JP3367396B2 - 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

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JP3367396B2 JP29646197A JP29646197A JP3367396B2 JP 3367396 B2 JP3367396 B2 JP 3367396B2 JP 29646197 A JP29646197 A JP 29646197A JP 29646197 A JP29646197 A JP 29646197A JP 3367396 B2 JP3367396 B2 JP 3367396B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくともインダ
クティブ型書込み磁気ヘッド素子を備えた薄膜磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図1は、従来の複合型薄膜磁気ヘッドの
一例を示す断面図である。
【0003】同図において、10は磁気抵抗効果(M
R)型読出し磁気ヘッド素子の下部シールド膜、11は
インダクティブ型書込み磁気ヘッド素子の下部磁極をも
兼用する上部シールド膜、12は下部シールド膜10及
び上部シールド膜11の間に絶縁層13を介して設けら
れたMR膜、14はインダクティブ型書込み磁気ヘッド
素子の記録ギャップ膜、15は上部磁極、16は記録ギ
ャップ膜14上に設けられた下部絶縁膜、18は下部絶
縁膜16上に設けられたコイル導体、17はコイル導体
18を覆うように設けられた上部絶縁膜をそれぞれ示し
ている。上部磁極15は、下部磁極(上部シールド膜)
11と後部で磁気的に接続されることによってこの下部
磁極11と共にヨークを構成している。
【0004】同図から明らかのように、従来の薄膜磁気
ヘッドは、記録ギャップ膜14が書き込み磁界を発生さ
せるためのコイル導体18の下の部分までつながってい
たため、熱伝導率の高い材料を用いる必要があった。そ
こで、一般的には、比較的熱伝導率のよい酸化アルミニ
ウム(Al23 )が記録ギャップ膜14の材料として
用いられている。
【0005】近年、高記録密度化に伴って記録トラック
幅がより狭くなってきており、書込み磁気ヘッド側の磁
極幅も1μm以下になりつつある。このような狭磁極幅
に対処するため、書き込み磁極部だけを分離して構成す
るようになってきた。即ち、記録ヘッドの磁極先端部の
みに下部先端磁極、記録ギャップ膜及び上部先端磁極の
3層先端磁極構造体を形成し、その上下にヨークを磁気
的に接続した磁気ヘッド構造を有するものが提案されて
いる。
【0006】図2は、このような3層先端磁極構造を有
する従来の複合型薄膜磁気ヘッドの一例を示す断面図で
ある。
【0007】同図において、20はMR型読出し磁気ヘ
ッド素子の下部シールド膜、21は上部シールド膜、2
2は下部シールド膜20及び上部シールド膜21の間に
絶縁層23を介して設けられたMR膜、24はインダク
ティブ型書込み磁気ヘッド素子の下部先端磁極、25は
上部先端磁極、26は下部先端磁極24及び上部先端磁
極25間に挿設された記録ギャップ膜、27は上部シー
ルド膜21上であって、下部先端磁極24、記録ギャッ
プ膜26及び上部先端磁極25からなる3層先端磁極構
造体の回りに設けられた下部絶縁膜、28は下部絶縁膜
27上に設けられたコイル導体、29はコイル導体28
を覆うように設けられた上部絶縁膜、30は上部絶縁膜
29上に上部先端磁極25に接して積層された上部補助
磁極をそれぞれ示している。上部シールド膜21は、下
部先端磁極24に接して積層されており、下部補助磁極
の機能をも兼用する。上部補助磁極30は、下部補助磁
極(上部シールド膜)21と後部で磁気的に接続される
