JP3486725B2 - 可変論理集積回路 - Google Patents

可変論理集積回路

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JP3486725B2 JP30873395A JP30873395A JP3486725B2 JP 3486725 B2 JP3486725 B2 JP 3486725B2 JP 30873395 A JP30873395 A JP 30873395A JP 30873395 A JP30873395 A JP 30873395A JP 3486725 B2 JP3486725 B2 JP 3486725B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路技
術さらには回路間の配線接続を変更可能な可変論理集積
回路に適用して有効な技術に関し、例えば利用者が任意
に論理を構成可能なプログラマブル論理LSI(大規模
集積回路)に利用して有効な技術に関する。
【0002】上記プログラマブル論理LSIは、FPG
A(Field Programmable Gate
Array)やFPLA(Field Progra
mmable Logic Array)等を含む。
【0003】
【従来の技術】従来、ユーザがプログラム可能な論理L
SIとして、例えば図29に示すようなFPGAが知ら
れている。図29のFPGAは、利用者が任意の論理機
能を選択可能な論理ブロックPLBと、左右および上下
の論理ブロック間に配置されたクロスポイントスイッチ
CPSと、斜め方向の論理ブロック間に配置されたスイ
ッチマトリックスSMXとにより構成されていた。論理
ブロックPBL内にはSRAM(Static Random Access
Memory)またはROMあるいはヒューズ等が配置さ
れ、外部からこの情報(“1”または“0”あるいは
“導通”または“非導通”)を設定することにより論理
ブロックの論理機能をプログラムすることができる。
【0004】また、論理ブロック間の配線は予めパター
ンが形成されており、配線間の接続の有り/なしをクロ
スポイントスイッチCPSやスイッチマトリックスSM
Xを介して設定する。クロスポイントスイッチCPSや
スイッチマトリックスSMX内には、論理ブロックと同
様にSRAMが配置され、外部からこの情報(“1”ま
たは“0”)を設定することにより論理ブロック間の配
線パターンをプログラムすることができる。このような
FPGAは例えば情報処理学会(InformationProcessin
g Sociaty of Japan)の学会誌「情報処理」Vol.3
5,No.6,pp505−510,1994に記載さ
れている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図29
のFPGAは、論理ブロックPLBの占有面積に比較し
て各論理ブロック間を任意に接続するためのクロスポイ
ントスイッチCPSおよびスイッチマトリックスSMX
の占有面積が大きいため、チップサイズが同一論理規模
のゲートアレイに比べて増大し、歩留まりが低下すると
いう問題点がある。
【0006】また、図29のFPGAにおいては、クロ
スポイントスイッチCPSおよびスイッチマトリックス
SMXを介して任意の論理ブロック間を接続する際に、
配線上のスイッチの数が多いため、ブロック間で伝達さ
れる信号の遅延時間が長くなり、動作速度の向上が困難
であるという問題点がある。
【0007】この発明の目的は、論理ブロックの占有面
積に比較して配線領域の占有面積が少なくチップサイズ
を低減可能な可変論理集積回路を提供することにある。
【0008】この発明の他の目的は、論理ブロック間の
接続配線上のスイッチ数を減らして信号伝搬遅延時間の
小さな可変配線接続技術を提供し、もって高速動作可能
な可変論理集積回路を実現することにある。
【0009】この発明の前記ならびにそのほかの目的と
新規な特徴については、本明細書の記述および添附図面
から明らかになるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。
【0011】すなわち、可変論理ブロックとスイッチマ
トリックスとをチェッカーフラッグ状に配置するととも
に、多層配線技術を適用して可変論理ブロック上方にブ
ロック間接続用配線領域を設けることにより、可変論理
ブロックの占有面積に対するスイッチマトリックスの占
有面積の割合を減らし、もってチップサイズの低減を図
るようにしたものである。
【0012】また、論理ブロック間接続用配線と、可変
論理ブロックとスイッチマトリックス間接続用配線を、
同層の配線で形成するとともに、可変論理ブロックおよ
びスイッチマトリックスを構成する回路内配線をブロッ
ク間接続用配線よりも下層の配線層で形成することでチ
ップサイズの低減を図るようにした。
【0013】また、可変論理集積回路を、可変論理ブロ
ックとスイッチマトリックスのみにより構成し、クロス
ポイントスイッチを省略することにより、論理ブロック
間の接続配線上のスイッチ数を減らして信号伝搬遅延時
間を低減し、もって高速動作可能な可変論理集積回路を
実現するようにした。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施例を図
面に基づいて説明する。
【0015】図1には、本発明に係る可変論理集積回路
としてのプログラマブル論理LSIのレイアウトの一実
施例が示されている。
【0016】図1において、符号SUBで示されている
のは単結晶シリコンのような1個の半導体基板(チッ
プ)、PLBは外部から論理機能を変更可能な可変論理
ブロック、SMXは外部から配線間接続状態を変更可能
な可変配線回路としてのスイッチマトリックスで、可変
論理ブロックPLBとスイッチマトリックスSMXは2
次元方向すなわちX,Y座標におけるX方向(横方向)
とY方向(縦方向)に、互い違いすなわち全体としてチ
ェッカーフラッグ模様をなすように配置されている。
【0017】そして、上記可変論理ブロックPLBおよ
びスイッチマトリックスSMXのアレイの2辺(図では
左辺および上辺)に沿って、上記可変論理ブロックPL
BおよびスイッチマトリックスSMX内に設けられてい
るメモリセル(後述)を選択してデータを書き込むため
のXデコーダ回路X−DECとYデコーダ&書込み回路
Y−DEC&WDRが設けられ、さらにこれらの回路を
囲むようにチップの周縁に沿って入出力バッファセルI
OBが配置されている。入出力バッファセルIOBはそ
のほとんどが上記可変論理ブロックおよびスイッチマト
