JP3508082B2 - 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料 - Google Patents

複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料

Info

Publication number
JP3508082B2
JP3508082B2 JP28335495A JP28335495A JP3508082B2 JP 3508082 B2 JP3508082 B2 JP 3508082B2 JP 28335495 A JP28335495 A JP 28335495A JP 28335495 A JP28335495 A JP 28335495A JP 3508082 B2 JP3508082 B2 JP 3508082B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fine particles
silver halide
solution
aqueous solution
weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP28335495A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09124877A (ja
Inventor
千秋 小谷
聖和 森田
栄一 上田
育夫 倉地
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Priority to JP28335495A priority Critical patent/JP3508082B2/ja
Priority to US08/738,310 priority patent/US5800972A/en
Priority to DE69608526T priority patent/DE69608526D1/de
Priority to EP96307831A priority patent/EP0775937B1/en
Publication of JPH09124877A publication Critical patent/JPH09124877A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3508082B2 publication Critical patent/JP3508082B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/32—Matting agents
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/0051—Tabular grain emulsions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/853—Inorganic compounds, e.g. metals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/856—Phosphorus compounds
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/151—Matting or other surface reflectivity altering material
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/162—Protective or antiabrasion layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は複合高分子微粒子及びこ
れを用いた画像記録材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に画像記録材料の各構成層（例えば
ハロゲン化銀写真感光材料であれば下引層や親水性コロ
イド層等）には、画像特性に悪影響を与えない事の他
に、皮膜形成性（塗布性等）、接着性、寸法安定性、柔
軟性、耐圧性、乾燥性等の皮膜物性が要求される。その
ため、ハロゲン化銀写真感光材料（以下、感光材料とも
言う。）の場合は、従来から、支持体上にハロゲン化銀
乳剤層、中間層、保護層等の親水性コロイド層を塗設す
る際、親水性コロイド層中に各種モノマーを重合させた
ポリマーラテックス又はコロイダルシリカを含有させ、
形成される親水性コロイド膜の寸法安定性、引っ掻き強
度、柔軟性、耐圧性及び乾燥性等の皮膜物性を改良する
ための各種の試みが行われている。
【０００３】この様な観点から、米国特許第２，３７
６，００５号には酢酸ビニルのポリマーラテックスを用
いることが、同３，３２５，２８６号にはアルキルアク
リレートのポリマーラテックスを用いることが、特公昭
４５−５３３１号にはｎ−ブチルアクリレート、エチル
アクリレート、スチレン、ブタジエン、酢酸ビニル、ア
クリロニトリル等のポリマーラテックスを用いること
が、特公昭４６−２２５０６号にはアルキルアクリレー
ト、アクリル酸、スルホアルキルアクリレートのポリマ
ーラテックスを用いることが、特開昭５１−１３０２１
７号には２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスル
ホン酸のポリマーラテックスを用いることが、特公昭４
７−５０７２３号及び特開昭６１−１４０９３９号にコ
ロイダルシリカを用いることが、特開昭６１−２３６５
４４号にはアクリル酸エステルとコロイダルシリカを成
分とする複合ラテックスを用いることが提案されてい
る。しかしながら、これらのポリマーラテックスやコロ
イダルシリカは、親水性コロイドとの相溶性が悪く多量
に添加すると塗布性が劣化したり、層間の接着強度が低
下して擦り傷耐性が劣化したり、乾燥した雰囲気下で感
光材料がひび割れたり、写真性能を劣化させてしまうた
め、感光材料の品質を著しく低下させるという問題があ
る。
【０００４】特開平１−１７７０３３号に記載のアクリ
ル酸エステルとコロイダルシリカを成分とする複合ラテ
ックスを用いると、ひび割れの発生はある程度緩和され
るものの親水性コロイドとの相溶性には劣るため大量に
は添加できず、現像時の擦り傷耐性が劣化したり、写真
性能が劣化してしまうという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みてなされたものであり、その目的は、画像特性に悪
影響を与えることなく、また塗布性を劣化することなく
ひび割れの発生を防いで画像記録材料の皮膜物性を改良
することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、無
機微粒子及び前記一般式（１）で表される繰り返し単位
を有するビニルエステル類の疎水性高分子化合物（但し
酢酸ビニルである場合は除く）からなる複合高分子微粒
子を乳剤層に含有するハロゲン化銀写真感光材料、無機
微粒子の存在下で前記一般式（２）で表される疎水性単
量体ビニルエステル類（但し酢酸ビニルである場合は除
く）を有する組成物を重合して形成した複合高分子微粒
子を乳剤層に含有するハロゲン化銀写真感光材料、ビニ
ルエステル類の疎水性高分子化合物（但し酢酸ビニルで
ある場合は除く）が一般式（１）で表される繰り返し単
位を４５重量％以上有すること、重合組成物が含有する
単量体の４５重量％以上が一般式（２）で表される疎水
性単量体ビニルエステル類（但し酢酸ビニルである場合
は除く）であること、Ｒ1で表される置換基がｔ−ブチ
ル基であること、酸化物からなる無機微粒子であるこ
と、無機微粒子がコロイダルシリカであることによって
達成される。
【０００７】以下、本発明について詳述する。
【０００８】本発明に用いられる無機微粒子としては、
無機酸化物、窒化物、硫化物等が挙げられるが、好まし