ことによってこの下部補助磁極21と共にヨークを構成
している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、書き込み
磁極部だけを分離して構成する薄膜磁気ヘッドにおい
て、下部先端磁極24、記録ギャップ膜26及び上部先
端磁極25からなる3層先端磁極構造体をイオンミリン
グ等のドライエッチングで形成する際、従来のようにA
23 をギャップ材として使用すると形状コントロー
ルが困難となってしまう。即ち、Al23 は、3層先
端磁極構造体の下部先端磁極24及び上部先端磁極25
を構成する磁性材料に比べてエッチング速度が遅いた
め、3層先端磁極構造体の側面の形状を、上部シールド
膜21の面に対して垂直にすること、及び図3に示すよ
うに上部シールド面に対して角度を制御すること等の形
状コントロールが困難となる。そのため、サイドフリン
ジング等の問題が避けられなかった。また、Al23
のエッチングレートを高くする方法として反応性エッチ
ング(RIE)を用いることが考えられるが、3層膜を
エッチングする場合、各層ごとにエッチングガスを変え
なければならないのみならず、エッチング装置をAl2
3 エッチングガス(塩素系等)対応に構成する必要が
ある。また、コロージョン(腐食の一種)等の対策も考
えなければならない。
【0009】従って本発明の目的は、狭トラックでもサ
イドフリンジの少ない安定した記録特性を有する薄膜磁
気ヘッド及びその製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、エアベ
アリング面(以下ABS面と称する)から所定高さの位
置まで設けられた第1先端磁極、記録ギャップ膜及び第
2先端磁極からなる3層先端磁極構造体を有する薄膜磁
気ヘッドであって、記録ギャップ膜を構成する物質が、
同一のエッチング方法でありかつ同一のエッチング条件
において、第1先端磁極を構成する物質及び第2先端磁
極を構成する物質のエッチングレート以上のエッチング
レートを有するSiC又はAlNである薄膜磁気ヘッド
が提供される。なお、本発明における第1先端磁極及び
第2先端磁極は、薄膜磁気ヘッドを製造する際の各層の
積層順序に応じて、下部先端磁極及び上部先端磁極にそ
れぞれ相当する場合と、上部先端磁極及び下部先端磁極
にそれぞれ相当する場合とが存在する。
【0011】従来の薄膜磁気ヘッドの記録ギャップ膜
は、書込み磁界を発生させるコイル導体の下部まで広が
っていたため、熱伝導率の高い材料を用いる必要があっ
た。しかしながら、磁極先端部を書込みヘッドのヨーク
部分と分離して形成する磁極分離型の書込みヘッドにお
いては、記録ギャップ膜がコイルに隣接して存在しない
ため、この記録ギャップ膜の材料として、高い熱伝導率
の材料に限定されることなく選択が可能である。そこ
で、書き込み磁極先端部の3層膜をイオンミリング等の
ドライエッチングで形成する場合、同一のエッチング方
法でありかつ同一のエッチング条件において、磁極を構
成する磁性材料に対してエッチングレートが同等又は大
きいSiC又はAlNを記録ギャップ膜材料として用い
ることにより、この3層先端磁極構造体の形状を容易に
制御することが可能となる。即ち、コイルの熱の伝導は
従来と同様に保ちつつ、磁極先端部の形状制御をイオン
ミリング等のドライエッチングの方法を問わずに容易に
行うことができる薄膜磁気ヘッドが提供される。
【0012】本発明によれば、さらに、磁性層、非磁性
層及び磁性層を順次積層し、ドライエッチング処理によ
りエアベアリング面から所定高さの位置まで3層先端磁
極構造体を形成する薄膜磁気ヘッドの製造方法であっ
て、非磁性層として、同一のエッチング方法でありかつ
同一のエッチング条件において磁性層のエッチングレー
ト以上のエッチングレートを有する物質を用い、磁性
層、非磁性層及び磁性層を同時にドライエッチング処理
する薄膜磁気ヘッドの製造方法が提供される。
【0013】書き込み磁極先端部の3層膜をイオンミリ
ング等のドライエッチングで形成する場合、同一のエッ
チング方法でありかつ同一のエッチング条件において磁
極を構成する磁性材料に対してエッチングレートが同等
又は大きい材料を非磁性層用材料として用い、同時にド
ライエッチング処理することにより、この3層先端磁極
構造体の形状を容易に制御することが可能となる。即
ち、コイルの熱の伝導は従来と同様に保ちつつ、磁極先
端部の形状制御をイオンミリング等のドライエッチング
の方法を問わずに容易に行うことができる薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法が提供される。
【0014】非磁性層を構成する物質が、例えば、Si
、Ta、SiC及びAlNから選択された1
つの物質であることが好ましい。
【0015】第1先端磁極を構成する物質及び第2先端
磁極を構成する物質、磁性層を構成する物質が、Feを
含む窒化物であることが好ましい。
【0016】非磁性層を構成する物質がTaであ
り、磁性層を構成する物質がNiFeであることも好ま
しい。
【0017】
【発明の実施の形態】図4は本発明の一実施形態として
インダクティブ型書込みヘッド部とMR型読出しヘッド
部とを有する複合型薄膜磁気ヘッドをABS面側から見
た平面図であり、図5はこの磁気ヘッドを横方向から見
た断面図である。
【0018】これらの図において、40はMR型読出し
磁気ヘッド素子の下部シールド膜、41は上部シールド
膜、42は下部シールド膜40及び上部シールド膜41
の間に絶縁層43を介して設けられたMR膜、44はイ
ンダクティブ型書込み磁気ヘッド素子の下部先端磁極、
45は上部先端磁極、46は下部先端磁極44及び上部
先端磁極45間に挿設された記録ギャップ膜、47は上
部シールド膜41上であって、下部先端磁極44、記録
ギャップ膜46及び上部先端磁極45からなる3層先端
磁極構造体の回りに設けられた下部絶縁膜をそれぞれ示
している。48は下部絶縁膜47上に設けられたコイル
導体、49はコイル導体48を覆う上部絶縁膜、50は
上部補助磁極をそれぞれ示している。上部シールド膜4
1は、下部先端磁極44に接して積層されており、下部
補助磁極の機能をも兼用する。上部補助磁極50は、下
部補助磁極(上部シールド膜)41と後部で磁気的に接
続されることによってこの下部補助磁極41と共にヨー
クを構成している。
【0019】記録ギャップ膜46を構成する材料として
は、下部先端磁極44及び上部先端磁極45を構成する
材料のエッチングレート以上のエッチングレートを有す
るものが選択される。本実施形態においては、具体的に
は、下部先端磁極44及び上部先端磁極45となる磁性
材料に、Fe系の窒化物(FeN、FeZrN、FeB
N等)又はこれらと同等のエッチングレートを有する磁
性材料を用い、記録ギャップ膜46の材料に、AIN、
Ta25 、Sio2 、SiC又はこれらと同等のエッ
チングレートを有する絶縁材料を用いている。ただし、
下部先端磁極44及び上部先端磁極45となる磁性材料
にエッチングレートが比較的高いNiFeを用いた場合
は、記録ギャップ膜46の材料にこれより高いTa2
5 等の絶縁材料を用いる必要がある。なお、本実施形態
では、記録ギャップ膜46として絶縁材料を用いている
が、導電性の非磁性体(NiP等)を同様に用いること
も可能である。
【0020】表1に、下部先端磁極44及び上部先端磁
極45として用いられる磁性材料並びに記録ギャップ膜
46として用いられる材料とそのイオンエッチングレー
トとが示されている。なお、同表には、従来使用されて
いるAl23 についても比較例として示されている。
【0021】
【表1】
【0022】イオンミリング等のRIEを除くドライエ
ッチング法で3層先端磁極構造をパターニングする際に
従来から使用されているAl23 は、磁極材料となる
磁性材料に比べてエッチングレートが遅いため、Al2
3 による記録ギャップ膜の特にパターンの側面付近が
比較的エッチングされにくく、ある程度の広がりをもっ
てしまう。従って、その下層にある下部先端磁極も記録
ギャップ膜と同様の広がりをもってしまうことになり、
記録トラック幅の広がりや、サイドフリンジング等の問
題が発生してしまう。そこで、本実施形態のように、記
録ギャップ膜46に磁極材料となる磁性材料と同等又は
それ以上のミリングレートを有する材料を使用すること
により、エッチングレート的には単層膜をパターニング
しているのと同様な効果が得られる。即ち、3層パター
ンの特に側面の形状のコントロールが容易になり書き込
みトラック幅の広がり、及びサイドフリンジング等の発
生を抑制することができる。
【0023】なお、記録ギャップ膜46の材料として、
Al23 以外の材料を用いることができるのは、記録
ギャップ膜がコイルの下部まで広がっていない、磁極分
離型の書込みヘッドであることによる。即ち、このよう
な書込みヘッドでは、記録ギャップ膜の材料として高い
熱伝導率の材料を用いる必要がないためである。
【0024】図6〜図12は、本発明の薄膜磁気ヘッド
の製造方法の一例の工程を概略的に示す断面図である。
この例も、インダクティブ型書込みヘッド部とMR型読
出しヘッド部とを有する複合型薄膜磁気ヘッドに関する
もので、その製造工程を示している。
【0025】図示しない基板(ウエハ)上に下部シール
ド膜40、MR膜42、絶縁層43及び上部シールド膜
41等のMR型読出しヘッド部を形成する。この上部シ
ールド膜41として、約3.5μmの膜厚のNiFe
(ニッケル・鉄)(82wt%Ni−18wt%Fe)
をフォトリソグラフィ及び電気めっきでパターニング形
成した後、図6に示すように、Al23 からなる絶縁
膜51をスパッタリングにより成膜する。この絶縁膜5
1の膜厚は、上部シールド41の最上部が完全に埋まる
厚みであればよい。本実施形態では約8.5μmとし
た。
【0026】その後、絶縁膜51をケミカルメカニカル
ポリッシュ(以下CMPと称する)によって研磨し、図
7に示すように上部シールド膜41の上面を露出させ
る。このCMPは、この例では、径が0.02〜0.3
μm程度の酸化物の砥粒を使用し、添加剤にKOH等を
用いたアルカリ性のスラリーで行っている。研磨パッド
はウレタン等の合成繊維系のものを使用している。
【0027】CMP終了後、上部シールド膜41及び絶
縁膜51上にインダクティブ型書込みヘッド部の下部先
端磁極44用の磁性膜52、記録ギャップ膜46用の絶
縁膜53及び上部先端磁極45用の磁性膜54を積層し
て3層膜を得る。
【0028】本実施形態では、下部先端磁極44とし
て、約0.5μmの膜厚のFeZrN(鉄・ジルコン・
窒素)等の高Bs膜52をスパッタリングで形成してい
る。記録ギャップ膜46として、約0.3μmの膜厚の
SiO2 等の絶縁膜53をスパッタリングで形成してい
る。また、上部先端磁極45として、約0.7μmの膜
厚のFeZrN(鉄・ジルコン・窒素)等の高Bs膜5
4をスパッタリングで形成している。
【0029】磁極先端部を構成するこれら3つの膜は、
同一チャンバ内で成膜することが可能である。各スパッ
タリング膜の成膜条件として、FeZrNによる高Bs
膜52及び54は、DCマグネトロンスパッタリングに
より88.2at%Fe−11.8at%Zrの合金タ
ーゲットを、Ar+N2 混合ガスでスパッタする反応性
スパッタにより膜中に窒素を添加させている。トータル
ガス圧は0.2Pa、窒素分圧は10%である。また、
投入電力は1.4kW、成膜速度は150Å/minで
ある。絶縁膜53は、RFマグネトロンスパッタリング
によりSiO2ターゲットをAr、Ar+O2 、O2
ス等でスパッタリングしている。トータルガス圧は1.
0Pa、投入電力は1.0kW、成膜速度は4nm/m
inである。
【0030】次いで、形成すべきマスクに相当する部分
(例えば0.3〜2.0μm程度の幅)が開口したレジ
ストフレーム55を上部先端磁極45用の磁性膜54上
に形成する。この状態が図8に示されている。本実施形
態では、レジストフレーム55として、約2〜5μmの
膜厚のノボラック系レジストをフォトリソグラフィで形
成している。
【0031】次いで、無電解めっきによりマスク56を
形成する。無電解めっきの前にウエハを4.5%HCl
水溶液に約1.5分間浸漬し、めっき面のぬれ性を得る
ことが望ましい。
【0032】形成されるマスク56は、ニッケル金属
(Ni)又はコバルト金属(Co)を母材とし、これに
ホウ素(B)等の3B族元素や、リン(P)等の5B族
元素を添加した金属化合物であり、膜厚は約1.0〜
3.0μmである。
【0033】次いで、アセトン等のリムーバを用いてレ
ジストフレーム55を剥離除去することによって、図9
に示すような構成が得られる。
【0034】次いで、形成したマスク56を用いてイオ
ンミリングによるエッチングを行う。イオンミリングの
条件としては、例えば加速電圧500mV、加速電流4
00mAである。これによって、磁性膜52、絶縁膜5
3及び磁性膜54が、マスク56の下方のパターンであ
る下部先端磁極44、記録ギャップ膜46及び上部先端
磁極45の部分を除いて除去されることとなる。
【0035】次いで、マスク56をアセトン等の有機溶
剤による剥離法で剥離除去することにって、図10に示
すように、FeZrNによる下部先端磁極44、SiO
2 による記録ギャップ膜46及びFeZrNによる上部
先端磁極45による3層先端磁極構造体がパターニング
形成されることとなる。
【0036】次いで、図11に示すように、Al2
3 、SiO2 等からなる絶縁膜57をスパッタリングで
成膜する。絶縁膜57の膜厚は、後に平坦化を行うに充
分な厚さ、即ち、イオンミリングにより形成した磁極先
端部の最上部が完全に埋まる厚さ以上あればよく、例え
ば0.5〜15μm程度である。本実施形態では約2.
5μmとした。
【0037】絶縁膜57を成膜した後、この絶縁膜57
をCMPによって研磨し、図12に示すように上部先端
磁極45を露出させる。このCMPは、この例では、径
が0.02〜0.3μm程度のAl23 、SiO2
の酸化物の砥粒を使用し、添加剤にKOH等を用いたア
ルカリ性のスラリーで行っている。研磨パッドはウレタ
ン等の合成繊維系のものを使用している。
【0038】次いで、下部絶縁膜47の上面上に、フォ
トリソグラフィによってコイル導体48を形成し、その
上に上部絶縁膜49を形成する。この上部絶縁膜49
は、ノボラック系のフォトレジストを用いており、フォ
トリソグラフィで形成する。次いで、フォトリソグラフ
ィによってレジストフレームを形成した後、電気めっき
により上部補助磁極50を形成する。上部補助磁極50
は、上部シールド膜41と後部で磁気的に接続され、共
にヨークを構成するように形成される。このような工程
を経て、図5に示すような断面の構成を有する薄膜磁気
ヘッドが得られる。
【0039】また、磁極先端部は、上部先端磁極45の
みをめっきで形成し、それをミリングマスクとしてイオ
ンミリングによりパターニングすること等も可能であ
る。
【0040】上述した実施形態では、基板上にMR型読
出しヘッド部を形成した後にインダクティブ型書込みヘ
ッド部を形成しているが、基板上にインダクティブ型書
込みヘッド部を形成した後にMR型読出しヘッド部を形
成するようにしてもよいことは明らかである。その場
合、上述した下部シールド膜、下部先端磁極、下部補助
磁極及び下部絶縁膜と、上部シールド膜、上部先端磁
極、上部補助磁極及び上部絶縁膜とはその呼称が互いに
入れ替わることとなる。
【0041】以上述べた実施形態は全て本発明を例示的
に示すものであって限定的に示すものではなく、本発明
は他の種々の変形態様及び変更態様で実施することがで
きる。従って本発明の範囲は特許請求の範囲及びその均
等範囲によってのみ規定されるものである。
【0042】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、ABS面から所定高さの位置まで設けられた第1先
端磁極、記録ギャップ膜及び第2先端磁極からなる3層
先端磁極構造体の記録ギャップ膜を構成する物質が、同
一のエッチング方法でありかつ同一のエッチング条件に
おいて、第1先端磁極を構成する物質及び第2先端磁極
を構成する物質のエッチングレート以上のエッチングレ
ートを有するSiC又はAlNであるから、磁極先端部
の形状制御をドライエッチングの方法を問わずに容易に
行うことができ、その結果、狭トラックでもサイドフリ
ンジの少ない安定した記録特性を得ることができる。ま
た、非磁性層として、同一のエッチング方法でありかつ
同一のエッチング条件において磁性層のエッチングレー
ト以上のエッチングレートを有する物質を用い、磁性
層、非磁性層及び磁性層を同時にドライエッチング処理
するため、磁極先端部の形状制御をドライエッチングの
方法を問わずに容易に行うことができ、その結果、狭ト
ラックでもサイドフリンジの少ない安定した記録特性を
得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】3層先端磁極構造を有する従来の複合型薄膜磁
気ヘッドの一例をABS面側から見た平面図である。
【図2】3層先端磁極構造を有する従来の複合型薄膜磁
気ヘッドの他の例をABS面側から見た平面図である。
【図3】図2の例を横方向から見た断面図である。
【図4】本発明の一実施形態としてインダクティブ型書
込みヘッド部とMR型読出しヘッド部とを有する複合型
薄膜磁気ヘッドをABS面側から見た平面図である。
【図5】図4の磁気ヘッドを横方向から見た断面図であ
る。
【図6】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の工
程を概略的に示す断面図である。
【図7】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の工
程を概略的に示す断面図である。
【図8】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の工
程を概略的に示す断面図である。
【図9】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の工
程を概略的に示す断面図である。
【図10】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の
工程を概略的に示す断面図である。
【図11】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の
工程を概略的に示す断面図である。
【図12】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法の一例の
工程を概略的に示す断面図である。
【符号の説明】
40 下部シールド膜 41 上部シールド膜 42 MR膜 43 絶縁層 44 下部先端磁極 45 上部先端磁極 46 記録ギャップ膜 47 下部絶縁膜 48 コイル導体 49 上部絶縁膜 50 上部補助磁極 51、53、57 絶縁膜 52、54 磁性膜 55 レジストフレーム 56 マスク

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エアベアリング面から所定高さの位置ま
    で設けられた第1先端磁極、記録ギャップ膜及び第2先
    端磁極からなる3層先端磁極構造体を有する薄膜磁気ヘ
    ッドであって、前記記録ギャップ膜を構成する物質が、
    同一のエッチング方法でありかつ同一のエッチング条件
    において、前記第1先端磁極を構成する物質及び前記第
    2先端磁極を構成する物質のエッチングレート以上のエ
    ッチングレートを有するSiC又はAlNであることを
    特徴とする薄膜磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 前記第1先端磁極を構成する物質及び前
    記第2先端磁極を構成する物質が、Feを含む窒化物で
    あることを特徴とする請求項1に記載の薄膜磁気ヘッ
    ド。
  3. 【請求項3】 磁性層、非磁性層及び磁性層を順次積層
    し、ドライエッチング処理によりエアベアリング面から
    所定高さの位置まで3層先端磁極構造体を形成する薄膜
    磁気ヘッドの製造方法であって、前記非磁性層として、
    同一のエッチング方法でありかつ同一のエッチング条件
    において前記磁性層のエッチングレート以上のエッチン
    グレートを有する物質を用い、前記磁性層、非磁性層及
    び磁性層を同時にドライエッチング処理することを特徴
    とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
  4. 【請求項4】 前記非磁性層が、SiO、Ta
    、SiC及びAlNから選択された1つの物質で
    形成されることを特徴とする請求項3に記載の製造方
    法。
  5. 【請求項5】 前記磁性層が、Feを含む窒化物で形成
    されることを特徴とする請求項3又は4に記載の製造方
    法。
  6. 【請求項6】 前記非磁性層がTaで形成され、
    前記磁性層がNiFeで形成されることを特徴とする請
    求項3に記載の製造方法。
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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000113437A (ja) * 1998-10-08 2000-04-21 Read Rite Smi Kk 磁気ヘッド装置の製造方法、磁気ヘッド装置、並びに、磁気ヘッド装置の中間製造物
JP2000149233A (ja) * 1998-11-11 2000-05-30 Read Rite Smi Kk 磁気ヘッド装置、並びに、その製造方法
US7002776B2 (en) 1999-12-06 2006-02-21 Tdk Corporation Thin film magnetic head and method of manufacturing same
JP3781399B2 (ja) * 1998-12-08 2006-05-31 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
JP3784182B2 (ja) * 1998-12-11 2006-06-07 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2000276706A (ja) * 1999-03-24 2000-10-06 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2000285411A (ja) * 1999-03-31 2000-10-13 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドの製造方法
US6524491B1 (en) * 1999-04-26 2003-02-25 Headway Technologies, Inc. Double plate-up process for fabrication of composite magnetoresistive shared poles
JP3843194B2 (ja) * 1999-05-19 2006-11-08 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP3363850B2 (ja) * 1999-07-06 2003-01-08 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US6396660B1 (en) * 1999-08-23 2002-05-28 Read-Rite Corporation Magnetic write element having a thermally dissipative structure
JP3880780B2 (ja) * 1999-08-30 2007-02-14 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2001167409A (ja) * 1999-09-30 2001-06-22 Fujitsu Ltd 薄膜磁気ヘッドおよび磁気記録媒体駆動装置
US6306311B1 (en) * 1999-11-01 2001-10-23 Headway Technologies, Inc. Method to make a high data rate stitched writer for a giant magneto-resistive head
JP2001209915A (ja) * 2000-01-27 2001-08-03 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
US7193805B1 (en) 2000-03-20 2007-03-20 Maxtor Corporation Flying-type disk drive slider with micropad
US6436828B1 (en) * 2000-05-04 2002-08-20 Applied Materials, Inc. Chemical mechanical polishing using magnetic force
US6430806B1 (en) * 2000-06-23 2002-08-13 Read-Rite Corporation Method for manufacturing an inductive write element employing bi-layer photoresist to define a thin high moment pole pedestal
US6493183B1 (en) * 2000-06-29 2002-12-10 International Business Machines Corporation Thermally-assisted magnetic recording system with head having resistive heater in write gap
JP2003006813A (ja) * 2001-06-20 2003-01-10 Shinka Jitsugyo Kk 薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
US6683749B2 (en) * 2001-12-19 2004-01-27 Storage Technology Corporation Magnetic transducer having inverted write element with zero delta in pole tip width
US6762911B2 (en) * 2002-02-11 2004-07-13 Headway Technologies, Inc. Combination type thin film magnetic head and method of manufacturing the same
JP2003272111A (ja) * 2002-03-18 2003-09-26 Fujitsu Ltd 記録用磁気ヘッド及び磁気記憶装置
JP4160784B2 (ja) * 2002-05-31 2008-10-08 株式会社日立グローバルストレージテクノロジーズ 垂直磁気ヘッドおよび垂直磁気記録再生装置
US7035047B2 (en) * 2002-10-15 2006-04-25 International Business Machines Corporation Magnetic recording heads having thin thermally conductive undercoating
JP2004295953A (ja) * 2003-03-26 2004-10-21 Hitachi Ltd 磁気ヘッド
US6989964B2 (en) * 2003-06-16 2006-01-24 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Magnetic head having a pole piece with a double pedestal structure
US7120989B2 (en) * 2004-02-18 2006-10-17 Headway Technologies, Inc. Process of manufacturing a perpendicular magnetic pole structure
US20050259353A1 (en) * 2004-05-18 2005-11-24 Exabyte Corporation Multi-plane thin-film heads
US7359151B1 (en) * 2005-03-30 2008-04-15 Storage Technology Corporation Magnetic head having writer with embedded write gap between wear-resistant pole tip layers
US7788796B2 (en) * 2006-12-15 2010-09-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method FPR manufacturing a magnetic write head
US20100163522A1 (en) * 2008-12-30 2010-07-01 Aron Pentek Method for manufacturing a write pole of a magnetic write head for magnetic data recording
US9605587B2 (en) 2012-12-04 2017-03-28 Ford Global Technologies, Llc Boosted engine charge air cooler condensation reduction device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5673163A (en) * 1992-10-20 1997-09-30 Cohen; Uri Pinched-gap magnetic recording thin film head
JP2953401B2 (ja) * 1996-10-04 1999-09-27 日本電気株式会社 磁気抵抗効果型複合ヘッドの製造方法

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