JP3322027B2 - 積層セラミックス電子部品の製造方法 - Google Patents
積層セラミックス電子部品の製造方法Info
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Description
子部品の製造方法、更に詳しくは、セラミックス素体を
焼結する前の脱バインダー工程に関する。
タンス等の電子部品は、表面に電極を塗布したセラミッ
クスグリーンシートを多数枚積層し、この積層したセラ
ミックス素体を高温で処理し、グリーンシートに混入し
てあるバインダーを飛散させる脱バインダー工程を経て
焼結させることにより製造される。
極が酸化しない材質の場合はエア雰囲気中で、また電極
が酸化する材質の場合はN2やAr等の中性あるいは還
元雰囲気中で、開始から終了まで単一の雰囲気で行なっ
てきた。
中で脱バインダー工程を行なった場合、成型バインダー
が一気に燃え、この急燃によりセラミックス素体の内部
に空洞が発生し、セラミックス素体の焼結前の段階で素
子間にハガレが生じたり、表面にクラックあるいは膨れ
を生じるという問題がある。
程を行なった場合、酸素が希薄で、効率よく脱バインダ
ーが行なえず、セラミックスの焼結まで成形バインダー
が残留カーボンとなり、セラミックスの焼結を阻害する
という問題がある。
何れの雰囲気中の場合でも、昇温スピードを遅くすれば
急燃はなく、急燃による不都合を防ぐことはできるが、
脱バインダー工程に時間がかかり、電子部品の製造コス
トが高くつくという問題がある。
問題点を解決するため、セラミックス素体を焼結させる
前の脱バインダー工程を短時間で効率よく均一に行なう
ことができる積層セラミックス電子部品の製造方法を提
供することにある。
するため、この発明は、セラミックス素体を焼結させる
前の脱バインダー工程を、20℃から400℃までは酸
素濃度1%未満の雰囲気中で行ない、400℃から60
0℃までは酸素濃度10〜20%の雰囲気中で行なう構
成を採用したものである。
ー工程において、400℃をはさんで酸素濃度を変え、
20℃から400℃までは酸素濃度を1%未満とするこ
とにより、バインダーの急燃を防ぎ、400℃から60
0℃までは酸素濃度を10〜20%とすることにより、
脱バインダーが短時間で均一に行なえ、外観や内部に欠
陥のない焼結体が得られる。
て説明する。
部品1は、一面に内部電極2を塗布したセラミックスグ
リーンシート3を必要枚数積層して加圧した後、セラミ
ックス素体のバインダを除去した後、焼結を行なうこと
によって製作される。
の際には、セラミックスを結合するために、ポリビニル
プチラール(P.V.B)やアクリル等の樹脂が成形バ
インダーとして用いられ、セラミックス素体を焼結させ
る前にこの成形バインダーを飛散させる脱バインダー工
程が焼成炉による加熱によって行なわれる。
んで炉内の酸素濃度を変えることにより行なわれる。即
ち、20℃から400℃までは酸素濃度1%未満の雰囲
気中で行ない、400℃から600℃までは酸素濃度1
0%から20%の範囲で行ない、600℃以降は、例え
ば1300℃まで昇温して焼結を行なう。この場合、前
記20℃〜400℃の雰囲気としては、N2やAr等の
中性、または還元性のものを用いてもよい。
20℃から400℃までは酸素濃度を1%未満の炉内酸
素雰囲気とすることにより、成形バインダーの急燃を抑
えることができ、急燃による素子間のハガレや表面のク
ラックあるいは膨れの発生を防止できる。
度を10〜20%とすることにより、成形バインダーの
確実な脱バインダーが行なえ、セラミックス素体の焼結
時までに成形バインダーの残留発生をなくすことがで
き、セラミックス素体の焼結を阻害することがない。
工程と従来の脱バインダー工程によって製作した焼結体
の品質の結果を表1に示す。
にポリビニルプチラール(P.V.B)樹脂をバインダ
ーとして10重量%添加し、これをスラリー状に調合し
た後ドクターブレード法でシート成形し、一面に内部電
極を印刷して40層の積層体とし、焼結後には、寸法が
3.2×1.6×1.25mmの誘電体厚みが15μm
になる成形体を作製した。なお、試片No.1〜No.
8は従来の脱バインダー方法を実施した結果であり、ま
た、試片No.9〜No.12がこの発明の脱バインダ
ー方法を実施した結果である。
発明の実施例である試片No.9〜No.12のように
脱バインダーを行なえば、外観、内部が共に欠陥のない
焼結体が得られ。
セラミックス素体の脱バインダー工程を、20℃から4
00℃までは酸素濃度が1%未満、400℃から600
℃までは酸素濃度10〜20%の雰囲気で行なうように
したので、従来は脱バインダーが20〜30時間程度必
要であったのに対し、この発明では6時間以内、最短で
は30分で行なえ、脱バインダー工程の大幅な時間短縮
が可能になると共に、効率よく均一に脱バインダーが行
なえ、外観、内部に欠陥のない焼結体を得ることができ
る。
Claims (1)
- 【請求項1】 積層セラミックス素体を焼結させる前の
脱バインダー工程を、20℃から400℃までは酸素濃
度1%未満の雰囲気中で行ない、400℃から600℃
までは酸素濃度10〜20%の雰囲気中で行なうことを
特徴とする積層セラミックス電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23421194A JP3322027B2 (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 積層セラミックス電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP23421194A JP3322027B2 (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 積層セラミックス電子部品の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0873273A JPH0873273A (ja) | 1996-03-19 |
JP3322027B2 true JP3322027B2 (ja) | 2002-09-09 |
Family
ID=16967444
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23421194A Expired - Lifetime JP3322027B2 (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 積層セラミックス電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3322027B2 (ja) |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP23421194A patent/JP3322027B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0873273A (ja) | 1996-03-19 |
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