JP2002197608A

JP2002197608A - 薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JP2002197608A
Application number: JP2000396504A
Authority: JP
Inventors: Toru Miyatake; 亨宮武; Katsuya Kikuiri; 勝也菊入; Hisayuki Yazawa; 久幸矢澤; Tokuaki Oki; 徳昭沖
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 2000-12-27
Filing date: 2000-12-27
Publication date: 2002-07-12
Anticipated expiration: 2020-12-27
Also published as: JP3639529B2

Abstract

(57)【要約】【課題】上部コア層と磁気コイル層とがショートする
ことなく、磁気記録媒体によるスメアリングを防止で
き、磁気記録特性を向上することが可能な薄膜磁気ヘッ
ドを提供する。【解決手段】磁極端部８において上部コア層２３と下
部コア層１６とがギャップ層２２を挟んで積層されると
ともに、磁極基部９において上部コア層２３と下部コア
層１６とが磁気的に接続され、また磁極基部９には、上
部、下部コア層２３、１６から絶縁された状態で上部、
下部コア層２３、１６を励磁する磁気コイル層が備えら
れ、磁極端部８における上部コア層２３が軟磁性スパッ
タ膜２３ｃであるとともに、磁極基部９における上部コ
ア層２３が軟磁性メッキ膜２３ｄであることを特徴とす
る薄膜磁気ヘッド７を採用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、媒体摺動面上を磁
気記録媒体が摺動することにより磁気情報の書き込み及
び読み取りを行う摺動型の薄膜磁気ヘッドに関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】薄膜磁気ヘッドは、従来のバルク型の磁
気ヘッドに対して更に一層狭トラック化に対応すること
が可能なことから、記録密度の高いテープメディアに対
して相対摺動する構造の摺動型の磁気ヘッドに様々な形
状をもって適用されている。

【０００３】そこで、従来の薄膜磁気ヘッドを具備して
なる摺動型の磁気ヘッドについて、図面を参照して説明
する。図８に、従来の摺動型の磁気ヘッドの斜視図を示
し、図９に従来の磁気ヘッドの要部の斜視図を示し、図
１０に従来の磁気ヘッドの要部の断面模式図を示す。
尚、図８〜図１０において、図示Ｘ方向は磁気ヘッドの
トラック幅方向であり、図示Ｙ方向は磁気記録媒体から
の漏れ磁界の方向であり、図示Ｚ方向は磁気記録媒体の
移動方向である。

【０００４】図８に示す磁気ヘッドＣは、ブロック状の
コア半体２０２、２０３をそれらの側端面同士をコア内
蔵層２０５を介して接着一体化して全体としてブロック
状に形成され、接合したコア半体２０２、２０３の側面
の１つを台板２０１上に接着し、コア半体２０２、２０
３の一側を台板２０１の端部から若干外側に突出させて
台板２０１に固定されている。台板２０１の外側に突出
された磁気ヘッドＣの一面は凸曲面状に加工されて磁気
テープ等の磁気記録媒体に対する媒体摺動面２０６とさ
れている。

【０００５】コア内蔵層２０５には図９及び図１０に示
すように、従来の薄膜磁気ヘッド１０７が内蔵されてい
る。この薄膜磁気ヘッド１０７は、図９、１０において
コア半体２０２の上方に形成されていて、媒体摺動面２
０６を含む磁極端部２０８と、媒体摺動面２０６から離
れた位置で磁極端部２０８に隣接する磁極基部２０９と
から構成されている。また、この薄膜磁気ヘッド１０７
の図中下方には、磁気抵抗効果素子を備えた再生用の再
生ヘッド２１１が備えられている。図９及び図１０に示
すように再生ヘッド２１１は、コア半体２０２上に、下
地絶縁層１０１、下部シールド層１０２、下部絶縁層１
０３、媒体摺動面２０６から露出する磁気抵抗効果素子
（以下、ＭＲ素子と表記する）１０４、上部絶縁層１０
５、上部シールド層１０６が順次積層されて形成されて
いる。尚、上部シールド層１０６は、薄膜磁気ヘッド１
０７の下部コア層と兼用にされている。この再生ヘッド
２１１においては、上部、下部シールド層１０６、１０
２により再生ギャップＧrが形成され、各シールド層１
０６、１０２同士の間隔が再生ギャップ幅とされてい
る。

【０００６】次に図９及び図１０に示すように薄膜磁気
ヘッド１０７は、再生ヘッド２１１の上部シールド層と
兼用にされた下部コア層１０６と、下部コア層１０６上
に積層された非磁性体よりなるギャップ層２１２と、ギ
ャップ層２１２上に形成された上部コア層２１３とから
構成されている。磁極端部２０８においては、図９及び
図１０に示すように、下部コア層１０６とギャップ層２
１２と上部コア層２１３とが順次積層された状態で媒体
摺動面２０６に露出している。上部コア層２１３はその
先端部２１３ａを媒体摺動面２０６にて下部コア層１０
６にギャップ層２１２を介し微小間隙をあけて対向して
おり、これにより記録ギャップＧwが形成されている。
尚、下部コア層１０６と上部コア層２１３は例えばスパ
ッタ法により形成された非晶質ＣｏＺｒＮｂ合金または
非晶質ＣｏＺｒＴａ合金からなり、ギャップ層２１２は
ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等の非磁性絶縁材料からなる。

