JP3482409B1 - 減湿装置及び減湿方法 - Google Patents

減湿装置及び減湿方法

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JP3482409B1 JP2002157761A JP2002157761A JP3482409B1 JP 3482409 B1 JP3482409 B1 JP 3482409B1 JP 2002157761 A JP2002157761 A JP 2002157761A JP 2002157761 A JP2002157761 A JP 2002157761A JP 3482409 B1 JP3482409 B1 JP 3482409B1
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Abstract

【要約】 【課題】 高沸点有機化合物を含む有機物の除去が可能
で、低露点の清浄乾燥気体が得られるとともに、300
℃を越えるような高温の気体に対しても十分耐え得る耐
熱性を有しており、高性能で長寿命の減湿装置、並びに
前記減湿装置を用いた減湿方法を提供する。 【解決手段】 目的空間に、低露点で有機物を除去した
気体を供給するための減湿装置であって、保持ケースに
回転可能に支持され、吸着剤を担持して構成されるとと
もに、該保持ケースに取り付けられた仕切り板により回
転域を少なくとも吸着ゾーン及び再生ゾーンに画成され
たロータと、処理される気体を前記吸着ゾーンに供給す
る経路と、前記吸着ゾーンで処理された気体を前記目的
空間に供給する経路と、前記再生ゾーンに再生用気体を
供給する経路とを備え、前記吸着ゾーンの吸着剤に吸着
された水分及び有機物を前記再生ゾーンで脱離させるこ
とを特徴とする減湿装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、処理気体をガス吸
着素子に通過させて該処理気体を浄化するとともに水分
を除去し、低露点の清浄乾燥気体を生成する減湿装置、
並びに前記減湿装置を用いた減湿方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体デバイスの製造プロセスでは、集
積度の高まりとともに、ガス状の不純物を含まず、乾燥
し、かつ露点温度が−50℃以下の気体を使用すること
が要求されてきている。このような低露点の清浄乾燥気
体を得るための装置として、吸着剤を備える回転式のロ
ータを用いた乾式減湿装置が広く使用されている。
【0003】例えば、特公昭63−50047号公報に
は、低露点の乾燥空気を得るための乾式除湿装置が示さ
れている。この装置は活性炭とセラミックを主成分とし
た特殊紙を片段ボール状に加工し、回転軸に平行な方向
に揃えて巻回した多数の平行なガス通路を有する円柱状
もしくは円筒状の構造を持つハニカムロータを、回転軸
の周りに被処理ガス通路と再生ガス通路とパージガス通
路とに領域を分割し、ハニカムロータを回転させつつ被
処理ガスを通過させることで湿分を吸収、さらに吸収し
た湿分を再生ガスにより除去するものである。この装置
では、湿分吸収させるため、活性炭の細孔内に塩化リチ
ウムを固定させた吸着剤を使用している。
【0004】また、特開平11−188224号公報に
は、同じく低露点の乾燥空気を得るための乾式減湿シス
テムが示されており、このシステムの場合には吸着剤と
して塩化リチウム、シリカゲル、ゼオライトなどが例と
して示されている。
【0005】これらの乾式減湿装置に使用されるロータ
を次に説明する。ロータはそのロータを回転可能に保持
するケースに入れられている。このロータとケースにつ
いて特開2001−276552号公報に開示された記
載を一つの例として説明する。即ち、図11(装置全
体)及び図12(ロータのみ)に示すように、乾式減湿
装置100は、放射状に設けられた仕切り板111を備
える保持ケース110にロータ101を回転可能に収容
し、回転とともに仕切り板111によりロータ101を
一時的に吸着ゾーンS、冷却ゾーンT及び再生ゾーンU
に画成するとともに、吸着ゾーンSに処理空気を一方の
端面側(例えば、紙面側)から導入する構成となってい
る。
【0006】ロータ101は、ハニカム構造の基材10
4に吸着剤を担持させた略円弧状のセクタ102を複数
個(ここでは8個)接合して全体として円筒状に一体化
したものであり、金属製スポーク103で補強し、さら
には一体化した全外周面を包囲するように金属製の外周
リム107が付設された構造となっている。また、図1
3に拡大して示すように、各セクタ102と金属スポー
ク103、並びに外周リム107は、耐熱性のシリコー
ン製のコーキング材120により接合あるいは接着され
ている。
【0007】吸着ゾーンSでは、処理空気中の水分をロ
ータ101に担持させた吸着剤に吸着させ、他方の端面
(紙面裏面側)から清浄乾燥気体として排出する。一
方、再生ゾーンUでは、清浄乾燥気体が排出される側の
端面側から、180〜200℃程度に加熱された高温空
気を導入し、ロータ101の内部を通過させることによ
り、吸着ゾーンSで吸着した水分を蒸発させて除去す
る。また、再生ゾーンUではロータ101が高温に晒さ
れるため、高温のまま吸着ゾーンSに移行すると、処理
空気が減湿されないままロータ101を通過して露点を
上昇させる。そのため、吸着ゾーンSと再生ゾーンUと
の間に、冷却ゾーンTが設けられている。
【0008】また、吸着ゾーンSや再生ゾーンU、冷却
