JP3462230B2 - プリント配線板の製造方法 - Google Patents

プリント配線板の製造方法

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JP3462230B2 JP2216693A JP2216693A JP3462230B2 JP 3462230 B2 JP3462230 B2 JP 3462230B2 JP 2216693 A JP2216693 A JP 2216693A JP 2216693 A JP2216693 A JP 2216693A JP 3462230 B2 JP3462230 B2 JP 3462230B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子機器の小型化を容
易にしうるプリント配線板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化が求められてき
ており、用いられるプリント配線板にも、小型、薄型、
軽量化及び低コスト化の要求が強まっている。従来、電
子機器に用いられるプリント配線板は、それに実装され
る電子部品、プリント配線板自体の設計上、製造上の制
約等から大幅な小型化は困難であった。その制約を取り
払う手法として、図4に示すように、フレキシブル基板
22をリジッド基板23で挟み込み(イ〜リ)、スルー
ホール27を介して、フレキシブル基板22とリジッド
基板23に形成された導体回路24及び26の間を電気
的に接続する(ヌ〜オ)、所謂、フレックスリジッド基
板が提案された。これは、プリント配線板を立体配線化
するもので、電子機器の小型化には非常に有効な手段で
ある。
【0003】しかしながら、従来のプリント配線板は、
ガラスエポキシ、ガラスポリイミド等からなるリジッド
基板23の間にポリイミドフィルムからなるフレキシブ
ル基板22を接着シート或いはプリプレグ28を介して
熱圧着して後(チ〜リ)、ドリル穴明け、スルーホール
メッキ、レジスト、エッチングといった長い工程を経て
製造される(ヌ〜オ)。さらに、フレキシブル基板に形
成された導体回路を保護するために、ポリイミドからな
るカバーレイ25が熱圧着プレスされている(イ〜
ハ)。このように従来のフレックスリジッド基板は異種
材料で構成されているから、熱圧着時の伸縮の整合がと
れないため位置ズレを起こしたり、穴明け時のスミア発
生やスルーホールメッキの付き回り性などの問題が多
く、その加工条件の設定には困難を極めている。また、
屈曲部29となるフレキシブル基板22の露出部分とリ
ジッド基板23との厚みの差があるため、熱圧着時に、
その段差をなくすツールが必要等、工程が煩雑になる。
またポリイミドフィルム、カバーレイ25を使用してい
るので材料コストも高い。さらにはリジッド基板23と
フレキシブル基板22、接着シート28からなるため、
基板全体が厚くなる問題もある。したがって、プリント
配線板に求められている小型、薄型、軽量化及び低コス
ト化に十分対応しているとはいえない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の経緯
を鑑みてなされたものでありその解決しようとする課題
は、プリント配線板の小型、薄型、軽量化、高密度化及
び低コスト化であり、その目的とするところは、電子機
器の小型化を容易にしうるプリント配線板の製造方法を
提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用】以上の課題を解
決するために、本発明が採った第1の手段は、「ガラス
エポキシ基板2のほぼ中央部に開口部6を有し、該開口
部6を含めて前記ガラスエポキシ基板2に、可撓性を有
する絶縁層3が配設されてな、前記ガラスエポキシ基
板2上に配設された第一の導体回路5と前記絶縁層3に
配設された第二の導体回路10とが電気的に接続されて
なるプリント配線板1の製造方法において、下記の
(a)〜(e)の工程、即ち、(a)前記第一の導体回
路5を有するガラスエポキシ基板2のほぼ中央部に開口
部6を形成する工程、(b)前記開口部6に離型性材料
7をはめ込む工程、(c)前記離型性材料7がはめ込ま
れたガラスエポキシ基板2に可撓性を有するエポキシ
樹脂系接着剤からなる絶縁層を形成する工程、(d)
外層に第二の導体回路10を形成する工程、(e)前記
離型性材料7を取り除く工程、を有することを特徴とす
るプリント配線板の製造方法」としたことにある。ま
た、本発明が採った第2の手段は、「ガラスエポキシ基
板2のほぼ中央部に開口部6を有し、該開口部6を含め
て前記ガラスエポキシ基板2に可撓性を有する絶縁層3
