JP2000113437A - 磁気ヘッド装置の製造方法、磁気ヘッド装置、並びに、磁気ヘッド装置の中間製造物 - Google Patents

磁気ヘッド装置の製造方法、磁気ヘッド装置、並びに、磁気ヘッド装置の中間製造物

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JP2000113437A
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magnetic
head
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magnetic gap
etching
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直人 的野
Tatsuya Shiromoto
竜也 城本
Tomihito Miyazaki
富仁 宮崎
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ギャップ層を、基板の構成材料とは異種の非
アルミナ系非磁性材料により構成した場合でも、スライ
ダＡＢＳ面加工のためのエッチングによってＡＢＳ面に
不要な凹凸が形成されてしまうことを防止する。 【解決手段】 ウェハ３１表面に、非磁性材料から構成
される磁気ギャップ層８，１１，１３を含む複数の構成
層からなる薄膜磁気ヘッド素子３を格子配列状に多数形
成する。かかる素子３の形成過程で、スライダ形状加工
のためのエッチングが施される領域に存在する磁気ギャ
ップ層８，１１，１３の構成材料を予め除去する。そし
て、素子３が表面に形成されたウェハ３１を各ヘッドブ
ロック３２毎に切断し、該ヘッドブロック３２の切断面
により構成される磁気記録媒体との対向面２０に、エッ
チングによるスライダ形状加工を施す。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スライダの一面に
薄膜磁気ヘッド素子が形成された磁気ヘッド装置の製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】特開平８−３０９４４号公報や特開平１
０−１７２１２５号公報に開示されているように、ハー
ドディスク装置に装着される従来の磁気ヘッド装置は、
例えばＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣからなるほぼ円盤状のウェハ
表面に、複数の構成層からなる薄膜磁気ヘッド素子を格
子配列状に多数形成し、該ウェハを各ヘッドブロック毎
に切断し、該切断面により構成される磁気記録媒体との
対向面に、エッチングによるスライダ形状加工を施すこ
とにより構成されている。
【０００３】上記薄膜磁気ヘッド素子は、真空薄膜形成
手段によって再生用の磁気抵抗効果ヘッド（ＭＲヘッ
ド）と記録用のインダクティブヘッドを上下に積層形成
してなるものである。
【０００４】磁気抵抗効果素子は、一般的に、下部磁性
シールド層、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3）からなる下部磁気
ギャップ層、磁気抵抗効果素子膜（ＭＲ素子）、電極
層、アルミナからなる上部磁気ギャップ層、上部磁性シ
ールド層から主構成されるものである。また、インダク
ティブヘッドは、下部磁極層、アルミナからなるギャッ
プ層、コイル層、絶縁層、上部磁極層から主構成される
ものである。これらヘッド構成層は、真空薄膜形成技術
によって順次積層形成されている。
【０００５】これら各ヘッドの磁気ギャップ層は、磁気
記録媒体への書き込み並びに読み出しを行うために、ヘ
ッドブロックの磁気記録媒体対向面に露呈されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年のハードディスク
装置のさらなる大容量化、小型化に伴い、磁気記録媒体
となる磁気ディスクには、一層の高トラック密度が要求
されている。再生用のＭＲヘッドにおいては、その特性
上、記録用のインダクティブヘッドに比して高密度化に
対応し得るが、インダクティブヘッドの高トラック密度
化には、次のような問題がある。
【０００７】即ち、図６に示すように、従来のインダク
ティブヘッド４１は、幅広の下部磁極層４２と、該層４
２上に積層形成された磁気ギャップ層４３と、該ギャッ
プ層４３上に積層形成された幅狭の上部磁極層４４とを
有しており、該上部磁極層４４の幅によってトラック有
効幅を規定している。したがって、高トラック密度化を
図るためには、上部磁極層４４を一層幅狭に形成して、
該上部磁極層４４と下部磁極層４２との間に狭範囲の磁
界を発生させる必要がある。
【０００８】しかし、トラック幅の極小化に伴い、上部
磁極層４４から側方への漏れ磁界Ａの影響が無視できな
い程に大きくなる。そこで、必要な磁界強度を確保しつ
つも、漏れ磁界Ａを可能な限り低減させるために、図７
（ｃ）に示すように、下部磁極層４２をトリミングし、
上部磁極層４４と同幅のトリム部４５（凸部）を形成し
て、該トリム部４５が実質上の下部磁極として作用する
ように構成することが好ましい。
【０００９】かかるトリム部４５の形成は、図７（ａ）
に示すように上部磁極層４４を形成した後、図７（ｂ）
（ｃ）に示すように、上部磁極層４４をマスクとしてギ
ャップ層４３及び下部磁極層４２をパターニングするこ
とにより行われる。
【００１０】従来より、ギャップ層４３の構成材料とし
てはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）が広く用いられているが、
かかるアルミナのギャップ層４３と下部磁極層４２のト
リミングとをイオンミリングによりパターニングする
と、アルミナはミリングレートが小さいため、ミリング
後の形状がテーパー状となり、ギャップ４３を挟んで対
向する上下磁極４４，４５が同幅にならない。
【００１１】一方、上下磁極４４，４５の幅を同一にす
るために、反応性イオンエッチング（Reactive Ion Etc
hing）等の反応性プラズマを用いてアルミナからなるギ
ャップ層４３を選択的に垂直にパターニングした後、イ
オンミリングによって下部磁極層４２をパターニングす
る方法も提案されているが、かかる方法によれば反応性
イオンエッチングを行うための設備と、イオンミリング
を行うための設備との２種類の設備を使用するため、設
備コストが増大する。
【００１２】そこで、１種類の設備によりギャップ層と
下部磁極層のパターニングを行いつつも、上下磁極を同
幅にするために、本願発明者らは、上部磁極層及び下部
磁極層とほぼ同じミリングレートの非磁性材料によりギ
ャップ層を形成する方法を開発した。即ち、下部磁極層
の上に、該磁極層の構成材料と同程度のミリングレート
の非磁性材料を積層することによりギャップ層を形成
し、その後、電磁コイル層を形成し、プレーティング等
により上部磁極層を形成する。
【００１３】そして、磁極とギャップ層の選択比（ミリ
ングレート）が０．９〜１．１となる入射角でイオンミ
リングを行うことにより、上部磁極をマスクとしてギャ
ップ層をパターニングし、その後、下部磁極をミリング
することによりトリム部（凸部）を形成する。
【００１４】なお、かかる方法におけるギャップ層の構
成材料としては、五酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）、ベリ
リウム−銅合金（ＢｅＣｕ）、酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）
などが適切である。
【００１５】かかる方法によれば、イオンミリングを行
う単一の設備により、ギャップ層のパターニングと、下
部磁極層のパターニングによるトリム部（凸部）の形成
とを行いつつも、上部磁極の幅を同一にすることができ
る。
【００１６】しかしながら、ギャップ層の構成材料とし
て、基板（ウェハ）の構成材料（Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）
とは異種のものを用いた場合、各ヘッドブロック（スラ
イダ）に対してスライダ形状加工のための反応性イオン
エッチングを行うと、上記五酸化タンタル等はＡｌ2 Ｏ
3 に比してエッチング速度が速いために、ギャップ層の
部分が深くエッチングされてしまい、スライダ（ヘッド
ブロック）のＡＢＳ面に不要な凹凸が形成されて、スラ
イダのＣＳＳ特性（Contact Start Stop）等に悪影響を
及ぼす。
【００１７】そこで、本発明は、ギャップの構成材料と
して基板の構成材料とは異種のものを用いた場合でも、
スライダ形状加工のためのエッチングを行っても、ＣＳ
Ｓ特性等に大きな悪影響を与える凹凸がエッチング部分
に形成されないようにすることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、次の技術的手段を講じた。
【００１９】即ち、本発明は、ウェハ表面に、非磁性材
料から構成される磁気ギャップ層を含む複数の構成層か
らなる薄膜磁気ヘッド素子を格子配列状に多数形成する
工程と、該ウェハを各ヘッドブロック毎に切断する工程
と、該ヘッドブロックの切断面により構成される磁気記
録媒体との対向面に、エッチングによるスライダ形状加
工を施す工程とを含む磁気ヘッド装置の製造方法におい
て、前記薄膜磁気ヘッドの形成過程で、前記エッチング
が施される領域に存在する磁気ギャップ層の構成材料を
予め除去することを特徴とするものである。なお、スラ
イダ形状加工が施されたヘッドブロックは、ハードディ
スク装置等のスライダとなるものである。そして、上記
薄膜磁気ヘッド素子は、スライダのトレーリング側側面
に形成され、該素子の磁気ギャップ層は、磁気記録媒体
との対向面（ＡＢＳ面）のレール表面に露呈されて、記
録・再生のための磁気ギャップが構成される。
【００２０】上記磁気ヘッド装置の製造方法によれば、
スライダ形状加工のためのエッチングを行う際には、エ
ッチングにより除去される領域に磁気ギャップの構成材
料が存在しない。したがって、Ａｌ2 Ｏ3 とＴｉＣとの
複合セラミックなどのアルミナ系非磁性材料からなるウ
ェハを基板として、非アルミナ系非磁性材料を用いて磁
気ギャップ層を形成した場合であっても、ヘッドブロッ
ク（スライダ）の磁気記録媒体対向面（ＡＢＳ面）に、
スライダ形状加工のためのエッチングを施す際には、エ
ッチングされる部分の表面にはギャップ層は現れず、よ
って、エッチングによってＡＢＳ面に不要な凹凸が形成
されることがなく、浮上磁気ヘッド装置としてのＣＳＳ
特性等を悪化させることが防止される。
【００２１】なお、エッチングとしては、反応性イオン
エッチング（Reactive Ion Etching）などのドライエッ
チングのほか、ウェットエッチングを用いることができ
る。反応性イオンエッチングによれば、化学的に活性な
イオン群を電界に沿って加速し、基板に対して垂直に進
むようにしてエッチングに方向性をもたせた方向性化学
エッチングの一つであるので、曲面加工を行うこともで
き、スライダのＡＢＳ面形成の自由度を向上させること
ができる。
【００２２】さらに、磁気ギャップ層の構成材料の除去
を、エッチングが施される領域を超える幅にわたって行
えば、エッチングの際にマスクにより保護されることに
より形成された凸部、即ち、ＡＢＳ面のレールの側壁部
においても磁気ギャップ層が現れなくなり、エッチング
によりレール側壁部においても、陥没溝が形成されてし
まうことが防止される。
【００２３】上記薄膜磁気ヘッド素子は、好ましくは、
再生用の磁気抵抗効果ヘッドと記録用のインダクティブ
ヘッド（磁気誘導型ヘッド）とが一体に積層形成された
ものであるが、再生と記録とをともにインダクティブヘ
ッドにより行う磁気ヘッド素子に本発明を適用すること
もできる。
【００２４】ＭＲ−インダクティブ一体型ヘッドでは、
磁気ギャップ層は、磁気抵抗効果ヘッドの磁気抵抗効果
素子膜の上下に積層形成されている再生磁気ギャップ層
と、インダクティブヘッドの上下磁極間に介在されてい
る記録磁気ギャップ層とを含むものである。
【００２５】上記再生磁気ギャップ層の構成材料として
は、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）又は酸化窒素アルミニ
ウム（ＡｌＮＯ）を用いることができる。かかる材料に
よれば、熱伝導性に優れるため、磁気抵抗効果素子にお
いて発生する熱の放熱性が良好なものとなり、素子の熱
的信頼性を改善し得る。したがって、磁気抵抗効果素子
のストライプハイトを小さくすることにより高出力化を
図った場合でも、ストライプハイトの狭小化による抵抗
値の向上に伴う発熱量の増大にも対応し得る。
【００２６】また、上記記録磁気ギャップ層の構成材料
としては、酸化ケイ素、五酸化タンタル又はベリリウム
−銅合金などの、ミリング速度が上下磁極の構成材料と
なるパーマロイ（ＮｉＦｅ合金）、ＦｅＡｌ合金、Ｃｏ
系非晶質合金等とほぼ同じものを用いることができる。
かかる材料を用いることによって、インダクティブヘッ
ドの下部磁極のトリム部（凸部）の形成を、記録磁気ギ
ャップ層のパターニングを行うためのイオンミリング装
置により行って、上下磁極のトラック幅をほぼ同じにす
ることができ、インダクティブヘッドの高トラック密度
対応が図られ、設備コストの低減をも図られる。
【００２７】以上のように、スライダのトレーリング側
側面に薄膜磁気ヘッド素子が設けられ、スライダの磁気
記録媒体との対向面には、エッチングによるスライダ形
状加工が施されている磁気ヘッド装置において、前記薄
膜磁気ヘッド素子の磁気ギャップを構成するギャップ層
が、前記エッチングにより形成された凹面部には露呈し
ないので、該凹面部にＣＳＳ特性等を悪化させる陥没溝
が形成されてしまうことが防止される。
【００２８】このようなスライダを有する磁気ヘッド装
置を製造するための中間製造物となるヘッドブロック
は、一端面に薄膜磁気ヘッド素子が積層形成され、該ヘ
ッド積層面に隣接する面が、前記薄膜磁気ヘッド素子の
磁気ギャップが露呈された磁気記録媒体対向面とされ、
該磁気記録媒体対向面にエッチングによるスライダ形状
加工が施されるものであって、前記スライダ形状加工の
ためのエッチング領域に、前記磁気ギャップの構成材料
が存在していないものを用いる。かかるヘッドブロック
の磁気記録媒体対向面をスライダ形状加工すると、エッ
チング部分には磁気ギャップの構成材料が存在していな
いので、エッチング領域全域にわたってほぼ同じエッチ
ング速度で加工され、エッチングによって不要な凹凸形
状が形成されてしまうことが防止される。
【００２９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図３〜図５は、本発明方法により
製造される浮上型磁気ヘッド装置１を示しており、ま
ず、該装置１の構成を説明する。
【００３０】本実施形態の磁気ヘッド装置１は、スライ
ダ（基板）２のトレーリング側側面に複数の構成層から
なる薄膜磁気ヘッド素子３を積層形成することにより構
成されるものであって、該素子３は、上下に一体的に積
層された再生用の磁気抵抗効果ヘッド４と記録用のイン
ダクティブヘッド５とにより構成されている。
【００３１】磁気抵抗効果ヘッド４は、非磁性材料から
なるアンダーコート６を表面に積層形成したアルチック
（Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）などのアルミナ系非磁性材料
（非磁性合金）からなる基板（スライダ）２上に、軟磁
性体からなる下部磁気シールド層７、非磁性材料からな
る下部半ギャップ層８、外部磁界強度に応じて電気抵抗
値が変化する磁気抵抗効果素子膜９、該膜９の両端に接
続される導電性の電極層１０、非磁性材料からなる上部
半ギャップ層１１、軟磁性体からなる上部磁気シールド
層１２を積層することにより構成されている。
【００３２】各層の構成材料としては、例えば、アンダ
ーコート６にはアルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）を、磁気シール
ド層７，１２にはパーマロイ（ＮｉＦｅ合金）、ＦｅＡ
ｌ合金若しくはＣｏ系非晶質合金を、磁気ギャップ８，
１１には窒化アルミニウム（ＡｌＮ）若しくは酸化窒素
アルミニウム（ＡｌＮＯ）を、電極層１０には銅を用い
ることができる。
【００３３】また、磁気抵抗効果素子９としては、従来
公知のＡＭＲ素子や、スピンバルブ素子やグラニュラー
素子などのＧＭＲ素子を用いることができる。該素子９
は、磁気記録媒体からの磁界に応じて電気抵抗値が変化
するものであり、かかる抵抗変化を検出することにより
媒体に磁気記録された情報を再生することができる。
【００３４】上記インダクティブヘッド５は、軟磁性体
からなる下部磁極層１２、非磁性材料からなる磁気ギャ
ップ層１３、導電性材料からなる誘導コイル層１４、該
コイル層１４を覆う非磁性材料からなる絶縁層１５、軟
磁性材料からなる上部磁極層１６を順次積層することに
より構成されている。なお、該ヘッド５の下部磁極層１
２は、磁気抵抗効果ヘッド３の上部磁気シールド層と共
通の軟磁性層により構成されており、かかる層１２の共
通化により素子１全体の膜厚の薄肉化を図っている。
【００３５】下部磁極層１２と上部磁極層１６とは誘導
コイル１４の中心部で接続されており、該コイル１４に
電流を印加することにより上下磁極１２，１６の端部間
に磁界を発生させ、該磁界の作用で磁気記録媒体表面に
積層された磁性体の磁気モーメントを反転させることに
より情報の記録を行えるようになっている。
【００３６】上記薄膜磁気ヘッド素子３は、非磁性材料
からなる保護層１７で覆われており、磁気抵抗効果素子
の両端、並びに、誘導コイルの両端にそれぞれ電気的に
接続される端子１８が、保護層１７の表面に露呈されて
いる。
【００３７】また、高トラック密度の磁気ディスクに対
応するため、上部磁極１６のトラック幅（ＡＢＳ面に露
呈する上部磁極層１６の幅）を小さく形成するととも
に、該上部磁極のトラック幅１６とほぼ同一幅のトリム
部１９を下部磁極層１２に形成している。
【００３８】上記各層の構成材料としては、例えば、磁
極層１２，１６にはパーマロイ、ＦｅＡｌ合金、Ｃｏ系
非晶質合金を、磁気ギャップ層１３や絶縁層１５には五
酸化タンタル（Ｔａ2 Ｏ5 ）、ベリリウム−銅合金（Ｂ
ｅＣｕ）又は酸化ケイ素（ＳｉＯ2 ）を、コイル層１４
には銅を用いることができる。
【００３９】磁気ギャップ層１３は、アルミナ、又はア
ルミナを含む合金並びにセラミック等のアルミナ系非磁
性材料を用いても良いが、アルミナは比較的硬く、磁極
層１２のパターニングに一般に用いられるイオンミリン
グでは加工に困難を伴うので、比較的容易にミリングし
得る非アルミナ系非磁性材料を用いるのが良い。このよ
うに、非アルミナ系非磁性材料により磁気ギャップ層１
３を構成することによって、上記トリム部１９の形成
と、磁気ギャップ層１３のパターニングとを、ともにイ
オンミリングにより行うことができ、設備の共通化によ
る設備コストの低減を図ることができる。
【００４０】上記スライダ２の磁気ディスク（磁気記録
媒体）との対向面（ＡＢＳ面）２０には、スライダ形状
加工が施されることにより所定の凹凸形状に構成されて
おり、ＣＳＳ特性の向上等が図られている。かかるスラ
イダ形状加工は、凹部２２，２３，２４を形成する部分
をエッチングにより除去することにより行われる。
【００４１】磁気抵抗効果ヘッド４の磁気ギャップ層
８，１１は、スライダ２のＡＢＳ面２０の凸部２１の表
面に露呈されており、かかる露呈部分により再生磁気ギ
ャップが構成されている。同様に、インダクティブヘッ
ド５の磁気ギャップ層１３もＡＢＳ面の凸部２１の表面
に露呈され、かかる露呈部分により記録磁気ギャップが
構成されている。一方、ＡＢＳ面２０の凹部２２，２
３，２４には、磁気ギャップ層８，１１の構成材料は一
切露呈されていない。
【００４２】次に、上記磁気ヘッド装置１の製造方法の
一実施例について、図１〜図３を参照しつつ説明する。
【００４３】まず、図３に示すように、アルチック（Ａ
ｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ）等のアルミナ系非磁性材料からなる
円盤状のウェハ（基板）３１表面に、真空薄膜形成技術
及び感光によるパターニング技術を用いて上記薄膜磁気
ヘッド素子３を格子配列状に多数積層形成する。
【００４４】この素子３の積層過程において、上記スラ
イダ２のＡＢＳ面２０の凹部２２，２４が形成される領
域、即ち、ＡＢＳ面のエッチングが施される領域に存在
する磁気ギャップ層８，１１，１３の構成材料を予め除
去しておく。
【００４５】かかる磁気ギャップ層構成材料の除去は、
各層８，１１，１３の積層形成時に、各層８，１１，１
３を図１に示すようにパターニングして、除去領域Ｒを
反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）やイオンミリングに
より除去することにより行うことができる。かかる除去
領域Ｒのパターニングは、他の目的のためのパターニン
グと同時に行ってもよく、また、個別に行うこともでき
る。
【００４６】除去領域Ｒは、好ましくは、スライダ２の
凹部２２，２４となる領域よりも広い範囲にわたって設
定する。図示実施例では、凹部２２，２４の深さ方向
（図において上下方向）並びに幅方向（図において左右
方向）においてスライダ形状加工のためのエッチングが
施される領域よりも広い範囲にわたって除去領域Ｒが設
定されている。
【００４７】薄膜磁気ヘッド素子３並びに保護層１７の
積層形成後、多数の素子３が表面に積層形成されたウェ
ハ３１を、各素子３並びに該素子３に接続する端子１８
を含む各ヘッドブロック３２毎に切断する。このヘッド
ブロック３２は、スライダ形状加工を施すことにより上
記スライダ２を構成するものである。なお、横方向の一
列のヘッドブロック３２の分断は、後述するスライダ形
状加工（エッチング）の後に行ってもよく、エッチング
前に行うこともできる。
【００４８】図１及び図３における各ヘッドブロック３
２の下側の切断面Ｃが、ヘッドブロック３２の磁気記録
媒体との対向面、即ちＡＢＳ面２０となる。このＡＢＳ
面２０は、切断工程後、研磨等による表面平坦化加工を
施した後、所要の凹凸形状を形成するためのスライダ形
状加工を施す。
【００４９】かかるスライダ形状加工は、ヘッドブロッ
ク３２の磁気記録媒体対向面２０のうち、スライダ２の
凹部２２，２３，２４となる所定の領域（図３に斜線で
示す）に反応性イオンエッチングを施すことにより行
う。即ち、スライダ２の凸部２１となる領域上にレジス
トを形成した後、反応性イオンエッチングにより所定の
領域を所定深さまで除去する。
【００５０】このとき、エッチングが施される領域にお
いては、磁気ギャップ層８，１１，１３の構成材料は予
め除去されているので、該ギャップ層８，１１，１３は
表面に現れない。したがって、ギャップ層８，１１，１
３の構成材料として、基板２の構成材料であるアルミナ
系非磁性材料とは異なる非アルミナ系非磁性材料を用い
た場合でも、エッチング領域全域にわたってほぼ同じエ
ッチング速度で加工することが可能となり、エッチング
を施すことによって不要な凹凸がＡＢＳ面２０に形成さ
れてしまうことを防止できる。
【００５１】さらに、本実施形態においては、磁気ギャ
ップ層８，１１，１３の構成材料の除去は、エッチング
が施される領域を超える幅にわたって行なわれているの
で、ＡＢＳ面２０の凸部２１の側壁面においてもギャッ
プ層８，１１，１３は現れず、該側壁面に不要な凹凸が
形成されてしまうことをも防止できる。
【００５２】特に、記録磁気ギャップ層１３の構成材料
として、酸化ケイ素、五酸化タンタル又はベリリウム−
銅合金などの非アルミナ系非磁性材料を用いることによ
って、下部磁極層１２のトリム部１９の形成と、磁気ギ
ャップ層１３のパターニングとを、ともにイオンミリン
グにより行うことができるようになり、設備コストの低
減を図りながらも、スライダ形状加工のためのエッチン
グによってＡＢＳ面に不要な凹凸が形成されてしまうこ
とを防止できる。
【００５３】
【発明の効果】本発明によれば、エッチングが施される
領域に磁気ギャップ層の構成材料が存在しないので、磁
気ギャップ層の構成材料をウェハの構成材料とは異種の
材料を用いても、そのことに起因してスライダ形状加工
のためのエッチングによりＡＢＳ面に不要な凹凸が形成
されてしまうことを防止することができ、スライダとし
てのＣＳＳ特性を悪化させることを防止することができ
る。
【００５４】さらに、インダクティブヘッドの磁気ギャ
ップ層を、酸化ケイ素、５酸化タンタル又はベリリウム
−銅合金により形成すれば、上部磁極と同幅のトリム部
を下部磁極層に形成するためのイオンミリング装置によ
って、該磁気ギャップ層を容易にパターニングすること
が可能となり、単一の設備によってトリム部の形成を行
い、設備コストの低減を図りつつも、高トラック密度に
対応したインダクティブヘッドを製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気ヘッド装置の製造工程の説明図で
あって、ウェハに積層された磁気ギャップ層のパターン
の一実施形態を示す拡大平面図である。
【図２】表面に多数の薄膜磁気ヘッド素子が形成された
ウェハの平面図である。
【図３】本発明の一実施例に係る磁気ヘッド装置のＡＢ
Ｓ面の構成図である。
【図４】図３のＡ−Ａ線断面図である。
【図５】同磁気ヘッド装置の斜視図である。
【図６】従来のインダクティブヘッドの磁気ギャップ部
分の断面図である。
【図７】下部磁極層のトリム加工を行ったインダクティ
ブヘッドの磁気ギャップ部分の断面図である。
【符号の説明】
１ 磁気ヘッド装置 ２ スライダ ３ 薄膜磁気ヘッド素子 ４ 磁気抵抗効果ヘッド（再生用ヘッド） ５ インダクティブヘッド（記録用ヘッド） ８ 磁気ギャップ層（下部再生半ギャップ層） １１ 磁気ギャップ層（上部再生半ギャップ層） １３ 磁気ギャップ層（記録磁気ギャップ層） ２０ 磁気記録媒体との対向面（ＡＢＳ面） ３１ ウェハ ３２ ヘッドブロック
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮崎 富仁 大阪府三島郡島本町江川２丁目15番17号 リードライト・エスエムアイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D034 AA03 BA02 DA07 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 RA04 RA10 SA05

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ウェハ表面に、非磁性材料から構成され
    る磁気ギャップ層を含む複数の構成層からなる薄膜磁気
    ヘッド素子を格子配列状に多数形成する工程と、該ウェ
    ハを各ヘッドブロック毎に切断する工程と、該ヘッドブ
    ロックの切断面により構成される磁気記録媒体との対向
    面に、エッチングによるスライダ形状加工を施す工程と
    を含む磁気ヘッド装置の製造方法において、 前記薄膜磁気ヘッドの形成過程で、前記エッチングが施
    される領域に存在する磁気ギャップ層の構成材料を予め
    除去することを特徴とする磁気ヘッド装置の製造方法。
  2. 【請求項２】 磁気ギャップ層の構成材料の除去は、エ
    ッチングが施される領域を超える幅にわたって行うこと
    を特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッド装置の製造方
    法。
  3. 【請求項３】 ウェハとして、アルミナ系非磁性材料か
    ら構成された基板を用いるとともに、磁気ギャップ層の
    構成材料として、非アルミナ系非磁性材料を用いること
    を特徴とする請求項１又は２に記載の磁気ヘッド装置の
    製造方法。
  4. 【請求項４】 薄膜磁気ヘッド素子は、再生用の磁気抵
    抗効果ヘッドと記録用のインダクティブヘッドとが一体
    に積層形成してなるものであって、磁気ギャップ層は、
    磁気抵抗効果ヘッドの再生磁気ギャップ層と、インダク
    ティブヘッドの記録磁気ギャップ層とを含み、再生磁気
    ギャップ層の構成材料として、窒化アルミニウム又は酸
    化窒素アルミニウムを用いることを特徴とする請求項３
    に記載の磁気ヘッド装置の製造方法。
  5. 【請求項５】 薄膜磁気ヘッド素子は、再生用の磁気抵
    抗効果ヘッドと記録用のインダクティブヘッドとを一体
    に積層形成してなるものであって、磁気ギャップ層は、
    磁気抵抗効果ヘッドの再生磁気ギャップ層と、インダク
    ティブヘッドの記録磁気ギャップ層とを含み、該記録磁
    気ギャップ層の構成材料として、酸化ケイ素、五酸化タ
    ンタル又はベリリウム−銅合金を用いることを特徴とす
    る請求項３に記載の磁気ヘッド装置の製造方法。
  6. 【請求項６】 一側面が磁気記録媒体対向面とされたス
    ライダのトレーリング側側面に、非磁性材料から構成さ
    れる磁気ギャップ層を含む複数の構成層からなる薄膜磁
    気ヘッド素子が積層形成され、前記スライダの磁気記録
    媒体対向面には、エッチングによるスライダ形状加工が
    施された磁気ヘッド装置において、 前記薄膜磁気ヘッド素子の磁気ギャップ層が、前記エッ
    チングにより形成された凹面部には露呈していないこと
    を特徴とする磁気ヘッド装置。
  7. 【請求項７】 薄膜磁気ヘッド素子の磁気ギャップ層
    が、エッチングにより形成された凸部側壁面においても
    露呈していないことを特徴とする磁気ヘッド装置。
  8. 【請求項８】 一側面に薄膜磁気ヘッド素子が積層形成
    され、該ヘッド積層面に隣接する面に、薄膜磁気ヘッド
    素子の磁気ギャップが露呈されており、該磁気ギャップ
    露呈面に、エッチングによるスライダ形状加工が施され
    る磁気ヘッド装置の中間製造物において、 前記スライダ形状加工のためのエッチング領域に、前記
    磁気ギャップの構成材料が存在していないことを特徴と
    する磁気ヘッド装置の中間製造物。
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