くは酸化物である。具体的には、Ｓｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃ
ａ、Ｂａ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｗ、
Ｙ、Ｓｂ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔｕ、Ａｇ、Ｂｉ、
Ｂ、Ｍｏ、Ｃｅ、Ｃｄ、Ｍｇ、Ｂｅ、Ｐｂ等の単一又は
複合の酸化物が好ましく、画像記録材料がハロゲン化銀
写真感光材料の場合は、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｌ、
Ｖ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｍｎ、Ｃｅ、Ｂの単一又は複合の酸化
物が乳剤との混和性の点から好ましい。
【０００９】これらは結晶性のものでも、非晶質のもの
でもよいが、好ましくは非晶質のものである。
【００１０】本発明に用いられる無機微粒子の平均粒径
は、０．５〜３０００ｎｍ程度、好ましくは３〜５００
ｎｍである。無機微粒子は水及び／又は水に可溶な溶媒
に分散させて用いるのが好ましい。
【００１１】無機微粒子の添加量は疎水性高分子化合物
に対して１〜２０００重量％程度、好ましくは３０〜１
０００重量％である。
【００１２】以下に好ましい酸化物の例を示す。
【００１３】 ＳＯ−１ ＳｉＯ2 ＳＯ−１１ ＺｒＳｉＯ4 ＳＯ−２ ＴｉＯ2 ＳＯ−１２ ＣａＷＯ4 ＳＯ−３ ＺｎＯ ＳＯ−１３ ＣａＳｉＯ3 ＳＯ−４ ＳｎＯ2 ＳＯ−１４ ＩｎＯ2 ＳＯ−５ ＭｎＯ2 ＳＯ−１５ ＳｎＳｂＯ2 ＳＯ−６ Ｆｅ2Ｏ3 ＳＯ−１６ Ｓｂ2Ｏ5 ＳＯ−７ ＺｎＳｉＯ4 ＳＯ−１７ Ｎｂ2Ｏ5 ＳＯ−８ Ａｌ2Ｏ3 ＳＯ−１８ Ｙ2Ｏ3 ＳＯ−９ ＢｅＳｉＯ4 ＳＯ−１９ ＣｅＯ2 ＳＯ−１０ Ａｌ2ＳｉＯ5 ＳＯ−２０ Ｓｂ2Ｏ3 これらのなかでとりわけ好ましいのは、Ｓｉの酸化物で
あり、更にはコロイダルシリカである。
【００１４】本発明におけるビニルエステル類の疎水性
高分子化合物は、現像処理液等の水溶液中に実質的に溶
出しないものを言う。
【００１５】本発明の疎水性高分子化合物を形成する一
般式（２）で表される疎水性単量体ビニルエステル類で
あり、特に好ましくはピバリン酸ビニル、カプロン酸ビ
ニル、オクチル酸ビニルである。
【００１６】これらの単量体は単独で重合しても、複数
のビニルエステル類を共重合しても、他の共重合可能な
単量体と重合してもよい。共重合の場合一般式（２）で
表される単量体を４５重量％以上用いるとひび割れを有
効に防止することができる。
【００１７】重合方法としては、乳化重合法、溶液重合
法、塊状重合法、懸濁重合法、放射線重合法等が挙げら
れる。
【００１８】（溶液重合）溶媒中で適当な濃度の単量体
の組成物（通常、溶媒に対して４０重量％以下、好まし
くは１０〜２５重量％程度）を開始剤の存在下で約１０
〜２００℃、好ましくは３０〜１２０℃の温度で、約
０．５〜４８時間、好ましくは２〜２０時間重合を行う
ことで得られる。
【００１９】開始剤は、重合溶媒に可溶ならば任意に採
用でき、過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ），過酸化ベンゾ
イル，アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ），過酸
化ジ第３ブチル等の有機溶媒系開始剤、過酸化カリウ
ム，２，２’−アゾビス−（２−アミジノプロパン）−
ハイドロクロライド等の水溶性開始剤、又これらとＦｅ
2+塩や亜硫酸水素ナトリウム等の還元剤を組み合わせた
レドックス系重合開始剤等を挙げることができる。
【００２０】溶媒としては、単量体の組成物を溶解する
ものならば任意で、水、メタノール、エタノール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキサン
若しくはこれらの２種以上の混合溶媒等を挙げることが
できる。重合終了後、生成した高分子化合物を溶かさな
い溶媒中に反応混合物を注ぎ込み、生成物を沈殿させ、
次いで乾燥することにより未反応組成物を分離除去する
ことができる。
【００２１】（乳化重合）水を分散媒とし、水に対して
１〜５０重量％の単量体と、単量体に対して０．０５〜
５重量％の重合開始剤、０．１〜２０重量％の分散剤を
用い、約３０〜１００℃、好ましくは６０〜９０℃で３
〜８時間、撹拌下で重合させることによって得られる。
【００２２】開始剤としては、水溶性過酸化物（過硫酸
カリウム、過硫酸アンモニウム等）、水溶性アゾ化合物
（２，２′−アゾビス−（２−アミジノプロパン）−ハ
イドロクロライド等）、又これらとＦｅ2+塩や亜硫酸水
素ナトリウム等の還元剤を組み合わせたレドックス系重
合開始剤等を挙げることができる。
【００２３】分散剤としてはアニオン性界面活性剤、ノ
ニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面
活性剤のいずれも用いることができるが、好ましくはア
ニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤である。
【００２４】以下に本発明の複合高分子微粒子の具体例
を示す。Ｌ−１とＬ−６は異なる合成法（後述）により
得るものである。
【００２５】 Ｎｏ． 疎水性高分子化合物の組成 無機微粒子 （高分子に対する重量％） Ｌ−１ ピバリン酸ビニル コロイダルシリカ（３００） Ｌ−２ ピバリン酸ビニル（５０重量％） コロイダルシリカ（３００） カプロン酸ビニル（５０重量％） Ｌ−３ ピバリン酸ビニル（５０重量％） コロイダルシリカ（３００） 酢酸ビニル（５０重量％） Ｌ−４ ピバリン酸ビニル（３０重量％） コロイダルシリカ（３００） 酢酸ビニル（７０重量％） Ｌ−５ ピバリン酸ビニル（７０重量％） コロイダルシリカ（３００） グリシジルメタクリレート（３０重量％） Ｌ−６ ピバリン酸ビニル コロイダルシリカ（３００） 本発明の複合高分子微粒子を画像記録材料に含有させる
ときの平均粒径は、重量平均で０．００５〜３．０μｍ
程度が好ましく、更には０．０１〜０．８μｍである。
【００２６】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００２７】実施例１ 《製造例１〜複合高分子微粒子Ｌ−１の製造》１０００
ｍｌの４つ口フラスコに撹拌器、温度計、滴下ロート、
窒素導入管、還流冷却器を取り付け、窒素ガスを導入し
て脱酸素を行いつつ、蒸留水３６０ｃｃ、３０重量％の
コロイダルシリカ分散物（平均粒径１２ｎｍ）１２６ｇ
を加え、内部の温度が８０℃となるまで加熱した。下記
の界面活性剤１．３ｇを添加し、開始剤として過硫酸ア
ンモニウム０．０２３ｇを添加し、次いでピバリン酸ビ
ニル１２．６ｇを添加して、４時間反応させた。その後
冷却し水酸化ナトリウム溶液でｐＨを６に調整して複合
高分子微粒子Ｌ−１を得た。
【００２８】
【化３】
【００２９】尚、Ｌ−２〜Ｌ−５も単量体を前記単量体
及び組成比に変えた以外は同様にして合成した。
【００３０】《製造例２〜複合高分子微粒子Ｌ−６の製
造》１０００ｍｌの４つ口フラスコに撹拌器、温度計、
滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を取り付け、窒素
ガスを導入して脱酸素を行いつつ、蒸留水３６０ｃｃ、
３０重量％のコロイダルシリカ分散物１２６ｇを加え、
内部の温度が８０℃となるまで加熱した。分散剤として
デキストラン硫酸エステル１．３ｇを添加し、開始剤と
して過硫酸アンモニウム０．０２３ｇを添加し、次いで
ピバリン酸ビニル１２．６ｇを添加して、４時間反応さ
せた。その後冷却し水酸化ナトリウム溶液でｐＨを６に
調整して複合高分子微粒子Ｌ−６を得た。
【００３１】《製造例３〜比較複合高分子微粒子ＨＬ−
１の製造》１０００ｍｌの４つ口フラスコに撹拌器、温
度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を取り付