が配設されてなり、前記ガラスエポキシ基板2上に配設
された第一の導体回路5と前記絶縁層3に配設された第
二の導体回路10とが電気的に接続されてなるプリント
配線板1の製造方法において、下記の(a)〜(e)の
工程、即ち、(a)前記第一の導体回路5を有するガラ
スエポキシ基板2のほぼ中央部に開口部6を形成する工
程、(b)前記開口部6に離型性材料7をはめ込む工
程、)前記離型性材料7がはめ込まれたガラスエポ
キシ基板2に、可撓性を有する前記感光性接着剤を塗布
後、露光、現像して前記絶縁層3を形成するととも
に前記第一の導体回路5の一部を露出させる工程、
)前記絶縁層3及び露出された前記第一の導体回路
5の表面に無電解銅メッキ13により、第二の導体回路
10を形成するとともに、前記第一の導体回路5と電気
的に接続する工程、(e)前記離型性材料7を取り除く
工程、を有することを特徴とするプリント配線板の製造
法」としたことにある。
【0006】従来のプリント配線板21では必須であっ
たフレキシブル基板22の一部を露出させて屈曲部29
を形成する工程が不要となる上、外層の第二の導体回路
10を形成するにあたり、通常のプリント配線板の製造
方法と何ら変わることがなく、製造工程上の煩雑さがな
いので製造工程の短縮並びに低コスト化が図れる。
【0007】ガラスエポキシ基板2には、電源及び接地
回路となる第一の導体回路5が常法によって形成される
が、通常、その上に形成される絶縁層3との接着性を得
るために、黒化処理、黒化−還元処理又は銅−ニッケル
−リン系の共晶メッキを施すことが一般的である。
【0008】ガラスエポキシ基板2の開口部6の形成方
法としては、金型によるパンチングやルーター加工等の
切削加工があるが、離型性材料7を最終的に取り除くた
め、開口部6の側壁の凹凸がより少ないルーター加工が
好ましい。外層の第二の導体回路10を形成する際に銅
メッキやエッチング工程があり、開口部6内にメッキ液
やエッチング液が侵入して汚染されることを避けるた
め、基板2の製品サイズやワークサイズの外周にはガラ
スエポキシ基板2の一部を残しておき、製品の外形加工
時に切除するようにする。
【0009】離型性材料7としては、絶縁層3となる接
着剤との接着性のないものであればよく、金属、ラバ
ー、プラスチック等の屈曲性を持つ材料から任意に選択
できる。最終的にプリント配線板1から取り除かれる
が、屈曲部12で適度に折り曲げることによって容易に
絶縁層3から剥がすことができる。また、屈曲性の高い
ものであればそのまま屈曲部12の一部として残しても
何ら差し支えない。
【0010】絶縁層3の形成方法としては、請求項1に
記載のプリント配線板1の製造方法にあっては、可撓性
を有するエポキシ樹脂系の接着剤を印刷、ロールコーテ
ィング、カーテンコーティング、キャスティングで塗布
する方法やプリプレグや半硬化状態の接着シートとし
て、ガラスエポキシ基板に接着させる方法があり、これ
らの方法により銅箔4をラミネートし、加熱硬化させる
ことによって絶縁層3が形成される。また、請求項2に
記載のプリント配線板1の製造方法にあっては、ガラス
クロスや無機充填材を含まない接着剤が選定され、ガラ
スエポキシ基板への塗布方法としては同様の方法が適用
できる。エポキシ樹脂系以外の材料、例えば、ポリエス
テル系、ポリアリレート系、ポリエチレンナフタレート
系の接着剤であっても同様の製造方法で形成できるが、
ガラスエポキシ基板2と同系統のものがより好ましいこ
とはいうまでもない。
【0011】外層の第二の導体回路10は、電子部品1
7を実装するための回路及びそれらをつなぐ信号配線、
開口部上の絶縁層3には、ガラスエポキシ基板2領域に
形成された導体回路5及び10間をつなぐコネクター配
線が形成される。通常、その表面には、電子部品17を
半田で接続する実装パッドを除いてほぼ全面にソルダー
マスクレジスト11が形成されるが、コネクター配線部
は屈曲性を有する絶縁材で被覆される必要があり、ソル
ターマスクレジスト自体に可撓性を有する樹脂が使われ
る。また、可撓性を有する感光性接着剤を塗布して、露
光、現像により所定位置に形成するようにしてもよい。
【0012】本件のプリント配線板1は、図3に示すよ
うに、部品実装後に屈曲部12で折り曲げて使用される
ものであるが、部品実装する段階では、実装性を考慮し
て、ガラスエポキシ基板2の厚みは厚い方がよいが、剛
性の高いエポキシ樹脂材料を用いれば、薄型化は容易で
ある。通常は0.1〜1.6mm程度が用いられるが、
実装性と折り曲げる際の応力に耐えうる程度の厚みに設
定しなければならないことはいうまでもない。また、絶
縁層3も、繰り返して屈曲させる目的で使用されないの
で、電子機器に組み込まれるまでの間、コネクター配
線、絶縁層3にクラック等が発生しない程度の屈曲性を
有するものであればよく、厚みは導体厚、保護膜を含め
て0.2mm以下になるように設定することが好まし
い。
【0013】
【実施例】(実施例1)次に本発明に係るプリント配線
板1の製造方法の実施例について説明する。図1に示す
ように、下記の(1)〜(6)工程により製造した。 (1)FR−4材からなるガラスエポキシ樹脂銅張積層
板2の所定位置に電源、接地回路となる第一の導体回路
5をエッチングにより形成し、その表面を黒化処理した
(イ〜ロ)。 (2)次に、基板2のほぼ中央部にルーター加工により
開口部6を形成し、その開口部6とほぼ同じ外形形状の
積層プレス用のクッションラバー7をはめ込んだ(ハ〜
ニ)。 (3)次に、可撓性を有するビスフェノールFタイプの
エポキシ樹脂をマトリックスとするプリプレグを介して
両面から銅箔4を積層プレスした。さらに、銅箔4を1
0μmエッチングした(ホ)。 (4)次に、ドリル穴8を形成して後、過マンガン酸カ
リウム溶液に浸漬してデスミア処理をして後、常法によ
りパネル銅メッキをしてスルーホール9を形成し、パタ
ーン銅メッキ14、エッチングにより、外層の信号配線
となる第二の導体回路10を形成した(ヘ〜チ)。 (5)次に、可撓性エポキシ樹脂からなる感光性接着剤
をロールコーティングにより塗布し、乾燥後、露光、現
像工程を経て加熱硬化させることによって、外層の保護
膜11となるソルダーマスクレジスト膜を形成した
(リ)。 (6)次に、ルーター加工により製品サイズに切断し、
屈曲部12で折り曲げてクッションラバー7を剥離させ
て取り除き、屈曲部12を形成してプリント配線板1を
得た(ヌ)。 ガラスエポキシ樹脂銅張積層板2の厚みは0.5mm、
銅箔4の厚みは35μm、屈曲部12を形成するプリプ
レグの厚みは0.1mm、外層の銅箔4は18μmを用
いた。また、パネル銅メッキ厚は15μm、パターン銅
メッキ厚は10μmとし、外層の第二の導体回路10の
導体厚を33μm設定とした。また、外層の保護膜11
となる感光性接着剤の厚みは加熱硬化後に、約40μm
となるように塗布厚を設定した。
【0014】以上の製造方法により得られたプリント配
線板1は、電子部品17が実装される領域においては総
厚が約0.8mmとなり、十分な強度が得られ部品実装
性はよい。また、屈曲部12が、可撓性エポキシ樹脂か
らなりプリント配線板1を屈曲部12で180°折り曲
げても、屈曲部12の樹脂層3及び11、コネクター配
線にクラック等の不具合が発生することもない。
【0015】(実施例2)図2に示すように、下記の
(1)〜(8)工程により製造した。 (1)FR−4材からなるガラスエポキシ樹脂銅張積層
板2の所定位置にドリル穴8を形成し、パネル銅メッキ
によりスルーホール9を形成した(イ〜ハ)。 (2)次に、電源、接地回路となる第一の導体回路5を
エッチングにより形成し、その表面を黒化処理した
(ニ)。 (3)次に、基板2のほぼ中央部にルーター加工により
開口部6を形成し、その開口部6とほぼ同じ外形形状の
熱可塑性エラストマー7をはめ込んだ(ホ〜ヘ)。 (4)次に、可撓性を有するビスフェノールFタイプの
エポキシ樹脂を主成分とする感光性接着剤を基板2の両
面に印刷により塗布し、乾燥後、露光、現像工程を経
て、第二導体回路形成用パターン及びビアホール15を
形成し、加熱硬化させて絶縁層3を形成した(ト)。 (5)次に、絶縁層3の表面を過マンガン酸カリウム溶
液に浸漬して粗化し、メッキ触媒を付着させた。 (6)つぎに、無電解銅メッキ13で銅を約5μm析出
させ、常法によりパターン銅メッキ14、エッチング工
程を経て外層の第二の導体回路10を形成した(チ〜
リ)。 (7)次に、可撓性を有する感光性接着剤を印刷により
塗布し、乾燥後、露光及び現像工程を経て、加熱硬化さ
せて保護膜11となるソルダーマスクレジスト層を形成
した(ヌ)。 (8)次に、ルーター加工により製品サイズに切断し、
屈曲部12で折り曲げて熱可塑性エラストマー7を剥離
除去してプリント配線板1を得た(ル)。 ガラスエポキシ樹脂銅張積層板2の厚みは0.5mm、
銅箔4の厚みは18μm、感光性接着剤の厚みはそれぞ
れ50μm、外層の銅箔4の厚みは18μmとした。ま
た、ガラスエポキシ樹脂銅張積層板2のスルーホールメ
ッキ厚は20μm、外層のパネル銅メッキ厚は15μ
m、パターン銅メッキ厚は10μmとした。
【0016】以上の製造方法により得られたプリント配
線板1は総厚が約0.84mmとなり十分の強度が得ら
れ、部品実装性がよい。また、屈曲部12がガラスクロ
スのない可撓性を有するエポキシ樹脂接着剤で構成され
ているので屈曲性に優れ、180°折り曲げても何ら支
障はない。
【0017】以上実施例について詳述したが、特許請求
の範囲を逸脱しない範囲内で、プリント配線板1の形
状、材料構成、製造方法に変更を加えることができるこ
とはいうまでもない。
【0018】
【発明の効果】本発明のプリント配線板1及びその製造
方法においては、ガラスエポキシ基板2に開口部6を形
成し、その開口部6と同形状の離型性材料7をはめ込
み、その上から可撓性を有するエポキシ樹脂接着剤を介
して外層の導体回路10を形成し、その後に、離型性材
料7を除去するようにしたことで、外層の導体回路10
を形成するにあたり、従来の多層プリント配線板の製造
工程に何ら変更を加える必要がないので、製造工程が煩
雑になることはなく、従来に比べて製造工程の短縮及び
低コスト化が図られる。また、従来のプリント配線板の
設計を殆ど変えることなく配線板1のほぼ中央に屈曲部
12を設けることで、部品実装後に折り曲げることがで
きるので配線板1の面積を約半分にすることが可能とな
る。また、両面に実装用回路を形成することによって、
折り曲げて使用される際には見かけ上4層に部品実装さ
れたことになり、見かけ上の実装密度を高めることにな
る。以上のようなプリント配線板1の製造方法を提供す
ることによって、プリント配線板1の小型、薄型、軽量
化、高密度化及び低コスト化が図れ、電子機器の小型
化、低コスト化に大きく寄与することができのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプリント配線板の製造方法の工程概略
図である。
【図2】本発明のプリント配線板の製造方法の工程概略
図である。
【図3】本発明のプリント配線板の製造方法によるプリ
ント配線板の実用例である。
【図4】従来のプリント配線板の製造方法の工程概略図
である。
【符号の説明】
1:プリント配線板 2:ガラスエポキシ樹脂銅張積層
板 3:絶縁層 4:銅箔 5:第一の導体回路 6:
開口部 7:離型性材料 8:ドリル穴 9:スルーホ
ール 10:第二の導体回路 11:保護膜 12:屈
曲部 13:無電解銅メッキ 14:パターン銅メッキ
15:ビアホール 17:電子部品
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/46

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラスエポキシ基板2のほぼ中央部に開
    口部6を有し、該開口部6を含めて前記ガラスエポキシ
    基板2に可撓性を有する絶縁層3が配設されてな、前
    記ガラスエポキシ基板2上に配設された第一の導体回
    路5と前記絶縁層3に配設された第二の導体回路10と
    が電気的に接続されてなるプリント配線板1の製造方法
    において、下記の(a)〜(e)の工程、即ち、 (a)前記第一の導体回路5を有するガラスエポキシ基
    板2のほぼ中央部に開口部6を形成する工程、 (b)前記開口部6に離型性材料7をはめ込む工程、 (c)前記離型性材料7がはめ込まれたガラスエポキシ
    基板2に可撓性を有するエポキシ樹脂系接着剤からなる
    絶縁層を形成する工程、 (d)外層に第二の導体回路10を形成する工程、 (e)前記離型性材料7を取り除く工程、 を有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
  2. 【請求項2】 ガラスエポキシ基板2のほぼ中央部に開
    口部6を有し、該開口部6を含めて前記ガラスエポキシ
    基板2に可撓性を有する絶縁層3が配設されてなり、前
    記ガラスエポキシ基板2上に配設された第一の導体回路
    5と前記絶縁層3に配設された第二の導体回路10とが
    電気的に接続されてなるプリント配線板1の製造方法に
    おいて、下記の(a)〜(e)の工程、即ち、 (a)前記第一の導体回路5を有するガラスエポキシ基
    板2のほぼ中央部に開口部6を形成する工程、 (b)前記開口部6に離型性材料7をはめ込む工程、 )前記離型性材料7がはめ込まれたガラスエポキシ
    基板2に、可撓性を有する前記感光性接着剤を塗布し
    後、露光、現像して前記絶縁層3を形成するとともに前
    記第一の導体回路5の一部を露出させる工程、 ()前記絶縁層3及び露出された前記第一の導体回路
    5の表面に無電解銅メッキ13により、第二の導体回路
    10を形成するとともに、前記第一の導体回路5と電気
    的に接続する工程、(e)前記離型性材料7を取り除く工程、 を有することを特徴とするプリント配線板の製造方法。
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