ゾーンTを仕切る仕切り板111には、例えばフッ素系
ゴムにPTFE膜を張りつけたシール等をロータ101
の端面に摺動可能に押圧するように設けて処理空気の漏
洩及び混合を防止する工夫が施されているものもある。
【0009】上記のような減湿装置100では、一段、
即ち単独では露点温度を下げるのには限界があり、通常
は特公昭63−50047号公報に示されるように2段
式、即ち減湿装置を2台用い、一方の減湿装置の吸着ゾ
ーンから排出された処理空気を他方の減湿装置の吸着ゾ
ーンに導入するように接続した減湿装置として使用され
ている。また、より露点温度を下げるために、特開平1
1−188224号公報に示されるように3台の減湿装
置を同様に接続した減湿装置も出願されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】半導体デバイスの製造
プロセスでは種々の薬品が使用されており、分子径の大
きなものから小さいもの、あるいは沸点の低いものから
高いものと幅広い種類の有機化合物が発生する。
【0011】しかしながら、従来の乾式減湿装置では水
分の吸着は十分であるが、有機化合物に対しての吸着が
不十分であった。そのためそれらの有機化合物は十分に
吸着されずに放出されていた。
【0012】そこで、本発明は従来の乾式減湿装置に吸
湿と併せて有機化合物をも同時に除去できるような機能
を付加することを第1の目的とする。
【0013】加えて、半導体デバイスの製造プロセスで
は例えばDMSO(ジメチルスルホキシド)、 MEA
(モノエタノールアミン)、 HMDS(ヘキサメチレ
ンジシラザン)等の高沸点有機化合物のガス状物も多く
発生する。しかし、これらの高沸点有機化合物は従来の
乾式減湿装置では例え吸着されていても再生することが
できなかった。その理由は、これらの高沸点有機化合物
を吸着剤より除去し再生するためには、吸着剤に300
℃程度の温度を加える必要があるからである。ところ
が、吸着剤には耐熱温度があり、この温度に耐えられな
い。例えば、活性炭は耐熱温度が140℃程度であるた
め、300℃を超えるような高温の空気に晒させると発
火してしまうため使用することができない。シリカゲル
も300℃を超えるような高温の空気に晒されると、性
能が劣化してしまうため使用することができない。しか
しながら、これらの高沸点有機化合物を再生ゾーンUで
除去するには、300℃以上の極めて高温の空気を導入
しなければならない。
【0014】しかし、前記シリコーン製のコーキング材
120は200℃を越えるような高温に耐えられない。
例えば、300℃以上の高温の空気を導入すると金属ス
ポーク103とセクタ102との間の接合性或いは接着
性が低下し、結果としてセクタ102が脱落して使用不
能に陥ることもある。また、高温空気を導入できないこ
とにより、高沸点有機化合物が継続的に蓄積され、吸着
剤の吸着能力もそれに伴って低下していく。
【0015】このように、再生ゾーンUを通過させる空
気の温度には制限があるため、蓄積された高沸点有機化
合物を十分に除去することができず、浄化性能や減湿性
能が低下してロータの交換が余儀なくされる。また、こ
の性能の低下したロータを水洗いして再生する方法も採
用されているが、有機物特に高沸点有機物の除去が充分
でなく、ロータの持つ性能を初期の状態にまで回復でき
るものではなかった。更に、水洗後の排水処理も必要で
あり、膨大な処理費用もかかっていた。
【0016】そこで、本発明は高沸点有機化合物が付着
したような吸着剤に対して、300℃程度の高温におい
ても再生することが可能なシステムを得ることを第2の
目的とする。
【0017】即ち、本発明は、高沸点有機化合物を含む
有機物の除去が可能で、低露点の清浄乾燥気体が得られ
るとともに、300℃を越えるような高温の気体に対し
ても十分耐え得る耐熱性を有しており、高性能で長寿命
の減湿装置、並びに前記減湿装置を用いた減湿方法を提
供することを目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、目的空間に、低露点で有機物を除去した
気体を供給するための減湿装置であって、親水性ゼオラ
イト中のナトリウムの一部をLa、Nd、Ce、Prか
ら選ばれた一種または複数種の元素で置換したアルミノ
シリケートからなる吸着剤を担持させた複数の円弧状セ
クタを保持ケースに回転可能に支持し、該保持ケースに
取付けられた仕切り板により回転域を少なくとも吸着ゾ
ーン及び再生ゾーンに画成されるロータと、処理される
気体を前記吸着ゾーンに供給する経路と、前記吸着ゾー
ンで処理された気体を目的空間に供給する経路と、前記
再生ゾーンに再生用気体を供給する経路とを備え、前記
吸着ゾーンに吸着された水分及び有機物を前記再生ゾー
ンに250〜400℃の高温気体を供給して脱離させる
ことを特徴とする減湿装置を提供する。
【0019】 また、同様の目的を達成するために、本
発明は、目的空間に、低露点で有機物を除去した気体を
供給するための減湿方法であって、親水性ゼオライト中
のナトリウムの一部をLa、Nd、Ce、Prから選ば
れた一種または複数種の元素で置換したアルミノシリケ
ートからなる吸着剤を担持させた複数の円弧状セクタを
保持ケースに回転可能に支持し、該保持ケースに取り付
けられた仕切り板により回転域を少なくとも吸着ゾーン
及び再生ゾーンに画成されたロータの前記吸着ゾーンに
処理される気体を供給し、前記吸着ゾーンで処理された