リックスにより構成された論理回路に対する入出力信号
を扱うものであるが、一部の入出力バッファセルIOC
は上記Xデコーダ回路X−DECやYデコーダ&書込み
回路Y−DEC&WDRに対する入力信号を扱う回路と
して使用される。
【0018】本実施例の可変論理LSIにおいては、多
層配線技術を適用して可変論理ブロックPLBおよびス
イッチマトリックスSMXの上方にそれぞれ配線領域が
設けられる。上記Xデコーダ回路X−DECとYデコー
ダ&書込み回路Y−DEC&WDRから可変論理ブロッ
クPLBおよびスイッチマトリックスSMX内に設けら
れているメモリセル(後述)までの信号線(ワード線お
よびデータ線)は、可変論理ブロックおよびスイッチマ
トリックスの上方に設けられた上記配線領域を利用して
形成される。
【0019】図27に上記メモリセルへのデータ書込み
系の回路構成例を示す。特に制限されないがこのデータ
書込み系は、論理LSIの本来の動作とは別個にシステ
ムのイニシャライズ時等に動作される。このような論理
LSIの通常動作とメモリセル書込み動作とは、例えば
チップ外部からモード切替え制御端子に供給される制御
信号WMによって切り替えられる。この制御信号WMが
メモリセル書込みモードを示すとき、外部から入力され
ているアドレス信号ADRがアドレス入力バッファ回路
AIBに取り込まれ、Xデコーダ回路X−DECとYデ
コーダ回路Y−DECに供給されてデコードされる。
【0020】Xデコード回路X−DECは入力されたX
アドレス信号に応じて、Xデコーダ回路X−DECから
上記可変論理ブロックおよびスイッチマトリックスのア
レイ部PLB&SMXに向かって延設されている複数の
ワード線WLのうちの1本を選択レベルにする。Yデコ
ーダ回路Y−DECのデコード出力は書込み回路WDR
に供給され、書込み回路WDRはYデコーダ回路Y−D
ECから上記可変論理ブロックおよびスイッチマトリッ
クスのアレイ部PLB&SMXに向かって延設されてい
る複数のデータ線DLのうちの例えば1本を選択すると
ともにそのとき外部からデータ入力バッファ回路DIB
を介して入力されているデータ情報(“1”または
“0”)に応じて、選択されたデータ線DLをハイレベ
ルまたはロウレベルにする。
【0021】なお、IOBは可変論理ブロックおよびス
イッチマトリックスによって構成される本来の論理部に
対する入出力信号のバッファ回路である。この入出力バ
ッファ回路IOBと上記アドレスバッファ回路AIBお
よびデータ入力バッファ回路DIBは、図1に示されて
いる入出力バッファセルIOCによって構成される。
【0022】次に、上記可変論理ブロックPLBの具体
例を図2(A)を用いて説明する。なお、図2(A)の
可変論理ブロックは、メモリセルを8個有する3入力論
理の一例である。
【0023】図2(A)において、MC1〜MC8は各
々メモリセルであり、図2の可変論理ブロックは、これ
らのメモリセルの記憶値を共通の出力ノードn0に伝達
するため、 ピラミッド状に構築された信号伝送手段と
してのMOS(Metal Oxide Semiconductor)トランス
ファゲート対PT1〜PT4;PT5,PT6およびP
T7と、共通出力ノードn0に接続され た出力インバー
タINV4と、入力信号INcに基づいて上記MOSト
ランスファゲート対PT1〜PT4を制御する信号を形
成するインバータINV1と、入力信号INbに基づい
て上記MOSトランスファゲート対PT5,PT6を制
御する信号を形成するインバータINV2と、入力信号
INaに基づいて上記MOSトランスファゲート対PT
7を制御する信号を形成するインバータINV3とによ
り構成されている。
【0024】MOSトランスファゲート対PT1〜PT
6,インバータINV1〜INV4は、MOSFET
(MOS Field Effect Transistor)あるいはMISFE
T(Metal Insulator Semiconductor Field Effect Tra
nsistor)で構成される。図5を用いて後述するが、M
OSトランスファゲート対PT1〜PT6のそれぞれは
1対のnチャネルMOSFET Qnで構成され、イン
バータINV1〜INV4はそれぞれnチャネルMIS
FET Qn1とpチャネルMISFET Qp1とで構
成される。
【0025】この実施例の可変論理ブロックPLBは、
上記のように構成されているため、各メモリセルMC1
〜MC8へ記憶させるデータ(“1”または“0”)の
組合せに応じて、NOR論理あるいはAND論理など2
56通りの論理機能を実現することができる。
【0026】さらに、上記メモリセルMC1〜MC8
は、それぞれ例えば図2(B)に示すようにゲートがワ
ード線WLに接続されドレインがデータ線DLに接続さ
れた選択用のMOSFET Qsと、互いの入力端子と
出力端子とが結合された一対のCMOS(Complementar
y MOS)インバータからなるラッチ回路LTと、このラ
ッチ回路LTの他方の入出力ノードに接続された出力用
インバータINV0とにより構成されている。
【0027】この実施例のメモリセルを使用した場合、
上記ワード線WLをハイレベルに立ち上げてMOSFE
T Qsをオンさせてデータ線DLからデータを供給す
ることにより、所望のデータ(“1”または“0”)を
書き込んで当該可変論理ブロックの論理を一義的に設定
してやることができる。この論理の設定は、システムの
立ち上がり時に行なわれるイニシャライズ等によって行
なうようにすればよい。メモリセルとしてSRAM等の
スタティック型のものを用いた場合には、イニシャライ
ズごとに各可変論理ブロックに設定する論理を変えるこ
とにより、当該論理LSIに異なる機能を持たせること
ができるようになる。
【0028】可変論理ブロックを構成するメモリセル
は、図2(B)に示すようなスタティック型のものに限
定されず、EPROM(Erasable Programmable Read O
nly Memory)を構成するFAMOS(Floating Gate Av
alanche Injection MOSFET)、Flashメモリ等のE
EPROM(Electrically Erasable Programable Read
Only Memory)やヒューズ素子を使用するようにしても
良い。
【0029】図3には、図2(A)に示されている可変
論理ブロックPLBを構成するメモリセルMC1〜MC
8として図2(B)に示すようなスタティック型のもの
を使用した場合におけるメモリセルへのデータの書込み
のためのワード線およびデータ線を含んだより具体的な
回路の構成例を示す。特に制限されないが、8個のメモ
