JP3448287B2 - 高分子光酸発生剤を用いたペプチド核酸プローブの製造方法 - Google Patents
高分子光酸発生剤を用いたペプチド核酸プローブの製造方法Info
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Description
erator)を用いたペプチド核酸プローブの製造方法に関
し、より具体的には、高分子光酸発生剤を用いて固体マ
トリックス上に固定されたオリゴペプチド核酸プローブ
のアレイを製造する方法に関する。
ス及び環境のモニタリングに使用されるバイオセンサー
の一種であり、おおまかには、ヌクレオチド配列を同定
するDNAチップと、病原体、抗体、抗原または酵素など
のタンパク質を認識するプロテインチップに分けること
ができる。
ck)によって同定されたDNAの構造は、分子生物学、生化
学などの生命科学分野に大きな影響を与えてきた。DNA
は、4つの異なる塩基であるアデニン(A)、シトシン
(C)、グアニン(G)またはチミン(T)、糖(デオキシリボー
ス)およびリン酸を有する生体高分子であり、非常に安
定な二重らせん構造を形成する。リン酸−糖は、骨格を
形成し、糖に結合した塩基は、相補的な塩基と対を作り
(例えば、AとTおよびGとT)、水素結合により安定化され
る。塩基間の特異的/相補的な水素結合は、アンチセン
ス薬剤などの医薬の開発および特に遺伝子疾患、癌およ
び心臓疾患のための遺伝子治療において非常に重要な役
割を果たす。
めに多大な努力が払われるとともに、遺伝子疾患の診断
及び予防のために可能な限り迅速に莫大な量の遺伝子情
報を提供する方法についての要求が増加している。サン
ガー(Sanger)のDNA配列決定法はポリメラーゼ連鎖反応
(polymerase chain reaction, PCR)によって改善されて
いるにも関わらず、依然としてわずらわしく、時間を浪
費し、高い費用ならびに高度の熟練を必要とする。そこ
で、このような欠点を克服することができる新しい方法
が当業界で考案された。このような必要に応じて、最近
の数年間でDNAチップの制作と利用技術に関する大きい
進歩があった。
満の表面、例えばシリカ、表面誘導体化ガラス、ポリプ
ロピレン、または活性化ポリアクリルアミドなどに固定
された数百から数十万個の範囲の既知のオリゴヌクレオ
チドプローブの高密度マイクロアレイである。DNAチッ
プ上に標的DNA断片を置くと、標的DNA断片はその配列相
補性に従ってチップ上のプローブにハイブリダイズす
る。従って、光学的な方法または放射能化学的方法によ
り検出されるハイブリダイズしたDNAの存在または位置
によって、標的DNAの配列を分析することができる。DNA
チップを援用した方法を用いると、DNA分析システム
を、診断のために極微量のサンプルDNAを用いることが
でき、標的DNA中のいくつかの配列を同時に分析するこ
とができ、従って、遺伝子情報を、簡単に、費用効果的
に、および迅速に取得することができるように、小型化
することができる。
列分析技術は、従来のサンガーの方法よりも迅速かつ容
易に標的遺伝子の配列決定を行うことができるので、画
期的な方法である。サンガーの方法では、蛍光標識また
は放射性同位体標識されたDNA断片をゲル電気泳動によ
り分離する必要があり、時間消費性および技術的困難性
の観点では満足のいくものではない。それに対して、オ
リゴヌクレオチドDNAチップを用いるハイブリダイゼー
ションによる配列決定(SBH)は、蛍光標識または放射性
同位体標識された標的遺伝子断片を、オリゴヌクレオチ
ドプローブを用いてDNAチップ上に配置し、次いで該チ
ップを溶媒で簡単に洗浄することによって、既知のオリ
ゴヌクレオチドプローブと相補的な遺伝子断片を水素結
合により結合させるという原理を利用するものである。
で化合物を反応させ、さらに該固体マトリックス上で有
機反応を行うというMerryfieldの合成法は、反応生成物
の精製において非常に簡便で効率的であるので、生物学
的に重要な酵素および遺伝子のオリゴヌクレオチドのオ
リゴペプチドを合成するのに効率的に用いられてきた
(参照:Fed. Proc.,24:412(1962))。このような方法と
コンビナトリアル・ケミストリーとを組合せた新規で効
率的な合成法が、触媒スクリーニングや薬剤の開発にも
効率的に用いられてきた。さらに、固体マトリックス上
の合成法と、半導体産業で用いられるフォトリソグラフ
ィとの組合せにより、オリゴヌクレオチドプローブのア
レイを調製するための種々の技術が開発され、遺伝子診
断に用いられてきた。この技術は、オリゴヌクレオチド
が化学的に結合する表面誘導体化ガラスの特定の領域の
選択的な活性化を含む。特定の標的領域を活性化するた
めには、所定のパターンにより作製されたフォトリソグ
ラフィックマスク(photolithographic mask)の透過性領
域に光線をあてる。各工程で、マスクのパターンおよび
核酸の組成を制御することにより、特定の核酸を所望の
位置に配置することができる。この技術は半導体装置に
使用される極微細加工技術であるので、爪ほどの大きさ
のチップ上に数百万個のプローブを固定させることがで
きる。
保護基を有する核酸またはアミノ酸を固相表面上に結合
させ、フォトリソグラフィックマスクを用いて表面の選
択した領域を光に曝すことにより該保護基を除去した
後、光不安定保護基を有する核酸またはアミノ酸と反応
させて特定の位置の核酸またはアミノ酸を重合させると
いう新しい直接光分解技術合成方法を教示している(参
照:米国特許第5,445,934号)。この方法は特定位置に
特定の配列/長さを有するオリゴヌクレオチドプローブ
の選択的な合成を可能にするので、所定の位置で所望の
配列および長さを有する種々のオリゴヌクレオチドプロ
ーブの合成において有用である。また、この方法は半導
体装置に使用される極微細加工技術を用いるものである
ので、オリゴヌクレオチドプローブを高密度に製造する
のに非常に有用である。Fordorらはまた、サンガーの方
法より極めて容易で迅速なオリゴヌクレオチドプローブ
