JP3311011B2 - バックバイアス電圧発生回路 - Google Patents
バックバイアス電圧発生回路Info
- Publication number
- JP3311011B2 JP3311011B2 JP08689092A JP8689092A JP3311011B2 JP 3311011 B2 JP3311011 B2 JP 3311011B2 JP 08689092 A JP08689092 A JP 08689092A JP 8689092 A JP8689092 A JP 8689092A JP 3311011 B2 JP3311011 B2 JP 3311011B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- output
- voltage
- back bias
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/06—Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/14—Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
- G11C5/145—Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
- G11C5/146—Substrate bias generators
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F3/00—Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
- G05F3/02—Regulating voltage or current
- G05F3/08—Regulating voltage or current wherein the variable is dc
- G05F3/10—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
- G05F3/16—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
- G05F3/20—Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
- G05F3/205—Substrate bias-voltage generators
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Dc-Dc Converters (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Dram (AREA)
- Amplifiers (AREA)
Description
発生回路に関し、特に、高速にバックバイアス電圧を確
立できるバックバイアス電圧発生回路に関する。
回路の回路図である。図4を参照して、リング発振器I
C1の出力が、インバータIN1ないしIN3を介して
ポンピングキャパシタPC1の一方電極に接続され、イ
ンバータIN2の出力がPMOSトランジスタPM1の
ゲートおよびNMOSトランジスタNM1のゲートに共
通接続される。PMOSトランジスタPM1のソースは
電源端子Vccに接続される。トランジスタPM1のド
レインは、NMOSトランジスタNM1のドレインに接
続され、かつNMOSトランジスタNM2のゲートに接
続される。トランジスタNM2のソースは接地端子Vs
sに接続される。ポンピングキャパシタPC1の他方電
極は、トランジスタNM1のソースおよびトランジスタ
NM2のドレインに接続され、かつNMOSトランジス
タNM3のドレインに共通接続される。トランジスタN
M3のソースおよびゲートはバックバイアス端子VBBに
共通に接続される。
生回路の動作について説明する。まず、リング発振器I
C1から低電位に下降される電圧が出力されたとき、そ
の出力電圧はインバータIN1およびIN2により波形
整形された後、PMOSトランジスタPM1のゲートお
よびNMOSトランジスタNM1のゲートに印加され
る。よって、トランジスタPM1はONし、トランジス
タNM1はOFFするので、トランジスタPM1を介し
て電源電圧VccがトランジスタNM2のゲートに印加
される。したがって、トランジスタNM2はONする。
このとき、インバータIN2の低電位の出力電圧は、イ
ンバータIN3を介して高電位に反転され、ポンピング
キャパシタPC1の一方電極に印加される。このとき、
ポンピングキャパシタPC1の他方電極の電圧は、ON
しているNMOSトランジスタNM2を介して接地端子
Vssに接続されるので、ポンピングキャパシタPC1
の他方電極とトランジスタNM1およびNM2のソース
およびドレインの共通接続ノードには0ボルトの接地電
圧がかかり、NMOSトランジスタNM3(以下、「ス
イッチングトランジスタNM3」という)のドレインに
印加される。この場合、負のバックバイアス電圧VBBが
スイッチングトランジスタNM3のゲートおよびソース
に印加されるので、スイッチングトランジスタNM3は
逆バイアスになってOFFされる。スイッチングトラン
ジスタNM3のOFFにより、バックバイアス端子VBB
の電圧が上昇するのが防がれる。
圧が高電位に上昇されると、その出力電圧はインバータ
IN1およびIN2により波形成形された後、トランジ
スタPM1およびNM1のゲートに印加される。したが
って、トランジスタPM1がOFFするのでトランジス
タNM2がOFFし、トランジスタNM1はONする。