リセルは2列に配置され、各列に対応してワード線WL
1,WL2が配設されているとともに、これらのワード
線と直交する方向に4本のデータ線DL1〜DL4が配
設され、各データ線DL1〜DL4にはメモリセルMC
が2つずつ接続されている。以下、同一のデータ線に接
続された2つのメモリセルをペアと称する。
【0030】前述したように、LSIチップ上には複数
個の可変論理ブロックPLBおよびスイッチマトリック
スSMXがチェッカーフラッグ状に配置されており、各
ワード線WLにはワード線方向に配置されている複数の
可変論理ブロックPLBおよびスイッチマトリックスS
MX内の対応するメモリセルMCの選択用MOSFET
Qsのゲート端子が共通に接続されているとともに、
各データ線DLにはデータ線方向に配置されている複数
の可変論理ブロックPLBおよびスイッチマトリックス
SMX内の対応するメモリセルの選択用MOSFET
Qsのドレイン端子が共通に接続されている。スイッチ
マトリックスSMX内のメモリセルについては後に説明
する。
【0031】なお、各データ線DLの端には、特に制限
されないが、データ線のハイインピーダンス時すなわち
非選択時にデータ線電位がノイズによって変動してメモ
リセルに誤ったデータが書き込まれるのを防止するた
め、プルアップ用のMOSFETが接続されるとよい。
【0032】図4には、上記可変論理ブロックPLBの
レイアウトの一例の概略を、図5にはそのMOS配置の
レイアウトを、また図6にはその詳細なレイアウト(図
5に配線を加えたレイアウト)を、さらに図7には可変
論理ブロックの上方を配線領域として利用した場合にお
ける上空配線のレイアウト(図5に上空配線を加えたレ
イアウト)例を示す。図7に示されている格子状の配線
M3,M4が上空配線であり、このうち横方向の配線M
3は3層目のメタル配線層によって、また縦方向の配線
M4は4層目のメタル配線層によって構成されている。
配線M3,M4で構成される上空配線には、例えば後述
するブロック間接続用の配線U1,U2;R1,R2;
S1,S2;L1,L2、長距離用スイッチマトリック
ス間接続用配線F1,F2が形成される。
【0033】符号VDDおよびVSSが付されているの
は電源ラインである。なお、VDDには例えば電源電圧
3〜5V、VSSには例えば電源電圧よりも低い電位で
ある基準電圧0Vが印加されている。図6に示されてい
るように、上記可変論理ブロックPLBは、後述するよ
うに1層目メタル配線層M1,2層目メタル配線層M2
で結線され、回路が構成される。この実施例において
は、3つの入力信号INa,INb,INcが入力され
る端子が、可変論理ブロックPLBの上、右および下の
3箇所にそれぞれ設けられている。
【0034】一方、この実施例の可変論理ブロックPL
Bは左側に出力端子OUTを備え、この出力端子OUT
から論理結果を示す信号を出力できるように構成されて
いる。入出力端子(INa,INb,INc,OUT)
は、配線M3,M4を介して配線M1,M2で結線され
る可変論理ブロックPLBに接続される。このように実
施例の可変配線ブロックPLBは、3方向から入力され
た信号の論理結果を1方向に送出するものであるが、入
力信号が入ってくる方向および信号を出力する方向は図
6に示すものに限定されるものでない。例えば、可変論
理ブロックPLBの上下左右にそれぞれ出力端子を設け
て、4方向に論理結果を示す信号を出力できるように構
成してもよい。
【0035】なお、図6のレイアウトにおいては、ワー
ド線WL1,WL2および横方向の電源ラインVDD,
VSSは1層目のメタル配線層M1で形成され、データ
線DL1〜DL4および縦方向の電源ラインVDD,V
SSは2層目のメタル配線層M2で形成されている。さ
らに、上記入出力端子(INa,INb,INc,OU
T)に接続された配線のうち横方向の配線は3層目のメ
タル配線層M3により形成され、ハッチングが施されて
いる縦方向の配線は4層目のメタル配線層M4によって
形成されている。また、図6には、図2におけるメモリ
セルMC1からデータを読み出す場合の信号の出力経路
が、符号Doutで示されている。なお、メモリセルM
C1の出力は、後述する図8(A),(B)のMout
に対応する。
【0036】図8(B)には、上記可変論理ブロックP
LB(図6)から図2(B)の構成のメモリセルをペア
で抽出してそのレイアウト(M1とM2に対応)を示し
てある。すなわち、図5に示すように、MC1とMC2
がペアであり、MC3とMC4がペアであり、MC5と
MC6がペアであり、MC7とMC8がペアである。図
8(B)の等価回路を図8(A)に示す。図8(B)お
よび図5に示すようにペアをなすメモリセルのレイアウ
トパターンは左右対称的な形状とされている。各構成素
子のうち、符号MN0が付されているのは選択用MOS
FET Qs、MP1,MP2が付されているのはラッ
チLTを構成するPチャネルMOSFET、MN1,M
N2が付されているのはラッチLTを構成するNチャネ
ルMOSFET、MP3,MN3が付されているのは出
力用インバータINV0を構成するMOSFETであ
る。出力用インバータINVoの出力がMoutであ
る。また、ハッチングが施されているのは、MOSFE
Tのゲート電極となるポリシリコン層であり、配線M1
で構成されるワード線WL1,WL2に接続される。M
OSFETのソース、ドレイン領域は半導体基板内に形
成された拡散層によって構成される。ペアをなすメモリ
セルは、同一のデータ線DLに接続されるので、選択用
MOSFET Qs,MN0は共通の拡散層を有する。
また、MN1,MN2,MN3,MP1,MP2,MP
3も同様に共通の拡散層を有し、その拡散層に電源ライ
ンが接続される。MN1,MN2,MN3,MP1,M
P2,MP3間の接続は配線層M1,M2を介して行わ
れる。また、図6に示すように、メモリセルMC1〜M
C8、インバータINV1〜INV4間の結線は、配線
層M1,M2を介して行われ、可変論理ブロックが構成
される。さらに、図5に示すように、NチャネルMOS
FETはPwell(Pウェル)、NチャネルMOSF
ETはNwell(Nウェル)に形成される。
【0037】次に図9〜図13を用いて、スイッチマト
リックスSMXの一実施例について説明する。図9はス
イッチマトリックスSMXの一実施例を示す概念図であ
る。この実施例のスイッチマトリックスSMXは、一端
が隣接する可変論理ブロックPLBの入出力端子に接続
される入出力用配線US,RS,SS,LSが各辺から
内部に向かって延設されているとともに、図の縦方向と
横方向に沿ってスイッチマトリックスを隔てた論理ブロ