を用いる配列決定法が高密度オリゴヌクレオチドプロー
ブの作製に有用であることを提示した。しかし、これに
は以下のような欠点があることを示している。すなわ
ち、光不安定保護基の除去は、光源の強さに比例するの
で、高密度チップの作製のための極微細加工において不
都合な役割を果たす。
るために使用されるフォトレジスト(以下、「PR」とい
う)を用いたリソグラフ加工は、DNAチップの密度を改善
するための必須の技術として注目を浴びてきた。半導体
チップのサイズまたは容量は、リソグラフ加工の空間的
な解像度によって左右されるので、リソグラフ加工が半
導体産業とマイクロエレクトロニックス産業において先
導的な役割を果たしてきた。リソグラフ加工は、露光領
域と非露光領域の間の溶解度の差を利用するものであ
る。露光領域の溶解度の減少をネカティブシステムと呼
び、溶解度の上昇をポジティブシステムと呼び、半導体
チップの製造には主にポジティブを使用する。このよう
なリソグラフ加工を利用すると、チップの制限された面
積上により多くのオリゴヌクレオチドプローブを配列さ
せることができる。
システム(参照:米国特許第5,658,734号)及び光酸パタ
ーン配列システム(以下、「PPA」という、参照:米国特
許第5,843,655号)に適用されてきた。
下、「PR加工」という)は、既に半導体産業のために開
発または商用化されている材料を使用することができる
という利点がある。このシステムによると、光照射によ
ってパターンを形成し、洗浄するとその表面上で標準的
な固相核酸合成反応が起こり、最終的にはヌクレオチド
が結合する。PRとしては、表面との接着力が優れている
ジアゾキノン/クレゾール-ノボラックが挙げられるが、
これは、アイ-ライン(i-line、365nm)で優れたパターン
特性を有することが示され、16メガDRAM加工に使用され
ている。しかし、このようなPRはアルカリ溶液([OH-]
>0.1M)の条件で現像をするが、この条件では塩基のア
ミノ基を保護するアミド結合の開裂を引き起こす。この
ような現像の問題を克服するために、PRの下の保護コー
ティングが提唱された(参照:J. Vac.Sci. Tech., B7
(6):1734, 1989)。
わち、第1は主に、PRのコーティング、露光及び現像を
伴うPRのパターン形成であり、第2は酸性溶液による保
護基の除去および非露光領域の除去であり、および第3
は核酸の結合と後処理である。PRシステムを用いるリソ
グラフ加工は、高い解像度を得るには優れているが、前
記のような複雑な加工が主要な欠点であった。
高めるために、当業界でPPAシステムが提唱された。PPA
システムは高分子マトリックスに光酸発生剤(以下、「P
AG」という)を混合して用いるので、露光された領域の
みで酸が生成し、熱処理の後に保護基の除去が起こる。
従って、PR加工において用いられる2つの別個の工程
を、1工程で行うことができる。しかし、このPPAシス
テムにもいくつかの問題点が報告されている。例えば、
PR加工では保護基を接触させ、除去するために大量の酸
溶液を用いるので、酸溶液の濃度または量によって影響
されないが、PPAシステムによって生成した酸は高分子
マトリックス上に残るので、酸の量を合わせるために
は、より多くのPAGを添加しなけらばならない。しか
し、一定濃度以上になるとPAGドメインが生じることに
なり光を散乱させて微細パターン形成を妨害する。換言
すれば、パターン形成の安定性と再現性のために用いら
れる過剰量のPAGにより加工の効率が低下する。さら
に、生成する酸は、熱によって高分子から保護基の表面
(実際には熱源から近い部分)に拡散しなければならな
いが、ガラス板をホットプレートに載せて加熱すると、
生成する酸は保護基から反対の方向に拡散し、従って効
率が低下する。さらに、カップリングをするための高分
子とPAGの混合フィルムは、アセトンまたはメチルエチ
ルケトンのような有機溶剤によって除去する必要があ
り、このような有機溶剤は費用が高い。
の問題点は、オリゴヌクレオチドプローブと標的遺伝子
および遺伝子中に存在する点突然変異とのハイブリダイ
ゼーションの過程における結合/解離の程度、速度の低
下である。例えば、Nielsenらは、負に荷電したオリゴ
ヌクレオチド間の反発力がオリゴヌクレオチドのハイブ
リダイゼーションの間のアニーリング強度ならびに速度
を低下させるという知見に基づいて、改変されたMarryf
ieldのペプチド合成法により合成することができるオリ
ゴヌクレオチドの代わりとなる中性に荷電したペプチド
核酸(以下、「PNA」という)を開発した。PNAはオリゴヌ
クレオチドとのハイブリダイゼーションの間の結合力お
よび速度を大幅に改善し、非相補的なオリゴヌクレオチ
ド間の結合の低下により認識され得る特定の遺伝子にお
ける単一の塩基変異の検出に実際に応用されている(参
照:Nature、8:53、1993)。このような長所により、現
在PNAを用いるアンチセンス治療剤について研究されて
いる。しかし、上述した長所にも関わらず、フォトリソ
グラフィックマスクによる高密度ペプチド核酸プローブ
合成にRNAを用いることについては報告されていない。
来のDNAチップの製造において直面した問題を克服する
ような、固体マトリックス上で多様なヌクレオチド配列
を有するペプチド核酸及びオリゴヌクレオチドを合成す
るための代替的な方法の開発及び研究が絶えず求められ
てきた。
ド核酸プローブを製造するための効率的な方法を提供す
るために鋭意努力した結果、高分子光酸発生剤(以下、
「高分子PAG」という)を用いることによって、固体マト
リックス上に固定された、負に荷電したオリゴヌクレオ
チドに関連する問題を解消することができる一方、従来
の高分子にPAGを用いるPPA法の問題を克服するような、
ペプチド核酸のアレイを製造するための極めて効率的な
方法を開発した。
用いて固体マトリックス上で多様なヌクレオチド配列を
有するペプチド核酸プローブのアレイを製造するための
方法を提供することである。
用いて調製された多様なヌクレオチド配列を有するペプ
チド核酸プローブのアレイを提供することである。
は、アミノアルキルオキシシランのアルコール溶液で固
体マトリックスの表面を誘導体化し、固体マトリックス
に酸に不安定な保護基を有するリンカーを結合させ、該
固体マトリックスを高分子光酸発生剤(PAG)でコーティ
ングし、このようにコーティングされた該固体マトリッ
クスを露光して酸を発生させることによって酸に不安定
な保護基を除去し、該固体マトリックスをアルカリ性溶
液または有機溶媒で洗浄して残っている高分子光酸発生
剤を除去し、酸に不安定な保護基を有するモノマーペプ
チド核酸を該固体マトリックスに結合させ、上記の工程
を繰り返すことにより調製される。
が500〜1,000,000である高分子であり、主鎖または側鎖
にスルホニウム塩を有し、側鎖に有機光酸発生基をも有
し、露光することにより、酸を生成する。
ン、シトシン、グアニンまたはチミンなどの塩基がアミ
ド結合により連結されたN-(2-アミノエチル)グリシン主
鎖を有する。ペプチド核酸は、主鎖のアミノ基と他のペ
プチド核酸モノマーのカルボキシル基との間のアミド結
合により合成される。現在、酸に不安定なt-ブチルオキ
シカルボニル保護基またはアルカリに不安定なフルオロ
メチルオキシカルボニル保護基により保護されたペプチ
ド核酸モノマーが商業的に入手可能であるが、それらに
おいては、アデニン、シトシン、及びグアニンの環外ア
ミノ基は、酸に安定なジフェニルメチルオキシカルボニ
ル保護基またはベンジルオキシカルボニル保護基により
保護されている。本発明者らは、主鎖のアミノ基が酸に
不安定なt-ブチルオキシカルボニルにより保護されたモ
ノマーを用い、環外アミノ基が安定なp-メトキシベンゾ
イル基またはイソブタノイル基により保護された塩基を
合成した。
で公知のオリゴヌクレオチドの合成方法(参照:Acc. C
hem. Res., 24:278, 1991)と同様な様式で行うことがで
きる。Nielsonらは、固相を用いることによりオリゴペ
プチド核酸を合成した。第1に、固相支持体のアミノ基
を、主鎖のアミノ基が酸または塩基に不安定な官能基に
より保護された特定の塩基(A,C,GまたはT)のペプチド核
酸のカルボキシル基と反応させて、アミド結合の形態で
互いに連結する。次に、得られたものを、酸または塩基
で処理して、アミノ保護基を除去してアミノ基を露出さ
せ、続いて主鎖のアミノ基が酸または塩基に不安定な官
能基により保護された特定の塩基のペプチド核酸のカル
ボキシル基と反応させて、アミド結合の形態で互いに連
結させた後、前記工程を所望の塩基配列および塩基数の
オリゴペプチドを得るまで繰り返し、最後に強酸で処理
して化学反応により固相支持体から環外アミノ保護基を
遊離させる。この方法は、過剰なペプチド核酸(5当量)
の可能な限り完全な反応ならびに残ったモノマーおよび
反応物を濾過し、有機溶媒で洗浄することによる、有機
溶媒に耐性を有する固相支持体上のペプチド核酸の容易
な精製を確実にするという意味で望ましいものである。
固相合成法に基づいて、本発明者らは、多様なヌクレオ
チド配列を有するバイオチップを調製し、最終的には、
上記で説明した高分子PAG法を用いることにより、固体
マトリックス上に固定されたペプチド核酸プローブのア
レイを製造した。
核酸プローブの製造方法において用いられる高分子PAG
およびペプチド核酸モノマーは、それぞれ製造例1およ
び2、ならびに製造例3によって製造されたものであ
る。
6mlのN,N'-ジメチルアセトアミドに溶解させて、0.077
モルのトリエチルアミンを加えた後、0℃に冷却した。
0.026モルのセバコニルクロライドを26mlヘプタンに溶
解させたものに、前記溶液を加え、室温にて一晩反応さ
せた。上層のヘプタンを分離させて、混合物から穏やか
に除去した後、N,N'-ジメチルアセトアミド層を400mlの
ジエチルエテルに滴下して、沈澱物を得た。沈殿を濾過
して乾燥させることにより、塩化物塩形態の高分子PAG
を得た。得られた物質を20mlのメタノールに再溶解した
後、水中で再度沈殿させ、濾過および乾燥して表題の化
合物を得た。
ルを、10mlのメタノールに溶解し、これにパラトルエン
サルホン酸のナトリウム塩0.03モルを添加した。3時間
インキュベートした後、7mlのメタノールを除去して該
溶液を濃縮し、水を添加して沈澱させた。沈殿物を濾過
して乾燥し、高分子PAGのp−トルエンスルホン酸塩を得
た。
ン酸塩 製造例1で得られた塩化物塩の形態の高分子PAG 0.01モ
ルを、10 mlのメタノールに溶解し、これに1-ナフトー
ル-5-スルホン酸のナトリウム塩0.03モルを添加した。3
時間インキュベートした後、7mlのメタノールを除去し
て該溶液を濃縮し、水を添加して沈澱させた。沈殿物を
濾過して乾燥し、高分子PAGの1-ナフトール-5-スルホン
酸塩を得た。
2-アントラセンスルホン酸塩 製造例1で得られた塩化物塩の形態の高分子PAG 0.01モ
ルを、10mlのメタノールに溶解し、これに9,10-ジメト
キシ-2-アントラセンスルホン酸塩0.012モルを添加し
た。3時間インキュベートした後、いくらかのメタノー
ルを除去して該溶液を濃縮し、水を添加して沈澱させ
た。沈殿物を濾過して乾燥し、高分子PAGの9,10-ジメト
キシ-2-アントラセンスルホン酸塩を得た。
サンとを、2Lの丸底フラスコ中で撹拌しながら混合し
た。その後、600mLのジ-t-ブチルカルボネート溶液(1,4
-ジオキサン中の43.65g(0.20mol))を加え、一晩中撹拌
しながらインキュベートした。次いで、溶媒を減圧下で
蒸発させ、残っている溶液に水1Lを加えた。水の添加に
より白色の沈殿が生成したが、このように生成された沈
殿物を濾過して除去し、ジクロロメタンで抽出した。こ
のように得られた有機層を合わせて硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下で濃縮して、27.21g(1.36mol)のt-ブチ
ルN-(2-アミノエチル)グリシネート(白色の粉末)を得
た。t-ブチルN-(2-アミノエチル)グリシネート5.00g(0.
25mol)を、2L反応フラスコに入れて500mLのジクロロメ
タンに溶解した後、トリエチルアミン41.5mL(0.30mol)
を一度に加え、ベンジル-2-ブロモアセテート62.54g(0.
27mol)を滴加し、一晩中撹拌しながらインキュベートし
た。その後、この反応物をジクロロメタンで抽出して水
と食塩水(brine)で順に洗浄した。次に、得られた有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下で濃縮し、粗化
合物を得た。該粗化合物を、5%のメタノール/ジクロロ
メタンを移動相として用いてシリカゲルカラムクロマト
グラフィーを実施して分画し、白色の粉末のベンジルN-
[2-(t-ブトキシル)アミノエチル]グリシネート47.80g
(0.16mol)を得た。
せた後、34.12g(0.20mol)のp-アニソールクロライドを5
5分に渡ってゆっくり添加し、攪拌しながら100℃にて4
時間反応させた。その後、反応温度を室温に下げ、さら
に撹拌しながら一晩反応させ、ピリジンを減圧下で蒸留
して除去した。生成した粗化合物をイソプロパノールと
メタノール中でそれぞれ再結晶して、33.7g(0.13mol)の
白色粉末N6-(4-メトキシベンゾイル)アデニンを得た。3
3.66g(125mmol)のN6-(4-メトキシベンゾイル)アデニン
と400mLのDMFとを、1Lの反応フラスコに入れて60%NaH6.
0g(150mmol)を少しずつ加えた後、t-ブチルブロモアセ
テート22.15mL(150mmol)を1時間15分に渡って滴加し
て、一晩反応させた。この反応の溶媒であるDMFを減圧
下で除去し、水を加えると沈殿物が得られた。この沈殿
物を分離してメタノール中で再結晶して、白色固体とし
てN6-(4-メトキシベンゾイル)-9-(t-ブトキシカルボニ
ルメチル)アデニン33.46g(87.30mmol)を得た。33.46g(8
7.30mmol)のN6-(4-メトキシベンゾイル)-9-(t-ブトキシ
カルボニルメチル)アデニンと800mLのジクロロメタンを
2Lの反応フラスコに入れて、室温にて混合し、この反応
物に180mLのTFAを加えた。反応物を同じ温度で一晩撹拌
しながら混合した。ジクロロメタンとTFAを減圧下で除
去した後、得られた粗化合物を450mLの1N NaOHに溶解さ
せた。該溶液をジクロロメタンで洗浄し、6N HClで酸
性化して、白色固体としてN6-(4-メトキシベンゾイル)-
9-(カルボニルメチル)アデニン23.54g(71.9mmol)を得
た。N6-(4-メトキシベンゾイル)-9-(カルボニルメチル)
アデニン21.99g(67.20mmol)、ベンジルN-[2-(t-ブトキ
シル)アミノエチル]グリシネート20.72g(62.7mmol)およ
び200mLのジクロロメタンを、500mLの反応フラスコ中に
順番に加えた後、1-(3-ジメチルアミノプロピル)-3-エ
チルカルボジアミド14.17g(73.92mmol)を一度に加え
た。反応混合物を室温にて一晩撹拌しながらインキュベ
ートし、ジクロロメタンと水で抽出し、食塩水で洗浄し
た。有機層を硫酸マグネシウム乾燥させて、減圧下で濃
縮して粗化合物を得た後、フラッシュカラムクロマトグ
ラフィー(移動相:5%メタノール/ジクロロメタン)を通
して精製し、ベンジルN-[2-(t-ブトキシルカルボニル)
アミノエチル]-N-[(N6-(4-メトキシベンゾイル)-アデニ
ン-9-イル)アセチル]グリシネート28.24g(45.70mol)を
白色の粉末として得た。28.24g(45.70mol)の前記化合物
に400mLのメタノールを加えた後、撹拌しながら1.0gの
パラジウム-活性炭(Pd/C)を加えた。水素風船により作
られた水素環境下で、反応フラスコを3時間撹拌した。
触媒をセライトを通じて濾過により除去し、溶媒を減圧
下で蒸発させた。得られた物質を200mLの1N NaOHに溶解
し、ジクロロメタンで洗浄して6N HClで酸性化した
後、それぞれジクロロメタンとヘキサンで再結晶して、
表題の生成物として17.07g(32.40mmol)のN-[2-(t-ブト
キシカルボニル)アミノエチル]-N-[(N2-(4-メトキシベ
ンゾイル)-アデニン-9-イル)アセチル]グリシン(白色粉
末)を得た。
(DMF)に加えて、トリエチルアミン6.2mL(44mmol)とイソ
ブチリルクロライド4.6mL(44mmol)を加えて、反応を120
℃で一晩、一定に撹拌しながら行った。次いで、反応温
度を室温に下げてメタノール20mLの添加により反応を停
止させた後、反応溶液を減圧濃縮し、熱いイソプロパノ
ールを添加して沈殿させた。該沈殿物を濾過分離して、
1.84g(8.32mmol)のN2-(イソブタノイル)グアニン(白色
粉末)を得た。N2-(イソブタノイル)グアニン1.83g(8.27
mmol)を50mLのDMFに添加し、60% NaH 0.40g(10mmol)を
加えた。この懸濁液を1時間室温で撹拌してt-ブチルブ
ロモアセテート1.35mL(9.14mmol)を加えて同一温度でさ
らに2時間撹拌しながら混合した。この反応溶液をCO2 /
メタノールで処理して減圧濃縮させ、粗化合物を得た。
該粗化合物を酢酸エチルで抽出して収得した有機相の層
を減圧濃縮させて、白色粉末であるN2-(イソブタノイ
ル)-9-(t-ブトキシカルボニルメチル)グアニンとN2-(イ
ソブタノイル)-7-(t-ブトキシカルボニルメチル)グアニ
ンの混合物を収得した。前記収得した混合物に50mLのジ
クロロメタンを加えた後、撹拌しながら19mLのTFAを
加えて、この最終反応混合物を二日間撹拌しながらイン
キュベートした。次いで、反応物を減圧濃縮させてN2-
(イソブタノイル)-9-(カルボキシメチル)グアニンとN2-
(イソブタノイル)-7-(カルボキシメチル)グアニンの混
合物を1.5g(5.64mmol)収得した。前記収得した混合物を
酢酸エチルで処理すると白色沈澱物が生成した。この生
成した沈殿物を濾過分離して減圧乾燥させて、0.72g(2.
57mmol)のN2-(イソブタノイル)-9-(カルボキシメチル)
グアニンを収得した。N2-(イソブタノイル)-9-(カルボ
キシメチル)グアニン690mg(2.47mmol)、ベンジルN-[2-
(t-ブトキシル)アミノエチル]グリシネート922mg(2.99m
mol)及びEDC 577mg(3.01mmol)を20mLのDMF中に溶解し
て、この反応混合物を室温で3時間一定に撹拌した。そ
の後、DMFを減圧蒸留で除去して、得られた化合物を酢
酸エチルで抽出して、収得した有機相の層を減圧濃縮さ
せた。この生成された粗化合物をジクロロメタン10mLに
溶解させた後、ヘキサンで再結晶させて白色沈殿物を収
得した。この収得した沈殿物を濾過分離してさらにフラ
ッシュカラムクロマトグラフィー(移動相:10%メタノー
ル/ジクロロメタン)で精製して、ベンジルN-[2-(t-ブト
キシルカルボニル)アミノエチル]-N-[(N2-(イソブタノ
イル)-グアニン-9-イル)アセチル]グリシネートを1.24g
(2.18mmol)収得した。この化合物1.22g(2.14mmol)に25m
Lのメタノールを加えて撹拌しながら0.25gの10% Pd/C
と混合した。反応フラスコを水素バルーンにより作り出
した水素環境下で、2時間45分間撹拌した後、セライト
を通じて濾過して触媒を除去し、濾液を減圧濃縮させ
た。この粗化合物を酢酸エチル中に溶解し、一晩中撹拌
して白色沈殿物を得た。この沈殿物を濾過分離し、乾燥
して0.92g(1.91mmol)のN-[2-(t-ブトキシルカルボニル)
アミノエチル]-N-[(N2-(イソブタノイル)-グアニン-9-
イル)アセチル]グリシンを白色粉末状で収得した。
アニソールクロライド37.53g(0.22mol)を45分に渡って
ゆっくりと滴加させた後、反応温度を120℃まで徐々に
上げて一晩中撹拌しながら同じ温度で反応させた。その
後、反応生成物を減圧濃縮すると粗化合物が生成され
た。粗生成物をメタノールに溶解させて加熱した後、冷
却して、沈殿物を得た。この沈殿物を濾過分離し乾燥し
て25.78g(0.11mol)のN4-(4-メトキシベンゾイル)シトシ
ンを収得した。このように収得したN4-(4-メトキシベン
ゾイル)シトシン25.75g(0.11mol)と500mLのDMFを1Lの反
応フラスコに入れて、60% NaH 5.04g(0.13mol)を滴加
した後、t-ブチルブロモアセテート18.61mL(0.13mol)を
滴加した。この反応混合物を室温で一晩撹拌した後、DM
Fを減圧下で除去した。このように生成された粗生成物
をメタノールで再結晶して、白色粉末である1-(t-ブト
キシカルボニルメチル)-N4-(4-メトキシベンゾイル)シ
トシンを22.52g(62.60mmol)収得した。22.52g(62.60mmo
l)の該化合物と600mLのジクロロメタンを2L反応フラス
コに入れて室温で混合した後、この反応物に130mLのTFA
を加えた。この反応混合物を室温で一晩撹拌した。次い
で、ジクロロメタンとTFAを減圧下で除去して収得した
粗化合物を1N NaOH 450mLに溶解させて6N HClで酸性
化すると白色沈澱物が生成された。この沈殿物を濾過分
離して乾燥させて18.82g(62.10mmol)の1-(カルボキシル
メチル)-N4-(4-メトキシベンゾイル)シトシンを白色粉
末として収得した。この化合物18.82g(62.10mmol)をベ
ンジルN-[2-(t-ブトキシルカルボニル)アミノエチル]グ
リシネート12.05g(68.3mmol)と500mLの反応フラスコ中
で混合した後、120mLのDMFを加えて、EDC13.09g(68.30m
mol)を加えた。この反応混合物を室温で一晩撹拌して、
DMF溶媒を減圧下で除去した。ここで生成された粗生成
物をジクロロメタンで抽出して減圧濃縮させた後、ジク
ロロメタンとヘキサンでそれぞれ再結晶して、白色沈殿
物であるベンジルN-[2-(t-ブトキシカルボニル)アミノ
エチル]-N-[(N4-(4-メトキシベンゾイル)-シトシン-1-
イル)アセチル]グリシネートを26.90g(45.30mmol)収得
した。26.90g(45.30mmol)のこの化合物を850mLのメタノ
ール中に溶解して撹拌させながら1.0gのPd/Cを加えた。
反応溶液を水素バルーンにより作り出された水素環境下
で4時間撹拌した。触媒をセライトを通じて濾過して除
去した後、濾液を減圧濃縮した。このように収得した物
質を1N NaOH 200mLに溶解させ、ジクロロメタンで洗
浄して6N HClで酸性化した後、ジクロロメタンとヘキ
サンでそれぞれ再結晶すると18.83g(37.40mmol)のN-[2-
(t-ブトキシカルボニル)アミノエチル]-N-[(N4-(4-メト
キシベンゾイル)-シトシン-1-イル)アセチル]グリシン
(白色粉末)を得た。
及びDMF1.20mLを2Lの丸底フラスコ中で混合した後、生
成された白色懸濁液にエチルブロモアセテート44.40mL
(0.40mol)を一度に加えて、室温で48時間撹拌した。次
いで、この懸濁液を濾過して溶解されない固体を除去
し、この濾液中のDMFを減圧下で除去した。反応温度を0
℃に下げて沈殿を形成させた後、400mLの水と11mLの6N-
HClと混合して30分間撹拌し濾過した。白色沈殿である1
-(エトキシカルボニルメチル)チミンを収得した。この
化合物を水400mL及び2N-NaOH 200mLと1Lの反応フラス
コ中で混合し、10分間加熱還流させた。このように加熱
還流する間白色懸濁液が透明な溶液に変わった時点で、
反応溶液を0℃に冷却し、6N-HCl 90mLを加えると白色
沈殿物が生成した。生成した沈殿物を濾過分離して水で
洗浄した後、真空オーブンで乾燥して白色粉末の1-(カ
ルボキシメチル)チミンを47.56g(0.26mol)得た。この化
合物10.94g(54.40mmol)とベンジルN-[2-(t-ブトキシカ
ルボニル)アミノエチル]グリシネート15.27g(49.50mmo
l)を250mLのDMF中に溶解させて、EDC 11.39g(59.40mmo
l)を滴加した後、室温で一晩中撹拌した。一晩撹拌させ
た反応溶液の溶媒であるDMFを減圧下で除去させた後、
残りの溶液に水500mLを加えてジクロロメタンで抽出し
た。収得した有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し減圧濃
縮させて粗化合物を得た。収得した粗化合物をフラッシ
ュカラムクロマトグラフィー(移動相:10%メタノール/
ジクロロメタン)で精製して、白色粉末であるベンジルN
-[2-(t-ブトキシカルボニル)アミノエチル]-N-((チミン
-1-イル)アセチル]グリシネート21.76g(45.90mmol)を得
た。この化合物21.76g(45.90mmol)を400mLのメタノール
に溶解させて10%Pd/C 5.0gと混合した。水素バルーン
により作り出された水素環境下でさらに4時間30分間撹
拌した。触媒をセライトを通して濾過して除去し、濾液
に1N NaOH 50mLと水100mLを加えた後、ジクロロメタ
ンで洗浄して6N-HClで酸性化した。このように収得した
混合物を酢酸エチルで抽出して収得した有機相を回収
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮した後、さら
に真空オーブンで乾燥して白色粉末状あるN-[2-(t-ブト
キシカルボニル)アミノエチル]-N-((チミン-1-イル)ア
セチル]グリシン17.05g(43.60mmol)を収得した。
多様なヌクレオチド配列を有するペプチド核酸のアレイ
の製造方法を詳細に説明する。
ーの結合 アミノアルキルオキシシランのアルコール溶液で固体マ
トリックスの表面を誘導体化した後、固体マトリックス
上に、酸に不安定な保護基を有するリンカーを結合す
る。
に耐性を有する材料(例えば、シリコン、表面誘導体化
ガラス、ポリプロピレンまたは活性化アクリルアミドな
ど、好ましくは表面誘導体化ガラス)で作製されたプレ
ート、より好ましくは顕微鏡用ガラスプレートの表面上
にアミン基を固定させるために、0.05〜0.15%(v/v)、最
も好ましくは0.1%(v/v)のアミノアルキルオキシシラン
溶液、好ましくはアミノプロピルトリエトキシシランの
アルコール(最も好ましくは、エタノール)溶液に固体マ
トリックスを浸して室温で3〜7分間、最も好ましくは5
分間混合し、アルコール、最も好ましくはエタノールで
洗浄した後、真空オーブンで100〜140℃、より好ましく
は110〜130℃、最も好ましくは120℃で、10〜30分間、
好ましくは15〜25分間、最も好ましくは20分間乾燥す
る。次いで、アルゴンガス下で10〜14時間、最も好まし
くは12時間放置して、DMF中に浸し、ジクロロメタンで
充分洗浄する。
ミン基に、酸に不安定な保護基を有するリンカーを結合
させるために、0.05〜0.5mM、より好ましくは0.2mMのジ
イソプロピルエチルアミンを含有する0.02〜0.2mM、最
も好ましくは0.1mMのアミノアルキルカルボン酸、最も
好ましくは6-N-t-ブトキシカルボニルアミノカプロン酸
が溶解されたN-メチルピロリドン(NMP)溶液を調製し、
0.05〜0.5mM、最も好ましくは0.12mM HATU(o-(7-アザ
ベンゾトリアゾール-1-イル)-1,1,3,3,-テトラメチルウ
ロニウムヘキサフルオロホスフェート)をNMPに溶解させ
た溶液を製造して、前記二つの溶液を混合して1〜5分、
最も好ましくは2分間活性化させた後、前記固体マトリ
ックスを浸して40〜90℃、最も好ましくは60℃で30分〜
4時間、好ましくは1〜3時間、最も好ましくは2時間撹拌
しながらインキュベートする。固体マトリックス上の未
反応のアミン基は前記固体マトリックスを1:2〜1:4(v/
v)、最も好ましくは1:3(v/v)の無水酢酸/ピリジン溶液
中で0.5〜2時間、最も好ましくは1時間撹拌しながらイ
ンキュベートすることによりアセチル基でキャッピング
する。
グする:リンカーまたは単量体が結合した固体マトリッ
クスに、有機溶媒、最も好ましくはNMP中の5〜50%(w/v)
の高分子PAGを用いて、1,000〜5,000rpm、最も好ましく
は3,000rpmでスピンコーティングする。
酸を発生させることによって、酸に不安定な保護基を除
去する:コーティングされた固体マトリックスを50〜10
0℃で1分間、最も好ましくは80℃で30秒〜2分間ソフト
ベーキングし、短波長白色光でフォトマスクを用いて6
秒〜2分間、最も好ましくは1分間露光させた後、50〜10
0℃で3分間、最も好ましくは80℃で30秒〜5分間、再度
ベーキングして酸を発生させ、最終的に露光された位置
の保護基を選択的に除去する。
で洗浄し、残っている高分子PAGを除去する:第3工程の
完了後、残っている高分子PAGは希釈水酸化トリアルキ
ルアンモニウム、NaOH溶液、KOH溶液または有機溶剤で
洗浄して除去する。
ノマーペプチド核酸を結合させる:選択的に露出された
固体マトリックス上のアミン基を製造例3で収得された
ペプチド核酸モノマーと反応させる。ペプチド核酸モノ
マーが10〜20μM、最も好ましくは15μMで溶解されたNM
P溶液に、ジイソプロピルエチルアミンを、溶解した核
酸モノマーに対して1:1〜1:5(重量比)で添加して溶解さ
せた溶液と、溶解した核酸モノマーに対して1:1〜1:2
(重量比)でHATUを含有する別のNMP溶液を調製する。こ
の二つの溶液を混合して1〜5分間活性化させた後、固体
マトリックスと50〜100℃、最も好ましくは60℃で1〜3
時間、最も好ましくは2時間撹拌しながら反応させる。
この際、未反応のアミン基は1:2〜1:4(v/v)、最も好ま
しくは1:3(v/v)の無水酢酸/ピリジン溶液中で0.5〜2時
間、最も好ましくは1時間撹拌しながらインキュベート
することによりアセチル基でキャッピングする。
繰り返して、固体マトリックス上に固定化されたペプチ
ド核酸プローブのアレイを製造する。
ちペプチド核酸のアミン基は、DMF中0.5〜2mM、最も好
ましくは1mMの蛍光イソチオシアネートと共に室温で30
分〜2時間、最も好ましくは1時間インキュベートするこ
とにより蛍光標識した後、DMFとエタノールを用いて順
に洗浄する。暗室に保管して、共焦点蛍光レーザーで撮
影する。
配列を有するペプチド核酸のアレイを製造する方法は、
従来技術に対して、以下に示す利点を有する: 第一に、本発明の工程は、従来のPPA工程が高分子マト
リックスと混合したモノマーPAGを使用するのに対し
て、高分子PAGを適当な溶剤に溶解させて直接スピンコ
ーティングを実施できるという点で望ましい; 第二に、PPA工程で発生した酸は、高分子マトリックス
とは別に作用して、脱保護のための酸の実際の量は少な
くなるが、本発明の高分子PAG工程ではPAG自体が脱保護
すべき基と接触していて、より多量の発生酸が脱保護反
応により関わる; 第三に、PAGが高分子主鎖に直接結合されていて、PAGが
工程中に発生する熱または化学物質に対して安定とな
り、コーティング中にドメインが形成されることなく最
小限の厚さの良質パターンを得ることができ、露光され
た光が底まで容易に到達し酸を発生させて、酸の拡散も
促進することができる; 第四に、パターン工程の後、高分子PAGをアルカリ性希
釈溶液を用いて洗浄することができるので経済的であ
る。
的に説明する。これら実施例は専ら本発明を具体的に説
明するためのものであり、これら実施例により本発明の
技術的範囲を制限するものではない。
ール1L、水12mL、水酸化ナトリウム120g)に浸して、水
で数回洗浄した後、空気中で乾燥した。次いで、該ガラ
スプレートを95%エタノールで洗浄し、0.1%アミノプロ
ピルトリエトキシシランのエタノール溶液に浸し、室温
で5分間撹拌した後、再度95%エタノールを用いて3回洗
浄し、真空オーブンで120℃で20分間乾燥した。その
後、該ガラスプレートをアルゴンガス下で12時間放置し
て、DMF中に浸した後、ジクロロメタンで洗浄し、固体
マトリックスである顕微鏡用ガラスプレート上にアミン
基を固定させた。
アミノカプロン酸および0.2mMのジイソプロピルエチル
アミンを含有する0.5mlのNMP溶液と、0.12mMのHATUを含
有するNMP溶液とを、2分間混合した。この溶液に前記固
体マトリックスを60℃で2時間撹拌しながら浸すことに
より、前記表面誘導体化されたガラスプレート上にリン
カーを結合させた。次いで、1:3(v/v)の無水酢酸/ピリ
ジン溶液中で1時間撹拌しながらインキュベートするこ
とによって、未反応のアミン基をアセチル基でキャッピ
ングした。
するようにNMP中に溶解し、前記実施例1-1で調製された
酸に不安定な保護基を含有するリンカーが結合されたガ
ラスプレート上に3,000rpmでスピンコーティングした。
コーティングされたガラスプレートを80℃で1分間ソフ
トベーキングし、短波長白色光でフォトマスクを用いて
露光させ、再度80℃で3分間ベーキングし、そして酸を
発生させて露光された位置の保護基を選択的に除去し
た。
ト上に残っている高分子PAGを、1%水酸化トリアルキル
アンモニウムで洗い流した。製造例3で調製したペプチ
ド核酸モノマー0.3gを含有するNMP溶液にジイソプロピ
ルエチルアミン0.3gを溶解させた溶液と、HATU0.4gを含
有する別のNMP溶液とを混合して2分間活性化させた。こ
の活性化溶液中に保護基が選択的に除去されたガラスプ
レートを2時間撹拌しながら浸して、ガラスプレート上
の脱保護化アミン基にペプチド核酸モノマーを結合させ
た。ガラスプレートを1:3(v/v)の無水酢酸/ピリジン溶
液中で1時間撹拌しながらインキュベートすることによ
り、未反応のアミン基をアセチル基でキャッピングし
た。
ング、フォトマスクを用いた露光、保護基の除去、アミ
ン基が保護されたペプチド核酸モノマーとの反応、なら
びにキャッピングの工程を繰り返して行い、ガラスプレ
ート上のペプチド核酸を所望の長さまで伸長させた。
の蛍光イソチオシアネートと共に室温で1時間インキュ
ベートして蛍光標識し、DMF及びエタノールの順で洗浄
して、乾燥させて暗室に保管した。上記のガラスプレー
トを分光蛍光計分析し、10μ解像度で顕微鏡画像を得る
ことができる。
DNAチップの製造に使用し得る固体マトリックス上に固
定化された多様なヌクレオチド配列を有するペプチド核
酸プローブのアレイを製造する方法を提供する。本発明
によると、従来のDNAチップの製造に使用されたPRシス
テムとPPAシステムの問題点を克服し、高分子光酸発生
剤を用いることによって、工程を単純化して効率を高め
ることができ、従来の負に荷電したオリゴヌクレオチド
プローブの有望な代替物として中性のペプチド核酸プロ
ーブを製造することができる。
明の精神または範囲から逸脱することなく、本発明に特
定の変化および変更を加えることができることを理解す
るだろう。
Claims (11)
- 【請求項1】 高分子光酸発生剤を使用することにより
固体マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プロー
ブのアレイの製造方法であって、以下の工程: (i)アミノアルキルオキシシランのアルコール溶液で固
体マトリックスの表面を誘導体化し、固体マトリックス
上に、酸に不安定な保護基を有するリンカーを結合させ
る工程; (ii)前記固体マトリックスを高分子光酸発生剤(polymer
ic photoacid generator;PAG)でコーティングする工
程; (iii)前記コーティングされた固体マトリックスを露光
させて酸を発生させることにより、酸に不安定な保護基
を除去する工程; (iv)前記固体マトリックスをアルカリ性溶液または有機
溶媒で洗浄することによって、残りの高分子光酸発生剤
を除去する工程;および、 (v)前記固体マトリックスに、酸に不安定な保護基を有
するモノマーペプチド核酸を結合させる工程、ならびに
前記工程(ii)〜(v)を繰り返し行うこと、 を含む前記方法。 - 【請求項2】 前記固体マトリックスが有機溶媒に耐性
のシリコン、表面誘導体化ガラス、ポリプロピレンまた
は活性化アクリルアミドから作製されたプレートであ
る、請求項1記載の固体マトリックス上に固定化された
ペプチド核酸プローブのアレイの製造方法。 - 【請求項3】 前記固体マトリックスの表面が、0.05〜
0.15%(v/v)のアミノアルキルオキシシランのアルコール
溶液に浸し、室温で3〜7分間混合し、アルコールで洗浄
して100〜140℃で10〜30分間乾燥させ、アルゴンガス下
に10〜14時間放置し、そしてジメチルホルムアミド及び
ジクロロメタンで洗浄して、固体マトリックスにアミン
基を固定させることにより誘導体化される、請求項1記
載の固体マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プ
ローブのアレイの製造方法。 - 【請求項4】 酸に不安定な保護基を有するリンカーが
アミノアルキルカルボン酸である、請求項1記載の固体
マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プローブの
アレイの製造方法。 - 【請求項5】 固体マトリックス上のアミン基へのリン
カーの結合が、0.02〜0.2mMのアミノアルキルカルボン
酸のNMP(N-メチルピロリドン)溶液および0.05〜0.5mMの
ジイソプロピルエチルアミンと、0.05〜0.5mMのHATU(o-
(7-アザベンゾトリアゾール-1-イル)-1,1,3,3,-テトラ
メチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート)のNMP溶
液とを混合し、1〜5分間活性化させ、前記固体マトリッ
クスをこの活性化溶液中に浸して40〜90℃で30分〜4時
間撹拌しながらインキュベートし、そしてそのようにイ
ンキュベートした固体マトリックスを1:2〜1:4(v
/v)の無水酢酸/ピリジン溶液中で0.5〜2時間撹拌しなが
らインキュベートすることにより、マトリックス上の未
反応アミン基をアセチル基でキャッピングする、ことに
より実施される、請求項1記載の固体マトリックス上に
固定化されたペプチド核酸プローブのアレイの製造方
法。 - 【請求項6】 高分子光酸発生剤が分子量500〜1,000,0
00を有する高分子であって、主鎖または側鎖にスルホニ
ウム塩を有し、側鎖に有機光酸発生基を有することによ
って、露光により酸を発生させる、請求項1記載の固体
マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プローブの
アレイの製造方法。 - 【請求項7】 高分子PAGによる固体マトリックスのコ
ーティングが、リンカー又はモノマーが結合した固体マ
トリックスを、有機溶媒中5〜50%(w/v)の高分子PAGを
用いて1,000〜5,000rpmの速度でスピンコーティングす
ることにより実施される、請求項1記載の固体マトリッ
クス上に固定化されたペプチド核酸プローブのアレイの
製造方法。 - 【請求項8】 酸に不安定な保護基の除去が、コーティ
ングされた固体マトリックスを50〜100℃で30秒〜2分間
ソフトベーキングし、短波長白色光でフォトマスクを用
いて30秒〜2分間露光させ、そして50〜100℃で30秒〜5
分間再びベーキングして酸を発生させることによって実
施される、請求項1記載の固体マトリックス上に固定化
されたペプチド核酸プローブのアレイの製造方法。 - 【請求項9】 モノマーが、その主鎖に位置するアミン
基がt-ブチルオキシカルボニル基で、塩基に位置する
アミン基がp-メトキシベンゾイル基またはイソブタノイ
ル基で保護されている化合物である、請求項1記載の固
体マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プローブ
のアレイの製造方法。 - 【請求項10】 工程(iv)のアルカリ性溶液が希釈水酸
化トリアルキルアンモニウム、NaOH溶液またはKOH溶液
である、請求項1記載の固体マトリックス上に固定化さ
れたペプチド核酸プローブのアレイの製造方法。 - 【請求項11】 工程(v)の酸に不安定な保護基を有す
るペプチド核酸モノマーの、固体マトリックスへの結合
が、ペプチド核酸モノマー10〜20μMを含有するNMP溶液
と、核酸モノマーを基準にして、1:1〜1:5(重量比)の
比で、ジイソプロピルエチルアミンおよび核酸モノマー
を基準にして、1:1〜1:2(重量比)の比で、HATUを含有
するNMP溶液を混合し、1〜5分間活性化させ、酸に不安
定な保護基が除去された固体マトリックスを該活性化溶
液中に浸し、50〜100℃で1〜3時間撹拌しながらインキ
ュベートし、そして、そのようにインキュベートした固
体マトリックスを1:2〜1:4(v/v)の無水酢酸/ピリジン溶
液中で0.5〜2時間撹拌しながらインキュベートすること
によりマトリックス上の未反応アミン基をアセチル基で
キャッピングすることによって実施する、請求項1記載
の固体マトリックス上に固定化されたペプチド核酸プロ
ーブのアレイの製造方法。
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