このとき、インバータIN2から出力された高電位の電
圧はインバータIN3により反転された後、低電位の電
圧がポンピングキャパシタPC1の一方電極に印加され
る。したがって、電気容量のカップリング効果により、
ポンピングキャパシタPC1の他方電極には負電圧が印
加される。
電極の電圧が次第に低電位に降下しリング発振器IC1
の出力が次第に高電位に上昇すると、ポンピングキャパ
シタPC1の他方電極の負電圧は次第に低下され、スイ
ッチングトランジスタNM3のドレインにその負電圧が
印加される。ここで、バックバイアス電圧VBBがポンピ
ングキャパシタPC1の他方電極の負電圧よりも高くな
ると、スイッチングトランジスタNM3は正方向のバイ
アスとなってONするので、バックバイアス端子VBBの
電圧は、スイッチングトランジスタNM3の働きにより
低くなる。すなわち、ポンピングキャパシタPC1から
出力されたすべての電子が、ONしたスイッチングトラ
ンジスタNM3を介してバックバイアス端子VBBに流れ
るようになるので、バックバイアス電圧は相対的に低く
なる。
従来のバックバイアス電圧発生回路では、ポンピングキ
ャパシタPC1から発生する最小値の電圧がスイッチン
グトランジスタNM3のドレインとソース間の電圧差V
Tによりバックバイアス端子VBBの電圧よりも極めて低
い値を維持するようになっているため、ポンピングキャ
パシタPC1のジャンクションから基板に注入される電
子量が多く、メモリセルにストアされたデータに影響を
及ぼし、そのメモリセルが誤動作をする恐れがある。
ゲートにバックバイアス電圧が常時印加されるようにな
っているため、そのスイッチングトランジスタNM3の
コンダクタンス値が小さく、よって、バックバイアス電
圧を降下させるのに要する時間が長くなり、高速動作が
妨げられていた。
ためになされたもので、バックバイアス電圧発生回路に
おいて、バックバイアス電圧を確立するのに要する時間
を短縮することを目的とする。
キャパシタから基板に注入される電子の量を減少できる
バックバイアス電圧発生回路を提供することである。
回路は、発振器手段と、発振器手段から出力された出力
信号を第1の電極を介して受けるように接続されたポン
ピングキャパシタ手段と、ポンピングキャパシタ手段の
第2の電極とバックバイアス電圧を出力する出力ノード
との間に接続された第1のスイッチング手段と、ポンピ
ングキャパシタ手段の第2の電極と接地電位との間に接
続され、発振器手段から出力された出力信号に応答して
動作される第2のスイッチング手段と、発振器手段から
出力された出力信号に応答して、第1のスイッチング手
段の導通を制御する導通制御手段とを含む。第1のスイ
ッチング手段は、ポンピングキャパシタ手段の第2の電
極と出力ノードとの間に接続された第1の電界効果トラ
ンジスタである。導通制御手段は、電源電位または接地
電位を受けるように接続され、発振器手段から出力され
た出力信号に応答して、第1の電界効果トランジスタの
ゲートに接地電位または電源電位を与える第3のスイッ
チング手段と、第1の電界効果トランジスタのゲートと
出力ノードとの間に接続され、発振器手段から出力され
た出力信号に応答して動作される第4のスイッチング手
段とを備える。
では、ポンピングキャパシタ手段の第2の電極と出力ノ
ードとの間に接続された第1のスイッチング手段の導通
が、発振器手段から出力された出力信号に応答して導通
制御手段によって制御されるので、バックバイアス電圧
の確立が短時間で行なわれ得る。また、導通制御手段に
よる第1のスイッチング手段の制御により、ポンピング
キャパシタ手段から半導体基板へ注入される電子の量が
減少され得る。
イアス電圧発生回路の回路図である。図1を参照して、
バックバイアス電圧発生回路は、リング発振器IC1
と、バックバイアス発生部IC2と、スイッチングトラ
ンジスタ制御部IC3とを含む。リング発振器IC1の
出力電圧はポンピングキャパシタPC1の一方入力に印
加され、ポンピングキャパシタPC1の他方電極がスイ
ッチングトランジスタNM3を介してバックバイアス端
子VBBに接続される。リング発振器IC1の出力電圧に
より、NMOSトランジスタNM2を介してポンピング
キャパシタPC1の他方電極が接地Vssに接続され
る。
は、リング発振器IC1の出力電圧に応答して、PMO
SトランジスタPM2を介してスイッチングトランジス
タNM3のゲートに接地電位Vssまたは電源電圧Vc
cの電圧を印加する。また、スイッチングトランジスタ
制御部IC3は、リング発振器IC1の出力電圧に応答
して、NMOSトランジスタNM4を介してスイッチン
グトランジスタNM3のゲートにバックバイアス電圧を
印加する。また、スイッチングトランジスタNM3のコ
レクタ値(または相互コンダクタンス)を高く設定して
セルを高速に動作させ、ポンピングキャパシタPC1の
出力電圧の絶対値を減らして消費電流およびセルの誤動
作を防止する。
発振器IC1の出力がインバータIN1ないしIN3を
介してポンピングキャパシタPC1の一方電極に接続さ
れ、インバータIN2の出力がPMOSトランジスタP
M1のゲートおよびNMOSトランジスタNM1の共通
接続される。トランジスタPM1のソースは電源端子V
ccに接続される。トランジスタPM1のドレインは、
NMOSトランジスタNM1のドレインに接続され、か
つNMOSトランジスタNM2のゲートに接続される。
トランジスタNM2のソースは接地端子Vssに接続さ
れる。ポンピングキャパシタPC1の他方電極は、トラ
ンジスタNM1のソースと、トランジスタNM2のドレ
インと、NMOSトランジスタNM3のドレインとに共
通接続される。トランジスタNM3のソースはバックバ