ック間接続用の配線U1,U2;R1,R2;S1,S
2;L1,L2がそれぞれ2本ずつ内部に向かって延設
されている。入出力用配線US,RS,SS,LSは、
スイッチマトリックスSMXと可変論理ブロックPLB
との間を接続する可変論理ブロック−スイッチマトリッ
クス間接続用配線を構成する。
【0038】上記論理ブロック間接続用配線のうち、U
1,R1,S1,L1の交点およびU2,R2,S2,
L2の交点にはそれらの配線間を選択的に接続可能なパ
ススイッチPS1,PS2が設けられている。図10に
示すように、パススイッチPS1によりU1,R1,S
1,L1の任意の2点間の接続(破線)を選択すること
ができる。この接続は、後述するように、パススイッチ
PS1内のメモリセルの情報を“1”または“0”に設
定することによって接続,非接続を選択することで行わ
れる。図11に示すように、パススイッチPS2により
U2,R2,S2,L2の任意の2点間の接続(破線)
を選択することができる。
【0039】図9および図12に示すように、上記入出
力用配線USと論理ブロック間接続用の配線R2,R1
との交点にはパススイッチPS11,PS12がそれぞ
れ設けられ、入出力用配線SSと論理ブロック間接続用
の配線R2,R1との交点にはパススイッチPS13,
PS14がそれぞれ設けられる。入出力用配線USと論
理ブロック間接続用の配線L2,L1との交点にはパス
スイッチPS15,PS16がそれぞれ設けられ、入出
力用配線SSと論理ブロック間接続用の配線L2,L1
との交点にはパススイッチPS17,PS18がそれぞ
れ設けられる。また入出力用配線RSと論理ブロック間
接続用の配線S2,S1;U2,U1との交点にはパス
スイッチPS21,PS22,PS23,PS24がそ
れぞれ設けられ、入出力用配線LSと論理ブロック間接
続用の配線S2,S1;U1,U2との交点にはパスス
イッチPS25,PS26,PS27,PS28がそれ
ぞれ設けられている。なお、図9に示されている各配線
は実際の配線形状を示すものでなく、パススイッチを設
ける配線同士を分かりやすくするため抽象的に表したも
のである。図13に上記パススイッチPSによって選択
的に接続可能なパスを破線で示す。
【0040】上記各パススイッチPSは、それぞれ1方
向にのみ接続可能なものと、6方向に接続可能なものと
がある。図14にはそのうち代表的なパススイッチPS
の具体的構成例が示されている。図14(A)に示され
ているのは論理ブロック間接続用配線の交点に設けられ
ている6方向に接続可能なパススイッチの構成例であ
り、直交する4つの信号線間に接続された6つのスイッ
チMOSFETSW1〜SW6とそれらのゲートに接続
された6つのメモリセルMC11〜MC16とによって
構成されている。図9のパススイッチのうちPS1とP
S2がこれに相当する。残りのパススイッチは2方向に
のみ接続可能なパススイッチであり、図14(B)に示
されているように、直交する2つの信号線間に接続され
たスイッチMOSFET SWとそのゲートに接続され
たメモリセルMCとによって構成されている。図9と対
応させると明らかなように、この実施例のスイッチマト
リックスSMXは、28個のスイッチMOSFET S
W1〜SW6,SWと28個のメモリセルMCを備えて
いる。なお、後に図19〜図24を用いて説明するよう
に、各スイッチMOSFETSW1〜SW6,SWはn
チャネルMOSFETMN3で構成される。
【0041】上記メモリセルMC11〜MC16は、前
記可変論理ブロックPLBで用いられているメモリセル
(図3参照)とほぼ同一の構成のもの(図14(C)参
照)であり、異なるのは出力用インバータINV0を有
していない点のみである。
【0042】この実施例のスイッチマトリックスSMX
は、接続配線の各交点に設けられているパススイッチP
S内のメモリセルMC11〜MC16のいずれかデータ
を書き込むと、データの書き込まれたメモリセルに対応
したスイッチMOSFETがオン状態にされることによ
って、それぞれ許容された方向(複数方向も可能)に信
号を伝達できるように構成されている。
【0043】図15には、可変論理ブロックPLBおよ
びスイッチマトリックスSMXがチェッカーフラッグ状
に配置されたアレイの一部を拡大した図1(B)に相当
する部分の構成を示す。図16は、図15における可変
論理ブロックPLBの入出力端子(INa,INb,I
Nc,INd)とスイッチマトリックスSMXとの接続
関係を示す図である。図13に示すようにパススイッチ
PSによって配線US,RS,SS,LS,U1,U
2,S1,S2,R1,R2,L1,L2間が接続可能
である。図15,図16に示すように、基本的には、ス
イッチマトリックスSMXの論理ブロック間接続用配線
U1,U2;R1,R2;S1,S2;L1,L2は可
変論理ブロックPLBを挟んで他のスイッチマトリック
スSMXの論理ブロック間接続用の配線U1,U2;R
1,R2;S1,S2;L1,L2と連続するように構
成される。このような構成において、例えば可変論理ブ
ロックPLB2とPLB4とを接続したい場合には、ス
イッチマトリックスSMX2内のパススイッチPS22
とスイッチマトリックスSMX4内のパススイッチ27
がオン状態になるように対応するメモリセルにデータ
(“1”または“0”)を書き込む。これによって、可
変論理ブロックPLB2から出力された信号を、2つの
パススイッチを介するだけで可変論理ブロックPLB4
に入力させることができる。
【0044】さらに、図17および図18に示すよう
に、入出力用配線US,RS,SS,LS同士の各交点
にもパススイッチPS31,PS32,PS33,PS
34を設け、これを図15,図16に示す隣接する論理
ブロック間の接続用に利用するように構成しても良い。
このようなパススイッチPS31,PS32,PS3
3,PS34を設けることにより、斜め方向に隣接する
論理ブロック間を1つのパススイッチPS31,PS3
2,PS33,PS34のみで接続することが可能とな
る。なお、図18に、図17に示すパススイッチPSに
よって選択的に接続可能なパスを破線で示す。図18に
おいて、パススイッチPS31,PS32,PS33,
PS34によるパス(破線)以外は図13と同じであ
る。
【0045】図21には、図9,図14に示すスイッチ
マトリックスSMXのレイアウト(2層目のメタル配線
層まで)の一例を、図19にはその回路位置のレイアウ
トを、図20にはMOS配置のレイアウトを示す。また
図22には図21に3層目および4層目からなる入出力
用配線US,RS,SS,LSおよび論理ブロック間接
