JPH0729141A - 磁気ヘッドのレール面加工方法 - Google Patents
磁気ヘッドのレール面加工方法Info
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- JPH0729141A JPH0729141A JP5197974A JP19797493A JPH0729141A JP H0729141 A JPH0729141 A JP H0729141A JP 5197974 A JP5197974 A JP 5197974A JP 19797493 A JP19797493 A JP 19797493A JP H0729141 A JPH0729141 A JP H0729141A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
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- Y10T29/49048—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing]
- Y10T29/49052—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing] by etching
Abstract
(57)【要約】
【目的】 様々なレールパターンを容易に作成する。
【構成】 磁気ヘッドのレール面に感光膜４０を形成す
る。この感光膜４０上にレーザビームスポット５６を照
射しかつ移動させてレールパターンを直接描画する。こ
れを現像してレールを形成する部分以外の感光膜を除去
する。この感光膜が除去された部分をエッチング堀込み
してレール３４，３６を形成する。
る。この感光膜４０上にレーザビームスポット５６を照
射しかつ移動させてレールパターンを直接描画する。こ
れを現像してレールを形成する部分以外の感光膜を除去
する。この感光膜が除去された部分をエッチング堀込み
してレール３４，３６を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、固定ディスク装置等
に用いられるエアフロー式磁気ヘッドのレール面を加工
する方法に関し、様々なレールパターンを容易に作成で
きるようにしたものである。
に用いられるエアフロー式磁気ヘッドのレール面を加工
する方法に関し、様々なレールパターンを容易に作成で
きるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】エアフロー式磁気ヘッドは、図２（ａ）
に示すように、スライダ１２の下面（レール面）２８に
レール１４，１６を形成し、このレール１４，１６の後
端部に磁気ヘッド素子１８，２０を具えて構成され、図
２（ｂ）に示すように、回転している磁気ディスク２２
上でレール１４，１６による流体力学的作用で浮上し
て、磁気ディスク２２に対し非接触で磁気ヘッド素子１
８または２０により情報の記録および再生を行なうもの
である。
に示すように、スライダ１２の下面（レール面）２８に
レール１４，１６を形成し、このレール１４，１６の後
端部に磁気ヘッド素子１８，２０を具えて構成され、図
２（ｂ）に示すように、回転している磁気ディスク２２
上でレール１４，１６による流体力学的作用で浮上し
て、磁気ディスク２２に対し非接触で磁気ヘッド素子１
８または２０により情報の記録および再生を行なうもの
である。
【０００３】図２の磁気ヘッド１０の製造工程の一例を
図３を参照して説明する。 ウェファー２１上にフォトリソグラフィ技法等によ
り多数の薄膜磁気ヘッド素子２２を形成する。 ウェファー２１の表面に切断時のチッピング（欠
け）防止用にスライダ単位でタテ、ヨコに切込み２４，
２５を加工する。 ヨコの切込み２５に沿ってウェファー２１を切断す
る。この切断された１本１本をロー２６という。 切断されたロー２６についてレール面２８を研削、
研磨する。そして、レール面２８に溝入加工して溝３０
を形成し、これによりレール１４，１６を形成する。 タテの切込みで切断して個々の磁気ヘッド１０を完
成する。エアフロー式磁気ヘッドのレール面は、通常は
前記図２、図３に示すように２本のレール１４，１６を
平行に形成して構成されている。このため、レール面の
加工は、図４に示すように、ロー１６のレール面２８に
対し回転ブレード３２を用いて直接機械加工により溝入
加工してレール１４，１６を形成するのが一般的であっ
た。
図３を参照して説明する。 ウェファー２１上にフォトリソグラフィ技法等によ
り多数の薄膜磁気ヘッド素子２２を形成する。 ウェファー２１の表面に切断時のチッピング（欠
け）防止用にスライダ単位でタテ、ヨコに切込み２４，
２５を加工する。 ヨコの切込み２５に沿ってウェファー２１を切断す
る。この切断された１本１本をロー２６という。 切断されたロー２６についてレール面２８を研削、
研磨する。そして、レール面２８に溝入加工して溝３０
を形成し、これによりレール１４，１６を形成する。 タテの切込みで切断して個々の磁気ヘッド１０を完
成する。エアフロー式磁気ヘッドのレール面は、通常は
前記図２、図３に示すように２本のレール１４，１６を
平行に形成して構成されている。このため、レール面の
加工は、図４に示すように、ロー１６のレール面２８に
対し回転ブレード３２を用いて直接機械加工により溝入
加工してレール１４，１６を形成するのが一般的であっ
た。
【０００４】このような平行レールを持つ磁気ヘッドの
浮上量は、回転している磁気ディスクとの相対スピード
に依存し、通常、スピードの増大とともに浮上量も大き
くなる。そこで、最近、磁気ヘッドと磁気ディスクとの
相対スピードにかかわらず浮上量を一定にしたいという
要望が出てきており、それを実現するための一手法とし
て、例えば図５に示すような非対称非平行レール３４，
３６を有する磁気ヘッド３８が提案されている。
浮上量は、回転している磁気ディスクとの相対スピード
に依存し、通常、スピードの増大とともに浮上量も大き
くなる。そこで、最近、磁気ヘッドと磁気ディスクとの
相対スピードにかかわらず浮上量を一定にしたいという
要望が出てきており、それを実現するための一手法とし
て、例えば図５に示すような非対称非平行レール３４，
３６を有する磁気ヘッド３８が提案されている。
【０００５】このような非対称非平行レール３４，３６
は、前記図４に示したような機械加工によって製作する
のは困難である。このため、従来はフォトリソグラフィ
技術を用いてマスクパターンで非対称非平行レールを形
成するようにしていた。従来におけるフォトリソグラフ
ィ技術による非対称非平行レールの製作工程を図６を参
照して説明する。 前記図３に〜で示した工程により、薄膜ヘッド
素子が形成された基板を切断してロー２６を形成する。
切断後レール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光性の膜（感光膜）
４０を形成する。 複数列に配列されたロー２６の上に非対称非平行レ
ールパターンが描かれたフォトマスク４２を配置して露
光する。 現像することにより、感光膜がレールパターンの形
状に残されてマスク材４０′が形成される。 イオンビームエッチング加工によりマスク材４０′
が無い部分のロー２６の表面が堀込まれる。 マスク材４０′を除去してロー２６をスライダごと
に切断すると、非対称非平行レール３４，３６が形成さ
れた磁気ヘッド３８ができ上がる。
は、前記図４に示したような機械加工によって製作する
のは困難である。このため、従来はフォトリソグラフィ
技術を用いてマスクパターンで非対称非平行レールを形
成するようにしていた。従来におけるフォトリソグラフ
ィ技術による非対称非平行レールの製作工程を図６を参
照して説明する。 前記図３に〜で示した工程により、薄膜ヘッド
素子が形成された基板を切断してロー２６を形成する。
切断後レール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光性の膜（感光膜）
４０を形成する。 複数列に配列されたロー２６の上に非対称非平行レ
ールパターンが描かれたフォトマスク４２を配置して露
光する。 現像することにより、感光膜がレールパターンの形
状に残されてマスク材４０′が形成される。 イオンビームエッチング加工によりマスク材４０′
が無い部分のロー２６の表面が堀込まれる。 マスク材４０′を除去してロー２６をスライダごと
に切断すると、非対称非平行レール３４，３６が形成さ
れた磁気ヘッド３８ができ上がる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記図６の方法によれ
ば、非対称非平行レールを作ることはできるが、フォト
マスク４２によって予め定められたレールパターンにし
か形成することができない問題があった。特に、１つの
磁気ヘッドに複数個の素子を形成し、そのうちの特性の
よい素子を使い、どの位置の素子を使うかによって適用
すべきレールパターンが異なる場合に、一定のパターン
のフォトマスク４２でレールパターンを形成したので
は、使用しようとする素子に適用すべきパターンと異な
るレールパターンに形成された磁気ヘッドがいくつも生
じることになり歩留りが悪かった。
ば、非対称非平行レールを作ることはできるが、フォト
マスク４２によって予め定められたレールパターンにし
か形成することができない問題があった。特に、１つの
磁気ヘッドに複数個の素子を形成し、そのうちの特性の
よい素子を使い、どの位置の素子を使うかによって適用
すべきレールパターンが異なる場合に、一定のパターン
のフォトマスク４２でレールパターンを形成したので
は、使用しようとする素子に適用すべきパターンと異な
るレールパターンに形成された磁気ヘッドがいくつも生
じることになり歩留りが悪かった。
【０００７】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、様々なレールパターンを容易に作成でき
るようにした磁気ヘッドのレール面加工方法を提供しよ
うとするものである。
点を解決して、様々なレールパターンを容易に作成でき
るようにした磁気ヘッドのレール面加工方法を提供しよ
うとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
磁気ヘッドのレール面に感光膜を形成し、この感光膜上
にビームスポットを照射しかつ移動させてレールパター
ンを直接描画し、これを現像してレールを形成する部分
以外の感光膜を除去し、この感光膜が除去された部分を
エッチング堀込みしてレールを形成することを特徴とす
るものである。
磁気ヘッドのレール面に感光膜を形成し、この感光膜上
にビームスポットを照射しかつ移動させてレールパター
ンを直接描画し、これを現像してレールを形成する部分
以外の感光膜を除去し、この感光膜が除去された部分を
エッチング堀込みしてレールを形成することを特徴とす
るものである。
【０００９】請求項２記載の発明は、磁気ヘッドが左右
にそれぞれ磁気ヘッド素子を有する場合に、前記レール
面にレールを形成する前にこれら両素子の良否の検査を
行ない、右側の素子が良好で左側の素子が不良の場合は
予め定められた右側用のレールパターンを描画し、左側
の素子が良好で右側の素子が不良の場合は予め定められ
た左側用のレールパターンを描画し、左右の素子とも良
好な場合は前記右側用、左側用のいずれか一方のレール
パターンを描画することを特徴とするものである。
にそれぞれ磁気ヘッド素子を有する場合に、前記レール
面にレールを形成する前にこれら両素子の良否の検査を
行ない、右側の素子が良好で左側の素子が不良の場合は
予め定められた右側用のレールパターンを描画し、左側
の素子が良好で右側の素子が不良の場合は予め定められ
た左側用のレールパターンを描画し、左右の素子とも良
好な場合は前記右側用、左側用のいずれか一方のレール
パターンを描画することを特徴とするものである。
【００１０】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、所定のロットごとに、左側用のレールパタ
ーンを持った磁気ヘッドと右側用のレールパターンを持
った磁気ヘッドの数が略々同等となるように、前記左右
の素子とも良好な磁気ヘッドに形成するレールパターン
が決定されていることを特徴とするものである。
明において、所定のロットごとに、左側用のレールパタ
ーンを持った磁気ヘッドと右側用のレールパターンを持
った磁気ヘッドの数が略々同等となるように、前記左右
の素子とも良好な磁気ヘッドに形成するレールパターン
が決定されていることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】請求項１記載の発明によれば、レール面上の感
光膜上にレーザ光等のビームスポットを照射しかつ移動
させてレールパターンを直接描画するようにしたので、
各ローに様々なレールパターンの組合せを容易に作成す
ることができる。また、１つの磁気ヘッドに複数個の素
子を形成し、そのうちの特性のよい素子を使い、どの位
置の素子を使うかによって適用すべきレールパターンが
異なる場合に、予め各素子の良否の検査を行ない、検査
結果により定めた使用する素子の位置に応じて適切なレ
ールパターンを磁気ヘッドごとに作成できるので、歩留
りを向上させることができる。
光膜上にレーザ光等のビームスポットを照射しかつ移動
させてレールパターンを直接描画するようにしたので、
各ローに様々なレールパターンの組合せを容易に作成す
ることができる。また、１つの磁気ヘッドに複数個の素
子を形成し、そのうちの特性のよい素子を使い、どの位
置の素子を使うかによって適用すべきレールパターンが
異なる場合に、予め各素子の良否の検査を行ない、検査
結果により定めた使用する素子の位置に応じて適切なレ
ールパターンを磁気ヘッドごとに作成できるので、歩留
りを向上させることができる。
【００１２】請求項２記載の発明によれば、各磁気ヘッ
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを形成し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを形成し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを形成する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを形成し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを形成し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを形成する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
【００１３】請求項３記載の発明によれば、磁気ヘッド
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
【００１４】
【実施例】この発明の一実施例を図１を参照して説明す
る。 ウェファー２１上にフォトリソグラフィ技法等によ
り多数の薄膜磁気ヘッド素子２２を形成する。ここで
は、各スライダの左右にそれぞれ薄膜磁気ヘッド素子２
２を形成するものとする。 各薄膜磁気ヘッド素子２２についてプローバ検査を
行なう。右側の素子を使用するスライダと左側の素子を
使用するスライダで別々のレールパターンを形成する場
合は、スライダごとに右側の素子が良好、左側の素子が
良好、左右の素子とも良好、左右の素子とも不良等の情
報を得て、コンピュータ４４の素子状態メモリ４６に１
ロット分（例えば１枚のウェファー２１分あるいは１本
のロー２６分）の情報を記憶する。
る。 ウェファー２１上にフォトリソグラフィ技法等によ
り多数の薄膜磁気ヘッド素子２２を形成する。ここで
は、各スライダの左右にそれぞれ薄膜磁気ヘッド素子２
２を形成するものとする。 各薄膜磁気ヘッド素子２２についてプローバ検査を
行なう。右側の素子を使用するスライダと左側の素子を
使用するスライダで別々のレールパターンを形成する場
合は、スライダごとに右側の素子が良好、左側の素子が
良好、左右の素子とも良好、左右の素子とも不良等の情
報を得て、コンピュータ４４の素子状態メモリ４６に１
ロット分（例えば１枚のウェファー２１分あるいは１本
のロー２６分）の情報を記憶する。
【００１５】コンピュータ４４の演算手段４８は、１ロ
ット分で、右側の素子を用いる右側用の磁気ヘッドと左
側の素子を用いる左側用の磁気ヘッドの割合が所望の状
態となるように、各スライダを右側用、左側用に振り分
ける。すなわち、右側の素子が良好なものは右側用と
し、左側の素子が良好なものは左側用とし、左右両素子
とも良好なものは右側用または左側用に振り分けて、１
ロット分で右側用、左側用の割合が所望の状態となるよ
うにする。
ット分で、右側の素子を用いる右側用の磁気ヘッドと左
側の素子を用いる左側用の磁気ヘッドの割合が所望の状
態となるように、各スライダを右側用、左側用に振り分
ける。すなわち、右側の素子が良好なものは右側用と
し、左側の素子が良好なものは左側用とし、左右両素子
とも良好なものは右側用または左側用に振り分けて、１
ロット分で右側用、左側用の割合が所望の状態となるよ
うにする。
【００１６】例えば、１ロット分で、少くとも左右いず
れか一方の素子が良好なスライダの総数をＮとし、その
うち右側の素子のみ良好な個数をａ個、左側の素子のみ
良好な個数をｂ個とすると、両素子とも良好なものＮ−
（ａ＋ｂ）のうち、Ｎ÷２−ａ個を右側用とし、Ｎ÷２
−ｂを左側用とする（Ｎが奇数の場合は右側用または左
側用を１個多くする。）このように左右両素子とも良好
なスライダを右側用、左側用に振り分けることにより、
右側用磁気ヘッドと左側用磁気ヘッドが所望の割合で得
られ、無駄が出ず歩留りが最良となる。すなわち、一般
に固定ディスク装置用薄膜磁気ヘッドは左右２個の素子
のうち外周側の素子だけが用いられる。そして、１枚の
磁気ディスク記録媒体に対し磁気ヘッドはその上面およ
び下面に１個ずつ配置されてペアで用いられるので、外
周側に来る素子が上面と下面で左右逆になる。したがっ
て、右側の素子を用いる右側用磁気ヘッドと左側の素子
を用いる左側用磁気ヘッドの数を等しく取ることができ
れば余りが出ず歩留りが最良になる。
れか一方の素子が良好なスライダの総数をＮとし、その
うち右側の素子のみ良好な個数をａ個、左側の素子のみ
良好な個数をｂ個とすると、両素子とも良好なものＮ−
（ａ＋ｂ）のうち、Ｎ÷２−ａ個を右側用とし、Ｎ÷２
−ｂを左側用とする（Ｎが奇数の場合は右側用または左
側用を１個多くする。）このように左右両素子とも良好
なスライダを右側用、左側用に振り分けることにより、
右側用磁気ヘッドと左側用磁気ヘッドが所望の割合で得
られ、無駄が出ず歩留りが最良となる。すなわち、一般
に固定ディスク装置用薄膜磁気ヘッドは左右２個の素子
のうち外周側の素子だけが用いられる。そして、１枚の
磁気ディスク記録媒体に対し磁気ヘッドはその上面およ
び下面に１個ずつ配置されてペアで用いられるので、外
周側に来る素子が上面と下面で左右逆になる。したがっ
て、右側の素子を用いる右側用磁気ヘッドと左側の素子
を用いる左側用磁気ヘッドの数を等しく取ることができ
れば余りが出ず歩留りが最良になる。
【００１７】演算手段４８は、上記振分結果に適合する
ようにロー２６ごとに右側用、左側用のスライダの配列
状態を決定し、配列状態メモリ４９に記憶する。 ウェファー２１を切断してロー２６に分割する。 ロー２６のレール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光膜４０を形成す
る。基本パターン発生器５０には右側用および左側用の
レールパターンが予め記憶されている。コンピュータ４
８は配列状態メモリ４９に記憶されている配列状態に応
じて基本パターン発生器５０から右側用あるいは左側用
のレールパターンを順次読み出して、レーザスキャンコ
ントローラ５２によりレーザヘッド５４をＸ，Ｙ方向に
動かして、レーザビームスポット５６をロー２６上の感
光膜４０上に照射して、レールパターンを露光する。 現像することにより、感光膜がレールパターンの形
状に残されてマスク材４０′が形成される。 イオンビームエッチング、パウダーブラスト、反応
性エッチング等によるエッチング掘込加工によりマスク
材４０′が無い部分のロー２６の表面が堀込まれる。 マスク材４０′を除去してロー２６をスライダごと
に切断すると、右側用、左側用で別々のパターン６０，
６２に形成された非対称非平行レール３４，３６を有す
る磁気ヘッド３８ができ上がる。
ようにロー２６ごとに右側用、左側用のスライダの配列
状態を決定し、配列状態メモリ４９に記憶する。 ウェファー２１を切断してロー２６に分割する。 ロー２６のレール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光膜４０を形成す
る。基本パターン発生器５０には右側用および左側用の
レールパターンが予め記憶されている。コンピュータ４
８は配列状態メモリ４９に記憶されている配列状態に応
じて基本パターン発生器５０から右側用あるいは左側用
のレールパターンを順次読み出して、レーザスキャンコ
ントローラ５２によりレーザヘッド５４をＸ，Ｙ方向に
動かして、レーザビームスポット５６をロー２６上の感
光膜４０上に照射して、レールパターンを露光する。 現像することにより、感光膜がレールパターンの形
状に残されてマスク材４０′が形成される。 イオンビームエッチング、パウダーブラスト、反応
性エッチング等によるエッチング掘込加工によりマスク
材４０′が無い部分のロー２６の表面が堀込まれる。 マスク材４０′を除去してロー２６をスライダごと
に切断すると、右側用、左側用で別々のパターン６０，
６２に形成された非対称非平行レール３４，３６を有す
る磁気ヘッド３８ができ上がる。
【００１８】
【変更例】前記実施例では薄膜磁気ヘッドにこの発明を
適用した場合について説明したが、薄膜以外の磁気ヘッ
ドにも適用することができる。また、平行レールパター
ンの形成にも適用することができる。また、直接描画に
用いるビームスポットはレーザ光のほか、電子ビーム、
イオンビーム等各種のビームスポットを用いることがで
きる。
適用した場合について説明したが、薄膜以外の磁気ヘッ
ドにも適用することができる。また、平行レールパター
ンの形成にも適用することができる。また、直接描画に
用いるビームスポットはレーザ光のほか、電子ビーム、
イオンビーム等各種のビームスポットを用いることがで
きる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、レール面上の感光膜上にレーザ光等のビー
ムスポットを照射しかつ移動させてレールパターンを直
接描画するようにしたので、各ローに様々なレールパタ
ーンの組合せを容易に作成することができる。また、１
つの磁気ヘッドに複数個の素子を形成し、そのうちの特
性のよい素子を使い、どの位置の素子を使うかによって
適用すべきレールパターンが異なる場合に、予め各素子
の良否の検査を行ない、検査結果により定めた使用する
素子の位置に応じて適切なレールパターンを磁気ヘッド
ごとに作成できるので、歩留りを向上させることができ
る。
明によれば、レール面上の感光膜上にレーザ光等のビー
ムスポットを照射しかつ移動させてレールパターンを直
接描画するようにしたので、各ローに様々なレールパタ
ーンの組合せを容易に作成することができる。また、１
つの磁気ヘッドに複数個の素子を形成し、そのうちの特
性のよい素子を使い、どの位置の素子を使うかによって
適用すべきレールパターンが異なる場合に、予め各素子
の良否の検査を行ない、検査結果により定めた使用する
素子の位置に応じて適切なレールパターンを磁気ヘッド
ごとに作成できるので、歩留りを向上させることができ
る。
【００２０】請求項２記載の発明によれば、各磁気ヘッ
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを形成し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを形成し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを形成する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを形成し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを形成し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを形成する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
【００２１】請求項３記載の発明によれば、磁気ヘッド
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
【図１】 この発明の一実施例を示す工程図である。
【図２】 平行レールを有するエアフロー式磁気ヘッド
を示す斜視図および側面図である。
を示す斜視図および側面図である。
【図３】 図２の磁気ヘッドの製作工程を示す図であ
る。
る。
【図４】 機械加工によるレール形成方法を示す斜視図
である。
である。
【図５】 非対称非平行レール面を有する磁気ヘッドを
示す斜視図である。
示す斜視図である。
【図６】 マスクパターンを使って図５の磁気ヘッドを
作る工程を示す図である。
作る工程を示す図である。
１８，２０ 薄膜磁気ヘッド素子（磁気ヘッド素子） ２８ レール面 ３４，３６ レール ３８ 磁気ヘッド ４０ 感光膜 ６０ 右（左）側用レールパターン ６２ 左（右）側用レールパターン
Claims (3)
- 【請求項１】磁気ヘッドのレール面に感光膜を形成し、
この感光膜上にビームスポットを照射しかつ移動させて
レールパターンを直接描画し、これを現像してレールを
形成する部分以外の感光膜を除去し、この感光膜が除去
された部分をエッチング堀込みしてレールを形成するこ
とを特徴とする磁気ヘッドのレール面加工方法。 - 【請求項２】前記磁気ヘッドは左右にそれぞれ磁気ヘッ
ド素子を有するものであり、前記レール面にレールを形
成する前にこれら両素子の良否の検査を行ない、右側の
素子が良好で左側の素子が不良の場合は予め定められた
右側用のレールパターンを描画し、左側の素子が良好で
右側の素子が不良の場合は予め定められた左側用のレー
ルパターンを描画し、左右の素子とも良好な場合は前記
右側用、左側用のいずれか一方のレールパターンを描画
することを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドのレー
ル面加工方法。 - 【請求項３】所定のロットごとに、左側用のレールパタ
ーンを持った磁気ヘッドと右側用のレールパターンを持
った磁気ヘッドの数が略々同等となるように、前記左右
の素子とも良好な磁気ヘッドに形成するレールパターン
が決定されていることを特徴とする請求項２項記載の磁
気ヘッドのレール面加工方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5197974A JPH0729141A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 磁気ヘッドのレール面加工方法 |
| US08/271,473 US5566075A (en) | 1993-07-15 | 1994-07-07 | Method of manufacturing a thin film magnetic head |
| US08/703,852 US5903460A (en) | 1993-07-15 | 1996-08-27 | Method of manufacturing a thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5197974A JPH0729141A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 磁気ヘッドのレール面加工方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0729141A true JPH0729141A (ja) | 1995-01-31 |
Family
ID=16383421
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5197974A Pending JPH0729141A (ja) | 1993-07-15 | 1993-07-15 | 磁気ヘッドのレール面加工方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5566075A (ja) |
| JP (1) | JPH0729141A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US20120183907A1 (en) * | 2011-01-19 | 2012-07-19 | International Business Machines Corporation | Patterning process for small devices |
| US9299368B2 (en) | 2010-07-06 | 2016-03-29 | International Business Machines Corporation | Low friction tape head |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5712747A (en) * | 1996-01-24 | 1998-01-27 | International Business Machines Corporation | Thin film slider with on-board multi-layer integrated circuit |
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1993
- 1993-07-15 JP JP5197974A patent/JPH0729141A/ja active Pending
-
1994
- 1994-07-07 US US08/271,473 patent/US5566075A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-08-27 US US08/703,852 patent/US5903460A/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5566075A (en) | 1996-10-15 |
| US5903460A (en) | 1999-05-11 |
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