け、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、蒸留水３６
０ｃｃ、３０重量％のコロイダルシリカ分散物１１７ｇ
を加え、内部の温度が３０〜７０℃となるまで加熱し
た。分散剤としてラウリルスルホン酸ナトリウム０．５
を添加し、開始剤として過硫酸アンモニウム０．０８
ｇ、亜硫酸水素ナトリウム０．０３ｇを添加し、次いで
２−エチルヘキシルアクリレート１５ｇを添加し、４時
間反応させた。その後冷却し１４％アンモニア水でｐＨ
を６に調整して比較複合高分子微粒子ＨＬ−１を得た。
【００３２】同様にして比較複合高分子微粒子ＨＬ−２
も合成した。
【００３３】 Ｎｏ． 疎水性高分子化合物の組成 無機微粒子 （高分子に対する重量％） ＨＬ−１ ２−エチルヘキシルアクリレート コロイダルシリカ（２３３） ＨＬ−２ ブチルアクリレート コロイダルシリカ（２３３） 本発明の複合高分子微粒子Ｌ−１〜６及び比較の複合高
分子微粒子ＨＬ−１、２並びに大日本インキ（株）製の
アクリル酸エステル樹脂複合高分子ボンコートＤＶシリ
ーズとして市販されているＤＶ−７５９（シリカが樹脂
に対して３０重量％）、ＤＶ−８０４（シリカが樹脂に
対して１００重量％）について以下の評価を行った。
【００３４】《化学的安定性の評価》固形分濃度１０重
量％とした複合高分子微粒子分散物１０ｇに、１モル／
ｌ濃度の塩化ナトリウム水溶液を１０ｇ加え、４時間放
置し、その溶液の安定性を目視で観察し、以下の基準で
評価した。
【００３５】 ５：かなり安定 ４：安定 ３：やや不安定 ２：凝集発生 １：凝集が多量に発生 結果を以下に示す。
【００３６】 Ｌ−１ ５ ＨＬ−１ １ Ｌ−２ ５ ＨＬ−２ １ Ｌ−３ ４ ＤＶ−７５９ １ Ｌ−４ ４ ＤＶ−８０４ １ Ｌ−５ ５ Ｌ−６ ４ これから明らかな様に、本発明の複合高分子微粒子は化
学的安定性が優れている。
【００３７】《ひび割れ耐性の評価》予め下引加工を施
した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート透明
支持体に、複合高分子微粒子３．３重量％、ゼラチン
６．７重量％を含有する溶液を乾燥膜厚６μｍになるよ
うに塗布、乾燥してそれぞれの試料を作成した。
【００３８】シリカゲル乾燥剤の入ったデシケータ中に
作成した試料を入れて、５５℃で２４時間放置し、試料
のひび割れを目視で観察して、以下の基準で評価した。
【００３９】 ５：ひび割れの発生が認められない ４：ひび割れが少し発生 ３：ひび割れが相当発生 ２：ひび割れが著しく発生 １：ひび割れが全面に発生 結果を以下に示す。
【００４０】 コロイダルシリカ含有量 ひび割れ耐性 （総バインダーに対する重量％） Ｌ−１ ２５ ５ Ｌ−２ ２５ ５ Ｌ−３ ２５ ４ Ｌ−４ ２５ ５ Ｌ−５ ２５ ４ Ｌ−６ ２５ ４ ＨＬ−１ ２３ １ ＨＬ−２ ２３ １ ＤＶ−７５９ ８ ３ ＤＶ−８０４ １７ ２ 実施例２ 《ハロゲン化銀乳剤塗布液Ｅ−１の調製》温度４０℃、
ｐＨ３．０の硝酸酸性雰囲気下で、銀電位ＥAgを１Ｎ・
ＮａＣｌ水溶液で１７０ｍＶに保持しながら下記溶液Ａ
に溶液Ｂ及び溶液Ｃをコントロールドダブルジェット法
で１１分間で混合した。
【００４１】 （溶液Ａ） ゼラチン ５．６ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m Ｈ （ｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．５６ｍｌ 塩化ナトリウム ０．１２ｇ 濃硝酸 ０．３４ｍｌ 蒸留水 ４４５ｍｌ （溶液Ｂ） 硝酸銀 ６０ｇ 濃硝酸 ０．２０８ｍｌ 蒸留水 ８５．２ｍｌ （溶液Ｃ） ゼラチン ３ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m Ｈ （ｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．３ｍｌ 塩化ナトリウム ２０．２ｇ ソジウムヘキサクロロデート（１％水溶液） ３．０ｍｌ 蒸留水 ８５．６１ｍｌ （溶液Ｄ） ゼラチン １．４ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m Ｈ （ｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．１４ｍｌ 蒸留水 ４８．８ｍｌ 得られたハロゲン化銀粒子は、平均粒径０．１２μｍ、
単分散度（粒径分布の標準偏差／平均粒径）は８〜１５
％であった。
【００４２】調製した乳剤に溶液Ｄを添加し、炭酸ナト
リウムでｐＨを６．０に調整し、次いで４−ヒドロキシ
−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを
２００ｍｇ加えた。その後、常法に従って水洗、脱塩
し、防腐剤溶液Ｅを加えた。
【００４３】 （溶液Ｅ） ２−メチル−５−クロロイソチアゾール−３−オン １５ｍｌ 純水 ０．３ｍｌ 次に安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−１，
３，３ａ，７−テトラザインデン２００ｍｇと、ゼラチ
ン８．６ｇを加え、更に下記塗布用添加剤を加え、塗布
液の総量が３０３ｍｌになるように純水で調整しハロゲ
ン化銀乳剤塗布液Ｅ−１を得た。
【００４４】 サポニン３３％水溶液 ２．２ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２０％水溶液 ２．２ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２ −スルホン酸ナトリウム４％水溶液 ０．３ｍｌ ヒドラジン誘導体Ｈｄの２％メタノール溶液 ７．５ｍｌ アミン化合物Ａｍの５％水溶液 ４ｍｌ クエン酸７％水溶液 ０．４ｍｌ
【００４５】
【化４】
【００４６】 ２−メルカプトヒポキサンチン０．５％アルカリ水溶液 ４ｍｌ エチレンジアミン４酢酸ナトリウム５％水溶液 １０ｍｌ スピロビス（３，３−ジメチル−５，６−ジヒドロキシインダン）の ５％メタノール溶液 １．５ｍｌ ハイドロキノン２０％水溶液 ２．５ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマーの４％水溶液 ４ｍｌ ２−メチル−５−クロロイソチアゾール−３−オン５％メタノール溶液 ０．１ｍｌ
【００４７】
【化５】
【００４８】《中間層用塗布液Ｍ−１の調製》下記組成
で総量が１４１４ｍｌになるように純水で調整して中間
層用塗布液Ｍ−１を調整した。
【００４９】 ゼラチン１２％水溶液 ２５０ｍｌ サポニン３３％水溶液 １２．３ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２０％水溶液 １２．３ｍｌ クエン酸７％水溶液 ３ｍｌ １−フェニル−４−ヒドロキシメチル−４−メチル−３ −ピラゾリドン（ジメゾンＳ）２％メタノール溶液 ２０ｍｌ レゾルシン２０％水溶液 ４０ｍｌ ガーリック酸プロピルエステル１０％メタノール溶液 ６０ｍｌ 染料Ｅの２％水溶液 ７００ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマーの４％水溶液 ２２．７ｍｌ ２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール０．１％水溶液 ６ｍｌ 染料分散液Ｂｕ ２５０ｍｌ 《保護層用塗布液Ｐ−１の調製》下記組成で総量が１４
１４ｍｌになるように純水で調整して保護層用塗布液Ｐ
−１を調整した。
【００５０】 ゼラチン１２％水溶液 ２５０ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２ −スルホン酸ナトリウム４％水溶液 ５０ｍｌ 塩化ナトリウム１０％水溶液 ２２ｍｌ 不定型シリカ（平均粒径３．５μｍ） ２ｇ 不定型シリカ（平均粒径６μｍ） ４ｇ
【００５１】
【化６】