続用配線U1,U2;R1,R2;S1,S2;L1,
L2を付加したレイアウトを、さらに図23にはスイッ
チマトリックスSMXの上空配線を付加したレイアウト
の例を示す。
【0046】図21のレイアウトにおいては、ワード線
WL1,WL2,WL3,WL4および横方向の電源ラ
インVDD,VSSは1層目のメタル配線層M1で形成
され、データ線DL1〜DL7および縦方向の電源ライ
ンVDD,VSSは2層目のメタル配線層M2で形成さ
れている。
【0047】この実施例においては、図16,図22に
示すように、パススイッチに接続される図9の配線R
2,RS,R1,L2,L1,LSは3層目のメタル配
線層M3によって、また縦方向の配線U1,US,U
2,S1,SS,S2は4層目のメタル配線層M4によ
って構成されている。そしてこれらの配線は、図21に
示されているように、スイッチマトリックスの中央に形
成されている1層目(横方向)のメタル配線層M1およ
び2層目(縦方向)のメタル配線層M2からなる内部接
続線S2〜S1によって、図24を用いて後述するパス
スイッチとなるMOSFET MN3の拡散層に結合さ
れるようになっている。
【0048】すなわち、図9,図14に示すパススイッ
チPSは、配線M1,M2により結線され、配線M3で
構成されるR2,RS,R1,L2,LS,L1および
配線M4で構成されるU1,US,U2,S1,SS,
S2は、配線M2,M1を介して、図24を用いて後述
するパススイッチとなるMOSFET MN3の拡散層
に接続される。一方、図2,図6に示されているよう
に、入出力配線LS,US,SSは、可変論理ブロック
PLBにおいてインバータINV1〜INV3を構成す
るMOSFET Qn1,Qp1のゲート電極Gに電気的
に接続されるとともに、入出力配線RSは、可変論理ブ
ロックPLBにおいてインバータINV4を構成するM
OSFET Qn1,Qp1のソースドレイン領域である
拡散層に接続される。
【0049】また、スイッチマトリックスSMXの上方
を通過する上空配線は、図23に示すように、格子状に
形成されており、このうち横方向の配線M3は3層目の
メタル配線層M3によって、また縦方向の配線M4は4
層目のメタル配線層M4によって構成されている。配線
層M3,M4で構成される上空配線には、後述する長距
離用スイッチマトリックス間接続用配線F1,F2が形
成される。
【0050】前述したように、この実施例のスイッチマ
トリックスSMXは、28個のスイッチMOSFET
SW,SW1〜SW6と28個のメモリセルMCを備え
ており、図19〜図21に示すように、28個のうち半
数の14個は上部にまた残りの14個は下部に配置され
ている。しかも、14個のメモリセルMCは図3に示さ
れているのと同様に、そのうち半数がワード線WL1に
また残りがワード線WL2に接続されている。さらに、
ワード線WL1に接続されているメモリセルとWL2に
接続されているメモリセルとが共通のデータ線DL〜D
L7のいずれかに接続されてペアをなしている。
【0051】図24(B)には、ペアをなす28個のメ
モリセルMCのうち1つのペアとそれによってオン、オ
フ制御される2つのスイッチMOSFET SW,SW
1〜SW6を抽出してそのレイアウトを示してある。図
24(A)は図24(B)に対応する1つのメモリセル
と1つのスイッチMOSFET SW,SW1〜SW6
を示す等価回路である。図24(A)に示すようにペア
をなすメモリセルのレイアウトパターンは左右対称的な
形状とされている。図24(A),(B)に示すように
各構成素子のうち、符号MN0が付されているのは選択
用NチャネルMOSFET Qs、MP1,MP2が付
されているのはラッチLTを構成するPチャネルMOS
FET、MN1,MN2が付されているのはラッチLT
を構成するNチャネルMOSFET、MN3が付されて
いるのはパススイッチSW,SW1〜SW6としてのM
OSFETである。また、ハッチングが施されているの
は、MOSFETのゲート電極Gとなるポリシリコン層
である。符号VDDおよびVSSが付されているのは電
源ラインである。
【0052】MOSFET Qs,MP1,MP2,M
N1,MN2とワード線WL、データ線DL間は、配線
M1,M2により結線されてメモリセルMCが構成さ
れ、メモリセルMC,スイッチMOSFET MN3間
は配線M1,M2により結線されてスイッチマトリック
スが構成される。図28に本発明の実施例の要部の断面
図を示す。図28中左側はスイッチマトリックスSMX
形成領域、右側は可変論理ブロックPLB形成領域を示
す。同図は、一例としてパススイッチPS21のMOS
FET SWを示している。スイッチMOSFET S
Wのソース・ドレイン領域は拡散層10,12で形成さ
れ、拡散層10は配線層M3で形成される入出力用配線
RSに電気的に接続され、拡散層12は配線層M4で形
成される可変論理ブロック間接続用配線S2に電気的に
接続される。入出力用配線RSは、インバータINV4
のMOSFET Qn1の拡散層20に接続される。拡
散層20,22は、MOSFET Qn1のソース・ド
レイン領域を形成する。符号30,32,34,36,
38は層間絶縁膜であり、例えば酸化シリコン膜で形成
される。配線M1,M2,M3,M4は、例えばアルミ
ニウム合金膜あるいはタングステン膜またはTiN膜と
の積層膜で構成される。
【0053】この実施例を適用した場合、上記ワード線
をハイレベルに立ち上げてMOSFET Qsをオンさ
せて対応するデータ線からデータを供給することによ
り、所望のデータをメモリセル(ラッチ)に書き込んで
配線間の信号伝送方向を一義的に設定してやることがで
きる。この信号伝送方向の設定は、システムの立ち上が
り時に行なわれるイニシャライズ等によって行なうよう
にすればよい。メモリセルとしてスタティック型のもの
を用いた場合には、イニシャライズごとに各スイッチマ
トリックスにおける信号伝送方向の設定を変えることに
より、当該論理LSIに異なる機能を持たせることがで
きるようになる。パススイッチをオン状態にするかオフ
状態にするか設定するためのデータを記憶するメモリセ
ルは、実施例のようなスタティック型のもの(SRA
M)に限定されず、EPROMを構成するFAMOS、
フラッシュメモリ等のEEPROMやヒューズ素子を使
用して構成するようにしても良い。
【0054】次に、長距離配線用スイッチマトリックス
と、それを用いた長距離接続方法について説明する。
【0055】本実施例において長距離配線用スイッチマ
トリックスとは、半導体チップ上において比較的離れた
位置にある論理ブロック間を接続するために設けられて