気体を前記目的空間に供給するとともに、前記再生ゾー
ンに250〜400℃の高温の再生用気体を供給して吸
着剤に吸着された水分及び有機物を脱離させることを特
徴とする減湿方法を提供する。
【0020】本発明の減湿装置及び減湿方法において
は、吸着剤として親水性ゼオライト中のナトリウムの一
部を希土類元素で置換したアルミノシリケートを用いる
ことにより、水分とともに有機物を効率良く吸着でき、
減湿性能と浄化性能とが向上する。また、2台の減湿装
置を一方(以下、「前段」という)の減湿装置の吸着ゾ
ーンから排出された処理気体を他方(以下、「後段」と
いう)の減湿装置の吸着ゾーンに導入させるように接続
した2段式としたことにより、より低露点の清浄乾燥気
体が得られる。更に、セクタの接合部を遮熱シールによ
る断熱構造としたことにより、再生ゾーンにおいて30
0℃を越えるような高温気体を導入できるため、高沸点
有機化合物が蓄積せず、吸着剤ロータの交換間隔を長く
することができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施形態
を図面に基づいて説明する。
【0022】(第1の実施形態)図1は本発明の減湿装
置に係る第1の実施形態を模式的に示す概略図であり、
図2〜図8は減湿装置の細部の構成、特に断熱構造を示
す図である。図1に示すように、ロータ1は、吸着剤を
担持して構成されており、 さらにこのロータ1は従来
技術で説明したように回転可能にケースに保持されてお
り、図11に示すような放射状の仕切り板111を用い
て各ゾーンに区画されている。図1に示すように、吸着
ゾーンSの一方の端面(図面左側:以下「前面」とい
う)には処理気体Fの導入管20が配置され、他方の端
面(図面右側:以下「裏面」という)には、ファン21
を備える排気管23が配置されている。処理気体Fとし
ては、空気の他、酸素や不活性ガスが可能であり、導入
管20を通じて吸着ゾーンSに導入され、吸着剤により
含有する水分や有機物が除去された後、清浄乾燥気体P
となって排気管23を通じてクリーンルーム等の目的空
間(図示せず)に供給される。
【0023】また、再生ゾーンUの裏面には、再生用気
体Rを導入するための導入管25が配置され、前面には
ファン26を備える排気管27が配置されている。導入
管25はヒータ24を備えており、再生用気体Rを13
0〜200℃に加熱した後に再生ゾーンUに導入する。
この高温気体により、再生ゾーンUにおいてロータ1の
吸着剤に吸着している水分やガス状不純物(有機物)を
脱離させ、吸着剤から除去する。再生ゾーンUを通過し
た再生用気体Rは、再生ゾーンUの表面に配置された排
気管27を通じてファン26により排気(R´)され
る。
【0024】通常の減湿装置を作動させている間は、上
記のような130〜200℃程度の再生用気体の温度で
吸着剤に吸着している水分やガス状不純物(有機物)を
脱離させるが、本発明で使用する吸着剤に吸着している
高沸点有機化合物はこの程度の温度では脱離できない。
本発明は、以下で詳述するように、ロータを断熱構造と
してあるため、高沸点有機化合物が吸着剤から脱離する
温度に再生用気体を加熱できる。高沸点有機化合物を吸
着剤から脱離するには、減湿装置の運転状況にもよる
が、吸着剤に吸着されて高沸点有機化合物が蓄積された
時期(6ヶ月〜2年程度)を間隔として、再生用気体の
温度を250℃〜400℃程度の温度にして再生気体を
1m/s以上の通過風速で供給することが好ましく、処
理時間は6〜15時間程度が適当である。
【0025】ロータ1は、図2に示すように、内部を放
射状に延びるスポーク3により断面円弧状に仕切られた
円筒形のリム7内に、ハニカム状の基材4に吸着剤を担
持させた円弧状セクタ2を複数(ここでは8個)配置し
て全体として円筒状となるように構成されている。
【0026】 吸着剤は、水分とともに有機物を効率よ
く吸着できることから、親水性ゼオライト中のナトリウ
ムの一部をLa、Nd、Ce、Prから選ばれた一種ま
たは複数種の元素で置換したアルミノシリケート(以
下、「希土類元素置換アルミノシリケート」という)を
用いる。アルミノシリケートは、xMe2/nAl
ySiOで表される結晶アルミノケイ酸(Me:n
価の金属)のx,yの違いによって、結晶構造中のトン
ネル構造(細孔径)が異なり、多くの種類があるが、本
発明では特にA型ゼオライト(NaO・Al
2SiO・4.5HO)、X型ゼオライト(Na
O・Al・2.5SiO・6HO)、Y型ゼ
オライト(NaO・Al・4.8SiO
8.9HO)の各ゼオライト中のNaの一部をLa、
Nd、Ce、Prから選ばれた一種または複数種の元素
で置換した構造のアルミノシリケートを用いることが好
ましい。
【0027】 この希土類元素置換アルミノシリケート
は、構造式「aMxOy・bNaO・cAl
dSiO・eHO(M:La、Nd、Ce、P
)」で表されるものである。尚、La、Nd、Ce、
Prは、一種または複数種を使用できる。上記構造式に
おいて、aMxOyとしてはLa,Nd
CeO,Pr11 であり、また希土類元素置換ア
ルミノシリケートにおける含有量は1重量%以上である
ことが好ましい。中でもaMxOyとしてLa
用いることが最も好ましく、より高い吸着効果を望むな
ら含有量を4〜10重量%とすることが望ましい。尚、
La,Nd,CeO,Pr11の含
有量の上限としては、Laでは10重量%、Nd
,CeO,Pr11では5重量%程度であ
る。勿論、それ以上の割合で含有させてもよい。
【0028】また、その他の成分については、bNa2Oと
してNa2Oを5重量%以下の割合で含み、cAl2O3としてAl
2O3を10〜35重量%の割合で含み、dSiO2としてSiO2
を20〜80重量%の割合で含むことが好ましい。特
に、La2O36重量%、Na2O3重量%、Nd2O32重量%、Ce
O32重量%、Pr6O112重量%、Al2O327重量%、SiO2
58重量%からなる希土類元素置換アルミノシリケート
が好ましい。
【0029】一方、基材4としては、耐熱性、耐摩耗性
等に優れることから、無機繊維紙をハニカム状に成形し
たものが好ましい。また、希土類元素置換アルミノシリ
ケートを担持させる方法としては、例えば、希土類元素
置換アルミノシリケートと無機バインダー(例えばシリ
カゾル)とを含有するスラリーを、スプレーや刷毛塗り
等により基材4(無機繊維紙からなるハニカム成形体)
に含浸させ、乾燥する方法が可能である。
【0030】隣接するセクタ2とスポーク3並びにリム
7との接触面は、図3に示すように、シリコーン製コー
キング材、好ましくはフッ素系ゴムからなるコーキング
材8で接合されて一体化され、更に各接合面が不燃材料
からなる遮熱シール10,11で被覆される。この遮熱
シール10,11は、耐熱性、断熱性、耐磨耗性、耐溶
剤性という性質が備わったものである必要がある。即
ち、図4、図5に示すように、セクタ2a,2bの接合
面が高温になると、セクタ2a,2bを支えているスポ
ーク3とセクタ2との間のコーキング材8が高熱で変形
を起こすため、それを防止するためである。耐熱性は高
沸点化合物を蒸発させるのに必要な300℃以上の高温
の気体に遮熱シール自身が耐えねばならないからであ
り、断熱性は300℃以上の高温の気体からコーキング
材8を保護する必要があるからである。また、耐磨耗性
は後に記載するシール材との間で摩擦が生じるために要
求されるものであり、加えて耐溶剤性は処理気体中の有
機成分に対する耐久性から要求されるものである。
【0031】これらの性質を満たす不燃材料として窒化
珪素、グラファイト、セラミックペーパー、フエルト等
の無機材料からなるものが使用可能である。また、遮熱
シール10,11は不燃材料からなるもので、板、シー
トの形態で用いられる。
【0032】以下、図3〜図8を参照して、ロータ1の
断熱構造の好ましい実施形態についてより具体的に説明
する。
【0033】図4に示すように、金属製スポーク3は、
隣接する2つのセクタ2a,2bとコーキング材8によ
り接合若しくは接着されている。スポーク3には金属製
の取付板9が直角に、即ち、セクタ2a,2bの端面M
と平行に位置付けられるように溶接してあり、遮熱シー
ル10である窒化珪素板が取付板9の上にネジ13で固
定されている。このような構成によれば、窒化珪素板を
スポーク3に直接取り付けるための複雑な成形加工が避
けられ、またその交換も容易になる。
【0034】この窒化珪素板はその幅をロータ端面に表
れる取付板9の幅より広くしてあり、スポーク3を挟ん
で隣接する2つのセクタ2a 、2bの接合部分に穿設さ
れた軸方向に伸びる矩形断面凹所14内に嵌合するよう
な横幅を備えている。この事により、セクタ2a,2b
の端面から窒化珪素板が突出しなくなる。窒化珪素板が
セクタ2a,2bの端面から突出しないことは、図10
に示す保持ケース110に取り付けられているシール装
置との関係において有効である。即ち、図2に示すロー
タ1は保持ケース110に収められているが、この保持
ケース110には図5(図4の遮蔽シール10及びシー
ル装置52の周辺部の拡大斜視図)に示すように、ロー
タ1を各ゾーンに区画する仕切り板111(図10参
照)が取り付けられている。また、保持ケース110の
仕切り板111には、図4にその断面図を示すように、
シール装置52が取り付けてあり、このシール装置52
により再生ゾーンU、吸着ゾーンS等の各領域を区画し
各ゾーン間での気体の漏洩を防止している。仕切り板1
11にはシール材55のための取付板53がナット54
で固定してある。ロータ1に摺動させるシール材55
は、取付板53から直角に折れ曲がって上記したナット
54により仕切り板111に固定された連結部56に、
ロッド部材57を介してナット54で固定されると共
に、ロッド部材を取囲むように置かれたコイルばねで構
成されたスプリング58が、この連結部56とシール材
55との間に介在され、このような構成により、スプリ
ング58の緩衝力及び復元力を使用してシール材55を
ロータ端面Mに向けて弾性的にしかも摺動可能としてい
る。シール材55は内部にシリンダ孔が設けられてお
り、これらシリンダ孔内にロッド部材の先端部分に形成
された係止部59が嵌合されている。またこの係止部5
9は、実質的にシリンダ孔内に摺動可能に嵌合するピス
トン形状を備えている。ここで使用されるシール材55
には、耐熱性、耐摩耗性、化学的安定性が要求される。
このようなシール材55に適した材料として、膨張黒
鉛、グラファイトが好ましい。またスプリングの材質と
してはステンレス一般、或いは、商品名「インコネル」
等が好ましい。
【0035】以上のように仕切り板111にはシール装
置52が取り付けてあるため、ロータ端面Mをシール材
55が摺動するが、図4のように窒化珪素板がロータ端
面Mから突出していないため、シール材55との衝突を
起こすことがない。このため、窒化珪素板がロータ端面
M側に設けられていても、ロータ1は窒化珪素板とシー
ル材55との衝突なく滑らかに移動することができる
【0036】また、窒化珪素板の代わりに図6に示すよ
うに、遮熱シールとして膨張黒鉛シート15を用いるこ
とができ、この膨張黒鉛シート15で被覆することによ
りスポーク3及びその隣接したセクタ間のコーキング材
8の劣化を防止することができる。更に、膨張黒鉛15
シート上に金属板16を重ねて設ける構造としてもよ
い。黒鉛シート15は優れた耐熱性を有しており、金属
板16と積層することにより、高い堅牢性並びに耐久性
を付加して長期間に亘り優れた断熱効果を維持すること
ができる。また、この積層構造は、ロータの周縁部に設
けられる遮熱シール11に対しても実施可能である。
【0037】また、図7に示すように、スポーク3の取
付板9と窒化珪素板10との間に珪酸カルシウム板等の
断熱材17を配置すると断熱性を一層向上させることが
可能となる。
【0038】更に、図8に示すように、セクタ2の周縁
部にも断熱構造が採られ、金属製の外周リム7の周縁部
分に遮熱シール11である窒化珪素板を取り付ける。こ
のような構造にすることで、図面上方から加熱気体がロ
ータのセクタ2に導入されても、コーキング材8が遮熱
シール11により保護されることで接合部分は熱から保
護される。尚、図示されるように、遮熱シール11の下
に金属製のアングル部材12をセクタ2の外周縁部に埋
設する形で設けることが好ましいが、遮熱シール11の
みでもよい。
【0039】上記のような断熱構造により、処理気体並
びに高温の再生用気体が各セクタ2とスポーク3との接
合部に直接吹き付けられることが回避され、コーキング
材8に加わる温度上昇も避けられるので、コーキング材
8の劣化による密封性或いは接着力の低下が避けられ
る。
【0040】尚、減湿装置は図11に示したように吸着
ゾーンS、再生ゾーンUの他に冷却ゾーンTを備える構
成とすることもでき、図9にその一例として保持ケース
110に収容した全体構成を模式的に示す。尚、図中、
前述と同一部位については同一の符号を付してある。
【0041】(第2の実施形態)図10は本発明に係る
減湿装置の第2の実施形態を示す概略図であるが、図示
されるように、前段の減湿装置Aと後段の減湿装置B
(但し、ロータのみを示す)とが、前段の減湿装置Aの
吸着ゾーンSと、後段の減湿装置Bの吸着ゾーンSとを
直列に接続した2段式に構成されている。この第2の実
施形態の減湿装置によれば、より低露点の清浄乾燥気体
が得られる。
【0042】前段の減湿装置Aは、第1の実施形態に示
した減湿装置と同様に構成されており、吸着ゾーンSと
再生ゾーンUとに画成されるロータ1aを備える。この
ロータ1aの吸着ゾーンSの前面には処理気体Fの導入
管20が配置され、裏面には排気管23が配置されてい
るが、排気管23は後段の減湿装置Bの吸着ゾーンSに
接続しており、その途中にはクーラ22が挿入されてい
る。また、再生ゾーンUの裏面には、後段の減湿装置B
の再生ゾーンUの排気管33に通ずる導入管25が接続
されており、その直前にヒータ24が配置されている。
更に、再生ゾーンUの前面には、ファン26を備える排
気管27が配置されている。
【0043】後段の減湿装置Bは、前段の減湿装置Aと
同様に第1の実施形態で示した減湿装置と同様でもかま
わないが、ここでは図示されるように、保持ケースの仕
切り板により吸着ゾーンS及び再生ゾーンUに加え、冷
却ゾーンTが画成された構成のロータ1bを備える。こ
のロータ1bの吸着ゾーンSの裏面には前段の減湿装置
Aからの連結管23が配置され、前面には排気管28が
配置されている。この排気管28は分岐しており、その
一方から目的とする低露点の清浄乾燥気体Pを取り出
し、他方を分岐管29として冷却ゾーンTの裏面に臨ま
せている。また、冷却ゾーンTの前面には、再生ゾーン
Uの前面に向かい、ヒータ30を備える再生用加熱気体
供給管31が配置されている。更に、再生ゾーンUの裏
面には、ファン32を備え、前段の減湿装置Aの再生ゾ
ーンUに通ずる排気管33が配置されている。
【0044】尚、ロータ1aは、第1の実施形態と同様
の吸着剤を有する円弧状セクタを複数接合して構成され
ており、また各接合部には第1の実施形態と同様の断熱
構造が施されている。ロータ1aで高沸点有機化合物を
吸着するため、ロータ1bは、吸着剤としては希土類元
素置換アルミノシリケートであっても良いが、特に希土
類元素置換アルミノシリケートである必要はなく、A型
ゼオライト、X型ゼオライト、Y型ゼオライト等のゼオ
ライト、あるいは活性炭、シリカゲル等の吸湿性のある
吸着剤の使用も可能である。
【0045】このような構成において、処理気体Fは導
入管20を通じて前段の減湿装置Aの吸着ゾーンSに導
入され、ロータ1aに担持された吸着剤により減湿及び
浄化される。この時点で、この清浄乾燥気体の露点温度
は−35℃程度となる。次いで、清浄乾燥気体はクーラ
22で冷却された後、後段の減湿装置Bの吸着ゾーンS
に導入され、更なる減湿及び浄化がなされ、排気管28
から露点温度が−80℃程度の低露点の清浄乾燥気体P
として取り出される。
【0046】また、後段の減湿装置Bでは、低露点の清
浄乾燥気体Pの一部が分岐管29を通じて冷却ゾーンT
に送られて冷却用気体として使用されるとともに、その
後ヒータ30により130〜200℃程度に加熱されて
再生用の加熱気体として再生ゾーンUに送られ、ロータ
1bの吸着剤に吸着した水分やガス状不純物を蒸発させ
て除去する。再生ゾーンUから排出された再生用気体
は、その後、ファン32により排気管33を通じて前段
の減湿装置Aの再生ゾーンUに送出される。この後段の
減湿装置Bの再生ゾーンUからの再生用気体は、ヒータ
24により130〜200℃程度に加熱され、前段の減
湿装置Aの再生ゾーンUに導入される。そして、前段の
減湿装置Aの再生ゾーンUでは、この高温気体によりロ
ータ1aの吸着剤に吸着した水分やガス状不純物を蒸発
させて除去し、その排ガスR´が排気管27から排気さ
れる。
【0047】尚、上記第2の実施形態で記載したよう
に、前段のロータ1aは通常の減湿装置を作動させてい
る間は上記のような130〜200℃程度の再生用気体
の温度で吸着剤に吸着している水分やガス状不純物(有
機物)を脱離させるが、本発明で使用する吸着剤に吸着
している高沸点有機化合物はこの程度の温度では脱離で
きない。本発明はロータを断熱構造としてあるため、高
沸点有機化合物が吸着剤から脱離する温度に再生用気体
を加熱できる。高沸点有機化合物を吸着剤から脱離する
には、減湿装置の運転状況にもよるが、吸着剤に吸着さ
れて高沸点有機化合物が蓄積された時期(6ヶ月〜2年
程度)を間隔として、再生用気体の温度を250℃〜4
00℃程度の温度にして再生気体を1m/s以上の通過
風速で供給することが好ましく、処理時間は6〜15時
間程度が適当である。
【0048】
【実施例】以下、実施例及び比較例を挙げて更に説明す
るが、本発明はこれにより何ら制限されるものではな
い。
【0049】(実施例1:減湿装置)アルミナシリカ
繊維に少量の有機質合成繊維を加えたものを原料にし
て、厚さ0.2mm、密度0.25g/cm3の紙を抄
造する。得られた原紙を波長3.3mm、波高1.9m
mのハニカム状にコルゲート加工し、図2に示したよう
な円弧状のハニカム構造体を成形する。次いで、この円
弧状ハニカム構造体に、La含有アルミノシリケート
(組成比:La2O3が6%、Na2Oが3%、Nd2O3が2%、Ce
O3が2%、Pr6O11が2%、Al2O3が27%、SiO2が58
%)からなる吸着剤に無機バインダー(シリカゲル)を
加えたスラリーを含浸させて乾燥し、焼成により有機物
を除去して円弧状のセクタ2を得た。
【0050】次いで、セクタ2を8個接合し、図2に示
すように全体として円筒状のロータ1を作製した。その
際、接合部において、図4に示すように、セクタ2a,
2bとスポーク3及びリム7との接合面間にコーキング
材8を介在させ、更にスポーク3の端面に窒化珪素板か
らなる遮熱シール10をネジ止めした。また、リム7に
ついても、図8に示すように、窒化珪素板からなる遮熱
シール11を取り付けた。
【0051】そして、図1に示すように、上記のロータ
1を吸着ゾーンSと再生ゾーンUとに画成する保持ケー
ス(図示せず)に装着し、1段構成の減湿装置を作製
した。
【0052】(比較例1:減湿装置)吸着剤としてL
a含有アルミノシリケートに代えてA型ゼオライトを用
い、実施例1と同様にして円弧状のセクタ2を作製し、
更にこのセクタ2を8個接合して円筒状のロータ1を作
製した。尚、接合に際して、セクタ2とスポーク3及び
リム7との接合面間にコーキング材8を介在させたが、
遮蔽シール11は用いなかった。そして、同様にして吸
着ゾーンS及び再生ゾーンUに画成された1段構成の減
湿装置を作製した。
【0053】(性能評価−1)上記の減湿装置及び減
湿装置を用い、NMP(N−メチル−2−ピロリド
ン)を1000ppb含有する空気を毎分20m3の割
合で導入し、連続して処理した。尚、半導体製造過程で
使用される溶剤から発生する代表的な高沸点有機化合物
物として、MEA、ジメチルスルホキシド(DMS
O)、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、プロピレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート(PGME
A)等が挙げられるが、中でもNMPは沸点が204℃
と最も高いものである。そして、処理後の清浄乾燥気体
をガスクロマトグラフィーで分析してNMPの除去率を
求めたところ、減湿装置では99.9%と略完全にN
MPが除去されていたのに対し、減湿装置では80%
と低い値であった。このことから、本発明に従うLa含
有アルミノシリケートが高沸点有機化合物に対する高い
吸着性能を有することがわかる。
【0054】(実施例2:減湿装置)減湿装置のロ
ータ1を前段のロータ1aとし、図10に示す2段構成
の減湿装置を作製した。後段のロータ1bには、X型
ゼオライトからなる吸着剤を使用して円弧状セクタ2と
し、これを8個接合したものを用い、図10に示すよう
な保持ケース110に装着して吸着ゾーンS、再生ゾー
ンU及び冷却ゾーンTに画成した。また、後段のロータ
1bには、断熱構造を施さなかった。
【0055】(比較例2:減湿装置)減湿装置のロ
ータ1を前段のロータ1aとし、他は実施例2と同様に
して2段構成の減湿装置を作製した。
【0056】(性能評価−2)減湿装置のロータ1a
の吸着ゾーンSに、MEA、DMSO、HMDS、PG
MEA、NMP等の高沸点有機物を1〜2ppm含む空
気を風速1〜2m/sで導入し、浄化を行った。得られ
た清浄乾燥気体中の高沸点有機物の除去率は、上記の減
湿装置とほぼ同等であった。また、露点温度は−80
℃であった。
【0057】また、同様の処理を減湿装置においても
行ったところ、清浄乾燥気体中の高沸点有機物の除去率
は上記の減湿装置とほぼ同等であり、露点温度は−7
5℃であった。
【0058】このことから、本発明に従う減湿装置によ
れば、有機物が高度に除去されるとともに低露点の清浄
乾燥気体が得られることがわかる。
【0059】また、減湿装置及び減湿装置を用い、
同様の浄化を6ヶ月間連続(ロータを24時間連続回
転)して行った。6ヶ月経過後、両減湿装置の前段のロ
ータ1aに対して300℃の高温空気を12時間供給し
て再生した。そして、再生前後のロータ1aについて、
有機物量、細孔容積、比表面積を測定した。尚、有機物
量は、ロータ1aから10cm角の試料を切り出して粉
砕し、その30mgを採取して熱示差重量測定装置にて
測定した。また、細孔容積は単位重量(ここでは1k
g)当たりの吸着剤に存在する空孔の容積であり、ロー
タ1aから試料(2mm×10mmの短冊状)を切り出
し、その1gを採取して窒素ガスを用いたBJH(Barre
tt-Joyner-Halenda)法にて測定し、これを1kg当たり
の値に換算した。また、比表面積は単位重量(ここでは
1g)当たりの吸着剤の表面積であり、ロータ1aから
試料(2mm×10mmの短冊状)を切り出し、その1
gを採取して窒素ガスを用いたBET法にて測定した。
【0060】比較のために、同様に6ヶ月間使用したロ
ータ1aを水洗(ロータをシステムから取り出し、素子
の体積の15倍の水に5分間浸漬)し、同様に有機物
量、細孔容積、比表面積を測定した。同じく比較のため
に、未使用のロータ1aについても同様に有機物量、細
孔容積、比表面積を測定した。
【0061】測定結果を下記の表1に示すが、水洗によ
る再生では有機物が充分に除去されていないのに対し、
高温空気による再生では除去率が向上している。また、
細孔容積については、高温空気による再生では未使用の
ロータ1aに比べて約85%まで回復しているのに対
し、水洗による再生では約34%までしか回復していな
い。また、比表面積については、高温空気による再生で
は未使用のロータ1aに比べて約95%まで回復してい
るのに対し、水洗による再生では約36%までしか回復
していない。このことから、本発明の高温空気による再
生が有効であることがわかる。
【0062】
【表1】
【0063】また、処理終了後、減湿装置を分解して
前段のロータ1aを観察したところ、減湿装置ではセ
クタ接合部のコーキング材の劣化が認められず、本発明
による断熱構造の有意性が確認された。
【0064】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
高沸点有機化合物を含む有機物の除去が可能で、低露点
の清浄乾燥気体が得られるとともに、300℃を越える
ような高温の気体に対しても十分耐え得る耐熱性を有
し、吸着部に付着した水分及び高沸点有機物を除去し再
生可能な構造を備え、高性能で長寿命の減湿装置及び減
湿方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の減湿装置の第1の実施形態を示す概略
図である。
【図2】本発明の減湿装置に使用される減湿装置のロー
タを示す斜視図である。
【図3】遮熱シールを備えた外周リムによる断熱構造を
示す部分分解斜視図である。
【図4】図2のXX断面部分矢視図であり、セクタ接合
部の断熱構造を示す図である。
【図5】図4の遮蔽シール及びシール装置の周辺部を示
す拡大斜視図である。
【図6】セクタ接合部の断熱構造の他の例を示す、図3
と同様の矢視図である。
【図7】セクタ接合部の断熱構造の他の例を示す、図3
と同様の矢視図である。
【図8】外周リム周辺の断熱構造を示す、図2における
YY断面矢視図である。
【図9】第1の実施形態における減湿装置の他の例(吸
着ゾーンS、再生ゾーンU及び冷却ゾーンTを備える構
成)の全体構成を示す斜視図である。
【図10】本発明の減湿装置の第2の実施形態を示す概
略図である。
【図11】従来の減湿装置の保持ケースを含めた全体構
造を示す斜視図である。
【図12】従来の減湿装置のロータのみを示す斜視図で
ある。
【図13】従来の減湿装置のセクタ、スポーク及び外周
リムの接合様式を説明するための図である。
【符号の説明】
1a,1b ロータ 2 セクタ 3 スポーク 4 基材 5 ハブ 7 外周リム 8 コーキング材 9 取付板 10,11 遮熱シール 12 アングル部材 13 ネジ 15 黒鉛シート 17 断熱材(珪酸カルシウム板)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒澤 正司 東京都港区芝大門1−1−26 ニチアス 株式会社内 (72)発明者 山下 勝宏 東京都港区芝大門1−1−26 ニチアス 株式会社内 (56)参考文献 特開2000−296309(JP,A) 特開2001−334120(JP,A) 特開 平9−239263(JP,A) 特開 昭61−71821(JP,A) 特開2002−28430(JP,A) 原伸宜、高橋浩,ゼオライト,日本, 講談社,1975年 2月 1日,初版,61 頁 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01D 53/28 B01J 20/00 - 20/34 CA(STN)

Claims (15)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 目的空間に、低露点で有機物を除去した
    気体を供給するための減湿装置であって、 親水性ゼオライト中のナトリウムの一部をLa、Nd、
    Ce、Prから選ばれた一種または複数種の元素で置換
    したアルミノシリケートからなる吸着剤を担持させた複
    数の円弧状セクタを保持ケースに回転可能に支持し、該
    保持ケースに取付けられた仕切り板により回転域を少な
    くとも吸着ゾーン及び再生ゾーンに画成されるロータ
    と、処理される気体を前記吸着ゾーンに供給する経路
    と、前記吸着ゾーンで処理された気体を目的空間に供給
    する経路と、前記再生ゾーンに再生用気体を供給する経
    路とを備え、前記吸着ゾーンで吸着された水分及び有機
    物を前記再生ゾーンに250〜400℃の高温気体を供
    給して脱離させることを特徴とする減湿装置。
  2. 【請求項2】 前記減湿装置を2台備え、一方の減湿装
    置の吸着ゾーンに処理される気体を導入し、該一方の減
    湿装置の吸着ゾーンを通過した気体を他方の減湿装置の
    吸着ゾーンに導入するように接続し、他方の減湿装置の
    吸着ゾーンを通過した気体を目的空間に供給することを
    特徴とする請求項1記載の減湿装置。
  3. 【請求項3】 一方の減湿装置の吸着ゾーンを通過した
    気体を他方の減湿装置の吸着ゾーンに導入する経路に、
    気体冷却手段を挿入したことを特徴とする請求項2記載
    の減湿装置。
  4. 【請求項4】 処理される気体が、空気、酸素または不
    活性ガスであることを特徴とする請求項1〜3の何れか
    1項に記載の減湿装置。
  5. 【請求項5】 前記減湿装置は、ロータが仕切り板によ
    り吸着ゾーン、再生ゾーン及び冷却ゾーンに画成されて
    いることを特徴とする請求項2〜4の何れか1項に記載
    の減湿装置。
  6. 【請求項6】 ロータが、内部に多数の小透孔を備える
    ハニカム構造体に吸着剤を担持して構成されていること
    を特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の減湿装
    置。
  7. 【請求項7】 ロータが、ハニカム構造体に吸着剤を担
    持させた円弧状セクタをスポークで連結して構成され、
    各連結部において、スポークの端面に、該端面及び該端
    面の両側に位置する2つの円弧状セクタの接合部を覆う
    遮熱シールが該端面と平行に取着されていることを特徴
    とする請求項6記載の減湿装置。
  8. 【請求項8】 遮熱シールが、窒化珪素板、膨張黒鉛シ
    ートまたは膨張黒鉛シート上に金属板を重ねた積層体で
    あることを特徴とする請求項7記載の減湿装置。
  9. 【請求項9】 吸着剤が、構造式aMxOy・bNa
    O・cAl・dSiO・eHOで表され、か
    つaMxOyとしてLa,Nd,Ce
    ,Pr11から選ばれた一種または複数種類の
    ものを含み、bNaOとしてNaOを5重量%以下
    の割合で含み、cAlとしてAlを10〜
    35重量%の割合で含み、dSiOとしてSiO
    20〜80重量%の割合で含むアルミノシリケートであ
    ることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の
    減湿装置。
  10. 【請求項10】 処理される気体が、200℃以上の沸
    点を有する有機物を含むことを特徴とする請求項1〜9
    の何れか1項に記載の減湿装置。
  11. 【請求項11】 目的空間に、低露点で有機物を除去し
    た気体を供給するための減湿方法であって、 親水性ゼオライト中のナトリウムの一部をLa、Nd、
    Ce、Prから選ばれた一種または複数種の元素で置換
    したアルミノシリケートからなる吸着剤を担持させた複
    数の円弧状セクタを保持ケースに回転可能に支持し、該
    保持ケースに取り付けられた仕切り板により回転域を少
    なくとも吸着ゾーン及び再生ゾーンに画成されたロータ
    の前記吸着ゾーンに処理される気体を供給し、前記吸着
    ゾーンで処理された気体を前記目的空間に供給するとと
    もに、前記再生ゾーンに250〜400℃の高温の再生
    用気体を供給して吸着剤に吸着された水分及び有機物を
    脱離させることを特徴とする減湿方法。
  12. 【請求項12】 前記ロータを2台用い、一方のロータ
    の吸着ゾーンに処理される気体を導入し、該一方のロー
    タの吸着ゾーンを通過した気体を他方のロータの吸着ゾ
    ーンに導入するとともに、他方のロータの吸着ゾーンを
    通過した気体を目的空間に供給することを特徴とする請
    求項11に記載の減湿方法。
  13. 【請求項13】 他方のロータの吸着ゾーンを通過した
    気体の一部を目的空間に供給するとともに、残部を加熱
    して一方のロータの再生ゾーンに供給することを特徴と
    する請求項11または12に記載の減湿方法。
  14. 【請求項14】 処理される気体が、空気、酸素または
    不活性ガスであることを特徴とする請求項11〜13の
    何れか1項に記載の減湿方法。
  15. 【請求項15】 処理される気体が、200℃以上の沸
    点を有する有機物を含むことを特徴とする請求項11〜
    14の何れか1項に記載の減湿方法。
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