【００５２】 クエン酸７％水溶液 ５．１ｍｌ ジメゾンＳの２％メタノール溶液 ２０ｍｌ 染料Ｅの２％水溶液 ７００ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマーの４％水溶液 ２２．７ｍｌ ２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール０．１％水溶液 ６ｍｌ 染料分散液Ｂｕ ２５０ｍｌ
【００５３】
【化７】
【００５４】《染料分散液Ｂｕの調製》下記染料Ｓｅを
１００ｍｇ／ｍ2の塗布付き量になる量で酢酸エチル２
００ｍｌに溶解した液と、ゼラチン３０ｇ、クエン酸１
４７ｍｇ、イソプロピルナフタレンスルホン酸４００ｍ
ｇ及びフェノール３ｇを純水で２５０ｍｌに溶解した液
をホモジナイザーで分散後、減圧加温しながら酢酸エチ
ルを除去し、純水で２５０ｍｌに仕上げ冷却セットして
染料平均粒径０．２０μｍの染料分散液を調整した。
【００５５】
【化８】
【００５６】《中間層インライン添加用硬膜剤液ＭＨ１
の調製》下記組成で中間層塗布液に塗布直前にインライ
ンで混合添加する硬膜剤ＭＨ１を３００ｍｌ調製した。
【００５７】 硬膜剤Ｈ１の１０％水溶液 ２６０ｍｌ 純水 ４０ｍｌ
【００５８】
【化９】
【００５９】《保護層インライン添加用硬膜剤液ＰＨ１
の調製》下記組成で保護層塗布液に塗布直前にインライ
ンで混合添加する硬膜剤ＰＨ１を３００ｍｌ調製した。
【００６０】 硬膜剤Ｈ２の２．５％水溶液 １８７ｍｌ 純水 １１３ｍｌ
【００６１】
【化１０】
【００６２】《バッキング層塗布液ＢＣ−１の調製》下
記組成で総量が８９５ｍｌになる様に純水で調整してバ
ッキング層塗布液ＢＣ−１を調製した。
【００６３】 ゼラチン 純水 ３２．４ｇ 染料Ｃの６％水溶液 ６９６ｍｌ 染料Ｄの５％水溶液 ６４ｍｌ サポニン３３％水溶液 ２４ｍｌ ポリマーラテックス２０％エマルジョン液 ６．６ｍｌ （平均粒径０．１０μｍのシクロヘキシルメタクリレート、イソノニルアクリレ ート、グリシジルアクリレートとスチレン−イソプレンスルホン酸のコポリマー ）酸化亜鉛の１０％固体微粒子分散液（平均粒径０．１５μｍ） １０ｍｌ
【００６４】
【化１１】
【００６５】 クエン酸７％水溶液 ３．８ｍｌ スチレンスルホン酸ナトリウム４％水溶液 ２３ｍｌ
【００６６】
【化１２】
【００６７】《バッキング保護層用塗布液ＢＰ−１の調
製》下記組成で総量が７１１ｍｌになる様に純水で調整
してバッキング保護層用塗布液ＢＰ−１を調製した。
【００６８】 ゼラチン ２４．９ｇ 純水 ６０５ｍｌ メタクリル酸メチル（平均粒径７μｍ）の２％分散液 ７２ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２ −スルホン酸ナトリウム４％水溶液 １１ｍｌ グリオキザール４％水溶液 ４ｍｌ 《バッキング層インライン添加用硬膜剤液ＢＨ１の調
製》下記組成で保護層塗布液に塗布直前にインラインで
添加混合する硬膜剤液ＢＨ１を３０ｍｌ調製した。
【００６９】 純水 ２７．２２ｍｌ メタノール １．５ｍｌ 硬膜剤Ｈ３ １．２８ｍｌ ＮａＣｌ ０．００５ｇ
【００７０】
【化１３】
【００７１】《試料Ｎｏ．１〜１１の作製》予め下引加
工を両面に施した厚さ１００μｍのポリエチレンテレフ
タレート透明支持体の片面に、支持体側から、ハロゲン
化銀乳剤塗布液Ｅ−１をゼラチン乾燥重量１．０ｇ／ｍ
2、銀付量３．５ｇ／ｍ2になる様に、中間層インライン
添加用硬膜剤ＭＨ１と保護層インライン添加用硬膜剤Ｐ
Ｈ１を塗布直前に添加混合しながら中間層用塗布液Ｍ−
１をゼラチン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2になる様に、保護
層用塗布液Ｐ−１をゼラチン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2に
なる様に、表１に記載の如く本発明の複合高分子微粒子
を添加して同時重層塗布した。
【００７２】同時に支持体の他方の側にバッキング層用
塗布液ＢＣ−１を、バッキング層インライン添加用硬膜
剤液ＢＨ１と塗布直前に混合しながら、ゼラチン乾燥重
層が１．８ｇ／ｍ2になる様に、バッキング保護層用塗
布液ＢＰ−１をゼラチン乾燥重層が０．５ｇ／ｍ2にな
る様に重層塗布した。
【００７３】塗布時の塗布液温度は３５℃とし、５℃の
冷風で６秒間処理することによりセットさせ、乾球温度
３５℃以下、試料表面温度２０℃以下に保つ条件にコン
トロールして両面の塗布層を２分間で乾燥させ、乾燥終
了後２０秒以内に乾球温度５０℃、露点−５℃で５０秒
間処理して試料Ｎｏ．１〜１１を作製した。
【００７４】得られた試料について以下の評価を行っ
た。
【００７５】《塗布仕上がり》塗布後の試料を１００倍
ルーペで１００ｃｍ2観察し、その中にある故障の数を
目視で数えて塗布仕上がりの評価をした。
【００７６】《写真性能》大日本スクリーン（株）製明
室ＵＶプリンターＰ−６２７ＦＡを用い、原稿として厚
さ１００μｍの５０％ハードドット網点透過フィルム原
稿を用いて、試料の乳剤層塗布側を原稿に吸引密着しな
がら露光し、下記処理条件で処理して５０％に返る露光
秒数の逆数の常用対数値を即日感度とし、試料Ｎｏ．１
の即日感度を１００とする相対値で評価した。
【００７７】（処理条件） 現像 ３４℃ １２秒 定着 ３２℃ １２秒 水洗 常温 １０秒 乾燥 ４０℃ １０秒 （現像液処方） 純水 ２０５．７ｍｌ ジエチレントリアミン−５−酢酸 ３．６３ｇ 亜硫酸ナトリウム ５２．５８ｇ 硼酸 ８．０ｇ ＫＢｒ ４．０ｇ 炭酸カリウム４９％水溶液 １１２．２４ｇ ２−メルカプトヒポキサンチン ０．０７ｇ ジエチレングリコール ４０ｇ ベンゾトリアゾール ０．２１ｇ ハイドロキノン ２０ｇ ジメゾンＳ ０．８５ｇ １−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ０．０３ｇ 水酸化カリウム４８．５５％水溶液 １４ｍｌ 水を加えて１ｌとする。（ｐＨ１０．４） （定着液処方） チオ硫酸アンモニウム７０％水溶液 ２６２ｇ 純水 ７９ｍｌ 亜硫酸ナトリウム ２２ｇ 硼酸 ９．７８ｇ 酢酸ナトリウム ３８．５ｇ 酢酸９０％水溶液 １３．２８ｇ 酒石酸５０％水溶液 ７．２７ｇ 硫酸アルミニウム水溶液（Ａｌ2Ｏ3換算含有量８．１％） ２６．５ｇ 水を加えて１ｌとする。（ｐＨ４．８５） 《ヘイズの評価》前記処理を行った無露光の試料を東京
電色（株）製濁度計Ｍｏｄｅｌ Ｔ−２６００ＤＡを用
いてヘイズを測定した。
【００７８】《スクラッチ（引っ掻き強度）の評価》現
像、定着、水洗後の試料を再度現像液に３０秒浸漬し、
半径０．３ｍｍのサファイア針で膜面上を平行移動させ
ながら０〜２００ｇの範囲でサファイア針の圧接荷重を
連続的に変化させて試料の膜面に傷の発生する最低の荷
重を求めた。
【００７９】以上の結果を表１に示す。
【００８０】
【表１】
【００８１】これにより、本発明の複合高分子微粒子を
用いたものは、写真性能（感度）、膜物性（ヘイズ、ス
クラッチ）、塗布性能に優れることが判る。
【００８２】実施例３ 《乳剤Ｅｍ−１の調製》下記の様にして平板状沃臭化銀
粒子からなる乳剤Ｅｍ−１を調製した。
【００８３】 （Ａ１液） オセインゼラチン ２４．２ｇ 水 ９６５７ｍｌ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n［ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ］17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m Ｈ （ｎ＋ｍ＝５〜７）１０％メタノール溶液 １．２０ｍｌ 臭化カリウム １０．８ｇ １０％硝酸 １６０ｍｌ （Ｂ１液） ２．５Ｎ硝酸銀水溶液 ２８２５ｍｌ （Ｃ１液） 臭化カリウム ８４１ｇ 水で ２８２５ｍｌ （Ｄ１液） オセインゼラチン １２１ｇ 水 ２０４０ｍｌ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n［ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ］17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）m Ｈ （ｎ＋ｍ＝５〜７）１０％メタノール溶液 ５．７０ｍｌ （Ｅ１液） １．７５Ｎ臭化カリウム水溶液 銀電位制御量 特公昭５８−５８２８８号に記載の混合撹拌機を用い
て、３５℃でＡ１液にＢ１液及びＣ１液各々４７５．０
ｍｌを同時混合法により２．０分で添加し、核形成を行
った。
【００８４】Ｂ１液及びＣ１液の添加終了後、６０分か
けてＡ１液の温度を６０℃に上昇させ、Ｄ１液の全量を
添加し、ＫＯＨ３％水溶液でｐＨを５．５とし、再びＢ
１液及びＣ１液を各々５５．４ｍｌ／分の添加速度で４
２分間添加した。この間、Ｅ１液を用いて銀電位（飽和
銀−塩化銀電極を比較電極として銀イオン選択電極で測
定）を＋８ｍＶ及び＋３０ｍＶになる様に制御した。
【００８５】添加終了後ＫＯＨ３％水溶液でｐＨを６．
０とし、直ちに脱塩、水洗を行って種乳剤を得た。この
種乳剤を電子顕微鏡によって観察したところ、ハロゲン
化銀粒子の全投影面積の９０％以上が最大隣接辺比が
１．０〜２．０の六角平板粒子よりなり、六角平板粒子
の平均厚さは０．０９０μｍ、平均円相当直径は０．５
１０μｍであった。
【００８６】得られた種乳剤を５３℃にし、分光増感色
素Ａ（５，５′−ジクロロ−９−エチル−３，３′−ジ
−（３−スルホプロピル）オキサカルボシアニンナトリ
ウム塩の無水物）４５０ｍｇ、分光増感色素Ｂ（５，
５′−ジ−（ブトキシカルボニル）−１，１′−ジ−エ
チル−３，３′−ジ−（４−スルホブチル）ベンゾイミ
ダゾロカルボシアニンナトリウムの無水物）８ｍｇを固
体微粒子状の分散物として添加後に、４−ヒドロキシ−
６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（Ｔ
ＡＩ）６０ｍｇ、アデニン１５ｍｇ、チオシアン酸アン
モニウム５０ｍｇ、塩化金酸２．５ｍｇ及びチオ硫酸ナ
トリウム５．０ｍｇを含有する水溶液、沃化銀微粒子乳
剤（平均粒径０．０５μｍ）５ミリモル相当、トリフェ
ニルホスフィンセレナイド６．０ｍｇの分散液を加え、
総計２時間３０分の熟成を施した。熟成終了時に安定剤
としてＴＡＩ７５０ｍｇを添加した。
【００８７】尚、分光増感色素の固体微粒子分散物は、
２７℃の水に色素を加え高速撹拌機（ディゾルバー）で
３５００ｒ．ｐ．ｍ．にて３０〜１２０分撹拌して得
た。またトリフェニルホスフィンセレナイドの分散液
は、トリフェニルホスフィンセレナイド１２０ｇを５０
℃の酢酸エチル３０ｋｇ中に添加して撹拌し、完全に溶
解させ、他方でゼラチン３．８ｋｇを純水３８ｋｇに溶
解し、これにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２
５重量％水溶液９３ｇを添加し、これらの２液を混合し
て直径１０ｃｍのディゾルバーを有する高速撹拌型分散
機により５０℃、分散翼周速４０ｍ／秒で３０分間分散
し、その後速やかに減圧して酢酸エチルの残留濃度が
０．３重量％以下になるまで、撹拌を行いつつ酢酸エチ
ルを除去し、純水で希釈して８０ｋｇに仕上げて得た。
【００８８】《乳剤Ｅｍ−２の調製》乳剤Ｅｍ−１を種
乳剤として、以下の溶液を用い平板状沃臭化銀粒子から
なる乳剤Ｅｍ−２を調製した。
【００８９】 （Ａ２液） オセインゼラチン １９．０４ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）n［ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ］17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ ）mＨ （ｎ＋ｍ＝５〜７）１０％メタノール溶液 ２．００ｍｌ 沃化カリウム ７．００ｇ Ｅｍ−１ １．５５モル相当 水で ２８００ｍｌに仕上げる （Ｂ２液） 臭化カリウム １４９３ｇ 水で ３５８５ｍｌに仕上げる （Ｃ２液） 硝酸銀 ２１３１ｇ 水で ３５８５ｍｌに仕上げる （Ｄ２液） ３重量％のゼラチンと、沃化銀粒子（平均粒径０．０５μｍ）からなる 微粒子乳剤（＊） ０．０２８モル相当 ＊０．０６モルの沃化カリウムを含む５．０重量％のゼラチン水溶液６．６４ｌ に、７．０６モルの硝酸銀と、７．０６モルの沃化カリウムを含む水溶液それぞ れ２ｌを１０分間かけて添加した。微粒子形成中のｐＨは硝酸を用いて２．０に 、温度は４０℃に制御した。粒子形成後、炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨを ６．０とした。
【００９０】反応容器内でＡ２液を５５℃に保ちながら
激しく撹拌し、Ｂ２液及びＣ２液のそれぞれ半量を３５
分かけて同時混合法にて添加した。この間ｐＨは５．８
に保った。１％ＫＯＨ水溶液にてｐＨを８．８とし、Ｂ
２液、Ｃ２液及びＤ２液をＤ２液が無くなるまで同時混
合法で添加した。０．３％クエン酸水溶液にてｐＨを
６．０とし、Ｂ２液及びＣ２液の残量を２５分かけて同
時混合法で添加した。この間のｐＡｇは８．９に保っ
た。尚、Ｂ２液とＣ２液の添加速度は臨界成長速度に応
じて関数様に変化させ、小粒子の発生とオストワルド熟
成による多分散化を抑えた。
【００９１】添加終了後、Ｅｍ−１と同様に脱塩、水
洗、再分散を行い、再分散後４０℃でｐＨを５．８０、
ｐＡｇを８．２に調整した。
【００９２】得られたハロゲン化銀乳剤を電子顕微鏡に
よって観察したところ、平均円相当直径０．９１μｍ、
平均厚さ０．２３μｍ、平均アスペクト比約４．０、粒
径分布の広さ（粒径分布の標準偏差／平均粒径）２０．
５％の平板状ハロゲン化銀粒子からなる乳剤であった。
【００９３】得られた乳剤を４７℃にし、沃化銀微粒子
乳剤（平均粒径０．０５μｍ）５ミリモル相当、分光増
感色素Ａ ３９０ｍｇ及び分光増感色素Ｂ ４ｍｇを固
体微粒子状の分散物として添加後に、アデニン１０ｍ
ｇ、チオシアン酸アンモニウム５０ｍｇ、塩化金酸２．
０ｍｇ及びチオ硫酸ナトリウム３．３ｍｇを含有する水
溶液、トリフェニルホスフィンセレナイド４．０ｍｇの
分散液を加え、総計２時間３０分の熟成を施した。熟成
終了時に安定剤としてＴＡＩ７５０ｍｇを添加した。
【００９４】調製したＥｍ−１とＥｍ−２それぞれを重
量比で６：４に混合した乳剤を用いて以下の処方で試料
Ｎｏ．１２〜２２を作製した。
【００９５】《試料Ｎｏ．１２〜２２の作製》濃度０．
１５に青色着色した厚さ１７５μｍのポリエチレンテレ
フタレートフィルムベースの両面に、下記処方（片面当
たり）でクロスオーバーカット層、乳剤層、中間層、保
護層の順に、片面当たりの銀付量１．８ｇ／ｍ2、保護
層ゼラチン量０．４ｇ／ｍ2、中間層ゼラチン量０．４
ｇ／ｍ2、乳剤層ゼラチン量１．５ｇ／ｍ2、クロスオー
バーカット層ゼラチン量０．２ｇ／ｍ2になるように塗
布し、乾燥して試料Ｎｏ．１２を作製した。
【００９６】 第１層（クロスオーバーカット層） 固体微粒子分散体染料ＡＨ １８０ｍｇ／ｍ2 ゼラチン ０．２ ｇ／ｍ2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ５ｍｇ／ｍ2 化合物Ｉ ５ｍｇ／ｍ2 ラテックスＬ ０．２ ｇ／ｍ2 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩 ５ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ（平均粒径０．０１４μｍ） １０ｍｇ／ｍ2 硬膜剤Ａ ２ｍｇ／ｍ2 第２層（乳剤層） ハロゲン化銀乳剤 銀量 １．８ ｇ／ｍ2 化合物Ｇ ０．５ｍｇ／ｍ2 ２，６−ビス（ヒドロキシアミノ）−４−ジエチルアミノ−１，３，５ −トリアジン ５ｍｇ／ｍ2 ｔ−ブチル−カテコール １３０ｍｇ／ｍ2 ポリビニルピロリドン（平均分子量１００００） ３５ｍｇ／ｍ２ スチレン−無水マレイン酸共重合体 ８０
ｍｇ／ｍ2 ポリスチレンスルホン酸ナトリウム ８０ｍｇ／ｍ2 トリメチロールプロパン ３５０ｍｇ／ｍ2 ジエチレングリコール ５０ｍｇ／ｍ2 ニトロフェニル−トリフェニル−ホスホニウムクロリド ２０ｍｇ／ｍ2 １，３−ジヒドロキシベンゼン−４−スルホン酸アンモニウム ５００ｍｇ／ｍ2 ２−メルカプトベンツイミダゾール−５−スルホン酸ナトリウム ５ｍｇ／ｍ2 化合物Ｈ ０．５ｍｇ／ｍ2 ｎ−Ｃ4Ｈ9ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｎ（ＣＨ2ＣＯＯＨ）2 ３５０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｍ ５ｍｇ／ｍ2 化合物Ｎ ５ｍｇ／ｍ2 コロイダルシリカ ０．５ｇ／ｍ2 ラテックスＬ ０．２ｇ／ｍ2 デキストラン（平均分子量１０００） ０．２ｇ／ｍ2 化合物Ｐ ０．２ｇ／ｍ2 化合物Ｑ ０．２ｇ／ｍ2 第３層（中間層） ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2 ホルムアルデヒド １０ｍｇ／ｍ2 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩 ５ｍｇ／ｍ2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル １８ｍｇ／ｍ2 ラテックスＬ ０．０５ｇ／ｍ2 ポリアクリル酸ナトリウム １０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ３ｍｇ／ｍ2 化合物Ｋ ５ｍｇ／ｍ２ 硬膜剤Ｂ
１ｍｇ／ｍ2 第４層（保護層） ゼラチン ０．４ｇ／ｍ2 マット剤（面積平均粒径７．０μｍのポリメチルメタクリレート） ５０ｍｇ／ｍ2 ホルムアルデヒド １０ｍｇ／ｍ2 ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩 ５ｍｇ／ｍ2 ビス−ビニルスルホニルメチルエーテル １８ｍｇ／ｍ2 ラテックスＬ ０．１ｇ／ｍ2 ポリアクリルアミド（平均分子量１００００） ０．０５ｇ／ｍ2 ポリアクリル酸ナトリウム ２０ｍｇ／ｍ2 ポリシロキサンＳ１ ２０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｉ １２ｍｇ／ｍ2 化合物Ｊ ２ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−１ ７ｍｇ／ｍ2 化合物Ｋ １５ｍｇ／ｍ2 化合物Ｏ ５０ｍｇ／ｍ2 化合物Ｓ−２ ５ｍｇ／ｍ2 Ｃ9Ｆ19Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）11Ｈ ３ｍｇ／ｍ2 Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）15Ｈ ２ｍｇ／ ｍ2 Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ3Ｈ7）−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）4−（ＣＨ2）4ＳＯ3 Ｎａ １ｍｇ／ｍ2 硬膜剤Ｂ １．５ｍｇ／ｍ2 表２に記載の如く複合高分子微粒子を添加した以外は同
様にして試料Ｎｏ．１２〜２２を作製した。
【００９７】
【化１４】
【００９８】
【化１５】
【００９９】
【化１６】
【０１００】
【化１７】
【０１０１】《評価》得られた各試料について写真性
能、帯電防止性能及び皮膜物性について以下の様に評価
した。
【０１０２】（写真性能）下記の様にして作製した蛍光
増感紙に挟み、コニカメディカル（株）製ペネトロメー
タＢ型を介してＸ線照射し、コニカ（株）製自動現像機
ＳＲＸ−５０３にてＳＲ−ＤＦ処理液（同）を用い、現
像温度３５℃でＤｒｙ ｔｏ ｄｒｙ４５秒で処理を行
う。このとき、カブリ濃度＋１．０の濃度を得るのに必
要なＸ線量の逆数を感度とし、試料Ｎｏ．１２の感度を
１００とする相対感度で評価した。
【０１０３】 （蛍光増感紙の作製） Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ蛍光体（平均粒径１．８μｍ） ２００ｇ ポリウレタン系熱可塑性エラストマー ２０ｇ ［住友バイエルウレタン（株）製：デモラックＴＰＫＬ−５−２６２５（固形分 ４０％）］ ニトロセルロース（消化度１１．５％） ２ｇ からなる組成物にメチルエチルケトン溶媒を加え、プロ
ペラ型ミキサーで分散させて粘度２５ｐｓ（２５℃）の
蛍光体層形成用塗布液を調製した。（結合剤／蛍光体＝
１／２２） 又、下塗層形成用塗布液として軟質アクリル樹脂９０ｇ
（固形分）、ニトロセルロース５０ｇにメチルエチルケ
トンを加え、分散、混合して粘度３〜６ｐｓ（２５℃）
の分散液を調製した。
【０１０４】二酸化チタンを練り込んだ厚さ２５０μｍ
のポリエチレンテレフタレート支持体をガラス板上に水
平に置き、下塗層形成用塗布液をドクターブレードを用
いて均一に塗布した後、２５℃から１００℃に徐々に昇
温して乾燥し、厚さ１５μｍの下塗層を形成した。
【０１０５】この上に蛍光体形成用塗布液をドクターブ
レードを用いて膜厚２４０μｍで均一に塗布し、乾燥
後、カレンダーロールを用いて８００ｋｇｗ／ｃｍ2の
圧力で、８０℃で圧縮を行った。
【０１０６】更に、特開平６−７５０９７号の実施例１
に記載の方法で厚さ３μｍの透明保護層を形成し、支持
体、下塗層、蛍光体層、透明保護層からなる蛍光増感紙
を作製した。
【０１０７】（スタチックマーク発生試験）ゴムシート
上に未露光試料を乗せて、上からゴムロールで圧着後、
剥離してから現像処理し、スタチックマークの発生の程
度を下記の基準で５段階目視評価した。
【０１０８】 Ａ：スタチックマークの発生が認められない Ｂ：スタチックマークが少し発生 Ｃ：スタチックマークが相当発生 Ｄ：スタチックマークが著しく発生 Ｅ：スタチックマークが全面に発生。
【０１０９】（ひび割れ耐性の評価）シリカゲル乾燥剤
の入ったデシケータ中に未露光感光材料を入れ、５５℃
で２４時間放置し、ひび割れの程度を１００倍のルーペ
で観察し、その程度を下記の基準で５段階目視評価し
た。
【０１１０】 Ａ：ひび割れの発生が認められない Ｂ：ひび割れが少し発生 Ｃ：ひび割れが相当発生 Ｄ：ひび割れが著しく発生 Ｅ：ひび割れが全面に発生。
【０１１１】又、塗布性及びスクラッチについては実施
例２と同様にして評価した。
【０１１２】以上の結果を表２に示す。
【０１１３】
【表２】
【０１１４】これから明らかなように、本発明の複合高
分子微粒子を用いた感光材料は、写真性能（感度）、皮
膜物性（スクラッチ、ひび割れ耐性）、塗布性（固まり
による尾引き故障が無い）のみならず帯電防止性能にも
優れることが判る。
【０１１５】
【発明の効果】本発明の複合高分子微粒子によれば、画
像特性に悪影響を与えることなく、また塗布性を劣化さ
せることなく、皮膜物性を改良することができるのみな
らず、優れた帯電防止性能をも得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｃ 1/95 Ｇ０３Ｃ 1/95 (72)発明者 倉地 育夫 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式 会社内 (56)参考文献 特開 平６−202273（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−202274（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−287213（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−292305（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C08L 1/00 - 101/16 C08F 2/44 G03C 1/32 G03C 1/95