いるスイッチマトリックスであって、その構成としては
前述した隣接論理ブロック間接続用のスイッチマトリッ
クス(図9)と同一としても良いし、あるいは図9に示
されているパススイッチ以外に長距離接続用パススイッ
チを付加した構成としても良い。また、図9に示されて
いる構成のスイッチマトリックスを長距離用とし、図1
7に示されている構成のスイッチマトリックスを隣接も
しくは近距離用として用いるようにしても良い。なお、
比較的離れた位置とは、縦または横方向に2つ以上のス
イッチマトリックスSMXを介して可変論理ブロック間
を接続する場合を含むものである。
【0056】ここでは、一例として、図9に示されてい
る構成のスイッチマトリックスを長距離用および短距離
用として用いて論理LSIを構成する場合を例にとって
図25を用いて説明する。図25において、マトリック
スパターンを構成する一つ一つの四角形はスイッチマト
リックスまたは可変論理ブロックを表しており、前述し
たように、可変論理ブロックとスイッチマトリックスは
互いにチェッカーフラッグ状に配置されている。
【0057】しかも、この実施例においては、図25の
ハッチングを施してある位置に配置されている可変論理
ブロックを長距離用スイッチマトリックスSMXfに置
き換えるようにしている。長距離用スイッチマトリック
スSMXfに関しては、長距離用スイッチマトリックス
同士が、可変論理ブロックおよび近距離用スイッチマト
リックスの上方に形成された3層目および4層目のメタ
ル配線層M3,M4からなる長距離用スイッチマトリッ
クス間接続用配線F1,F2(上空配線)によって互い
に接続される。これによって、長距離用スイッチマトリ
ックスSMXf間にはパススイッチが存在しないことに
なり、パススイッチを経由することによる信号の遅延を
減らすことができる。なお、配線F1は3層目メタル配
線層M3で構成され、配線F2は4層目メタル配線層M
4で構成される。
【0058】一方、近距離用スイッチマトリックスSM
Xは、図15に示されているように可変論理ブロックを
1つだけ隔てたもの同士が、可変論理ブロックの上方に
形成された3層目および4層目のメタル配線層からなる
上空配線U1,U2,S1,S2,R1,R2,L1,
L2,LS,US,RS,SSによって互いに接続され
る。そして、上記長距離用スイッチマトリックスSMX
fとこれに隣接する近距離用スイッチマトリックスSM
Xとは、例えばそれぞれの入出力用配線US,RS,S
S,LS同士が接続される。具体的には、長距離用スイ
ッチマトリックスSMXfの入出力用配線USはこれに
隣接する近距離用スイッチマトリックスSMXの入出力
用配線SSに接続され、RSはLSに、SSはUSに、
LSはRSにそれぞれ接続される。このように接続がな
された長距離用スイッチマトリックスSMXf内のパス
スイッチのうち適当なものをオン状態に設定してやるこ
とによって、短距離接続用配線から長距離接続用配線へ
の乗り換えが可能となる。
【0059】ここで一例として、図25に符号Aが付さ
れている可変論理ブロックと符号Bが付されている可変
論理ブロックとを長距離用スイッチマトリックスSMX
fを利用して接続する場合について説明する。先ず、接
続しようとする可変論理ブロックAを、これと長距離用
スイッチマトリックスSMXfとに隣接している短距離
用スイッチマトリックスSMXnに接続する。次に、可
変論理ブロックAが接続された短距離用スイッチマトリ
ックスSMXnと長距離用スイッチマトリックスSMX
fとを接続する。同様に可変論理ブロックBについて
も、一旦隣接している近距離用スイッチマトリックスS
MXnに接続し、その近距離用スイッチマトリックスを
それに最も近い位置にある長距離用スイッチマトリック
スSMXfに接続してから、長距離用スイッチマトリッ
クスSMXf同士を接続することによって、可変論理ブ
ロックAとBとを接続する。
【0060】なお、上記実施例では、可変論理ブロック
の幾つかを長距離用スイッチマトリックスに置き換える
ような形で配置した場合を説明したが、長距離用スイッ
チマトリックスに関しては近距離用スイッチマトリック
スの幾つかを長距離用スイッチマトリックスに置き換え
るような形で配置してもよい。図26にはそのような置
き替えを行なった場合の長距離接続の例が示されてい
る。
【0061】この実施例においては、図26のハッチン
グを施してあるブロック位置に配置されているスイッチ
マトリックスSMXfを長距離用として用いるものであ
る。スイッチマトリックスのうちハッチングが施されて
いないものは近距離用のスイッチマトリックスであり、
それらは図15に示されているように可変論理ブロック
を1つだけ隔てたもの同士が、可変論理ブロックの上方
に形成された3層目および4層目のメタル配線層M3,
M4からなる上空配線U1,U2,S1,S2,R1,
R2,L1,L2,LS,US,RS,SSによって互
いに接続される。
【0062】また、長距離用スイッチマトリックスSM
Xfに関しては、長距離用スイッチマトリックス同士
が、可変論理ブロックおよび近距離用スイッチマトリッ
クスの上方に形成された3層目および4層目のメタル配
線層M3,M4からなる上空配線F1,F2によって互
いに接続される。これによって、長距離用スイッチマト
リックス間にはパススイッチが存在しないことになり、
パススイッチを経由することによる信号の遅延を減らす
ことができる。
【0063】一例として、図26に符号Aが付されてい
る可変論理ブロックと符号Bが付されている可変論理ブ
ロックとを長距離用スイッチマトリックスSMXfを利
用して接続する場合について説明する。接続しようとす
る可変論理ブロックがAのように長距離用スイッチマト
リックスSMXfに隣接している場合には可変論理ブロ
ックAを長距離用スイッチマトリックスSMXfに直接
接続する。一方、接続しようとする可変論理ブロックが
Bのように長距離用スイッチマトリックスSMXfと離
れている場合には、一旦可変論理ブロックBを隣接して
いる近距離用スイッチマトリックスSMXnに接続し、
その近距離用スイッチマトリックスをそれに最も近い位
置にある長距離用スイッチマトリックスに接続してか
ら、長距離用スイッチマトリックス同士を接続すること
によって、可変論理ブロックAとBとを接続する。
【0064】以上説明したように、上記実施例は、可変
論理ブロックPLBとスイッチマトリックスSMXとを
チェッカーフラッグ状に配置するとともに、多層配線技
術を適用して可変論理ブロック上方にブロック間接続用
配線領域を設けるようにしたので、論理ブロックの占有
面積に対するスイッチマトリックスの占有面積の割合を
減らし、チップサイズの低減を図ることができるという
効果がある。
【0065】すなわち、図29に示されている従来のF
PGAのように、論理部が可変論理ブロックとスイッチ
マトリックスとクロスポイントスイッチとからなる場合
には、可変論理ブロックの一辺の長さがLLで、スイッ
チマトリックスの一辺の長さがLSであるとすると、1
つの論理ブロック当たりの面積は、(LL+LS)×
(LL+LS)で表される。一方、本願発明の論理LS
Iにおける1つの論理ブロック当たりの面積は、2×M
ax(LL,LS)2で表される。ここでMax( L
L,LS)2はLLまたはLSのうち長い方の2乗を意
味する。仮に、LL= LSであるとすると、従来のF
PGAにおける1論理ブロック当たりの面積は4×LL
2であり、本願発明の論理LSIにおける1論理ブロッ
ク当たりの面積は 2×LL2となるので、従来のFPG
Aに比べて論理部の面積が約1/2に低減 されること
が分かる。また、論理ブロック間配線U1,U2,S
1,S2,R1,R2,L1,L2と、入出力用配線L
S,US,RS,SSとを配線層M3,M4からなる上
空配線で構成し、可変論理ブロックPLBおよびスイッ
チマトリックスSMXを上空配線よりも下層の配線層M
1,M2で結線することによりチップサイズを低減する
ことができる。
【0066】また、上記実施例においては可変論理集積
回路を、可変論理ブロックとスイッチマトリックスSM
Xのみにより構成したので、クロスポイントスイッチを
省略することにより、論理ブロック間の接続配線上のス
イッチ数を減らして信号伝搬遅延時間を低減することが
でき、これによって高速動作可能な可変論理集積回路を
実現することができるという効果がある。
【0067】さらに、上記実施例で説明したように、ス
イッチマトリックスを構成するメモリセルと可変論理ブ
ロックを構成するメモリセルとに同一タイプのメモリセ
ルを使用すれば、スイッチマトリックスと可変論理ブロ
ックとに類似性を持たせることができるため、レイアウ
トパターンを設計する際に一方の設計データを他方の設
計に利用することができ、レイアウト設計が容易になる
という効果がある。
【0068】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば可変
論理ブロックは図2のような回路構成に限定されるもの
でなく論理が可変であればどのような回路形式であって
もよい。また、上記実施例を4層のメタル配線層で説明
したが、これに限らず、5層以上の多層配線構造であっ
ても良い。さらに、多層配線構造はメタル配線層のみに
限らず、メタル以外の材料で構成しても良い。
【0069】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。
【0070】すなわち、論理ブロックの占有面積に対す
るスイッチマトリックスの占有面積の割合を減らし、チ
ップサイズの低減を図ることができる。
【0071】また、論理ブロック間の接続配線上のスイ
ッチ数を減らして信号伝搬遅延時間を低減することがで
き、これによって高速動作可能な可変論理集積回路を実
現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプログラマブル論理LSIの一例
を示すブロック図である。
【図2】図2(A)は可変論理ブロックの一実施例を示
す回路図、図2(B)は可変論理ブロックを構成するメ
モリセルの一例を示す回路図である。
【図3】可変論理ブロックを構成するメモリセルへの信
号結線例を示す構成図である。
【図4】可変論理ブロックの回路位置のレイアウト例を
示す概略配置図である。
【図5】可変論理ブロックの素子配置のレイアウト例を
示す概略配置図である。
【図6】可変論理ブロックのレイアウトの一例を示す平
面図である。
【図7】可変論理ブロックの上空配線を含めたレイアウ
トの一例を示す平面図である。
【図8】可変論理ブロックを構成するメモリセルのレイ
アウトの一例を示す平面図である。
【図9】プログラマブル論理LSIを構成するスイッチ
マトリックスの一実施例を示す回路構成図である。
【図10】図9のスイッチマトリックスにおける接続例
を示す回路構成図である。
【図11】図9のスイッチマトリックスにおける接続例
を示す回路構成図である。
【図12】図9のスイッチマトリックスにおける接続例
を示す回路構成図である。
【図13】図9のスイッチマトリックスにおける接続例
を示す回路構成図である。
【図14】図9のスイッチマトリックスを構成するパス
スイッチの一例を示す回路図である。
【図15】スイッチマトリックスおよび可変論理ブロッ
クの接続の仕方を示す回路図である。
【図16】スイッチマトリックスの入出力端子と可変論
理ブロックの入出力端子との接続関係を示す回路図であ
る。
【図17】スイッチマトリックスの他の構成例を示す回
路図である。
【図18】図17のスイッチマトリックスにおける接続
例を示す回路構成図である。
【図19】図17のスイッチマトリックスの回路位置の
レイアウト例を示す概略配置図である。
【図20】図17のスイッチマトリックスの素子配置の
レイアウト例を示す概略配置図である。
【図21】スイッチマトリックスの具体的なレイアウト
(2層目のメタル配線層まで)の一例を示す平面図であ
る。
【図22】スイッチマトリックスの入出力信号線を含ん
だレイアウトの一例を示す平面図である。
【図23】スイッチマトリックスの上空配線を含んだレ
イアウトの一例を示す平面図である。
【図24】スイッチマトリックスを構成するメモリセル
のレイアウトの一例を示す平面図である。
【図25】本発明を適用したプログラマブル論理LSI
における長距離配線接続仕方を示す概念図である。
【図26】長距離配線接続仕方の他の例を示す概念図で
ある。
【図27】可変論理ブロックおよびスイッチマトリック
スを構成するメモリセルへのデータ書込み回路の一例を
示す回路図である。
【図28】スイッチマトリックス形成領域および可変論
理ブロック形成領域の具体的な構造の一例を示す断面図
である。
【図29】従来のプログラマブル論理LSIの一例を示
すブロック図である。
【符号の説明】
SUB 半導体チップ PLB 可変論理ブロック SMX スイッチマトリックス IOC 入出力バッファセル MC1〜MC8 メモリセル WL ワード線 DL データ線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/62 H01L 21/822 H01L 27/04 G06F 17/50 H03K 19/173

Claims (18)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 論理機能を変更可能に構成された複数の
    可変論理ブロックと、配線接続を変更可能に構成された
    複数の可変配線回路とが、半導体基板上に形成され、 前記複数の可変論理ブロックと前記複数の可変配線回路
    は第1方向及び前記第1方向に直交する第2方向に配置
    され、 前記可変論理ブロックと前記可変配線回路は、下層配線
    層で回路素子間が結線され、 前記下層配線層の上層に上層配線層が形成され、 前記上層配線層は、前記第1方向に延在する第1配線と
    前記第2方向に延在する第2配線とを有し、 前記第2配線は前記第1配線と異なる配線層で形成さ
    れ、 前記上層配線層は、前記可変論理ブロック及び前記可変
    配線回路上を延在するように形成され、 前記可変配線回路は前記可変論理ブロックと前記上層配
    線層とに電気的に接続され、 前記可変論理ブロック間の接続は、前記上層配線層と前
    記可変配線回路とにより行われる可変論理集積回路。
  2. 【請求項2】 請求項1において、 前記上層配線層は、離れた位置にある可変論理ブロック
    間の接続を行うための長距離接続用配線を有する可変論
    理集積回路。
  3. 【請求項3】 請求項1において、 前記可変論理ブロックは、複数個のメモリセルと、該メ
    モリセルに記憶されたデータを入力信号に応じて選択的
    に出力端子に伝達する信号伝達手段とを有する可変論理
    集積回路。
  4. 【請求項4】 請求項3において、 前記上層配線層は、前記メモリセルを選択したりデータ
    を書き込むための信号を供給するための配線を有する可
    変論理集積回路。
  5. 【請求項5】 請求項1において、 前記可変配線回路は、メモリセルと、該メモリセルに記
    憶されたデータに応じて任意の信号線間に設けられたス
    イッチ手段を選択的にオンさせて信号を伝達可能にする
    複数のパススイッチとを有する可変論理集積回路。
  6. 【請求項6】 請求項5において、前記上層配線層は、
    前記メモリセルを選択したりデータを書き込むための信
    号を供給するための配線を有する可変論理集積回路。
  7. 【請求項7】 請求項5において、 前記信号線は、隣接する可変論理ブロックとの間で信号
    を入出力するための信号、又は他の可変配線回路と接続
    するための信号を伝達する可変論理集積回路。
  8. 【請求項8】 請求項1において、 前記可変論理ブロック及び可変配線回路は、同一の構成
    のメモリセルを有する可変論理集積回路。
  9. 【請求項9】 請求項1において、 前記可変配線回路として、隣接する可変論理ブロック間
    を接続する短距離接続用可変配線回路と、離れた位置に
    ある可変論理ブロック間を接続する長距離接続用可変配
    線回路とが設けられる可変論理集積回路。
  10. 【請求項10】 請求項9において、 前記長距離接続用可変配線回路は、可変論理ブロックが
    配置されるべき領域に設けられる可変論理集積回路。
  11. 【請求項11】 請求項1において、 前記可変配線回路内のメモリセル及び可変論理ブロック
    内のメモリセルにデータ書込みを行うためのデータ書
    込み回路を有し、 該データ書込み回路の動作の有効または無効にするため
    の制御信号を入力可能な制御端子が設けられる可変論理
    集積回路。
  12. 【請求項12】 請求項1において、 前記下層配線層は、第3配線と、前記第3配線と異なる
    配線層で形成された第4配線とを有する可変論理集積回
    路。
  13. 【請求項13】 論理機能を変更可能に構成された複数
    の可変論理ブロックと、配線接続を変更可能に構成され
    た複数の可変配線回路とを有する可変論理集積回路であ
    って、 前記可変論理ブロックと前記可変配線回路は、下層配線
    層で回路素子間が結線され、 前記下層配線層の上層に上層配線層が形成され、 前記上層配線層は、第1方向に延在する第1配線と、前
    記第1方向に直交する第2方向に延在する第2配線とを
    有し、 前記第2配線は前記第1配線と異なる配線層で形成さ
    れ、 前記上層配線層は、前記可変論理ブロック及び前記可変
    配線回路上を延在するように形成され、 前記可変配線回路は前記可変論理ブロックと前記上層配
    線層とに電気的に接続され、 前記可変論理ブロック間の接続は、前記上層配線層と前
    記可変配線回路とにより行われ、 前記上層配線層は、離れた位置にある可変論理ブロック
    間を接続する長距離接続用配線と、隣接する可変論理ブ
    ロック間を接続する短距離接続用配線とを有する可変論
    理集積回路。
  14. 【請求項14】 請求項13において、 前記第1配線と第2配線の夫々は、長距離接続用配線と
    短距離接続用配線とを有する可変論理集積回路。
  15. 【請求項15】 請求項14において、 前記下層配線層は、第3配線と、前記第3配線と異なる
    配線層で形成された第4配線とを有する可変論理集積回
    路。
  16. 【請求項16】 論理機能を変更可能に構成された複数
    の可変論理手段と、配線接続を変更可能に構成された複
    数の可変配線手段とを有する可変論理集積回路であっ
    て、 前記可変論理手段と前記可変配線手段は、下層配線層で
    回路素子間が結線され、 前記下層配線層の上層に上層配線層が形成され、 前記上層配線層は、第1方向に延在する第1配線と、前
    記第1方向に直交する第2方向に延在する第2配線とを
    有し、 前記第2配線は前記第1配線と異なる配線層で形成さ
    れ、 前記上層配線層は、前記可変論理手段及び前記可変配線
    手段上を延在するように形成され、 前記上層配線層は、離れた位置にある可変論理手段間を
    接続する長距離接続用配線と、隣接する可変論理手段間
    を接続する短距離接続用配線とを有する可変論理集積回
    路。
  17. 【請求項17】 請求項15において、 前記第1配線と第2配線の夫々は、長距離接続用配線と
    短距離接続用配線とを有する可変論理集積回路。
  18. 【請求項18】 請求項16において、 前記下層配線層は、第3配線と、前記第3配線と異なる
    配線層で形成された第4配線とを有する可変論理集積回
    路。
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