JP3395590B2 - 磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ及び該センサを用いた研磨制御方法 - Google Patents
磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ及び該センサを用いた研磨制御方法Info
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Description
R)ヘッドを製造する際のMR素子の高さ(MRハイ
ト)調整時に用いる研磨制御用センサ及び該センサを用
いた研磨制御方法に関する。
が一列に配置されるようにウエハを列毎に切断して得た
バーの一面(ABS面)を研磨することによって、複数
のMRヘッドのMRハイトが一括して調整される。1つ
のバー内の複数のMRヘッド相互のMRハイトを及び複
数のバーのMRヘッド相互のMRハイトを正確な値に調
整するために、通常は、研磨された高さを検出するEL
G(ElectricLapping Guide)又
はRLG(Resistance Lapping G
uide)等と称される研磨制御用センサが各バーに複
数設けられており、これら研磨制御用センサからの電気
的信号に応じて研磨が制御される。
S面に隣接しかつ平行に伸長する抵抗体から主として構
成されており、MRハイトの研磨に応じてこの抵抗体も
研磨されてその高さが減少することによる端子電圧の変
化によって研磨量を教えるように構成されている。MR
ハイトに関するものではないが、インダクティブヘッド
における磁極ギャップのスロートハイトに関するELG
については、例えば、特開昭63−29315号公報及
び特開昭63−191570号公報等によって公知であ
る。
は、MRヘッド製造工程と同じ工程で、同様の積層構造
を有するように形成されるのが一般的である。図1は従
来のELG又はRLGの積層構造を概略的に示す図であ
る。同図に示すように、従来のELG又はRLGは、M
Rヘッド部分と同じ材料及び層厚による金属層(シール
ド層)10、絶縁層(シールドギャップ絶縁層)11、
抵抗体層(MR層)12、並びにリード導体13及び1
4からなる積層構造となっている。
置の線密度(ビット密度)を向上させるために、MRヘ
ッドのシールドギャップをより狭くすることが要求され
ている。このようにシールドギャップを狭くするために
は、MR素子の厚さ又はシールドギャップ絶縁層の厚さ
をより小さくすることが必要となる。MR素子の層厚を
薄くすることは、MRヘッドの特性上から限度があり、
従って、このMR素子を挟むシールドギャップ絶縁層の
層厚がより低減される。このように、MRヘッド部分の
シールドギャップ絶縁層の層厚を低減すれば、ELG又
はRLG部分の絶縁層11の層厚も当然に薄くなる。
が薄くなると、MRハイトの調整のための研磨時に金属
層10から生じるスミア(Smear)により、リード
導体13及び14間が一時的に短絡されてしまう恐れが
ある。スミアとは、同図の15に示すように、研磨によ
って発生する金属の延び現象であり、研磨表面に発生し
たスミア金属15は、研磨方向が矢印の方向である場合
に、絶縁層11を横断してリード導体13及び14に接
触し、電気的短絡を引き起こす。短絡が発生すると、E
LG又はRLGの検出出力であるリード導体13及び1
4間の端子間抵抗が一時的に低下して信号にノイズが多
く発生し、MRハイト調整のための研磨を行うことが不
能となる。
ELG又はRLGの下層にシールド層等の金属層を設け
ないことが考えられる。しかしながら、その場合のEL
G又はRLGの抵抗体層は、下地の表面性の相違(凹凸
の大小)からMRヘッドのMR層と同等の抵抗変化特性
を有することができない。MRハイトの制御性を向上さ
せるためには、ELG又はRLGの抵抗体層とMRヘッ
ドのMR層とが同等の抵抗変化特性を有することが望ま
しいのである。また、研磨方向を図1の矢印と逆方向と
することも考えられるが、研磨方向を逆にすると、基板
(スライダ)とその上に形成される下地膜との段差(リ
セッション)が著しく大きくなり、MRヘッド自体の特
性が大きく劣化するので、この方法は採用できない。
点を解消するものであり、その目的は、MRハイトを正
しい値に、確実にかつ安定して調整することができる研
磨制御用センサ及びこれらセンサを用いた研磨制御方法
を提供することにある。
ールド層、シールドギャップ絶縁層、MR層及びリード
導体層を少なくとも含む積層構造を有するMRヘッドと
並列に設けられており、MRヘッドの下部シールド層、
シールドギャップ絶縁層、MR層及びリード導体層とそ
れぞれ同じ材質の金属層、絶縁層、抵抗体層及びリード
導体層を含む積層構造を有する研磨制御用センサであっ
て、研磨制御用センサの部分の絶縁層がMRヘッドのシ
ールドギャップ絶縁層より厚くかつ0.1μm以上の層
厚を有しているMRヘッドの研磨制御用センサが提供さ
れる。
研磨制御用センサからの信号に応じて、MRヘッドにお
けるMRハイトの研磨制御を行う研磨制御方法も提供さ
れる。
ッドのシールドギャップ絶縁層より厚い0.1μm以上
の層厚に形成しているので、MRハイト調整用の研磨を
行った際にも、スミアによるノイズ発生を防止すること
が可能となり、MRハイトを正しい値に確実にかつ安定
して調整することができる。
ッドの近傍にそれぞれ設けられていることが好ましい。
サの一実施形態における平面構造を概略的に示す図であ
る。同図は、多数のMRヘッドをマトリクス状に形成し
たウエハをその列毎に切断して得たバーの一部のMRヘ
ッド部分及び研磨制御用センサ部分を示す平面図であ
る。ただし、同図は、層の一部を透視的に見た図であ
り、実際には、この上にインダクティブヘッド等が形成
されているため、これらMRヘッド部分及び研磨制御用
センサ部分を表から見ることはできない。
20のABS面(研磨される面)、21及び22はこの
バー20に沿って一列に複数形成されたMRヘッドのう
ちの2つのMRヘッド、23はMRヘッド間の空いた領
域にMRヘッドと並列に形成された複数の研磨制御用セ
ンサのうちの1つをそれぞれ示している。なお、研磨制
御用センサは、バー20の両端部分にも設けることが望
ましい。
はシールドギャップ絶縁層上に設けられたMRヘッド2
1及び22のMR層、21b及び22b並びに21c及
び22cはMR層21a及び22aの両端部に接続され
たリード導体をそれぞれ示している。また、23aは研
磨制御用センサ23の抵抗体層、23b及び23cは抵
抗体層23aの両端部に接続されたリード導体である。
MR層21a及び22aと抵抗体層23aとは、その一
方の側縁がABS面20aに隣接した状態でこのABS
面20aと平行に伸長している。
部分の積層構造を概略的に示す断面図である。同図にお
いて、30はMRヘッドの部分の下部シールド層と同じ
材料及び層厚による金属層、31はMRヘッドの部分の
シールドギャップ絶縁層と同じ材料であるがより厚い層
厚(例えば0.1μm)を有する絶縁層、32(23
a)は絶縁層31上に形成されており、MRヘッドの部
分のMR層と同じ材料及び層厚による抵抗体層、33及
び34(23b及び23c)はMRヘッドの部分のリー
ド導体と同じ材料及び層厚によるリード導体をそれぞれ
示している。
製造工程を説明する断面図である。同図(A)に示すよ
うに、下地膜上に金属層30が形成される。この金属層
30は、MRヘッドの部分の下部シールド層の形成と同
じ工程で行われ、従って同じ材料及び層厚で形成され
る。
属層30及び下地膜上に絶縁層31′が形成される。こ
の絶縁層31′もMRヘッドの部分のシールドギャップ
絶縁層の形成と同じ工程で行われ、従って同じ材料及び
層厚で形成される。次いで、同図(C)に示すように、
研磨制御用センサの部分のみの絶縁層31′上に、例え
ばリフトオフ法等を用いてさらに絶縁層を成長させ、他
の部分より厚い層厚(0.1μm以上)を有する絶縁層
31を形成する。この層厚の厚い絶縁層31は、研磨制
御用センサの部分のみ設けてもよいし、MRヘッドの部
分を除く全ての部分に設けてもよい。
層32(23a)を絶縁層31上に形成する。この抵抗
体層32(23a)もMRヘッドの部分のMR層の形成
と同じ工程で行われ、従って同じ材料及び層厚で形成さ
れる。次いで、図3に示すように、抵抗体層32(23
a)の両端部に接続されるリード導体33(23b)及
び34(23c)を形成する。このリード導体33(2
3b)及び34(23c)もMRヘッドの部分のリード
導体の形成と同じ工程で行われ、従って同じ材料及び層
厚で形成される。
制御用センサの部分の絶縁層の厚みがMRヘッドの部分
のシールドギャップ絶縁層の厚みより厚い0.1μm以
上に構成されている。このため、このセンサを用いてM
Rハイト調整のために、このバー20(図2参照)をA
BS面20a側から研磨した際にも、発生したスミアに
よるリード導体33(23b)及び34(23c)間の
短絡を防止でき、従って検出出力にノイズが発生するこ
とも確実に防止できる。
と抵抗測定エラー率との関係を示す特性図であり、同図
の□印及び×印は、金属層30を異なる材料で形成した
場合の特性をそれぞれ示している。ここで抵抗測定エラ
ー率は、(連続異常測定回数)÷(全測定回数)で与え
られる。抵抗の測定周期は0.1秒である。連続異常測
定回数とは、同一バーの研磨中に抵抗測定値が連続で正
常抵抗値を示さなかった測定回数を意味している。正常
抵抗値とは、その抵抗測定値が前回測定(0.1秒前の
測定)値以上であると共に、その抵抗測定値が同一バー
の研磨中に測定された最大の抵抗測定値より大きい場合
の抵抗測定値を意味している。
があると、研磨制御用センサによる研磨制御が不能とな
ることが経験的に分かっており、従って、図5から研磨
制御用センサの部分の絶縁層の厚みが0.1μm以上で
あることが必要となる。
の厚さが0.08μmと薄い研磨制御用センサの異なる
サンプルを用いた場合の研磨時間に対する抵抗測定値の
変化特性図であり、図7(A)、(B)及び(C)は、
絶縁層の厚さが0.1μmと厚い研磨制御用センサの異
なるサンプルを用いた場合の研磨時間に対する抵抗測定
値の変化特性図である。
層の厚さが0.08μmと薄い場合は抵抗測定値に多量
のノイズが入っているが、絶縁層の厚さが0.1μmと
厚い場合は、ノイズはほとんどなく、研磨時間の経過に
応じて抵抗測定値が増大している。従って、このような
研磨制御用センサを用いて研磨制御することにより、M
Rハイトを正しい値に確実にかつ安定して調整すること
ができる。
プ絶縁層が薄いため、MRハイト調整のための研磨中に
スミアが発生し、これが短絡のMRヘッドのリード導体
間を短絡する可能性があるが、MRヘッドのリード導体
はMRハイト調整中は使用しないこと及びMRハイト調
整後にこのようなスミアを除去する工程が必ず含まれる
ので何等問題は生じない。
に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明
は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することがで
きる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均
等範囲によってのみ規定されるものである。
ば、MRヘッドと並列に設けられており、金属層、絶縁
層、抵抗体層及びリード導体層を含む積層構造を有する
研磨制御用センサであって、この研磨制御用センサの部
分の絶縁層がMRヘッドのシールドギャップ絶縁層より
厚くかつ0.1μm以上の層厚を有しているため、MR
ハイト調整のために研磨した際にも、発生したスミアに
よるリード導体間の短絡を防止でき、従って検出出力に
ノイズが発生することも確実に防止できる。その結果、
MRハイトを正しい値に、確実にかつ安定して調整する
ことができる。
示す断面図である。
る平面構造を概略的に示す図である。
略的に示す断面図である。
断面図である。
ラー率との関係を示す特性図である。
磨制御用センサの抵抗測定値の変化特性図である。
磨制御用センサの抵抗測定値の変化特性図である。
3、34 リード導体 23 研磨制御用センサ 23a、32 抵抗体層 30 金属層 31 絶縁層
Claims (3)
- 【請求項1】 下部シールド層、シールドギャップ絶縁
層、磁気抵抗効果層及びリード導体層を少なくとも含む
積層構造を有する磁気抵抗効果ヘッドと並列に設けられ
ており、該磁気抵抗効果ヘッドの前記下部シールド層、
シールドギャップ絶縁層、磁気抵抗効果層及びリード導
体層とそれぞれ同じ材質の金属層、絶縁層、抵抗体層及
びリード導体層を含む積層構造を有する研磨制御用セン
サであって、該研磨制御用センサの部分の前記絶縁層が
前記磁気抵抗効果ヘッドの前記シールドギャップ絶縁層
より厚くかつ0.1μm以上の層厚を有していることを
特徴とする磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ。 - 【請求項2】 複数の前記磁気抵抗効果ヘッドの近傍に
それぞれ設けられていることを特徴とする請求項1に記
載のセンサ。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載の研磨制御用セン
サからの信号に応じて、前記磁気抵抗効果ヘッドにおけ
る前記磁気抵抗効果層の高さの研磨制御を行うことを特
徴とする研磨制御用センサを用いた研磨制御方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22443697A JP3395590B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ及び該センサを用いた研磨制御方法 |
SG9802823A SG86331A1 (en) | 1997-08-07 | 1998-07-31 | Lapping control sensor for magnetoresistive effect head, lapping control method using the sensor and manufacturing method of the sensor |
US09/130,446 US6083081A (en) | 1997-08-07 | 1998-08-06 | Lapping control sensor for magnetoresistive effect head, lapping control method using the sensor and manufacturing method of the sensor |
US09/497,756 US6399148B2 (en) | 1997-08-07 | 2000-02-04 | Method of manufacturing lapping control sensor for magnetoresistive effect head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22443697A JP3395590B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ及び該センサを用いた研磨制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1166520A JPH1166520A (ja) | 1999-03-09 |
JP3395590B2 true JP3395590B2 (ja) | 2003-04-14 |
Family
ID=16813752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22443697A Expired - Fee Related JP3395590B2 (ja) | 1997-08-07 | 1997-08-07 | 磁気抵抗効果ヘッドの研磨制御用センサ及び該センサを用いた研磨制御方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6083081A (ja) |
JP (1) | JP3395590B2 (ja) |
SG (1) | SG86331A1 (ja) |
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1997
- 1997-08-07 JP JP22443697A patent/JP3395590B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-31 SG SG9802823A patent/SG86331A1/en unknown
- 1998-08-06 US US09/130,446 patent/US6083081A/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-02-04 US US09/497,756 patent/US6399148B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1166520A (ja) | 1999-03-09 |
SG86331A1 (en) | 2002-02-19 |
US6083081A (en) | 2000-07-04 |
US6399148B2 (en) | 2002-06-04 |
US20020001671A1 (en) | 2002-01-03 |
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