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 無機微粒子及び下記一般式（１）で表さ
    れる繰り返し単位を有するビニルエステル類の疎水性高
    分子化合物（但し酢酸ビニルである場合は除く）からな
    る複合高分子微粒子を乳剤層に含有するハロゲン化銀写
    真感光材料。 【化１】 〔式中、Ｒ1は置換基を表す。〕
  2. 【請求項２】 無機微粒子の存在下で下記一般式（２）
    で表される疎水性単量体ビニルエステル類を有する組成
    物（但し酢酸ビニルである場合を除く）を重合して形成
    された複合高分子微粒子を乳剤層に含有するハロゲン化
    銀写真感光材料。 【化２】 〔式中、Ｒ1は上記と同義である。〕
  3. 【請求項３】 前記ビニルエステル類の疎水性高分子化
    合物（但し酢酸ビニルである場合は除く）が一般式
    （１）で表される繰り返し単位を４５重量％以上有する
    ことを特徴とする請求項１に記載のハロゲン化銀写真感
    光材料。
  4. 【請求項４】 組成物が含有する単量体の４５重量％以
    上が一般式（２）で表される疎水性単量体ビニルエステ
    ル類（但し酢酸ビニルである場合は除く）であることを
    特徴とする請求項２に記載のハロゲン化銀写真感光材
    料。
  5. 【請求項５】 Ｒ1で表される置換基がｔ−ブチル基で
    あることを特徴とする請求項３又は４に記載のハロゲン
    化銀写真感光材料。
  6. 【請求項６】 酸化物からなる無機微粒子であることを
    特徴とする請求項１、２、３、４又は５に記載のハロゲ
    ン化銀写真感光材料。
  7. 【請求項７】 無機微粒子がコロイダルシリカであるこ
    とを特徴とする請求項６に記載のハロゲン化銀写真感光
    材料。
JP28335495A 1995-10-31 1995-10-31 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料 Expired - Fee Related JP3508082B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28335495A JP3508082B2 (ja) 1995-10-31 1995-10-31 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料
US08/738,310 US5800972A (en) 1995-10-31 1996-10-25 Fine composite polymer particles and image recording material by use thereof
DE69608526T DE69608526D1 (de) 1995-10-31 1996-10-30 Feine Verbundpolymerteilchen und Bildaufzeichnungsmaterial, in dem dieseTeilchen verwendet werden
EP96307831A EP0775937B1 (en) 1995-10-31 1996-10-30 Fine composite polymer particles and image recording material by use thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP28335495A JP3508082B2 (ja) 1995-10-31 1995-10-31 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09124877A JPH09124877A (ja) 1997-05-13
JP3508082B2 true JP3508082B2 (ja) 2004-03-22

Family

ID=17664404

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP28335495A Expired - Fee Related JP3508082B2 (ja) 1995-10-31 1995-10-31 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5800972A (ja)
EP (1) EP0775937B1 (ja)
JP (1) JP3508082B2 (ja)
DE (1) DE69608526D1 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3551405B2 (ja) * 1997-07-01 2004-08-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
US6326120B1 (en) * 2000-04-20 2001-12-04 Eastman Kodak Company Self-contained imaging media comprising microencapsulated color formers
KR100458313B1 (ko) * 2002-01-11 2004-11-26 최용석 실크스크린 인쇄방법
DE102005000918A1 (de) * 2005-01-06 2006-07-20 Basf Ag Verfahren zur Herstellung wässriger Kompositpartikel-Dispersionen

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2376005A (en) 1943-04-10 1945-05-15 Defender Photo Supply Co Inc Photographic emulsion and process of making same
US3325286A (en) 1961-08-28 1967-06-13 Du Pont Photographic emulsions and elements
JPS6015935B2 (ja) 1975-05-06 1985-04-23 富士写真フイルム株式会社 写真要素
JPS61140939A (ja) 1984-12-12 1986-06-28 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPS61236544A (ja) 1985-04-12 1986-10-21 Mitsubishi Paper Mills Ltd 写真用支持体
JPH07119961B2 (ja) 1987-12-28 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0622506A (ja) 1992-07-01 1994-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd カーボンブラシ，ブラシ組立品および整流子電動機
JPH0675097A (ja) 1992-07-08 1994-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線増感スクリーン
US5288598A (en) * 1992-10-30 1994-02-22 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5378577A (en) * 1992-10-30 1995-01-03 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
JPH0750723A (ja) 1993-08-06 1995-02-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 呼出エリア対応自動転送制御方式
US5633114A (en) * 1993-10-06 1997-05-27 Polaroid Corporation Image-receiving element with particle containing overcoat for diffusion transfer film products
US5550011A (en) * 1995-02-01 1996-08-27 Eastman Kodak Company Photographic elements containing matte particles of bimodal size distribution

Also Published As

Publication number Publication date
EP0775937A2 (en) 1997-05-28
JPH09124877A (ja) 1997-05-13
US5800972A (en) 1998-09-01
DE69608526D1 (de) 2000-06-29
EP0775937A3 (en) 1997-07-23
EP0775937B1 (en) 2000-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3508082B2 (ja) 複合高分子微粒子及びこれを用いた画像記録材料
EP0619514A1 (en) Silver halide photographic light-sensitive material
JPH11181300A (ja) 高分子微粒子分散液の製造方法及び高分子微粒子を用いた画像記録材料
US6239207B1 (en) Active-methylene functionalized latex polymer prepared in the presence of a hydrophilic isoprene sulfuric acid polymer, and sheet material comprising same
JPH05323488A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH10239788A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JP3508080B2 (ja) ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
JPH11140107A (ja) ラテックス組成物及び親水性コロイド層並びにシート状材料
JP3409225B2 (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JP3240537B2 (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH06266036A (ja) ハロゲン化銀写真要素、ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法
JPH11222537A (ja) ラテックス及びそれを用いたシート状材料
JPH09179230A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH05313268A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH06250315A (ja) 高感度のハロゲン化銀写真感光材料
JPH0756274A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料及びその乾燥方法
JPH04215648A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH11242301A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH06266035A (ja) ハロゲン化銀写真要素、ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法
JPH08211537A (ja) 写真感光材料
JPH10268474A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH08137039A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法
JPH06266034A (ja) ハロゲン化銀写真要素、ハロゲン化銀写真感光材料及び処理方法
JPH07230142A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
JPH07159911A (ja) Ｘ線用ハロゲン化銀写真感光材料

Legal Events

Date Code Title Description
A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20031212

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090109

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100109

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees