JP3444826B2 - アレイ型多重チップ素子及びその製造方法 - Google Patents

アレイ型多重チップ素子及びその製造方法

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JP3444826B2 JP31053199A JP31053199A JP3444826B2 JP 3444826 B2 JP3444826 B2 JP 3444826B2 JP 31053199 A JP31053199 A JP 31053199A JP 31053199 A JP31053199 A JP 31053199A JP 3444826 B2 JP3444826 B2 JP 3444826B2
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  • Ceramic Capacitors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数個の単位素子
をアレイ型に配列して1つの複合チップとして一体化さ
せて成るアレイ型多重チップ素子及びその製造方法に関
し、更に詳しくは、このようなアレイ型多重チップ素子
に配設される外部端子の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】最近、電子機器の小型・薄膜化及び高機
能化の傾向に伴い、チップキャパシタ、チップレジス
タ、チップインダクタ、チップバリスタ及びチップビー
ド(chipbead)のような電子部品、すなわち、複数個の
単位素子を1つの複合チップ(複合素子)に一体化させ
て基板に装着する多重チップアレイ型電子部品としてア
レイ型多重チップ素子が常用化されつつある。ここで、
前記複数個の単位素子としては、同種又は異種のものが
使用されている。
【0003】このような単位素子の製造方法の従来例と
してチップバリスタの製造方法につき述べると、次の如
くである。すなわち、チップバリスタの従来の製造方法
にあっては、先ず、図3(A)に示すように、公知の方
法により多層のバリスタ部材11及び多層の内部電極1
2を交互に順次積層した後に、焼結処理を施してこれら
を一体化したチップバリスタ10を形成する。なお、こ
の場合、各内部電極12の側面は、チップバリスタ10
の両側面において交互に順次露出して形成される。
【0004】次いで、図3(B)に示すように、内部電
極12の側面が露出されたチップバリスタ10の両側面
に外部電極13をそれぞれ形成する。これらの外部電極
13は、銀、パラジウム、又は銀−パラジウム合金など
の粉末をペースト状にしたものを、内部電極12の側面
を被覆するようにチップバリスタ10の両側面に塗布
し、常圧下において200℃の温度で15分間にわたり
乾燥した後に、800℃の温度で約10分間にわたり焼
結処理を施すことにより形成する。
【0005】次いで、図3(C)に示すように、外部電
極13の外側表面にニッケルメッキを施してニッケルメ
ッキ層14を形成した後に、このニッケルメッキ層14
の外側表面に鉛、錫、又は錫(Sn)−鉛(Pb)合金
からハンダメッキ層15をメッキすることにより、単位
素子としてのチップバリスタを製造するようにしてい
た。
【0006】以下、このように製造された同種又は異種
の複数個のバリスタの単位素子を使用して1つの複合チ
ップを製造する多重チップ素子の製造方法について、図
4(A)〜(C))を参照して説明する。
【0007】先ず、図4(A)に示すように、複数個
(例えば、4個)の単位素子10をアレイ型(並列状)
に配列してこれらが一体となるように焼結処理を施し、
これにより一体化された1つのアレイ型チップ焼結体2
0を形成する。このとき、アレイ型チップ焼結体20の
互いに対応する両側面には、単位素子10の数だけの内
部電極群21aが露出される。なお、内部電極群21a
とは、各単位素子10がそれぞれ有する複数個の内部電
極12の群(セット)を意味する。
【0008】次いで、図4(B)に示すように、各内部
電極群21aの側面(露出面)に対応するアレイ型チッ
プ焼結体20の両側縁部分に銀、パラジウム、又は銀−
パラジウム合金などのような導電性材料をペースト状に
して塗布した後に、焼結処理を施して複数個の外部電極
22を形成する。
【0009】次いで、図4(C)に示すように、各外部
電極22の外側表面上にニッケルメッキを施し、さらに
そのニッケルメッキ層の表面上に錫、鉛、又は錫−鉛合
金を用いてハンダメッキ層23を電気鍍金法又は無電解
鍍金法により形成する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如き従来のアレイ型多重チップ素子及びその製造方法に
あっては、外部電極22上にニッケルメッキ層及びハン
ダメッキ層23をそれぞれメッキする際に、外部電極2
2だけにこれらのメッキ層を形成すべきであるが、チッ
プインダクタ、チップバリスタ、チップLCフィルタ、
チップビード及びチップキャパシタの場合には、素子
(アレイ型チップ焼結体)の表面抵抗が小さく組織構造
が微細であるため、メッキ滲透(over-plating )現象
が発生してチップ素子の表面にもメッキ層(メッキ被
膜)が形成されてしまう場合がある。このようなメッキ
滲透現象によりチップ素子の表面にメッキ層が形成され
てしまうと、互いに隣接する外部電極22間の間隔が極
めて短いため、必然的に、互いに隣接する単位素子の端
子と端子との間が通電状態となる不具合を生じるおそれ
がある。
【0011】その上、メッキ滲透現象によりチップ素子
の表面にもメッキ液が付着したり、チップ素子の内部に
滲透(浸透)してチップ素子の電気的特性に悪い影響を
及ぼし、チップ素子の信頼性を低下させるという問題点
がある。
【0012】また、外部電極22の表面のメッキ処理工
程中に、メッキ液がアレイ型チップ焼結体20と外部電
極22との接触部位に滲透してこの焼結体の表面と反応
するので、前記焼結体の表面が融解され、アレイ型チッ
プ焼結体20と外部電極22との接触面に浮き現象が発
生して外部電極22の付着強度が低下する。このため、
アレイ型多重チップ素子が電子回路基板に実装された場
合、外部電極22が抜けて回路基板とアレイ型多重チッ
プ素子との間に電気的な接触不良現象が起こるおそれが
ある。
【0013】本発明は、このような従来の課題に鑑みて
なされたものであって、その主な目的は、メッキ滲透現
象などによる端子間の通電を防止して信頼性の高いアレ
イ型多重チップ素子及びその製造方法を提供することに
ある。
【0014】また、本発明の他の目的は、外部電極の付
着強度を十分に確保し得るアレイ型多重チップ素子及び
その製造方法を提供することにある。
【0015】また、本発明のその他の目的は、外部電極
を形成する際のアレイ型チップ焼結体と外部電極との接
触面積を最小にして、外部電極の形成のためのメッキ工
程中において、メッキ液がアレイ型チップ焼結体と外部
電極との接触面間に滲透して外部電極の付着強度を低下
させる憂いを防止し得るアレイ型多重チップ素子及びそ
の製造方法を提供することにある。
【0016】複数個の単位素子を1つの複合チップとし
て一体化させて成るアレイ型多重チップ素子において、 (a) 前記複数個の単位素子内にそれぞれ配設された
内部電極が両側面に露出するように前記複数個の単位素
子をアレイ型に配列して焼結処理を行なうことにより、
前記複数個の単位素子を一体化して成るアレイ型チップ
焼結体と、 (b) 互いに隣接する前記単位素子の内部電極間の前
記アレイ型チップ焼結体の表面に形成されたガラスペー
ストと、 (c) 互いに隣接する前記ガラスペースト間の前記ア
レイ型チップ焼結体の表面に露出された前記内部電極を
覆うように形成され、かつ、前記ガラスペーストの上面
に少なくとも所定部分が重畳するように形成された導電
性ペーストから成る外部電極と、をそれぞれ具備するよ
うにしている。
【0017】複数個の単位素子を1つの複合チップとし
て一体化させて成るアレイ型多重チップ素子の製造方法
において、 (a) 前記複数個の単位素子内にそれぞれ配設された
内部電極が両側面に露出するように配列して前記複数個
の単位素子を焼結することにより、前記複数個の単位素
子を一体化させて成るアレイ型チップ焼結体を形成する
工程と、 (b) 互いに隣接する前記単位素子の内部電極間の前
記アレイ型チップ焼結体の表面に、前記アレイ型チップ
焼結体よりも表面抵抗が大きく、かつ、後続工程におい
て形成される外部電極との付着強度を高めるガラスペー
ストを塗布する工程と、 (c) 前記ガラスペーストを焼結する工程と、 (d) 互いに隣接する前記ガラスペースト間の前記内
部電極を覆うように導電性ぺ一ストを塗布し、かつ、前
記導電性ぺーストの縁部を前記ガラスペーストの上面の
所定部分に重畳するように塗布する工程と、 (e) 前記導電性ぺ一ストを焼結することにより、前
記内部電極の露出面に接触する外部電極を形成する工程
と、 (f) 前記外部電極の表面にニッケルメッキを施して
ニッケルメッキ層を形成する工程と、 (g) 前記ニッケルメッキ層の表面にハンダ材料から
成るハンダ層を形成する工程と、を順次行うようにして
いる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図1及び図2を参照して説明する。
【0019】本発明の一実施形態に係るアレイ型多重チ
ップ素子においては、図1に示すように、複数個(例え
ば、4個)の同種の単位素子30を焼結処理により1つ
の複合チップとして一体化して成るアレイ型チップ焼結
体30aの両側面に、複数個の内部電極31が露出され
ると共に、各単位素子30の相互に隣接する各内部電極
31間のアレイ型チップ焼結体30aの表面には、複数
個の焼結されたガラスペースト32aが形成されてい
る。そして、互いに隣接するガラスペースト32a間の
アレイ型チップ焼結体30aの表面上には、銀、パラジ
ウム、及び銀−パラジウム合金のペーストのうちの何れ
か1つから成る導電性ペースト33が各内部電極31を
覆うようにそれぞれ塗布されて外部電極が形成されてい
る。なお、上述の導電性ペースト33の縁部は、焼結さ
れたガラスペースト32aの上面の一部分を覆うように
重畳(オーバラップ)され、互いに隣接するガラスペー
スト32a間の領域が導電性ペースト33にてそれぞれ
埋められ導電性ペースト33と内部電極31とが互いに
電気的に接続されている。
【0020】このような構成のアレイ型多重チップ素子
によれば、導電性ペースト33から成る外部電極の一部
分が、焼結されたガラスペースト32aの上面に重畳さ
れているため、強いボンディング力(結合力)を得るこ
とができて外部電極の付着強度を向上させることができ
る。また、焼結されたガラスペースト32aの存在によ
り、外部電極とアレイ型チップ焼結体30aとが直接接
触する部位の面積を最小にすることができるため、外部
電極33とアレイ型チップ焼結体30aとの接触面にメ
ッキ液が流入(侵入)してアレイ型チップ焼結体30a
を浸食して外部電極33の浮き現象が発生するのを抑制
することができ、ひいては外部電極33の付着強度を十
分に確保することができる。
【0021】以下、このような本発明の一実施形態に係
るアレイ型多重チップ素子(チップバリスタ)の製造方
法について、図2(A)〜(E)を参照して説明する。
【0022】先ず、図2(A)に示すように、複数(例
えば、4個)の同種の単位素子(チップバリスタ素子)
30をアレイ型に配列して焼結処理により1つの複合チ
ップとして一体化して成るアレイ型チップ焼結体30a
を形成する。この場合、上述のチップバリスタ素子30
は、その両側面に交互に露出された複数個の内部電極3
1を有する内部端子群31aをそれぞれ備えるものであ
る。従って、アレイ型チップ焼結体30aは、4個の単
位素子30を一体に焼結して成るものであり、その両側
面にはチップバリスタ30の数(4個)だけの内部電極
群31aが露出されている。なお、内部端子群31aと
は、各単位素子30がそれぞれ有する複数個の内部電極
31の群(セット)を意味する。
【0023】次いで、図2(B)に示すように、アレイ
型チップ焼結体30aの両側面であって、かつ、互いに
隣接する内部端子群31a間の領域に、ガラスペースト
32を所定幅を有するように塗布する。この場合、上述
のガラスペースト32としては、PbOが0〜30重量
%、ZnOが0〜15重量%、Al23が10〜50重
量%、B23が15〜30重量%、及びSiO2 が10
〜30重量%の組成を有する材質のものを用いる。ま
た、このガラスペースト32は、後続工程において形成
される外部電極及びアレイ型チップ焼結体30aの表面
抵抗よりも大きな表面抵抗を有する物質により形成する
のが好ましい。その理由は、表面抵抗の大きい物質を塗
布することにより、後続の外部電極メッキ工程中におけ
るメッキの滲透現象を防止することができるからであ
る。また、ガラスペースト32の材料としては、外部電
極の付着強度の向上を図り得るように、外部電極である
導電性ペースト33の構成材料としては、導電性ペース
ト33に対するボンディング力が大きい材料を用いるこ
とが好ましい。
【0024】次いで、図2(C)に示すように、アレイ
型チップ焼結体30aを乾燥させた後に、500〜10
00℃の温度範囲で1時間にわたって加熱してガラスペ
ースト32を焼結し、各ガラスペースト32aの焼結体
をそれぞれ形成する。
【0025】次いで、図2(D)に示すように、互いに
隣接する単位素子30の内部電極31間の前記アレイ型
チップ焼結体30aの表面、すなわち、アレイ型チップ
焼結体30aの表面であってかつ互いに隣接する焼結さ
れたガラスペースト32a間の領域に、銀、パラジウ
ム、及び銀−パラジウム合金の導電性ペーストのうちの
何れか1つの導電性ペースト33を前記内部電極31を
覆うように塗布して前記内部電極31の側面(露出面)
に接触させた状態にする。この場合、導電性ペースト3
3は、互いに隣接する焼結されたガラスペースト32a
間の各領域毎に塗布されると共に、導電性ペースト33
の縁部がガラスペースト32aと接触する部位において
前記ガラスペースト32aの上面の一部分に重畳(オー
バラップ)するように塗布される。その結果的、アレイ
型チップ焼結体30aの両側面は、交互に形成されたガ
ラスペースト32a及び導電性ペースト33によって覆
われた状態となされ、従って、本実施形態のアレイ型多
重チップ素子の両側面においては、アレイ型チップ焼結
体30aの両側面は外部に露出されないように構成され
ている。
【0026】次いで、導電性ペースト33を乾燥させた
後に、400〜800℃の温度範囲で1〜4時間にわっ
て加熱することによりこれを焼結して外部電極を形成す
る。この際、導電性ペースト33(外部電極)の縁部
は、アレイ型チップ焼結体30aと直接接触せずに、外
部電極とのボンディング力の強いガラスペースト32a
の所定部分に重畳されて接触状態となるため、この接触
により外部電極の付着強度を向上させることができる。
【0027】次いで、図2(E)に示すように、上述の
外部電極(焼結された導電性ペースト33)の表面上に
ニッケルメッキを施し、これにより形成されるニッケル
メッキ層の表面上に鉛、錫、又は錫−鉛合金などのハン
ダメッキ層34を形成して外部電極の製造を終了する。
ここで、前記ニッケル又は錫などのメッキは、電気鍍金
(electroplating)法又は無電解鍍金(electroless p
lating)法により行う。
【0028】このようにメッキを施すようにすれば、ガ
ラスペースト32aの材料はアレイ型チップ焼結体30
aの材料に比べて表面抵抗が大きいので、メッキ滲透現
象が発生せず、従って外部電極の表面だけにメッキが行
われることとなる。よって、従来生じていたようなメッ
キ滲透現象による端子間の通電問題を解消することがで
きる。
【0029】また、従来のメッキ工程においては、外部
電極とアレイ型チップ焼結体とが接合する部位において
メッキ液がアレイ型チップ焼結体と反応し、アレイ型チ
ップ焼結体の表面が融解するという不都合な点があった
が、本実施形態のアレイ型多重チップ素子の製造方法に
よれば、外部電極とアレイ型チップ焼結体30aの表面
とが直接的に接触する面積が最小化されているので、メ
ッキ液によるアレイ型チップ焼結体30aの表面の浸食
が抑制され、これにより、アレイ型チップ焼結体30a
への外部電極の付着強度を十分に確保することができ
る。
【0030】本発明に係るアレイ型多重チップバリスタ
及び従来のアレイ型多重チップバリスタにおける外部電
極の付着強度に関する実験を行ったところ、下記の表1
に示す如き実験結果が得られた。なお、下記の表1は、
本発明に係るアレイ型多重チップバリスタの外部電極の
付着強度と従来の多重チップ素子の外部電極の付着強度
とを比較した比較表である。
【0031】
【表1】
【0032】上記の表1から明らかなように、本発明に
係るアレイ型多重チップバリスタの外部電極の付着強度
が従来のアレイ型多重チップバリスタの外部電極の付着
強度よりも3.5〜4.5倍高いことが分かる。ここ
で、外部電極の付着強度とは、アレイ型多重チップバリ
スタから外部電極を取り外すときに、外部電極が抜けず
に耐え得る最大力を意味する。
【0033】以上、本発明の一実施形態につき述べた
が、本発明はこの実施形態に限定されるものではなく、
本発明の技術的思想に基づいて各種の変形及変更が可能
である。例えば、既述の実施形態ではアレイ型多重チッ
プ素子としてアレイ型多重チップバリスタを例に挙げて
本発明を説明したが、本発明は、アレイ型多重チップバ
リスタに限定されるものではなく、多様なアレイ型多重
チップ素子の製造方法にも適用することができる。ま
た、複数個の同種のチップ素子により構成されるアレイ
型多重チップ素子に限定されず、複数個の異種のチップ
素子を一体化して成るアレイ型多重チップ素子にも適用
することができる。このようなアレイ型多重チップ素子
としては、例えば、チップバリスタ、チップキャパシ
タ、チップビード、チップLCフィルタ及びチップイン
ダクタなどを単位素子として包含することができる。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るアレ
イ型多重チップ素子においては、アレイ型チップ焼結体
を構成する複数個の単位素子内の内部電極間のアレイ型
チップ焼結体の表面にガラスペーストを形成するように
しているため、これらのガラスペースト間に外部電極を
設けるべく導電性ペーストを塗布してこの導電性ペース
トの表面上にメッキ層を形成する際に、前記ガラスペー
ストの存在によりアレイ型チップ焼結体の表面へのメッ
キ液の滲透現象を防止し得て、端子相互間の通電問題を
解決することができ、従ってアレイ型多重チップ素子の
信頼性を向上し得るという効果がある。
【0035】さらに、本発明に係るアレイ型多重チップ
素子においては、外部電極の縁部をアレイ型チップ焼結
体と直接接触させずに、アレイ型チップ焼結体の材料よ
りも表面抵抗が大きく、かつ、外部電極の付着強度を高
める特性(ボンディング力が強いという特性)を有する
ガラスペーストと接触させるようにしているため、メッ
キ液がアレイ型多重チップ素子の表面を浸食する問題を
解決することができると共に外部電極の付着強度を向上
し得るという効果がある。また、外部電極の縁部をガラ
スペースト32aの所定部分に重畳させるようにすれ
ば、外部電極の付着強度をより一層向上させることがで
きる。
【0036】また、本発明に係るアレイ型多重チップ素
子の製造方法によれば、電気的に安定で、表面抵抗が大
きく、導電性ペースト(外部電極)とのボンディング力
の強いガラス材料から成るガラスペーストを、外部電極
を形成する前の工程において内部電極間の焼結体表面上
に塗布するようにしているため、メッキ液がアレイ型多
重チップ素子の表面を浸食する問題を解決することがで
きると共に外部電極の付着強度を向上し得るという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明に係るアレイ型多重チップ素子
を示す平面図である。
【図2】図2(A)〜(E)は、本発明に係るアレイ型
多重チップバリスタの製造方法を示す工程図である。
【図3】図3(A)〜(C)は、従来のチップバリスタ
(単位素子)の製造方法を示す工程図である。
【図4】図4(A)〜(C)は従来のアレイ型多重チッ
プバリスタの製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
30 単位素子 30a アレイ型チップ焼結体 31 内部電極 31a 内部電極群 32 ガラスペースト 32a 焼結されたガラスペースト 33 焼結された導電性ペースト 34 ハンダメッキ層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01C 7/10 H01G 4/12 346 H01G 4/30 301 H01L 23/12

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数個の単位素子を1つの複合チップと
    して一体化させて成るアレイ型多重チップ素子におい
    て、 (a) 前記複数個の単位素子内にそれぞれ配設された
    内部電極が両側面に露出するように前記複数個の単位素
    子をアレイ型に配列して焼結処理を行なうことにより、
    前記複数個の単位素子を一体化して成るアレイ型チップ
    焼結体と、 (b) 互いに隣接する前記単位素子の内部電極間の前
    記アレイ型チップ焼結体の表面に形成されたガラスペー
    ストと、 (c) 互いに隣接する前記ガラスペースト間の前記ア
    レイ型チップ焼結体の表面に露出された前記内部電極を
    覆うように形成され、かつ、前記ガラスペーストの上面
    に少なくとも所定部分が重畳するように形成された導電
    性ペーストから成る外部電極と、 をそれぞれ具備することを特徴とするアレイ型多重チッ
    プ素子。
  2. 【請求項2】 前記ガラスペーストの材料は、前記アレ
    イ型チップ焼結体の材料よりも表面抵抗が大きく、か
    つ、前記外部電極の付着強度を高める特性を有すること
    を特徴とする請求項1に記載のアレイ型多重チップ素
    子。
  3. 【請求項3】 前記ガラスペーストは、PbOが0〜3
    0重量%、ZnOが0〜15重量%、Al23が10〜
    50重量%、B23が15〜30重量%、及びSiO2
    が10〜30重量%の組成を有することを特徴とする請
    求項1又は2に記載のアレイ型多重チップ素子。
  4. 【請求項4】 複数個の単位素子を1つの複合チップと
    して一体化させて成るアレイ型多重チップ素子の製造方
    法において、 (a) 前記複数個の単位素子内にそれぞれ配設された
    内部電極が両側面に露出するように配列して前記複数個
    の単位素子を焼結することにより、前記複数個の単位素
    子を一体化させて成るアレイ型チップ焼結体を形成する
    工程と、 (b) 互いに隣接する前記単位素子の内部電極間の前
    記アレイ型チップ焼結体の表面に、前記アレイ型チップ
    焼結体よりも表面抵抗が大きく、かつ、後続工程におい
    て形成される外部電極との付着強度を高めるガラスペー
    ストを塗布する工程と、 (c) 前記ガラスペーストを焼結する工程と、 (d) 互いに隣接する前記ガラスペースト間の前記内
    部電極を覆うように導電性ぺ一ストを塗布し、かつ、前
    記導電性ぺーストの縁部を前記ガラスペーストの上面の
    所定部分に重畳するように塗布する工程と、 (e) 前記導電性ぺ一ストを焼結することにより、前
    記内部電極の露出面に接触する外部電極を形成する工程
    と、 (f) 前記外部電極の表面にニッケルメッキを施して
    ニッケルメッキ層を形成する工程と、 (g) 前記ニッケルメッキ層の表面にハンダ材料から
    成るハンダ層を形成する工程と、 を順次行うことを特徴とするアレイ型多重チップ素子の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 前記アレイ型チップ焼結体を形成する工
    程は、同一の機能を有する同種の複数個の単位素子を一
    体化する工程であることを特徴とする請求項に記載の
    アレイ型多重チップ素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記アレイ型チップ焼結体を形成する工
    程は、異なる機能を有する複数個の異種の単位素子を一
    体化する工程であることを特徴とする請求項に記載の
    アレイ型多重チップ素子の製造方法。
  7. 【請求項7】 前記単位素子は、チップバリスタ、チッ
    プキャパシタ、チップビード、チップLCフィルタ、チ
    ップインダクタ、及びチップレジスタの中の何れか1つ
    であることを特徴とする請求項4乃至の何れか1項に
    記載のアレイ型多重チップ素子の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記複数個の単位素子の中の少なくとも
    1個は、チップバリスタ、チップキャパシタ、チップビ
    ード、チップLCフィルタ、チップインダクタ、及びチ
    ップレジスタの中の何れか1つであることを特徴とする
    請求項4乃至の何れか1項に記載のアレイ型多重チッ
    プ素子の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記ガラスペーストは、PbOが0〜3
    0重量%、ZnOが0〜15重量%、Al23が10〜
    50重量%、B23が15〜30重量%及びSiO2
    10〜30重量%の組成を有することを特徴とする請求
    項4乃至の何れか1項に記載のアレイ型多重チップ素
    子の製造方法。
  10. 【請求項10】 前記ガラスペーストを焼結する工程
    は、前記ガラスペーストを500〜1000℃の温度範
    囲で1〜4時間にわたって加熱する工程であることを特
    徴とする請求項4及びの何れか1項に記載のアレイ型
    多重チップ素子の製造方法。
  11. 【請求項11】 前記導電性ぺーストを焼結する工程
    は、前記導電性ぺーストを400〜800℃の温度範囲
    で1〜4時間にわたって加熱する工程であることを特徴
    とする請求項4乃至10の何れか1項に記載のアレイ型
    多重チップ素子の製造方法。
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3758464B2 (ja) * 2000-05-12 2006-03-22 株式会社村田製作所 積層電子部品
DE10147898A1 (de) * 2001-09-28 2003-04-30 Epcos Ag Elektrochemisches Bauelement mit mehreren Kontaktflächen
US7463474B2 (en) * 2002-04-15 2008-12-09 Avx Corporation System and method of plating ball grid array and isolation features for electronic components
US7576968B2 (en) * 2002-04-15 2009-08-18 Avx Corporation Plated terminations and method of forming using electrolytic plating
US7152291B2 (en) 2002-04-15 2006-12-26 Avx Corporation Method for forming plated terminations
US6960366B2 (en) * 2002-04-15 2005-11-01 Avx Corporation Plated terminations
US7177137B2 (en) * 2002-04-15 2007-02-13 Avx Corporation Plated terminations
TWI260657B (en) * 2002-04-15 2006-08-21 Avx Corp Plated terminations
US6982863B2 (en) 2002-04-15 2006-01-03 Avx Corporation Component formation via plating technology
CN101128895B (zh) * 2005-05-26 2010-09-01 株式会社村田制作所 层叠陶瓷电子部件及其制造方法
TW200719553A (en) 2005-11-08 2007-05-16 Energetic Technology Three-layer stacked surge absorber and manufacturing method thereof
JP4600309B2 (ja) * 2006-02-13 2010-12-15 Tdk株式会社 バリスタ及び発光装置
JP4623036B2 (ja) * 2007-03-29 2011-02-02 Tdk株式会社 電子部品の製造方法及び電子部品
CN102254885B (zh) * 2010-05-20 2014-01-15 深南电路有限公司 无源器件、无源器件埋入式电路板及其制造方法
US8659161B2 (en) * 2011-06-21 2014-02-25 Oracle International Corporation Chip package with reinforced positive alignment features
KR101412950B1 (ko) * 2012-11-07 2014-06-26 삼성전기주식회사 적층 세라믹 커패시터
PE20230343A1 (es) * 2015-12-11 2023-03-01 Immatics Biotechnologies Gmbh Peptidos que estimulan respuestas inmunitarias antitumorales
JP2017220521A (ja) * 2016-06-06 2017-12-14 株式会社村田製作所 電子部品
JP2017220523A (ja) * 2016-06-06 2017-12-14 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品
JP2017220524A (ja) * 2016-06-06 2017-12-14 株式会社村田製作所 積層セラミック電子部品
JP6870427B2 (ja) * 2017-03-30 2021-05-12 Tdk株式会社 電子部品
KR102263377B1 (ko) 2019-04-09 2021-06-14 주식회사 신성계전 초기 밝기 조절이 용이한 조광기

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5107586A (en) * 1988-09-27 1992-04-28 General Electric Company Method for interconnecting a stack of integrated circuits at a very high density
JPH0770370B2 (ja) * 1989-06-01 1995-07-31 住友金属鉱山株式会社 厚膜抵抗体形成用組成物
JPH0585002U (ja) * 1992-04-15 1993-11-16 株式会社大泉製作所 非直線抵抗体
JP3285154B2 (ja) * 1992-05-25 2002-05-27 株式会社村田製作所 表面実装型電子部品の実装構造
US5502667A (en) * 1993-09-13 1996-03-26 International Business Machines Corporation Integrated multichip memory module structure
JPH097877A (ja) * 1995-04-18 1997-01-10 Rohm Co Ltd 多層セラミックチップ型コンデンサ及びその製造方法
US5869353A (en) * 1997-11-17 1999-02-09 Dense-Pac Microsystems, Inc. Modular panel stacking process

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