４】不透明な材料又は例えば着色剤の添加によ
って透過率が低下した材料から作製されたハードディス
ク基板は、表面品質試験装置（係る装置は表面の欠陥を
検出するが、その大きさ（容積）は検出しない。）の試
験光の透過度が低くなるという利点を有する。従って、
ガラス及びガラスセラミックは、合計量が１０質量％以
下の１又はそれよりも多くの着色剤を含有することがで
き、係る着色剤は、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃｏ
Ｏ、ＣｕＯ及びＶ2Ｏ5からなる群から選択される。
【００２５】清澄化のために、慣用の清澄剤、例えばＡ
ｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3及びＮａＣｌをガラス又はガラスセラ
ミック用ベースガラスに添加することができる。清澄剤
は、慣用量で、即ち使用する清澄剤の種類及び量に応じ
て、生成物の０．０５〜１質量％の割合で加えることが
できる。好ましくは、清澄剤Ａｓ2Ｏ3は避けられるべき
である。即ち、本発明の材料を環境にやさしいものとす
るには、砒素酸化物の量は不可避的な微少不純物量に限
定される。同様の理由により、本発明の材料はＰｂＯを
含有するべきではない。
【００２６】さらに、本発明のガラス及びガラスセラミ
ックは、レーザー活性のある成分を含有することがで
き、それによってコーティング前に基板表面をレーザー
表面加工（laser texturing）することが可能となる。
よって、これらの材料は、酸化物基準で８質量％以下の
合計量で、Ｇａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ、Ｈｆ及びＴａからなる群から選ばれる１つ以上の元
素の酸化物を含有することができる。
【００２７】Ｌｉ+イオン及び必要によりまたＮａ+イオ
ンのＮａ+及び／又はＫ+とのイオン交換は、ガラス又は
ガラスセラミックをいくぶん低融点のナトリウム及び／
又はカリウム塩、例えばそれらの硝酸塩の溶融体（塩
浴）に入れ、あるいはまたいくぶん高い融点のナトリウ
ム及び／又はカリウム塩、例えばそれらの硫酸塩のペー
ストを材料表面に塗布するといった、公知の方法により
行なうことができる。塩浴又はペーストはさらにＬｉ塩
を含有することもできる。好ましくは、ナトリウム塩で
イオン交換することが望ましい。作用時間及び温度は、
この種のイオン交換工程における通常の条件でよく、そ
れぞれの組成物に依存する。即ち、ガラス転移温度Ｔｇ
以下において、作用時間は１〜１６時間、好ましくは１
〜８時間、温度は（Ｔｇ−１２０Ｋ）〜（Ｔｇ−３０
Ｋ）、好ましくは（Ｔｇ−８０Ｋ）〜（Ｔｇ−４０Ｋ）
である。これらの範囲内において、温度が低くなるほ
ど、滞留時間をより長くする必要がある。従って、温度
が高くなるほど、また温度がＴｇに近づくほど、即ち
（Ｔｇ−５０Ｋ）〜（Ｔｇ−３０Ｋ）において、塩ペー
ストによるイオン交換が行なわれ、一般に、塩浴での化
学的プレスト処理における処理時間に比べて、イオン交
換時間が短くなる。イオン交換プロファイル深さ＞１５
μｍ、またプレストレス深さσ＞５０ＭＰａが達成でき
る。
【００２８】特にそれ程高くないプレストレス処理での
交換プロファイルは、前記の最大時間及び温度を超えて
さらにイオン交換を続けることにより得られ、それによ
ってより深くまでイオン交換が行なわれるが、緩和のた
めに応力値は低下する。ここで高すぎるプレストレス処
理とは、プレストレス＞５００ＭＰａを意味し、それは
基板の自己破壊を引き起こし得るものである。
【００２９】また２重イオン交換、いわゆる「隠蔽又は
マスクした(concealed or masked)プロファイル」を行
なうことも可能である。この種のイオン交換において
は、比較的長い作用時間をかけることにより、例えば最
初にＬｉ+がＮａ+と深い領域において置き換わる。そし
て第二段階において浅い表面領域において、Ｎａ+が再
びＬｉ+と置き換わり、その間の作用時間は最初のイオ
ン交換のそれの１／３〜１／２である。
【００３０】特に好ましいガラス、即ち所望の特性を有
し、また特に充分に化学的プレストレス処理されたガラ
スは、酸化物基準で以下の組成を有する。ＳｉＯ2：３
５〜４５質量％（好ましくは４０〜４５質量％）、Ｂ2
Ｏ3：６〜１２質量％（好ましくは６〜１０質量％）、
Ａｌ2Ｏ3：１０〜１４質量％（好ましくは１１〜１３質
量％）、Ｐ2Ｏ5：０．１〜５質量％（好ましくは０．１
〜３質量％）、Ｌｉ2Ｏ：８〜１２質量％（好ましくは
９〜１１質量％）、Ｎａ2Ｏ：０〜４質量％（好ましく
は０〜２質量％、好ましくは０質量％）、Ｋ2Ｏ：０〜
４質量％（好ましくは０〜２質量％、最も好ましくは０
質量％）、但しアルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）の合計量
は１５質量％以下であり、ＭｇＯ：１５〜２５質量％
（好ましくは１７〜２３質量％）、ＣａＯ：０〜５質量
％（好ましくは０〜３質量％、最も好ましくは０質量
％）、ＳｒＯ：０〜５質量％（好ましくは０〜３質量
％、最も好ましくは０質量％）、ＺｎＯ：０〜５質量％
（好ましくは０〜２質量％、最も好ましくは０質量
％）、但し２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量は３５質
量％以下（好ましくは３０質量％以下）であり、ＴｉＯ
2：３〜８質量％（好ましくは３〜７質量％）、Ｚｒ
Ｏ2：０〜＜５質量％（好ましくは０〜３質量％）、但
しＴｉＯ2及びＺｒＯ2の合計量は１０質量％以下であ
る。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を示して本発明について具体的
に説明するが、本発明が以下の実施例に限定されるもの
でないことは言うまでもない。
【００３２】本発明のガラスの１０の実施例（実施例１
乃至９及び実施例１１）及びガラスセラミックの１つの
実施例（実施例１０）を表１及び表２にまとめて示す。
表１及び表２にはそれらの組成及びそれらの基本特性が
示されている。表１及び表２に記載されたガラス及びガ
ラスセラミックの製造は、慣用の原料を用いて以下のよ
うに行なった。すなわち、混合物を連続溶解装置内で約
１４００℃で溶解し、約１３６０℃で精製し、そして均
質化した。ガラスを約１３５０℃の注型温度で注型し、
そして冷却した。冷却工程において、高含有量のＭＯ及
びＴｉＯ2＋ＺｒＯ2含有組成物のセラミック化が起こっ
た。得られた注型ブロック（ガラス又はガラスセラミッ
ク体）から常法に従って円盤状のディスクを作製した。
このディスクはハードディスク基板の形状及び寸法、即
ち外径６５．０ｍｍ及び厚さ０．６３５ｍｍを有し、ま
た中心に直径２０．００ｍｍの内部貫通孔を有してい
た。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【表２】
【００３５】表１及び表２に示されるように、ガラス及
びガラスセラミックの熱膨張係数α20/300は、７．０×
１０-6／Ｋよりも高く、１１．０×１０-6／Ｋ未満であ
り、ドライブ装置のハードディスクを支持するスピンド
ル材料の熱膨張係数にかなり近い。表１及び表２にはま
た、ガラス及びガラスセラミックの熱膨張係数α20/300
及び転移温度Ｔｇに加えて、ハードディスク基板にとっ
て他の重要な特性、即ち弾性率Ｅ［１０3Ｎ／ｍｍ2］、
密度ρ［ｇ／ｃｍ3］及びそれらから計算した比弾性率
Ｅ／ρ[１０5Ｎ×ｃｍ／ｇ]も記載されている。弾性率
（ヤング率）はプレストレス処理されていない試料から
測定した。ガラス及びガラスセラミックは、９０×１０
3Ｎ／ｍｍ2＜Ｅ＜１２５×１０3Ｎ／ｍｍ2、殆どは＜１
１５×１０3Ｎ／ｍｍ2の弾性率Ｅ、３０×１０5Ｎ・ｃ
ｍ／ｇ＜、殆どは３５×１０5Ｎ・ｃｍ／ｇ＜Ｅ／ρ＜
４５×１０5Ｎ・ｃｍ／ｇの比弾性率Ｅ／ρを有してい
た。ガラス及びガラスセラミックの密度が低いため、極
めて高い比弾性率が得られた。また、ＤＩＮ ＩＳＯ
９３８５に従って測定したヌープ硬度ＨＫ（０．１／２
０）も表１及び表２に記載した。
【００３６】以下の表３には、種々の実施例組成物及び
イオン交換条件での、即ち、イオン交換時間及び温度を
変えたときのイオン交換の実験結果が示されている。イ
オン交換は、９５質量％のＮａＮＯ3及び５質量％のＮ
ａＣｌの溶融塩中で、２ｍｍ厚の研磨し端面加工した６
ｍｍ×５０ｍｍ寸法のディスクを用いて行なった。表３
には、被処理ガラスのイオン交換時間（時間）、交換温
度Ｔ（℃）及び転移温度と交換温度の差、ΔＴ（Ｋ）＝
Ｔｇ−Ｔ（端数は四捨五入して５Ｋに丸めた）を記載し
た。さらに表３には所望される圧縮応力（ＭＰａ）及び
エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＸ）によって測定した
圧縮応力領域のそれぞれの深さ（μｍ）が記載されてい
る。圧縮応力はイオン交換したディスクの研磨領域にお
いて測定した。圧縮応力値は、本発明の材料が高い破壊
靱性と引裂抵抗又は耐亀裂性を有することを示してい
る。また表中のｎ／ａは測定しなかったことを示してい
る。
【００３７】
【表３】
【００３８】
【発明の効果】以上のように、本発明の材料は、ガラス
及びガラスセラミック共に、ハードディスク基板作製用
材料に求められる前記した仕様を全て満たし、また従来
では矛盾すると考えられた特性も併せ持っている。本発
明の材料は、比弾性率が高いために、優れた形状安定性
を有し、またそれらは溶融特性及び加工特性が良好であ
るために容易に製造できる。また、本発明のガラスは、
特に満足のいくように化学的にプレストレス処理され、
それによってそれらの機械的強度又は耐力特性が改善さ
れる。もちろん、ガラスセラミックをプレストレスする
能力はセラミックの割合を高めることで低下するが、破
壊靱性はセラミックの割合を高めると増大するので、本
発明の材料は充分な強度を有するか、又はプレストレス
処理により充分な強度を得ることができる。他の適した
特性に加えて、この特性により、本発明の材料は、充分
な結晶化又はプレストレス処理により充分な耐亀裂性を
有するハードディスク基板を製造するのに優れている。
さらに、本発明の材料は、充分な耐薬品性を有し、また
その熱膨張特性はクランプ材料及び回転軸の熱膨張特性
に充分適合している。また、本発明のガラス及びガラス
セラミック体の表面は容易に加工できる。従って、それ
らは所望の微小粗さ（平滑性）≦０．５ｎｍにまで加工
することができる。それらは優れた表面特性を有してい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０３Ｃ 3/095 Ｃ０３Ｃ 3/095 3/097 3/097 10/00 10/00 Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73 (72)発明者 ジルケ ヴォルフ ドイツ連邦共和国、42499 ヒュッケス ワーゲン、ヒュッキンガー・シュトラー セ 47アー (56)参考文献 特開 昭61−77643（ＪＰ，Ａ) 特開 平11−314932（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C03C 1/00 - 14/00 C04B 35/00 - 35/22 G11B 5/62 - 5/82 ＷＰＩ

Claims (20)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が４５質
    量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）の合計
    量が３０質量％以下である高い比弾性率を有するガラ
    ス。
  2. 【請求項２】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が４５質
    量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ 2 Ｏ）の合計
    量が３０質量％以下である高い比弾性率を有するガラス
    セラミック。
  3. 【請求項３】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が４０質
    量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）の合計
    量が２０質量％以下であり、ＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3及びＡｌ2
    Ｏ3の合計量が５０質量％以上であることを特徴とする
    請求項１に記載のガラス。
  4. 【請求項４】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が４０質
    量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ 2 Ｏ）の合計
    量が２０質量％以下であり、ＳｉＯ 2 、Ｂ 2 Ｏ 3 及びＡｌ 2
    Ｏ 3 の合計量が５０質量％以上であることを特徴とする
    請求項２に記載のガラスセラミック。
  5. 【請求項５】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が３５質
    量％以下であり、ＴｉＯ2及びＺｒＯ2の合計量が１０質
    量％以下であり、アルカリ金属酸化物（Ｒ2Ｏ）の合計
    量が１５質量％以下であることを特徴とする請求項１又
    は３に記載のガラス。
  6. 【請求項６】 酸化物基準で以下の量的割合で以下の成
    分 を含有し、２価の金属酸化物（ＲＯ）の合計量が３０質
    量％以下であることを特徴とする請求項１、３又は５に
    記載のガラス。
  7. 【請求項７】 さらにＰ2Ｏ5を酸化物基準で少なくとも
    １質量％含有することを特徴とする請求項１、３、５又
    は６に記載のガラス。
  8. 【請求項８】 さらにＰ 2 Ｏ 5 を酸化物基準で少なくとも
    １質量％含有することを特徴とする請求項２又は４に記
    載のガラスセラミック。
  9. 【請求項９】 さらにＦｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、Ｃｒ2Ｏ3、Ｃ
    ｏＯ、ＣｕＯ及びＶ2Ｏ5からなる群から選ばれる少なく
    とも一種を、酸化物基準の合計量で１０質量％以下含有
    することを特徴とする請求項１、３、５〜７のいずれか
    一項に記載のガラス。
  10. 【請求項１０】 さらにＦｅ 2 Ｏ 3 、ＮｉＯ、Ｃｒ 2 Ｏ 3 、
    ＣｏＯ、ＣｕＯ及びＶ 2 Ｏ 5 からなる群から選ばれる少な
    くとも一種を、酸化物基準の合計量で１０質量％以下含
    有することを特徴とする請求項２、４又は８に記載のガ
    ラスセラミック。
  11. 【請求項１１】 さらにＧａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、
    Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
    ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｈｆ及びＴａからなる群から選ばれる
    少なくとも一種の元素の酸化物を、酸化物基準の合計量
    で８質量％以下含有することを特徴とする請求項１、
    ３、５〜７及び９のいずれか一項に記載のガラス。
  12. 【請求項１２】 さらにＧａ、Ｇｅ、Ｙ、Ｎｂ、Ｍｏ、
    Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
    ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｈｆ及びＴａからなる群から選ばれる
    少なくとも一種の元素の酸化物を、酸化物基準の合計量
    で８質量％以下含有することを特徴とする請求項２、
    ４、８又は１０に記載のガラスセラミック。
  13. 【請求項１３】 さらに清澄剤を０．０５〜１質量％含
    有することを特徴とする請求項１、３、５〜７、９及び
    １１のいずれか一項に記載のガラス。
  14. 【請求項１４】 さらに清澄剤を０．０５〜１質量％含
    有することを特徴とする請求項２、４、８、１０及び１
    ２のいずれか一項に記載のガラスセラミック。
  15. 【請求項１５】 不可避的不純物を除いて、Ａｓ2Ｏ3及
    びＰｂＯを含有しないことを特徴とする請求項１、３、
    ５〜７、９、１１及び１３のいずれか一項に記載のガラ
    ス。
  16. 【請求項１６】 不可避的不純物を除いて、Ａｓ 2 Ｏ 3 及
    びＰｂＯを含有しないことを特徴とする請求項２、４、
    ８、１０、１２及び１４のいずれか一項に記載のガラス
    セラミック。
  17. 【請求項１７】 ９０×１０3Ｎ／ｍｍ2＜Ｅ＜１２５×
    １０3Ｎ／ｍｍ2の弾性率Ｅ、３０×１０5Ｎ・ｃｍ／ｇ
    ＜Ｅ／ρ＜４５×１０5Ｎ・ｃｍ／ｇの比弾性率Ｅ／
    ρ、及び７．０×１０-6／Ｋ＜α20/300＜１１．０×１
    ０-6／Ｋの熱膨張係数α20/300を有することを特徴とす
    る請求項１、３、５〜７、９、１１、１３及び１５のい
    ずれか一項に記載のガラス。
  18. 【請求項１８】 ９０×１０ 3 Ｎ／ｍｍ 2 ＜Ｅ＜１２５×
    １０ 3 Ｎ／ｍｍ 2 の弾性率Ｅ、３０×１０ 5 Ｎ・ｃｍ／ｇ
    ＜Ｅ／ρ＜４５×１０ 5 Ｎ・ｃｍ／ｇの比弾性率Ｅ／
    ρ、及び７．０×１０ -6 ／Ｋ＜α 20/300 ＜１１．０×１
    ０ -6 ／Ｋの熱膨張係数α 20/300 を有すること を特徴とす
    る請求項２、４、８、１０、１２、１４及び１６のいず
    れか一項に記載のガラスセラミック。
  19. 【請求項１９】 ハードディスク基板の製造のための請
    求項１、３、５〜７、９、１１、１３、１５及び１７の
    いずれか一項に記載のガラスの使用。
  20. 【請求項２０】 ハードディスク基板の製造のための請
    求項２、４、８、１０、１２、１４、１６及び１８のい
    ずれか一項に記載のガラスセラミックの使用。
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Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4831854B2 (ja) * 1999-07-06 2011-12-07 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP4265036B2 (ja) * 1999-07-14 2009-05-20 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP2001026458A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP4265035B2 (ja) * 1999-07-14 2009-05-20 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP2001026446A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP2001026440A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP2001026456A (ja) * 1999-07-14 2001-01-30 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP4207316B2 (ja) * 1999-07-14 2009-01-14 コニカミノルタオプト株式会社 結晶化ガラス組成物
JP2003519884A (ja) 2000-01-05 2003-06-24 ショット、グラス、テクノロジーズ、インコーポレイテッド 磁気媒体用ガラス基材及びそのようなガラス基材に基く磁気媒体
JP2001266329A (ja) * 2000-03-16 2001-09-28 Minolta Co Ltd ディスク媒体用ガラス基板
JP4273625B2 (ja) * 2000-04-03 2009-06-03 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物
JP2001287967A (ja) * 2000-04-03 2001-10-16 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP2001287931A (ja) * 2000-04-03 2001-10-16 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP4273623B2 (ja) * 2000-04-03 2009-06-03 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物
JP4224925B2 (ja) * 2000-04-03 2009-02-18 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物
JP2001287934A (ja) * 2000-04-03 2001-10-16 Minolta Co Ltd ガラス組成
JP4273624B2 (ja) * 2000-04-03 2009-06-03 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物
JP4300676B2 (ja) * 2000-04-03 2009-07-22 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物
JP3995902B2 (ja) * 2001-05-31 2007-10-24 Ｈｏｙａ株式会社 情報記録媒体用ガラス基板及びそれを用いた磁気情報記録媒体
DE10133963B4 (de) * 2001-07-17 2006-12-28 Schott Ag Boroalkalisilicatglas und seine Verwendungen
JP4041298B2 (ja) * 2001-10-05 2008-01-30 日本板硝子株式会社 レーザ光照射によるガラスの加工方法
US6555232B1 (en) * 2001-11-28 2003-04-29 Corning, Incorporated High strain point glasses
DE10392962T5 (de) * 2002-07-24 2005-08-18 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Glas zur Laser-Behandlung
DE10245234B4 (de) * 2002-09-27 2011-11-10 Schott Ag Kristallisierbares Glas, seine Verwendung zur Herstellung einer hochsteifen, bruchfesten Glaskeramik mit gut polierbarer Oberfläche sowie Verwendung der Glaskeramik
DE10346197B4 (de) * 2003-09-30 2006-02-16 Schott Ag Glaskeramik, Verfahren zur Herstellung einer solchen und Verwendung
JP4039381B2 (ja) * 2004-03-25 2008-01-30 コニカミノルタオプト株式会社 ガラス組成物を用いた情報記録媒体用ガラス基板及びこれを用いた情報記録媒体
WO2006106627A1 (ja) * 2005-03-31 2006-10-12 Hoya Corporation 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法
JP4780995B2 (ja) * 2005-04-01 2011-09-28 京セラ株式会社 ガラスセラミック焼結体およびそれを用いた配線基板
US20080130171A1 (en) * 2006-11-30 2008-06-05 Francis Martin Behan Calcium aluminosilicate glasses for use as information recording medium substrates
US8161862B1 (en) * 2007-01-08 2012-04-24 Corning Incorporated Hybrid laminated transparent armor
JP4755135B2 (ja) * 2007-04-27 2011-08-24 株式会社オハラ 結晶化ガラス
DE102007033338B4 (de) * 2007-07-16 2010-06-02 Schott Ag Hartstoffbeschichteter Glas- oder Glaskeramik-Artikel und Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung des Glas- oder Glaskeramik-Artikels
JP5070006B2 (ja) * 2007-11-02 2012-11-07 株式会社オハラ 結晶化ガラス
US9346703B2 (en) 2010-11-30 2016-05-24 Corning Incorporated Ion exchangable glass with deep compressive layer and high damage threshold
US9359251B2 (en) 2012-02-29 2016-06-07 Corning Incorporated Ion exchanged glasses via non-error function compressive stress profiles
WO2014003532A1 (en) * 2012-06-27 2014-01-03 Kok Heng Loh A glass-ceramic composition and manufacturing method thereof
US11352287B2 (en) 2012-11-28 2022-06-07 Vitro Flat Glass Llc High strain point glass
US11079309B2 (en) 2013-07-26 2021-08-03 Corning Incorporated Strengthened glass articles having improved survivability
US10118858B2 (en) 2014-02-24 2018-11-06 Corning Incorporated Strengthened glass with deep depth of compression
CN103819089B (zh) * 2014-03-08 2016-01-06 启东远洋电缆有限公司 熔融法制备微晶玻璃的工艺及高平整度的微晶玻璃
CN105060691A (zh) * 2014-03-08 2015-11-18 曹小松 烧结法制备微晶玻璃的工艺
TWI773291B (zh) 2014-06-19 2022-08-01 美商康寧公司 無易碎應力分布曲線的玻璃
KR102329726B1 (ko) 2014-10-08 2021-11-23 코닝 인코포레이티드 페탈라이트 및 리튬 실리케이트 구조를 갖는 고강도 유리-세라믹
TWI660929B (zh) 2014-10-08 2019-06-01 美商康寧公司 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
US10150698B2 (en) 2014-10-31 2018-12-11 Corning Incorporated Strengthened glass with ultra deep depth of compression
CN115536270A (zh) 2014-11-04 2022-12-30 康宁股份有限公司 深层非易碎应力曲线及其制造方法
US11613103B2 (en) 2015-07-21 2023-03-28 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
US9701569B2 (en) 2015-07-21 2017-07-11 Corning Incorporated Glass articles exhibiting improved fracture performance
DK3386930T3 (da) 2015-12-11 2021-07-26 Corning Inc Fusionsformbare, glasbaserede artikler indbefattende en metaloxidkoncentrationsgradient
TWI750807B (zh) 2016-04-08 2021-12-21 美商康寧公司 包含金屬氧化物濃度梯度之玻璃基底物件
KR20200091500A (ko) 2016-04-08 2020-07-30 코닝 인코포레이티드 두 영역을 포함하는 응력 프로파일을 포함하는 유리-계 물품, 및 제조 방법
NL2020896B1 (en) 2018-05-08 2019-11-14 Corning Inc Water-containing glass-based articles with high indentation cracking threshold
TW202026257A (zh) 2018-11-16 2020-07-16 美商康寧公司 用於透過蒸氣處理而強化之玻璃成分及方法
WO2020231961A1 (en) 2019-05-16 2020-11-19 Corning Incorporated Glass compositions and methods with steam treatment haze resistance
US12122711B2 (en) 2019-05-16 2024-10-22 Corning Incorporated Steam strengthenable glass compositions with low phosphorous content
WO2020231967A1 (en) * 2019-05-16 2020-11-19 Corning Incorporated Steam strengthenable glass compositions with low alkali content
KR20220108079A (ko) 2019-11-26 2022-08-02 코닝 인코포레이티드 높은 파괴 인성을 갖는 마그네슘 알루미노실리케이트 유리
GB202012825D0 (en) 2020-05-12 2020-09-30 Corning Inc Fusion formable and steam strengthenable glass compositions with platinum compatibility

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5941934B2 (ja) * 1980-12-05 1984-10-11 日本板硝子株式会社 光集束性レンズ用ガラス組成物
JPS5941934A (ja) 1982-09-01 1984-03-08 Nec Corp 選択呼出受信機
JPH0788234B2 (ja) * 1986-09-05 1995-09-27 日本板硝子株式会社 光集束性レンズ
JPS63170247A (ja) * 1986-12-29 1988-07-14 Ohara Inc 屈折率分布ガラスの製造方法
EP0287345A1 (en) * 1987-04-16 1988-10-19 Canon Kabushiki Kaisha Glass composition for and method for preparation of gradient index lens
JP3014139B2 (ja) * 1990-11-28 2000-02-28 日本電気硝子株式会社 結晶化ガラス
JP2837005B2 (ja) * 1991-05-20 1998-12-14 ホーヤ株式会社 化学強化用ガラス
JP2516553B2 (ja) * 1993-05-19 1996-07-24 株式会社オハラ 磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法
DE69502806T2 (de) * 1994-10-13 1999-03-04 Saint-Gobain Vitrage "Les Miroirs", Courbevoie Substrat aus verstärktem glas
US6191058B1 (en) * 1996-02-02 2001-02-20 Kabushiki Kaisha Ohara Glass-ceramic substrate for a magnetic disk
US6214429B1 (en) * 1996-09-04 2001-04-10 Hoya Corporation Disc substrates for information recording discs and magnetic discs
MY118912A (en) * 1996-09-04 2005-02-28 Hoya Corp Glass for information recording medium substrate and glass substrate
JP3416033B2 (ja) * 1996-09-05 2003-06-16 株式会社オハラ 磁気ヘッド用結晶化ガラス基板およびその製造方法
JP3419291B2 (ja) * 1997-03-04 2003-06-23 株式会社村田製作所 低温焼結磁器組成物及びそれを用いた多層セラミック基板
US5997977A (en) * 1997-06-05 1999-12-07 Hoya Corporation Information recording substrate and information recording medium prepared from the substrate
DE19802919C1 (de) 1998-01-27 1999-10-07 Schott Glas Verwendung von Gläsern als Festplattensubstrate
DE19838198C2 (de) * 1998-08-24 2002-06-27 Schott Glas Gläser und Glaskeramiken mit hohem E-Modul sowie deren Verwendungen

Also Published As

Publication number Publication date
US6376402B1 (en) 2002-04-23
DE19917921C1 (de) 2000-06-29
JP2000327365A (ja) 2000-11-28

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