【０００７】また図９及び図１０に示すように、磁極基
部２０９において、記録ギャップ層２１２上には平面的
に螺旋状となるようにパターン化された磁気コイル層２
１４が形成され、磁気コイル層２１４は絶縁性レジスト
層２１５によって被覆され、絶縁性レジスト層２１５上
に上部コア層２１３が形成されている。上部コア層２１
３の基端部２１３ｂは下部コア層１０６と磁気的に接続
されている。更に図１０に示すように上部コア層２１３
の上には保護層２１６が形成されている。

【０００８】更に薄膜磁気ヘッド１０７について説明す
ると、図９及び図１０に示すように、磁極端部２０８で
はギャップ層２１２上に上部コア層２１３が積層され、
一方、磁極基部２０９ではギャップ層２１２上に磁気コ
イル層２１４及び絶縁性レジスト層２１５が積層されて
いる。また上部コア層２１３は、磁極端部２０８と磁極
基部２０９との境界部２０８ａにおいて、絶縁性レジス
ト層２１５及びギャップ層２１４にまたがって形成され
ている。

【０００９】上記の薄膜磁気ヘッド１０７においては、
下部コア層１０６全体及び上部コア層２１３全体が比較
的高硬度な非晶質合金からなるスパッタ膜なので、例え
ば磁気ヘッドＣの使用に際して媒体摺動面２０６上を磁
気記録媒体が摺動したとしても、この磁気記録媒体によ
って下部コア層１０６及び／または上部コア層２１３が
飴のごとくに引き延ばされることがなく、即ちいわゆる
スメアリングが生じることがなく、下部コア層１０６と
上部コア層２１３とが短絡するおそれがない。

【００１０】この薄膜磁気ヘッド１０７を製造するに
は、まず、図１１に示すように、コア半体２０２上に下
地絶縁層（図示せず）、下部シールド層１０２、下部絶
縁層１０３、ＭＲ素子１０４、上部絶縁層１０５、上部
シールド層１０６を順次積層して再生ヘッド２１１を形
成し、更に上部シールド層１０６（下部コア層）の全面
にＳｉＯ₂等からなるギャップ層２１２をスパッタ法に
より形成し、次にギャップ層２１２上に磁気コイル層２
１４と絶縁性レジスト層２１５を形成する。絶縁性レジ
スト層２１５が積層されていない部分ではギャップ層２
１２が露出している。そして、絶縁レジスト層２１５と
ギャップ層２１２とにまたがる上部コア層２１３をスパ
ッタリング法により形成する。上部コア層２１３は非晶
質ＣｏＺｒＮｂ合金または非晶質ＣｏＺｒＴａ合金から
なり、フォトリソグラフィ技術によって図１１に示すよ
うな形状、即ち一辺が媒体摺動面２０６に沿う平綿視略
矩形状にパターン化されて形成される。

【００１１】次に、図１２及び図１３に示すように、上
部コア層２１３上にフォトレジストＬ1を形成し、エッ
チング粒子（図中、下向き矢印で示す）を照射して上部
コア層２１３をエッチングする。エッチングは図１３に
示すように、フォトレジストＬ1から露出する上部コア
層２１３’及びギャップ層２１２’と、下部コア層１０
６の一部が除去されるまで行う。そして、フォトレジス
トＬ1を除去することにより、図９に示す薄膜磁気ヘッ
ド１０７が得られる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記の薄膜磁気ヘッド
１０７のトラック幅を決めるためには、磁極端部２０８
においてギャップ層２１２及び下部コア層１０６の一部
が除去されるまで上部コア層２１３を深くエッチングす
る必要がある。ところでこの上部コア層２１３は絶縁性
レジスト層２１５とギャップ層２１２とにまたがって形
成されているので、エッチングの際に磁極基部２０９側
で絶縁レジスト層２１５の一部がエッチングされること
になる。絶縁性レジスト層２１５はギャップ層２１２よ
りもエッチングされやすいため、磁極端部２０８側にて
ギャップ層２１２が除去された時点で、磁極基部２０９
側では絶縁性レジスト層２１５が深くエッチングされて
しまい、磁気コイル層２１４が露出してしまうおそれが
あった。更に上部コア層２１３のエッチングの際に、上
部コア層２１３に由来するスパッタ粒子が、露出した磁
気コイル層２１４と上部コア層２１３との間に再付着す
る場合があり、これにより磁気コイル層２１４と上部コ
ア層２１３がショートしてしまうおそれがあった。

【００１３】上記の問題は、上部コア層をメッキ法で形
成することによって、ある程度防ぐことが可能である。
即ち、メッキ法では上部コア層を形成する際に、スパッ
タ法の場合よりも比較的浅いエッチングで済むため、絶
縁レジスト層を痛めるおそれがないためである。しか
し、メッキ法により形成された上部コア層は、磁気記録
媒体の摺動によってスメアリングを起こしやすいという
欠点があった。

【００１４】また、上部コア層２１３が境界部２０８ａ
において絶縁性レジスト層２１５とギャップ層２１２と
にまたがって形成されているため、この境界部２０８ａ
近傍で上部コア層２１３に段差が生じている。この段差
によって上部コア層２１３のエッチングの寸法誤差が発
生し、これにより上部コア層の先端部２１３ａの図示Ｘ
方向の幅が磁極端部２０８から磁極基部２０９に沿って
徐々に広がったり、先端部２１３ａの図示Ｘ方向の幅自
体が設計寸法から外れたりして、薄膜磁気ヘッド１０７
の磁気記録特性が劣化するという問題があった。

【００１５】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あって、上部コア層と磁気コイル層とがショートするこ
となく、磁気記録媒体によるスメアリングを防止でき、
更に磁気記録特性を向上することが可能な薄膜磁気ヘッ
ドを提供することを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は以下の構成を採用した。本発明の薄膜磁
気ヘッドは、媒体摺動面を含む磁極端部と該磁極端部に
隣接する磁極基部とから構成され、更に上部コア層と下
部コア層とギャップ層とが少なくとも前記媒体摺動面に
位置し、該媒体摺動面が磁気記録媒体に接触して相対移
動時に磁気情報の書き込み及び読み取りを行う薄膜磁気
ヘッドであり、前記磁極端部において前記上部コア層と
前記下部コア層とが前記ギャップ層を挟んで積層される
とともに、前記磁極基部において前記上部コア層と前記
下部コア層とが磁気的に接続され、また前記磁極基部に
は、前記上部、下部コア層から絶縁された状態で前記上
部、下部コア層を励磁する磁気コイル層が備えられ、前
記磁極端部における前記上部コア層が軟磁性スパッタ膜
であるとともに、前記磁極基部における前記上部コア層
が軟磁性メッキ膜であることを特徴とする。

【００１７】係る薄膜磁気ヘッドによれば、磁極端部に
おける上部コア層が軟磁性スパッタ膜であるので、上部
コア層の媒体摺動面側の硬度をメッキ膜の場合よりも高
くすることができ、磁気記録媒体の摺動によるスメアリ
ングの発生を防止することが可能になる。また、軟磁性
スパッタ膜がほぼ磁極端部に形成されているので、スパ
ッタ膜に大きな段差が生じることがなく、このため上部
コア層のエッチングの際に寸法誤差が生じることがな
く、上部コア層の先端の幅を磁極端部から磁極基部に沿
って一定の幅にできるとともに先端の幅自体を設計寸法
に一致させることができ、これにより薄膜磁気ヘッドの
磁気記録特性を向上させることが可能になる。また、磁
極基部における上部コア層が軟磁性メッキ膜なので、比
較的複雑な形状である磁極基部における上部コア層を容
易に形成することが可能となる。

【００１８】また本発明の薄膜磁気ヘッドは、先に記載
の薄膜磁気ヘッドであって、前記磁極基部において、前
記磁気コイル層が絶縁性レジスト層により被覆された状
態で前記上部コア層と前記下部コア層との間に配置され
るとともに、前記絶縁性レジスト層の外縁部が前記磁極
基部と前記磁極端部との境界よりも前記磁極端部側に位
置して設けられ、前記ギャップ層が、前記外縁部におい
て前記下部コア層から前記絶縁性レジスト層上に乗り上
げられ、かつ前記磁極基部において前記絶縁性レジスト
層と前記上部コア層の間に配置されていることを特徴と
する。

【００１９】係る薄膜磁気ヘッドによれば、ギャップ層
が、外縁部において前記絶縁性レジスト層上に乗り上が
げられ、かつ磁極基部において絶縁性レジスト層と上部
コア層の間に位置しているので、上部コア層は必ずギャ
ップ層の上に形成されることになる。また、絶縁性レジ
スト層の外縁部が前記境界よりも前記磁極端部側に位置
していることから、上部コア層を構成する軟磁性スパッ
タ膜の一部が絶縁性レジスト層の上方に乗り上げられる
ことになる。これにより、上部コア層の軟磁性スパッタ
膜をエッチングしてトラック幅を決める際に、外縁部よ
り媒体摺動面側にてギャップ層及び下部コア層の一部ま
で深くエッチングしたとしても、外縁部より磁極基部側
ではギャップ層、絶縁性レジスト層の順にエッチングさ
れるので、ギャップ層が絶縁性レジスト層のエッチング
のストッパーとして機能し、絶縁性レジスト層のエッチ
ング量を従来よりも少なくでき、磁気コイル層が露出す
ることがなく、上部コア層と磁気コイル層との短絡を防
止することが可能になる。

【００２０】また本発明の薄膜磁気ヘッドは、先に記載
の薄膜磁気ヘッドであって、前記絶縁性レジスト層の外
縁部から前記媒体摺動面までの寸法によりギャップデプ
スが決定されることを特徴とする。

【００２１】係る薄膜磁気ヘッドによれば、絶縁性レジ
スト層の外縁部においてギャップ層が絶縁性レジスト層
に乗り上げられることにより、ギャップ層と下部コア層
とが絶縁性レジスト層によって分断されるので、絶縁性
レジスト層の外縁部から媒体摺動面までの寸法がギャッ
プデプスとなり、絶縁性レジスト層の外縁部の位置を調
整することによってギャップデプスを容易に調整でき
る。

【００２２】そして、本発明の薄膜磁気ヘッドは、先に
記載の薄膜磁気ヘッドであって、前記ギャップ層が、Ａ
ｌ₂Ｏ₃またはＳｉＯ₂よりなることを特徴とする。係る
薄膜磁気ヘッドによれば、ギャップ層をＡｌ₂Ｏ₃または
ＳｉＯ₂より構成することによって、ギャップ層のエッ
チング速度を絶縁性レジスト層のエッチング速度の２分
の１程度にすることができ、ギャップ層をエッチングの
ストッパーとして十分に機能させることが可能になる。

【００２３】また本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法
は、媒体摺動面を含む磁極端部と該磁極端部に隣接する
磁極基部とから構成され、更に上部コア層と下部コア層
とギャップ層とが少なくとも前記媒体摺動面に位置して
なる薄膜磁気ヘッドの製造方法であり、前記磁極基部側
の下部コア層上に磁気コイル層及びこの磁気コイル層を
被覆する絶縁性レジスト層からなる磁気コイル部を形成
するとともに、前記下部コア層及び前記磁気コイル部の
全部を覆う前記ギャップ層を形成する工程と、前記磁極
端部側の前記ギャップ層上に、軟磁性スパッタ膜をスパ
ッタ法によって形成する工程と、前記磁極基部側の前記
ギャップ層上に、前記軟磁性スパッタ膜に接続する軟磁
性メッキ膜をメッキ法によって形成することにより上部
コア層を形成する工程とを具備してなることを特徴とす
る。

【００２４】係る製造方法によれば、磁極端部における
上部コア層を軟磁性スパッタ膜で形成するので、上部コ
ア層の媒体摺動面側の硬度をメッキ膜の場合よりも高く
することができ、磁気記録媒体の摺動によるスメアリン
グの発生がない薄膜磁気ヘッドを製造することが可能に
なる。また、軟磁性スパッタ膜がほぼ磁極端部に形成さ
れているので、スパッタ膜に大きな段差が生じることが
なく、このため上部コア層のエッチングの際に寸法誤差
が生じることがなく、上部コア層の先端の幅を磁極端部
から磁極基部に沿って一定の幅にできるとともに先端の
幅自体を設計寸法に一致させることができ、これにより
薄膜磁気ヘッドの磁気記録特性を向上させることが可能
になる。また、磁極基部における上部コア層が軟磁性メ
ッキ膜なので、比較的複雑な形状である磁極基部におけ
る上部コア層を容易に形成することが可能となる。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１に、本発明の薄膜磁気ヘッド
を具備してなる摺動型の磁気ヘッドの斜視図を示し、図
２に本発明の薄膜磁気ヘッドの斜視図を示し、図３に本
発明の薄膜磁気ヘッドの断面模式図を示し、図４には本
発明の薄膜磁気ヘッドの要部の断面模式図を示す。尚、
図１〜図４において、図示Ｘ方向は薄膜磁気ヘッドのト
ラック幅方向であり、図示Ｙ方向は磁気記録媒体からの
漏れ磁界の方向であり、図示Ｚ方向は磁気記録媒体の移
動方向である。

【００２６】図１に示す磁気ヘッドＡは、ブロック状の
コア半体２、３をそれらの側端面同士をコア内蔵層５を
介して接着一体化して全体としてブロック状に形成さ
れ、接合したコア半体２、３の側面の１つを台板１上に
接着し、コア半体２、３の一側を台板１の端部から若干
外側に突出させて台板１に固定されている。台板１の外
側に突出された磁気ヘッドＡの一面は凸曲面状に加工さ
れて磁気テープ等の磁気記録媒体に対する媒体摺動面６
とされている。

【００２７】コア内蔵層５には図２及び図３に示すよう
に、本発明の薄膜磁気ヘッド７が内蔵されている。薄膜
磁気ヘッド７は、コア半体２の図中上方に形成されてい
て、媒体摺動面６を含む磁極端部８と、媒体摺動面６か
ら離れて位置して磁極端部８に隣接する磁極基部９とか
ら構成されている。また、この薄膜磁気ヘッド７の下に
は、磁気抵抗効果素子を備えた再生用の再生ヘッド１０
が備えられている。

【００２８】図２及び図３に示すように再生ヘッド１０
は、コア半体２上に、下地絶縁層１１、下部シールド層
１２、下部絶縁層１３、媒体摺動面６から露出する磁気
抵抗効果素子（以下、ＭＲ素子と表記する）１４、上部
絶縁層１５、上部シールド層１６が順次積層されて形成
されている。尚、上部シールド層１６は、後述する薄膜
磁気ヘッド７の下部コア層と兼用にされている。この再
生ヘッド１０においては、上部、下部シールド層１６、
１２により再生ギャップＧrが形成され、各シールド層
１６、１２同士の間隔が再生ギャップ幅とされている。

【００２９】次に図２及び図３に示すように本発明の薄
膜磁気ヘッド７は、再生ヘッド１０の上部シールド層と
兼用にされた下部コア層１６と、非磁性体よりなるギャ
ップ層２２と、ギャップ層２２上に形成された上部コア
層２３とを主体として構成されている。磁極端部８にお
いては、図２及び図３に示すように、下部コア層１６と
ギャップ層２２と上部コア層２３（２３ｃ）とが順次積
層された状態で媒体摺動面６に露出している。上部コア
層２３はその先端２３ａを媒体摺動面６にて下部コア層
１６にギャップ層２１２を介し微小間隙をあけて対向し
ており、これにより記録ギャップＧwが形成されてい
る。

【００３０】また図２及び図３に示すように、磁極基部
９においては、下部コア層１６上に第１絶縁性レジスト
層２４が積層され、第１絶縁性レジスト層２４上に平面
的に螺旋状となるようにパターン化された磁気コイル層
２６が形成され、この磁気コイル層２６が第２絶縁性レ
ジスト層２５によって被覆され、第２絶縁性レジスト層
２５上には第３絶縁性レジスト層２７が積層されてい
る。磁気コイル層２６及び第１，第２，第３絶縁性レジ
スト層２４，２５，２７によって磁気コイル部２８が構
成されている。更に磁気コイル部２８（第３絶縁性レジ
スト層２７）上にはギャップ層２２が積層され、更にギ
ャップ層２２上に上部コア層２３が形成され、上部コア
層２３上には保護層２９が形成されている。磁気コイル
層２６は、下部コア層１６及び上部コア層２３の間に位
置して下部コア層１６及び上部コア層２３を励磁すると
ともに、第１、第２、第３絶縁性レジスト層２４，２
５，２７によって下部コア層１６及び上部コア層２３か
ら絶縁されている。また磁極基部９において、上部コア
層２３の基端部２３ｂがギャップ層２２を介して下部コ
ア層１６と磁気的に接続されており、上部コア層２３と
下部コア層１６により磁気回路が形成されている。

【００３１】更に薄膜磁気ヘッド７について説明する
と、図２及び図３に示すように、上部コア層２３は少な
くとも２つの部分から構成されている。即ち、磁極端部
８に位置して媒体摺動面６に露出するポール部２３ｃ
と、磁極基部９に位置してポール部２３ｃに隣接するヨ
ーク部２３ｄとから構成されている。ポール部２３ｃと
ヨーク部２３ｄは、磁極端部８と磁極基部９の境界部８
ａにて区切られている。そして、ポール部２３ｃは軟磁
性スパッタ膜から構成され、ヨーク部２３ｄは軟磁性メ
ッキ膜から構成されている。ポール部２３ｃは、例えば
スパッタ法により形成された非晶質ＣｏＺｒＮｂ合金ま
たは非晶質ＣｏＺｒＴａ合金等からなり、一方ヨーク部
１６は、電解メッキ法により形成されたＮｉ-Ｆｅ合金
等からなる。

【００３２】一般に、スパッタリング法により形成され
たスパッタ膜は、メッキ膜よりも緻密に形成されるため
にメッキ膜より高い硬度を有している。従って、高硬度
な軟磁性スパッタ膜を上部コア層２３のポール部２３ｃ
として媒体摺動面６に露出させることにより、媒体摺動
面６に磁気記録媒体が摺動した場合でも、スメアリング
が発生することがない。

【００３３】一方、ヨーク部２３ｄは図３に示すよう
に、磁極基部９において磁気コイル部２８上に形成され
ている。磁気コイル部２８の中央には上部コア層２３と
下部コア層１６を磁気的に結合させるべく凹部２８ａが
形成され、ヨーク部２３ｄはこの凹部２８ａの段差に沿
って形成されている。更に図２〜図４に示すように、ヨ
ーク部２３ｄは、磁気コイル部２８の傾斜面２８ｂに沿
って媒体摺動面６側に突出し、傾斜面２８ｂ上でポール
部２３ｃに接続されている。上記のように、ヨーク部２
３ｄは比較的に起伏を有する形状であるため、スパッタ
リング法よりも電解メッキ法で形成する方が安定して成
膜できる点で好ましい。よって、上部コア層２３のヨー
ク部２３ｄは軟磁性メッキ膜であることが好ましい。

【００３４】次に、磁気コイル部２８の詳細構造につい
て図４により説明すると、まず、第１絶縁性レジスト層
２４上に磁気コイル層２６、第２絶縁性レジスト層２５
及び第３絶縁性レジスト層２７が順次積層されている。
そして、これらの絶縁性レジスト層のうち、第１絶縁性
レジスト層２４の外縁部２４ａが最も媒体騒動面６に近
接して設けられている。またこの外縁部２４ａは、磁極
基部８と磁極端部９との境界部８ａよりも磁極端部８側
に位置して設けられている。ついで第３レジスト層２７
の外縁部２７ａが、前述の外縁部２４ａよりも磁極基部
９側で第１絶縁性レジスト層２４に接合されて設けら
れ、更に第２絶縁性レジスト層２５の外縁部２５ａが、
前述の外縁部２７ａよりも磁極基部９側で第１絶縁性レ
ジスト層２４に接合されて設けられている。このように
各外縁部２４ａ、２７ａ、２５ａが磁極基部９側に向け
て順に位置することにより、磁気コイル部２８の傾斜面
２８ｂが設けられる。

【００３５】次にギャップ層２２が図４に示すように、
外縁部２４ａにおいて下部コア層１６から第１縁性レジ
スト層２４及び第３絶縁性レジスト層２７の上に乗り上
げられ、更に磁極基部９側で第３絶縁性レジスト層２７
と上部コア層２３の間に配置されている。このギャップ
層２２は、ＳｉＯ₂またはＡｌ₂Ｏ₃から構成されてい
る。

【００３６】このように、ギャップ層２２が外縁部２４
ａにおいてコイル部２８（第３絶縁性レジスト層２７）
上に乗り上げられ、磁極基部９において第３絶縁性レジ
スト層２７と上部コア層２３の間に配置されるので、上
部コア層２３は必ずギャップ層２２の上に形成されるこ
とになる。また、第１絶縁性レジスト層２４の外縁部２
４ａが境界８ａよりも磁極端部８側に位置していること
から、上部コア層２３を構成するポール部２３ｃ（軟磁
性スパッタ膜）の一部が第１または第３絶縁性レジスト
層２４、２７の上方に乗り上げられることになる。

【００３７】これにより、ポール部２３ｃをエッチング
してトラック幅を決める際に、外縁部２４ａより媒体摺
動面６側においてギャップ層２２及び下部コア層１６の
一部を除去するまで深くエッチングしたとしても、外縁
部２４ａより磁極基部９側ではギャップ層２２、第１ま
たは第３絶縁性レジスト層２４，２７の順にエッチング
され、ギャップ層２２が第１または第３絶縁性レジスト
層２４，２７のエッチングのストッパーとして機能する
ので、第１または第３絶縁性レジスト層２４，２７のエ
ッチング量を従来よりも少なくできる。これにより磁気
コイル層２６が露出することがなく、上部コア層２３と
磁気コイル層２６との短絡を防止することができる。特
にギャップ層２２はＳｉＯ₂またはＡｌ₂Ｏ₃から構成さ
れているため、ギャップ層２２のエッチング速度を第
１、第３絶縁性レジスト層２４，２７のエッチング速度
の２分の１程度にすることができ、ギャップ層２２をエ
ッチングのストッパーとして十分に機能させることがで
きる。

【００３８】次に図４に示すように、第１絶縁性レジス
ト層２４の外縁部２４ａにおいてギャップ層２２が第１
絶縁性レジスト層２４に乗り上げられるため、ギャップ
層２２が、第１絶縁性レジスト層２４（磁気コイル部２
８）によって下部コア層１６から分断される。これによ
り、薄膜磁気ヘッド７のギャップデプスＧｄは、第１絶
縁性レジスト層２４の外縁部２４ａから媒体摺動面６ま
での寸法となる。従ってギャップデプスＧｄは、外縁部
２４ａの位置を調整することによって容易に調整でき
る。

【００３９】また、図２及び図４に示すように、上部コ
ア層２３のポール部２３ｃは、一部が磁気コイル部２８
の傾斜面２８ｂ上に乗り上げているものの、大部分がギ
ャップ層２２を介して平坦な下部コア層１６上に位置し
ているので、ポール部２３ｃ自体には大きな段差が生じ
ることがない。このためポール部２３ｃを形成する際の
エッチング時に、寸法誤差が生じることがなく、ポール
部２３ｃのＸ方向の幅を磁極端部８から磁極基部９に沿
って一定の幅にできるとともにポール部２３ｃの幅自体
を設計寸法に一致させることができ、これにより薄膜磁
気ヘッド７の磁気記録特性を向上させることができる。
またポール部２３ｃ形成のエッチング時（イオンミリン
グ）に、比較的段差が少ないため、エッチングにより生
じたエッチング粒子の上部磁極（ポール部）２３ｃへの
再付着を少なくできる。

【００４０】この薄膜磁気ヘッド７を製造するには、例
えば図５に示すように、コア半体２上に下地絶縁層（図
示せず）、下部シールド層１２、下部絶縁層１３、ＭＲ
素子１４、上部絶縁層１５、上部シールド層１６を順次
積層して再生ヘッド１０を形成し、次に磁極基部９側の
上部シールド層１６（下部コア層）の上に磁気コイル部
２８を形成し、更に上部シールド層１６及び磁気コイル
部２８の全部を覆うＳｉＯ₂等からなるギャップ層２２
をスパッタ法により形成する。

【００４１】次に図６に示すように、磁極端部８側のギ
ャップ層２２上に上部コア層２３のポール部２３ｃ（軟
磁性スパッタ膜）をスパッタ法により形成する。ポール
部２３ｃは、非晶質ＣｏＺｒＮｂ合金または非晶質Ｃｏ
ＺｒＴａ合金を成膜後、フォトレジストＬ2を形成して
エッチングすることにより所定の形状に形成される。ス
パッタ法により形成された軟磁性スパッタ膜の組成の自
由度は、メッキ法により形成された膜の場合よりも高い
ので、書き込み性能を特に左右するポール部２３ｃをス
パッタ法で形成することで、磁気ヘッドの性能及び設計
の自由度を確保しやすくなる。なお、ポール部２３ｃの
下には、ギャップ層２２が必ず位置しているので、エッ
チングの際にギャップ層２２をエッチングのストッパと
して機能させることができ、傾斜面２８ｂにおいて磁気
コイル部２８（第１，第３絶縁性レジスト層２４，２
７）を過度にエッチングすることがなく、磁気コイル層
２６を露出させるおそれがない。

【００４２】次に図７に示すように、磁気コイル部２８
上に上部コア層２３のヨーク部２３ｄ（軟磁性メッキ
膜）をメッキ法（フレームメッキ法）により形成する。
ヨーク部２３ｄは、フォトリソグラフィー技術によりレ
ジストをパターニングしてフレームレジストを形成し、
その上からメッキを行うことによりヨーク部２３ｃを形
成する。また、ヨーク部２３ｄはポール部２３ｃ（軟磁
性スパッタ膜）に接続するように形成する。ヨーク部２
３ｄとポール部２３ｃにより上部コア層２３が形成され
る。メッキを行った後にフレームレジストを剥離し、ヨ
ーク部２３ｄ上にレジストＬ3を形成し、ヨーク部２３
ｄ以外の部分をウエットエッチングして除去することに
より、図２に示すような薄膜磁気ヘッド７が得られる。

【００４３】この製造方法によれば、磁極端部８におけ
る上部コア層２３を軟磁性スパッタ膜２３ｃで形成する
ので、上部コア層２３の媒体摺動面６側の硬度をメッキ
膜の場合よりも高くすることができ、磁気記録媒体の摺
動によるスメアリングの発生のない薄膜磁気ヘッド７を
製造することができる。また、軟磁性スパッタ膜２３ｃ
がほぼ磁極端部８に形成されているので、スパッタ膜２
３ｃに大きな段差が生じることがなく、このため上部コ
ア層２３のエッチングの際に寸法誤差が生じることがな
く、ポール部２３ｃの幅を磁極端部８から磁極基部９に
沿って一定の幅にできるとともにポール部２３ｃの幅自
体を設計寸法に一致させることができ、これにより薄膜
磁気ヘッド７の磁気記録特性を向上させることができ
る。また、磁極基部９における上部コア層２３が軟磁性
メッキ膜２３ｄなので、比較的複雑な形状である磁極基
部９における上部コア層２３を容易に形成することがで
きる。

【００４４】

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
薄膜磁気ヘッドによれば、磁極端部における上部コア層
が軟磁性スパッタ膜であるので、媒体摺動面側の上部コ
ア層の硬度をメッキ膜の場合よりも高くすることがで
き、磁気記録媒体の摺動によるスメアリングの発生を防
止することができる。また、軟磁性スパッタ膜が磁極端
部のみに形成されているので、スパッタ膜に大きな段差
が生じることがなく、このため上部コア層をエッチング
する際に寸法誤差が生じることがなく、上部コア層の先
端の幅を磁極端部から磁極基部に沿って一定の幅にでき
るとともに先端の幅自体を設計寸法に一致させることが
でき、これにより薄膜磁気ヘッドの磁気記録特性を向上
させることができる。また、磁極基部における上部コア
層が軟磁性メッキ膜なので、比較的複雑な形状である磁
極基部における上部コア層を容易に形成することができ
る。

【００４５】また、本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、
ギャップ層が、外縁部において絶縁性レジスト層上に乗
り上げられ、かつ磁極基部において絶縁性レジスト層と
上部コア層の間に配置されているので、上部コア層は必
ずギャップ層の上に形成されることになる。また、絶縁
性レジスト層の外縁部が境界よりも磁極端部側に位置し
ていることから、上部コア層を構成する軟磁性スパッタ
膜の一部が絶縁性レジスト層の上方に乗り上げられるこ
とになる。これにより、上部コア層の軟磁性スパッタ膜
をエッチングしてトラック幅を決める際に、外縁部より
媒体摺動面側にてギャップ層及び下部コア層の一部を除
去するまで深くエッチングしたとしても、外縁部より磁
極基部側ではギャップ層、絶縁性レジスト層の順にエッ
チングされ、ギャップ層が絶縁性レジスト層のエッチン
グのストッパーとして機能し、絶縁性レジスト層のエッ
チング量を従来よりも少なくできる。これにより、磁気
コイル層が露出することがなく、上部コア層と磁気コイ
ル層との短絡を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態である薄膜磁気ヘッドを
備えた摺動型の磁気ヘッドの斜視図である。

【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドの斜視図である。

【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの断面模式図であ
る。

【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドの要部の断面模式
図である。

【図５】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図である。

【図６】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図である。

【図７】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図である。

【図８】従来の薄膜磁気ヘッドを備えた摺動型の磁
気ヘッドの斜視図である。

【図９】従来の薄膜磁気ヘッドの斜視図である。

【図１０】従来の薄膜磁気ヘッドの断面模式図であ
る。

【図１１】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図である。

【図１２】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図である。

【図１３】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明
するための工程図であって、図１２に表記した薄膜磁気
ヘッドを媒体摺動面側から見た模式図である。

【符号の説明】

６媒体摺動面７薄膜磁気ヘッド８磁極端部８ａ境界部（境界）９磁極基部１６下部コア層２２ギャップ層２３上部コア層２３ｃポール部（軟磁性スパッタ膜）２３ｄヨーク部（軟磁性メッキ膜）２４第１絶縁性レジスト層（絶縁性レジスト層）２４ａ外縁部２５第２絶縁性レジスト層（絶縁性レジスト層）２６磁気コイル層２７第３絶縁性レジスト層（絶縁性レジスト層）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者矢澤久幸東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内 (72)発明者沖徳昭東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内Ｆターム(参考） 5D033 BA07 CA03 DA03 DA04 DA07 DA08 DA31

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】媒体摺動面を含む磁極端部と該磁極端
部に隣接する磁極基部とから構成され、更に上部コア層
と下部コア層とギャップ層とが少なくとも前記媒体摺動
面に位置し、該媒体摺動面が磁気記録媒体に接触して相
対移動時に磁気情報の書き込み及び読み取りを行う薄膜
磁気ヘッドであり、前記磁極端部において前記上部コア層と前記下部コア層
とが前記ギャップ層を挟んで積層されるとともに、前記
磁極基部において前記上部コア層と前記下部コア層とが
磁気的に接続され、また前記磁極基部には、前記上部、
下部コア層から絶縁された状態で前記上部、下部コア層
を励磁する磁気コイル層が備えられ、前記磁極端部における前記上部コア層が軟磁性スパッタ
膜であるとともに、前記磁極基部における前記上部コア
層が軟磁性メッキ膜であることを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッド。
【請求項２】前記磁極基部において、前記磁気コイ
ル層が絶縁性レジスト層により被覆された状態で前記上
部コア層と前記下部コア層との間に配置されるととも
に、前記絶縁性レジスト層の外縁部が前記磁極基部と前
記磁極端部との境界よりも前記磁極端部側に位置して設
けられ、前記ギャップ層が、前記外縁部において前記下部コア層
から前記絶縁性レジスト層に乗り上げられ、かつ前記磁
極基部において前記絶縁性レジスト層と前記上部コア層
の間に配置されていることを特徴とする請求項１に記載
の薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】前記絶縁性レジスト層の外縁部から前
記媒体摺動面までの寸法によりギャップデプスが決定さ
れることを特徴とする請求項２に記載の薄膜磁気ヘッ
ド。
【請求項４】前記ギャップ層が、Ａｌ₂Ｏ₃またはＳ
ｉＯ₂よりなることを特徴とする請求項１ないし請求項
３に記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項５】媒体摺動面を含む磁極端部と該磁極端
部に隣接する磁極基部とから構成され、更に上部コア層
と下部コア層とギャップ層とが少なくとも前記媒体摺動
面に位置してなる薄膜磁気ヘッドの製造方法であり、前記磁極基部側の下部コア層上に磁気コイル層及びこの
磁気コイル層を被覆する絶縁性レジスト層からなる磁気
コイル部を形成するとともに、前記下部コア層及び前記
磁気コイル部の全部を覆う前記ギャップ層を形成する工
程と、前記磁極端部側の前記ギャップ層上に、軟磁性スパッタ
膜をスパッタ法によって形成する工程と、前記磁極基部側の前記ギャップ層上に、前記軟磁性スパ
ッタ膜に接続する軟磁性メッキ膜をメッキ法によって形
成することにより上部コア層を形成する工程とを具備し
てなることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。