イアス端子VBBに接続される。
は、インバータIN2の出力がPMOSトランジスタP
M2のソースに接続される。PMOSトランジスタPM
1のドレインおよびNMOSトランジスタNM1のドレ
イン共通接続ノードは、PMOSトランジスタPM2の
ゲートおよびNMOSトランジスタNM4のゲートに共
通接続される。トランジスタPM2のドレインおよびN
MOSトランジスタNM4のドレイン共通接続ノード
は、トランジスタNM3のゲートに接続される。
生回路の動作について説明する。まず、リング発振器I
C1からの出力電圧が低電位に下降すると、その出力電
圧はインバータIN1およびIN2により波形整形され
た後、トランジスタPM1およびNM1のゲートとスイ
ッチングトランス制御部IC3内のトランジスタPM2
のソースとに印加される。したがって、トランジスタN
M1はOFFし、トランジスタPM1はONする。した
がって、電源電圧VccがトランジスタPM1を介して
トランジスタNM2およびNM4のゲートおよびトラン
ジスタPM2のゲートに印加される。これにより、トラ
ンジスタPM2がOFFし、トランジスタNM2および
NM4がONする。
の出力電圧がインバータIN3により反転され、高電位
の電圧がポンピングキャパシタPC1の一方電極に印加
されるが、ポンピングキャパシタPC1の他方電極の電
圧はONしたトランジスタNM2を介して接地端子Vs
sにバイパスされるため、ポンピングキャパシタPC1
の他方電極とトランジスタNM1およびNM2のソース
およびドレインの共通接続ノードn1には、図2に示し
た接地電圧がかかるようになる。ここで、図2は、図1
に示したポンピングキャパシタPC1の出力電圧の変化
を示す波形図である。
電極の電圧が次第に高電位に上昇すると、ポンピングキ
ャパシタPC1の他方電極とトランジスタNM1および
NM2のソースおよびドレインの共通接続ノードn1に
は、図2に示したように、上昇エッジ電圧V1′が次第
に上昇され、スイッチングトランジスタNM3のドレイ
ンに印加される。このとき、バックバイアス電圧VBBは
スイッチングトランジスタNM3のソースに印加される
と同時に、ONしたトランジスタNM4を介してスイッ
チングトランジスタNM3のゲートに印加されるため、
スイッチングトランジスタNM3には逆バイアスがかか
ってOFFする。よって、共通接地ノードn1の電圧が
OFF状態のスイッチングトランジスタNM3により遮
断され、バックバイアス端子VBBには図3に示したよう
な現在の状態を維持する電圧がかかるようになる。ここ
で、図3は、図1に示したバックバイアス電圧発生回路
から出力されるバックバイアス電圧の波形図である。
圧が高電位に上昇すると、その出力電圧はインバータI
N1およびIN2により波形整形された後、トランジス
タPM1およびNM1のゲートに印加され、かつトラン
ジスタPM2のソースに印加される。したがって、トラ
ンジスタNM1がONし、トランジスタPM1がOFF
する。トランジスタNM1のONにより、共通接続ノー
ドn1の低電圧がトランジスタNM1を介してトランジ
スタPM2,NM2およびNM4のゲートに印加される
ので、トランジスタNM2およびNM4がOFFし、ト
ランジスタPM2がONする。したがって、インバータ
IN2から出力した高電位の電圧は、ONしたトランジ
スタPM2を介してスイッチングトランジスタNM3の
ゲートに印加され、スイッチングトランジスタNM3が
ONする。
電位の出力電圧は、再びインバータIN3により反転さ
れ、ポンピングキャパシタPC1の一方電極に印加され
るため、キャパシタのカップリング効果によりポンピン
グキャパシタPC1の他方電極には、その一方電極より
も低い電圧がかかる。ポンピングキャパシタPC1の一
方電極の電圧が次第に低電位に降下すると、ポンピング
キャパシタPC1の他方電極とトランジスタNM1およ
びNM2のソースおよびドレインの共通接続ノードn1
の電圧は、図2に示したように、相対的に負電圧V2′
に下降され、ONしたトランジスタNM1を介してトラ
ンジスタPM2のゲートおよびスイッチングトランジス
タNM3のドレインに印加される。したがって、トラン
ジスタPM2がONし、トランジスタPM2のONによ
りスイッチングトランジスタNM3のゲートに電源電圧
Vccが印加される。したがって、バックバイアス電圧
V BBがONしたスイッチングトランジスタNM3を介し
てポンピングキャパシタPC1の負電圧出力側にバイパ
スされるため、そのバックバイアス端子VBBの電圧V2
は図3に示すように次第に下降される。すなわち、スイ
ッチングトランジスタNM3のゲートにバックバイアス
端子VBBの電圧が印加される場合と比較して、電源電圧
Vccのリング発振器IC1の電圧が印加されると、ス
イッチングトランジスタNM3のコンダクタンス値が大
きくなって、バックバイアス電圧に至る速度が速くな
る。
電位に下降する下降エッジの時点では、すなわち、ポン
ピングキャパシタPC1の他方電極とトランジスタNM
1のおよびNM2のソースおよびドレインの共通接続ノ
ードn1の電圧が上昇する直前においては、スイッチン
グトランジスタNM3のゲートには低電位の接地電圧V
ssが印加され、共通接続ノードn1に印加される負電
圧V2′の絶対値がスイッチングトランジスタNM3の
電位差VTだけ小さくなる。よって、共通接続ノードn
1からバックバイアス端子VBBに注入される電子量が減
少される。すなわち、リング発振器IC1の出力電圧が
低電位に下降するとき、その出力電圧はインバータIN
1およびIN2を介してトランジスタPM1およびPM
2のゲートに印加されトランジスタPM1をONさせる
が、このとき、トランジスタPM1のONが所定時間だ
け遅延され、これに接続されたトランジスタPM2は、
共通接続ノードn1の以前の値の負電圧によりONされ
る。したがって、リング発振器IC1から出力された低
電位の電圧、すなわち、接地電圧VssがONしたトラ
ンジスタPM2を介してスイッチングトランジスタNM
3のゲートに印加されるので、共通接続ノードn1にか
かる負電圧の絶対値が図2に示したように、スイッチン
グトランジスタNM3のドレインとソース間の電位差V
Tだけ小さくなる。その結果、ポンピングキャパシタP
C1のジャンクションから基板に注入される電子量が減
少してセルの誤動作が防止される。
圧によりスイッチングトランジスタNM3のゲートに電
源電圧Vccまたは接地電圧Vssが印加される。リン
グ発振器IC1の出力電圧が高電位、すなわち電源電圧
Vccであるとき、スイッチングトランジスタNM3の
ゲートには高電位が印加され、スイッチングトランジス
タNM3のコンダクタンス値が上昇するようになってい
る。したがって、バックバイアス電圧に至る動作速度が
極めて速くなり、セルのレイアウトが容易になるという
利点が得られる。また、リング発振器IC1の出力電圧
が低電位に変化するとき、スイッチングトランジスタN
M3のゲートに接地電位Vssが印加されるため、ポン
ピングキャパシタPC1の電圧が従来の回路よりもスイ
ッチングトランジスタNM3の電位差だけ高くなり、よ
って、ポンピングキャパシタPC1から基板へ注入され
る電子の量が減少され、したがってセルの誤動作が防止
できる。
器手段から出力された出力信号に応答して、ポンピング
キャパシタ手段の第2の電極と出力ノードとの間に接続
された第1のスイッチング手段の導通を制御する導通制
御手段を設けたので、バックバイアス電圧を短時間で確
立でき、また、ポンピングキャパシタから基板に注入さ
れる電子の量を減少できるバックバイアス電圧発生回路
が得られた。
発生回路の回路図である。
の変化を示す波形図である。
力電圧の波形図である。
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】 出力ノードを介してバックバイアス電圧
を発生するバックバイアス電圧発生回路であって、 発振器手段と、 第1および第2の電極を有し、かつ前記第1の電極を介
して前記発振器手段から出力された出力信号を受けるよ
うに接続されたポンピングキャパシタ手段と、 前記ポンピングキャパシタ手段の前記第2の電極と前記
出力ノードとの間に接続された第1のスイッチング手段
と、 前記ポンピングキャパシタ手段の前記第2の電極と接地
電位との間に接続され、前記発振器手段から出力された
出力信号に応答して動作される第2のスイッチング手段
と、 前記発振器手段から出力された出力信号に応答して、前
記第1のスイッチング手段の導通を制御する導通制御手
段とを含み、 前記第1のスイッチング手段は、前記ポンピングキャパ
シタ手段の前記第2の電極と前記出力ノードとの間に接
続された第1の電界効果トランジスタであり、 前記導通制御手段は、 電源電位または接地電位を受けるように接続され、前記
発振器手段から出力された出力信号に応答して、前記第
1の電界効果トランジスタのゲートに前記接地電位また
は電源電位を与える第3のスイッチング手段と、 前記第1の電界効果トランジスタのゲートと前記出力ノ
ードとの間に接続され、前記発振器手段から出力された
出力信号に応答して動作される第4のスイッチング手段
とを備える、 バックバイアス電圧発生回路。 - 【請求項2】 前記第3および第4のスイッチング手段
は、前記発振器手段と前記出力ノードとの間に直列に接
続され、前記発振器手段から出力された出力信号に応答
して動作される第2および第3の相補電界効果トランジ
スタであり、 前記第2および第3の電界効果トランジスタの共通接続
ノードは、前記第1の電界効果トランジスタのゲートに
接続される、請求項1に記載のバックバイアス電圧発生
回路。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019910005890A KR940003153B1 (ko) | 1991-04-12 | 1991-04-12 | 백바이어스 발생회로 |
KR5890 | 1991-04-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05101657A JPH05101657A (ja) | 1993-04-23 |
JP3311011B2 true JP3311011B2 (ja) | 2002-08-05 |
Family
ID=19313203
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08689092A Expired - Fee Related JP3311011B2 (ja) | 1991-04-12 | 1992-04-08 | バックバイアス電圧発生回路 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5184030A (ja) |
JP (1) | JP3311011B2 (ja) |
KR (1) | KR940003153B1 (ja) |
DE (1) | DE4204400A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111367341A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-03 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种参考电压产生电路和nand芯片 |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5313111A (en) * | 1992-02-28 | 1994-05-17 | Texas Instruments Incorporated | Substrate slew circuit providing reduced electron injection |
EP0569658B1 (en) * | 1992-05-15 | 1998-08-12 | STMicroelectronics S.r.l. | Signals generator having not-overlapping phases and high frequency |
US5412257A (en) * | 1992-10-20 | 1995-05-02 | United Memories, Inc. | High efficiency N-channel charge pump having a primary pump and a non-cascaded secondary pump |
JP2560983B2 (ja) * | 1993-06-30 | 1996-12-04 | 日本電気株式会社 | 半導体装置 |
US6424202B1 (en) * | 1994-02-09 | 2002-07-23 | Lsi Logic Corporation | Negative voltage generator for use with N-well CMOS processes |
US5541528A (en) * | 1995-08-25 | 1996-07-30 | Hal Computer Systems, Inc. | CMOS buffer circuit having increased speed |
US5694072A (en) * | 1995-08-28 | 1997-12-02 | Pericom Semiconductor Corp. | Programmable substrate bias generator with current-mirrored differential comparator and isolated bulk-node sensing transistor for bias voltage control |
JPH09162713A (ja) * | 1995-12-11 | 1997-06-20 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体集積回路 |
US6064250A (en) | 1996-07-29 | 2000-05-16 | Townsend And Townsend And Crew Llp | Various embodiments for a low power adaptive charge pump circuit |
EP1028363B1 (en) * | 1996-07-29 | 2003-02-12 | Townsend and Townsend and Crew LLP | Charge pump for a semiconductor substrate |
DE19651768C1 (de) * | 1996-12-12 | 1998-02-19 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung zur Erzeugung einer erhöhten Ausgangsspannung |
US6023187A (en) * | 1997-12-23 | 2000-02-08 | Mitsubishi Semiconductor America, Inc. | Voltage pump for integrated circuit and operating method thereof |
KR100259349B1 (ko) | 1997-12-27 | 2000-06-15 | 김영환 | 백바이어스 전압레벨 검출기 |
EP1014547A3 (en) | 1998-12-21 | 2000-11-15 | Fairchild Semiconductor Corporation | Low-current charge pump system |
KR100347140B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2002-08-03 | 주식회사 하이닉스반도체 | 전압 변환 회로 |
KR100376260B1 (ko) * | 2000-12-29 | 2003-03-17 | 주식회사 하이닉스반도체 | 오실레이터 |
EP1835374B1 (fr) * | 2006-03-17 | 2015-07-22 | St Microelectronics S.A. | Dispositif et procédé d'adaptation du potentiel du substrat d'un transistor MOS |
US10678287B2 (en) | 2018-10-15 | 2020-06-09 | Globalfoundries Inc. | Positive and negative full-range back-bias generator circuit structure |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4559548A (en) * | 1981-04-07 | 1985-12-17 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | CMOS Charge pump free of parasitic injection |
US4628214A (en) * | 1985-05-22 | 1986-12-09 | Sgs Semiconductor Corporation | Back bias generator |
KR890005159B1 (ko) * | 1987-04-30 | 1989-12-14 | 삼성전자 주식회사 | 백 바이어스 전압 발생기 |
KR0134773B1 (ko) * | 1988-07-05 | 1998-04-20 | Hitachi Ltd | 반도체 기억장치 |
-
1991
- 1991-04-12 KR KR1019910005890A patent/KR940003153B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-12-26 US US07/813,611 patent/US5184030A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-02-14 DE DE4204400A patent/DE4204400A1/de not_active Ceased
- 1992-04-08 JP JP08689092A patent/JP3311011B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111367341A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-03 | 北京兆易创新科技股份有限公司 | 一种参考电压产生电路和nand芯片 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR940003153B1 (ko) | 1994-04-15 |
JPH05101657A (ja) | 1993-04-23 |
KR920020854A (ko) | 1992-11-21 |
DE4204400A1 (de) | 1992-10-15 |
US5184030A (en) | 1993-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3311011B2 (ja) | バックバイアス電圧発生回路 | |
JP3415241B2 (ja) | 電圧変換器 | |
US5973552A (en) | Power savings technique in solid state integrated circuits | |
US4176289A (en) | Driving circuit for integrated circuit semiconductor memory | |
JPH11112297A (ja) | ラッチ回路及びこのラッチ回路を有する半導体集積回路 | |
JPH10173511A (ja) | 電圧レベルシフチング回路 | |
JPH06342592A (ja) | 半導体記憶装置のワード線駆動回路 | |
JP3652793B2 (ja) | 半導体装置の電圧変換回路 | |
JP3698550B2 (ja) | ブースト回路及びこれを用いた半導体装置 | |
US4004170A (en) | MOSFET latching driver | |
US4195238A (en) | Address buffer circuit in semiconductor memory | |
JP3500598B2 (ja) | ラッチ回路 | |
JPH10125060A (ja) | ワードライン駆動回路 | |
JP3190940B2 (ja) | 昇圧回路 | |
JP2001053599A (ja) | 半導体集積回路 | |
JP2768851B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR0183874B1 (ko) | 반도체 메모리장치의 내부 전원전압 발생회로 | |
JP2590574B2 (ja) | 高電圧スイッチング回路 | |
JP2978671B2 (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JP3000950B2 (ja) | 半導体メモリ装置のワード線駆動回路 | |
KR19990024891A (ko) | 파워 업 회로 | |
JPH05205468A (ja) | ダイナミックramの基板電圧発生回路 | |
JPH076581A (ja) | 基板バイアス・ポンプ装置 | |
JP2919187B2 (ja) | 基板電位供給回路 | |
JP2529305B2 (ja) | 中間レベル設定回路 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020423 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090524 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100524 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110524 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |