JPH076581A - 基板バイアス・ポンプ装置 - Google Patents

基板バイアス・ポンプ装置

Info

Publication number
JPH076581A
JPH076581A JP5279873A JP27987393A JPH076581A JP H076581 A JPH076581 A JP H076581A JP 5279873 A JP5279873 A JP 5279873A JP 27987393 A JP27987393 A JP 27987393A JP H076581 A JPH076581 A JP H076581A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pumping
substrate
transistor
capacitor
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5279873A
Other languages
English (en)
Inventor
P Mcadams Hugh
ピー.マックアダムス ヒュー
Yu Tsuai Ching
− ユ ツァイ チング
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Texas Instruments Inc
Original Assignee
Texas Instruments Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Texas Instruments Inc filed Critical Texas Instruments Inc
Publication of JPH076581A publication Critical patent/JPH076581A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/205Substrate bias-voltage generators

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電荷ポンプ回路が電荷を高効率で供給する。 【構成】 集積回路基板バイアス・ポンプ装置が、発振
器入力から基板への回路経路として構成された電荷ポン
プ回路を有する。電荷ポンプ回路は、発振信号のレベル
に応答して、基板に電荷を供給する様に動作する。電荷
ポンプ回路内では、ポンピング・トランジスタが、ポン
ピング・トランジスタの閾値電圧の全部を電圧損失とせ
ずに、ポンピング・キャパシタからの貯蔵されている電
荷を基板に転送する。ポンピング・トランジスタの導電
路が、ポンピング・キャパシタと基板の間の直列回路と
して接続されている。ポンピング・トランジスタの制御
ゲート電極がブートストラップ接続され、ポンピング・
キャパシタから基板へ貯蔵された電荷をポンプする為に
使われる入力信号を遅延したものにより、ポンピング・
トランジスタをターンオンする。2つの電荷ポンプ回路
をプッシュプル形式の基板バイアス・ポンプとして動作
させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体装置、更に具体
的に云えば半導体装置基板バイアス・ポンプ回路に関す
る。
【0002】
【従来の技術及び課題】マイクロプロセッサ及びダイナ
ミック・ランダムアクセス・メモリ(DRAM)装置の
様な今日の多くの集積回路は、相補型金属−酸化物−半
導体(CMOS)技術でつくられており、同じ半導体基
板内にpチャンネル型及びnチャンネル型金属−酸化物
−半導体(MOS)トランジスタが形成される。CMO
S技術では、良好な性能が少ない消費電力と共に得られ
る。CMOS技術のp型及びn型が交互になる構成で
は、寄生サイリスタ、即ちシリコン制御整流器(SC
R)ができる。SCR装置のp−n−p−n構造は、バ
イポーラ型のp−n−pトランジスタ及びバイポーラ型
のn−p−nトランジスタが再生フィードバックの対を
形成する様に相互接続されたものと解析することができ
る。この様な寄生SCRの順方向ブレークオーバ電圧を
越える信号又は疑似電圧が装置の両端に印加されると、
望ましくないラッチアップ状態が起こり得る。一旦ラッ
チアップが起こると、かなりの大きさの電流がSCRに
流れて、集積回路装置を損傷する惧れがある。
【0003】寄生SCRのラッチアップの惧れを少なく
する1つの技術は、集積回路のアース又は共通電位より
も更に負である基板バイアス電位を供給することであ
る。負で一層大きい基板バイアス電位が存在することに
より、寄生SCRにある2つの寄生トランジスタの内の
一方のベース・エミッタ接合が、CMOS集積回路に印
加される電圧の予想されるどんな振れでも順バイアスさ
れることがないことが保証される。集積回路のアース電
位よりも更に負である基板バイアス電位を供給する好ま
しい方法は、基板バイアス・ポンプ回路によるものであ
る。出願人に譲渡された下記の米国特許は、基板バイア
ス・ポンプ回路の例を示している。即ち、1985年1
月15日に付与された米国特許第4,494,223
号、1986年4月29日に付与された同第4,58
5,954号、1986年12月9日に付与された同第
4,628,215号及び1986年12月23日に付
与された同第4,631,421号である。
【0004】メモリ装置及びマイクロプロセッサは、約
5ボルトのVdd又はVccの電位を供給する外部電圧源を
電源とするのが典型的である。蓄電池を電源とするラッ
プトップ形コンピュータは約2ボルトの一層低い電源電
圧で動作させることが望ましい。
【0005】システムとデバイスの条件の間のこの不釣
合いにより、DRAM装置に対する基板バイアス電位V
ddのレベルが特に問題になる。DRAM装置は、データ
を記憶している間、各々のキャパシタ記憶素子を隔離す
る為に別個のトランジスタ・スイッチに頼っているの
で、閾値未満の漏れ特性に非常に敏感である。或る装置
の記憶セルの数が増加するにつれて、漏れも増加する。
増加する漏れを打消す為にバイアス電流を増加すると、
この増加したバイアス電流が基板バイアス電圧を下げ、
基板バイアス電圧を一層小さい負の値にする。基板バイ
アスが一層小さい負の電圧を持つ時、疑似信号がラッチ
アップを招く確率が大きくなる。DRAM装置に於ける
密度条件の為、MOSトランジスタ・スイッチは非常に
狭いチャンネルを持つ様につくられている。この様にチ
ャンネルの狭いMOSトランジスタはシステムによって
要求されるリフレッシュ期間全体に亘り、記憶データを
維持するのに十分な程度に、閾値未満の漏れ電流を減少
する為に、かなりのレベルの基板バイアスを必要とする
のが一般的である。その結果、電荷ポンプ回路は、基板
バイアス電位のレベルが、誤動作を防止するのに十分な
負の大きい電位である様に保証する為、一層大きな電荷
ポンプ効率を持つ様に設計しなければならない。
【0006】従来の基板バイアス・ポンプ装置では、各
々のポンピング・キャパシタと基板の間にポンピング・
ダイオードが介在している。ポンピング・キャパシタが
ポンピング・ダイオードを介して放電すると、ポンピン
グ・ダイオードの両端に電圧降下が起こる。この電圧降
下はダイオードの閾値電圧に等しく、それが基板の最大
の負の電位を、ポンピング・キャパシタに記憶される電
荷の電位の大きさからダイオードの閾値電圧を差引いた
値、即ち−Vdd+Vtpに減少する。蓄電池を電源とする
装置では、この結果得られるバイアスは約−0.8ボル
トである。多くの用途にとっては、この電位はアース電
位に近づきすぎている。
【0007】
【課題を解決するための手段及び作用】上記並びにその
他の問題が、発振器の入力から基板への回路経路として
構成された電荷ポンプ回路を含む集積回路基板バイアス
・ポンプ装置によって解決される。この電荷ポンプ回路
は、発振信号のレベルに応答して、基板に電荷を供給す
る様に作用する。電荷ポンプ回路内では、ブートストラ
ップ形の被制御ポンピング・トランジスタが、ポンピン
グ・トランジスタの閾値電圧の全部を電圧損失とするこ
となく、ポンピング・キャパシタからの貯蔵されている
電荷を基板に転送する。
【0008】ポンピング・トランジスタの導電路がポン
ピング・キャパシタと基板の間の直列回路として接続さ
れている。
【0009】ポンピング・トランジスタの制御ゲート電
極がブートストラップ形になっていて、発振信号を遅延
させたものによって、ポンピング・トランジスタをター
ンオンする。
【0010】2つの電荷ポンプ回路をプッシュプル形式
の基板バイアス・ポンプとして動作させることができ
る。この発明は以下図面について詳しく説明する所か
ら、更によく理解されよう。
【0011】
【実施例】図1には集積回路基板バイアス・ポンプ装置
13が示されている。発振器14が、図2に示す様な交
互に高レベル及び低レベルになる矩形波信号を基板バイ
アス・ポンプ装置13の入力端子15に印加する。基板
バイアス・ポンプ装置13の出力端子17は、図9に示
す様な集積回路基板20の基板バイアス電位に保たれて
いる。基板バイアス・ポンプ装置は一対の電荷ポンプ回
路22,24を持ち、これらは入力端子15と基板20
に接続される出力端子17の間に別々の回路経路をつく
っている。各々の電荷ポンプ回路、例えば22は図2の
入力信号の一方のレベルに作用し、他方の電荷ポンプ回
路、例えば24はその間、カットオフである。その後、
その役割が逆になるが、これはプッシュプル回路と同じ
である。電荷ポンプ回路22,24の動作は後で説明す
る。
【0012】電荷ポンプ回路22,24の形式は同様で
あって、従って動作も互いに同様であるが、入力端子1
5に発生する入力信号が電荷ポンプ回路22のノア・ゲ
ート30の入力には直接的に印加されるが、電荷ポンプ
回路24のノア・ゲート34の入力にはインバータ32
を介して印加される点が異なる。入力信号の低レベルの
振れにより、電荷ポンプ回路22が基板バイアスを負の
電位にポンプし、高レベルの振れが電荷ポンプ回路24
により、基板バイアスをこの負の電位にポンプする。そ
の他の点では、電荷ポンプ回路22,24は同様である
から、その構成及び動作についての以下の説明は、回路
22に限ることにする。
【0013】図2−9の波形について、図1の基板バイ
アス・ポンプ装置の動作を説明すると、次の通りであ
る。
【0014】最初に、図2の入力信号が高の正レベルに
なると考える。これがノア・ゲート30の一方の入力に
印加されるから、このゲートは、図3に示す様に、低の
アース・レベルの信号を節37に発生する。これによっ
てインバータ38が図4に示す様な高レベルの信号を節
40の出力に発生する。節40はポンピング・キャパシ
タ42の一方の極板である。ポンピング・キャパシタ4
2の反対側の極板が節45に接続される。この節は、図
5に示す様にアース・レベルになる。これは、ポンピン
グ・キャパシタ42を介して結合されている為、並びに
図6に示す様な、電荷ポンプ回路24からリード線48
を介して送られる交差結合の負レベルの制御信号によっ
てトランジスタ47がターンオンされる為である。pチ
ャンネル・ポンピング・トランジスタ50の導電路が入
力端子15及び基板20の間で、ポンピング・キャパシ
タ42と直列回路に接続されている。
【0015】節15の入力信号が高である時にポンピン
グ・トランジスタがターンオフになるのが有利である。
これは、リード線48の交差結合の負レベルの制御信号
によって、トランジスタ66が同様にターンオンになる
からである。図8に示す様に、節72及びトランジスタ
50の制御ゲート電極の電位はアース・レベルである。
この時、電荷ポンプ回路24が基板20に電荷をポンプ
する。電荷ポンプ回路24からポンプされる電荷が基板
20に送られ、トランジスタ50が導電していないか
ら、ポンピング・トランジスタ50を介してポンピング
・キャパシタ42に向けられることがない。
【0016】図4に示す様に節40が高レベルで、図5
に示す様に節45がアース・レベルであるから、ポンピ
ング・キャパシタ42が、次にポンピング・トランジス
タ50及び出力端子17を介して基板20に電荷を供給
する順番になる前に、一杯の電位Vddに再び充電され
る。
【0017】一旦、入力信号の高の正レベルの部分が完
了すると、図2に示す入力信号が低レベルに振れる。こ
の低レベルの入力信号がノア・ゲート30の一方の入力
端子に印加されるが、ノア・ゲート30の状態は直ちに
変化しない。その代わりに、電荷ポンプ回路24からの
遅延した制御信号の変化を待つ。節37に出るノア・ゲ
ート30の出力は、電荷ポンプ回路24からの低に向う
信号の変化が遅延素子55を介してノア・ゲート30の
2番目の入力に結合されるまで、低に保たれる。この遅
延により、入力信号のこの低レベル部分の間、電荷ポン
プ回路22のポンピング・トランジスタ50がターンオ
ンになる前に、電荷ポンプ回路24のpチャンネル・ポ
ンピング・トランジスタ60がターンオフになることが
保証される。電荷ポンプ回路24のポンピング・トラン
ジスタ60のターンオフにより、電荷ポンプ回路22の
ポンピング・トランジスタ50を介してポンプされる電
荷が電荷ポンプ回路24に送られないことが保証され
る。ポンピング・トランジスタ50を介してポンプされ
る全ての電荷が基板20に向けられることが有利であ
る。
【0018】一旦ノア・ゲート30の2番目の入力が低
になると、節37が、図3に示す様に、高の正電位レベ
ルに変化し、節40は図4に示す様に低のアース・レベ
ルになる。ポンピング・キャパシタ42が既に一杯の電
位Vddまで充填されているから、節40が低レベルに駆
動される時、このキャパシタが節45の電位を殆ど一杯
の負の電位−Vddへ変化させる。
【0019】電荷ポンプ回路22が基板20に電荷をポ
ンプしている時にポンピング・トランジスタ50を作動
する為、ブートストラップ回路が入力端子とポンピング
・トランジスタ50の制御電極の間に介在している。こ
のブートストラップ回路では、ブートストラップ・キャ
パシタ61が、節37とポンピング・トランジスタ50
の制御電極の間に別個の回路経路として接続されてい
る。節37からの信号が遅延素子62によって遅延させ
られ、インバータ65の出力節70で極性が反転されて
から、ブートストラップ・キャパシタ61の一方の極板
に印加される。節70の信号が図7に示されている。ブ
ートストラップ・キャパシタ61の他方の極板は節72
であり、これはポンピング・トランジスタ50の制御ゲ
ート電極に直接的に接続されていて、オン/オフ制御信
号をポンピング・トランジスタ50に印加する。
【0020】トランジスタ66が、図6に示す様な、電
荷ポンプ回路24からリード線48を介して交差結合さ
れる制御信号に応答して、電荷ポンプ回路22が基板に
電荷をポンプする前に、ポンピング・トランジスタ50
の制御ゲート電極の節72の電位を、図8に示す様にア
ース電位に回復する。
【0021】MOSトランジスタ67はそのゲート電極
とドレイン電極が接続されていてダイオード装置を形成
している。これは、ポンピング・トランジスタ50の制
御ゲート電極及びドレイン電極の間に接続されたブート
ストラップ充電ダイオードである。
【0022】動作中、入力信号が高レベルから低レベル
に変化すると、節15,40の電位が図2及び4に示す
様に低になり、節45の信号が図5に示す様に電位−V
ddになる。節70の高から低への信号の変化が、図7に
示す様に、遅延素子62によって遅延させられ、節72
は、この遅延時間の間、ブートストラップ充電ダイオー
ド67を介して、図8に示す様に電位−Vdd+Vtpまで
予め充填される。従って、ブートストラップ・キャパシ
タ61に貯蔵される電荷は2Vdd−Vtpの電位に達す
る。この遅延時間が切れた後、節72及びポンピング・
トランジスタの制御ゲートがブートストラップ作用によ
り、−2Vdd+Vtpの電位になり、図8に示す様に、ポ
ンピング・トランジスタ50が導電することができる様
にする。ポンピング・トランジスタ50が付能されてい
る間、ポンピング・キャパシタ42からの電荷が基板2
0に放電される。ポンピング・トランジスタ50が付能
されているから、その導電路に於ける損失は閾値電圧V
tpより小さく、ゼロ・ボルトであることがある。基板電
位Vbbは、それがポンピング・トランジスタ50をター
ンオフする前に、−2Vdd+2Vtpの最大の負の電位ま
でポンプ作用で下げることができる。
【0023】ダイオード形式の分流トランジスタ74
は、ポンピング・トランジスタ50が導電することがで
きる様になっている時間の間、図8に示す様に、節72
からのゆっくりした放電ができる様にする。分流トラン
ジスタ74の寸法は、図9に示す基板電位Vbbが電位V
ssに近い時には、いつでも節72の電位が−Vbb−Vtp
の電位まで徐々に放電してから、ポンプ作用が電荷ポン
プ回路24に切換わる様になっている。節72のこの−
bb−Vtpの電位は、電荷ポンプ回路24が基板20に
対する電荷のポンプ作用を開始する時には、ポンピング
・トランジスタ50がターンオフになっていることを保
証する。
【0024】基板バイアス・ポンプ装置13の利点は、
基板20から電荷が流れて、節45及びポンピング・ト
ランジスタ50のドレインの電位が上昇する時、このト
ランジスタがカットオフにならないことである。節72
及びトランジスタ50の制御ゲート電極の電位は、節4
5の電位によって別個に制御されている。分流トランジ
スタ74並びにポンピング・トランジスタ50の制御ゲ
ート電極のブートストラップ作用の遅延の為、基板に対
する電荷のポンプ作用は、従来可能であったよりも大き
さが一層小さい実効抵抗値を介して且つ一層高い効率で
行なわれる。
【0025】従来と比べた別の利点は、基板バイアスは
理論的には−2Vdd+2Vtpの負の電位までポンプする
ことができることである。実際に蓄電池の動作時の電源
ddが2ボルトの場合、基板バイアスVbbは約−1.4
ボルトにポンプすることができる。
【0026】電荷ポンプ回路22又は24の何れも、基
板バイアス・ポンプとして個別に動作させることができ
るのが有利である。個々の電荷ポンプ回路、例えば22
をこの様に動作させる時、制御リード線48がアース電
位に接続され、トランジスタ66,47の動作を制御す
る。
【0027】図10には、図1の基板バイアス・ポンプ
装置13と同様な別の集積回路基板バイアス・ポンプ装
置113の回路図が示されている。基板バイアス・ポン
プ装置113の素子の内、装置13の素子と同様のもの
が、同じ参照数字で示されている。装置113にある新
しい素子及び異なる素子は、異なる参照数字で表わされ
ている。装置113の動作は、この新しい及び異なる素
子に関する点を別にすると、装置13の動作と同様であ
る。図2乃至7及び9に示した波形は、図10の装置1
13の動作でもそのまま該当する。
【0028】次に図2−7、9及び11−12につい
て、図10の基板バイアス・ポンプ装置の動作を説明す
ると、次の通りである。一対の電荷ポンプ回路122,
124が、入力端子17から出力端子17及び基板20
までの別々の回路経路をつくっている。電荷ポンプ回路
122,124は、各々の電荷ポンプ回路122,12
4に介在配置された第2のポンピング・キャパシタ装置
を別とすると、図1の回路22,22と同様に、交替的
な形で動作する。
【0029】第2のポンピング・キャパシタ142の第
1の極板が節40に接続され、第2の極板が節145及
びブートストラップ形充電用MOSトランジスタ167
の制御電極に接続されている。ブートストラップ形充電
用MOSトランジスタ167を通る導電路が、pチャン
ネル・ポンピング・トランジスタ50の制御電極にある
節172をポンピング・トランジスタ50のドレイン電
極に結合する。
【0030】節40の信号電位が高レベルにある時、節
145の電位はアースであり、この為電荷ポンプ回路1
24が動作している間、第2のポンピング・キャパシタ
142が一杯に充電される。MOSトランジスタ160
がリード線48の交差結合の制御信号によって付能さ
れ、図11に示す様に、節145がアースになることが
保証される。一旦節15の入力信号が高レベルから低レ
ベルに変化し、装置55の遅延時間が切れると、節3
7,40の電位は図3及び4に示す様に変化する。その
時、節145の電位は、図11に示す様に負の電位にな
る。
【0031】基板20の電位が電位Vssに近い時、ブー
トストラップ形充電用MOSトランジスタ167はその
特性の内のトライオード領域で動作する。節172が節
45の電位にクランプされる。その結果、ポンピング・
トランジスタ50は逆バイアスされたダイオードとな
る。電荷ポンプ回路124からの電荷は、ポンピング・
トランジスタ50を介してポンピング・キャパシタ40
に流れることが防止される。従って、電荷ポンプ回路1
24からの電荷は節117を介して基板120に送られ
る。
【0032】従来と比べた基板バイアス・ポンプ装置1
13の利点は、前に述べた図1の基板バイアス・ポンプ
装置13の利点と同様である。
【0033】電荷ポンプ回路122又は124の何れで
も独立に動作させることができる。制御リード線48は
アース電位に接続される。
【0034】以上この発明の特徴及び利点を例示する基
板バイアス・ポンプ装置の例を説明した。これらの構成
並びに当業者に容易に考えられるその他の構成は、特許
請求の範囲に属するものと考えられる。
【0035】以上の説明に関連して、この発明は更に下
記の実施態様を有する。 (1) 入力端子及び基板の間の回路経路に接続されて
いて、前記入力端子に印加された入力信号のレベルに応
答して、前記基板に電荷を供給する様に作用する電荷ポ
ンプ回路を有し、該電荷ポンプ回路は、ポンピング・キ
ャパシタと、制御電極を持つと共に前記入力端子及び基
板の間に前記ポンピング・キャパシタと共に直列回路経
路として接続された導電路を持つpチャンネル・ポンピ
ング・トランジスタと、前記入力端子及び前記制御電極
の間に接続されていて、前記ポンピング・トランジスタ
の閾値電圧の全部を電圧損失とせずに、前記ポンピング
・トランジスタがポンピング・キャパシタからの電荷を
基板に通すことができる様にするブートストラップ回路
とで構成されている基板バイアス・ポンプ装置。
【0036】(2)(1)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、入力信号のレベルがポンピング・キ
ャパシタの両方の極板の電位レベルを変化させ、ブート
ストラップ回路は、ブートストラップ・キャパシタと、
入力信号のレベルに応答して、ブートストラップ・キャ
パシタに貯蔵される電荷を変えるブートストラップ充電
トランジスタと、入力端子及びブートストラップ・キャ
パシタの間に接続されていて、ポンピング・キャパシタ
の一方の極板の電位レベルが変化する後まで、入力信号
のレベルを遅延させる遅延装置とで構成され、入力信号
のレベルの遅延の後、ブートストラップ・キャパシタの
両方の極板の電位レベルが変化して、pチャンネル・ポ
ンピング・トランジスタが導電することができる様にす
る基板バイアス・ポンプ装置。
【0037】(3)(1)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、pチャンネル・ポンピング・トラン
ジスタの制御電極とポンピング・キャパシタの間に接続
されていて、入力信号のレベルが終了する前に、pチャ
ンネル・ポンピング・トランジスタを介しての導電を少
なくとも部分的に行なわせない分流ダイオードを有する
基板バイアス・ポンプ装置。
【0038】(4)(1)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、ブートストラップ形充電トランジス
タがpチャンネル・ポンピング・トランジスタの制御電
極とポンピング・キャパシタの間に接続されていて、入
力信号のレベルが終了する前に、pチャンネル・ポンピ
ング・トランジスタを介しての導電を少なくとも部分的
に行なわせない基板バイアス・ポンプ装置。
【0039】(5)入力端子及び基板の間の別々の回路
経路として構成された第1及び第2の充電ポンプ回路を
有し、第1及び第2の充電ポンプ回路は交互に動作し
て、入力端子に印加された入力信号の交替的なレベルに
応答して基板に電荷を供給し、各々の電荷ポンプ回路
は、ポンピング・キャパシタと、制御電極を持つと共
に、導電路が入力端子及び基板の間にポンピング・キャ
パシタと共に直列回路として接続されているpチャンネ
ル・ポンピング・トランジスタと、入力端子及び制御電
極の間に接続されていて、前記ポンピング・トランジス
タの閾値電圧の全部を電圧損失とせずに、前記ポンピン
グ・トランジスタがポンピング・キャパシタからの電荷
を基板に通すことがきる様にするブートストラップ回路
とで構成されている基板バイアス・ポンプ装置。
【0040】(6)(5)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、各々の電荷ポンプ回路は、入力信号
の交替的なレベルの一方がポンピング・キャパシタの両
方の極板の電位レベルを変える様に接続されており、前
記ブートストラップ回路は、ブートストラップ・キャパ
シタと、入力信号の前記一方のレベルに応答して、ブー
トストラップ・キャパシタに貯蔵される電荷を変えるブ
ートストラップ充電トランジスタと、入力端子及びブー
トストラップ・キャパシタの間に接続されていて、ポン
ピング・キャパシタの一方の極板の電位レベルが変化し
た後まで、入力信号の前記一方のレベルを遅延させる遅
延装置とで構成されており、ブートストラップ・キャパ
シタの両方の極板の電位レベルが、入力信号の前記一方
のレベルの遅延の後に変化して、pチャンネル・ポンピ
ング・トランジスタが導電することができる様にする基
板バイアス・ポンプ装置。
【0041】(7)(5)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、各々の電荷ポンプ回路が、pチャン
ネル・ポンピング・トランジスタの制御電極とポンピン
グ・キャパシタの間に接続されていて、入力信号の一方
のレベルが終る前に、pチャンネル・ポンピング・トラ
ンジスタを介しての導電を少なくとも部分的に行なわせ
ない分流ダイオードを有する基板バイアス・ポンプ装
置。
【0042】(8)(5)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置において、各々の電荷ポンプ回路は、ブート
ストラップ充電トランジスタがpチャンネル・ポンピン
グ・トランジスタの制御電極及びポンピング・キャパシ
タの間に接続されて、入力信号の前記一方のレベルが終
了する前に、pチャンネル・ポンピング・トランジスタ
を介しての導電を少なくとも部分的に行なわせない様接
続される基板バイアス・ポンプ装置。
【0043】(9)(5)項に記載した基板バイアス・
ポンプ装置に於て、更に第1及び第2の遅延回路を有
し、第2の電荷ポンプ回路からの第1の制御信号は、第
1のポンピング・キャパシタ及び第1の電荷ポンプ回路
の第1のブートストラップ回路に印加される前に第1の
遅延回路を通って、第2の電荷ポンプ回路にある2番目
のpチャンネル・ポンピング・トランジスタがターンオ
フになった後に、1番目のpチャンネル・ポンピング・
トランジスタを介して第1のポンピング・キャパシタか
らの電荷の基板への放電を開始し、第1の電荷ポンプ回
路からの第2の制御信号は、第2のpチャンネル・ポン
ピング・キャパシタ及び第2の電荷ポンプ回路の第2の
ブートストラップ回路に印加される前に第2の遅延回路
を通って、1番目のpチャンネル・ポンピング・トラン
ジスタがターンオフになった後に、2番目のpチャンネ
ル・ポンピング・トランジスタを介しての第2のポンピ
ング・キャパシタからの電荷の基板への放電を開始する
基板バイアス・ポンプ装置。
【0044】(10)(6)項に記載した基板バイアス
・ポンプ装置に於て、第1及び第2の電荷ポンプ回路の
各々が、別の電荷ポンピング・キャパシタを有し、ブー
トストラップ充電トランジスタはpチャンネル・ポンピ
ング・トランジスタの制御電極からpチャンネル・ポン
ピング・トランジスタのドレイン電極に至る導電路を持
ち、更にブートストラップ充電トランジスタの制御電極
が前記別の電荷ポンピング・キャパシタに接続されてい
て、ブートストラップ充電トランジスタがpチャンネル
・ポンピング・トランジスタのドレイン電極に於ける電
位レベルを回復することができる様にした基板バイアス
・ポンプ装置。
【0045】(11)入力端子及び基板の間の別個の回
路経路に接続された第1及び第2の電荷ポンプ回路を有
し、各々の電荷ポンプ回路は、第1の極板が入力端子に
結合されたポンピング・キャパシタと、該ポンピング・
キャパシタの第2の極板を基板に結合する導電路を持つ
ポンピング・トランジスタと、時間遅延素子と、第1の
極板が入力端子から結合された信号を時間遅延素子を介
して受取る様に接続されたブートストラップ・キャパシ
タと、該ブートストラップ・キャパシタの第2の極板か
らポンピング・キャパシタの第2の極板へ導電する様に
結合されたブートストラップ充電ダイオードと、ブート
ストラップ・キャパシタの第2の極板からポンピング・
キャパシタの第2の極板へ導電する様に結合された分流
ダイオードとを有し、ブートストラップ・キャパシタの
第2の極板がポンピング・トランジスタの制御電極に結
合されている基板バイアス・ポンプ装置。
【0046】(12)入力端子及び基板の間の別々の回
路経路に接続された第1及び第2の電荷ポンプ回路を持
ち、各々の電荷ポンプ回路は、第1の極板が入力端子に
結合された第1のポンピング・キャパシタと、該第1の
ポンピング・キャパシタの第2の極板を基板に結合する
導電路を持つポンピング・トランジスタと、第1の極板
が入力端子に結合された第2のポンピング・キャパシタ
と、時間遅延素子と、第1の極板が入力端子から結合さ
れた信号を時間遅延素子を介して受取る様接続されたブ
ートストラップ・キャパシタと、ブートストラップ・キ
ャパシタの第2の極板を第1のポンピング・キャパシタ
の第2の極板に結合する導電路を持つと共に、第2のポ
ンピング・キャパシタの第2の極板に接続された制御電
極を持つブートストラップ充電トランジスタとを有し、
ブートストラップ・キャパシタの第2の極板がポンピン
グ・トランジスタの制御電極に接続されている基板バイ
アス・ポンプ装置。
【0047】(13)集積回路基板バイアス・ポンプ装
置が、発振器の入力から基板への回路経路として構成さ
れた電荷ポンプ回路を有する。電荷ポンプ回路は、発振
信号のレベルに応答して、基板に電荷を供給する様に動
作する。電荷ポンプ回路内では、ポンピング・トランジ
スタが、ポンピング・トランジスタの閾値電圧の全部を
電圧損失とせずに、ポンピング・キャパシタからの貯蔵
されている電荷を基板に転送する。ポンピング・トラン
ジスタの導電路が、ポンピング・キャパシタと基板の間
の直列回路として接続されている。ポンピング・トラン
ジスタの制御ゲート電極がブートストラップ接続され、
ポンピング・キャパシタから基板へ貯蔵された電荷をポ
ンプする為に使われる入力信号を遅延したものにより、
ポンピング・トランジスタをターンオンする。2つの電
荷ポンプ回路をプッシュプル形式の基板バイアス・ポン
プとして動作させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】集積回路基板バイアス・ポンプ装置の回路図。
【図2】図1及び10の装置に印加される入力信号を表
わす波形図。
【図3】図1及び10の装置に用いられるノア・ゲート
の出力を示す波形図。
【図4】図1及び10の装置に示した第1のポンピング
・キャパシタ及び図10の装置に示した第2のポンピン
グ・キャパシタの一方の極板の電位を示す波形図。
【図5】図1及び10の装置の第1のポンピング・キャ
パシタの反対側の極板の電位を示す波形図。
【図6】図1及び10の装置内で一方の回路から別の回
路に交差結合される制御信号を示す波形図。
【図7】図1及び10の装置のブートストラップ・キャ
パシタの一方の極板の電位を示す波形図。
【図8】図1の装置のブートストラップ・キャパシタの
反対側の極板の電位を示す波形図。
【図9】図1及び10の装置に関連する基板のバイアス
電位を示す波形図。
【図10】別の集積回路基板バイアス・ポンプ装置の回
路図。
【図11】図10の装置の第2のポンピング・キャパシ
タの反対側の極板の電位を示す波形図。
【図12】図10の装置のブートストラップ・キャパシ
タの反対側の極板の電位を示す波形図。
【符号の説明】
15 入力端子 20 基板 22,24 電荷ポンプ回路 42 ポンピング・キャパシタ 50 ポンピング・トランジスタ 61 ブートストラップ・キャパシタ 62 遅延素子 67 ブートストラップ充電トランジスタ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力端子及び基板の間の回路経路に接続
    されていて、前記入力端子に印加された入力信号のレベ
    ルに応答して、前記基板に電荷を供給する様に作用する
    電荷ポンプ回路を有し、該電荷ポンプ回路は、ポンピン
    グ・キャパシタと、制御電極を持つと共に前記入力端子
    及び基板の間に前記ポンピング・キャパシタと共に直列
    回路経路として接続された導電路を持つpチャンネル・
    ポンピング・トランジスタと、前記入力端子及び前記制
    御電極の間に接続されていて、前記ポンピング・トラン
    ジスタの閾値電圧の全部を電圧損失とせずに、前記ポン
    ピング・トランジスタがポンピング・キャパシタからの
    電荷を基板に通すことができる様にするブートストラッ
    プ回路とで構成されている基板バイアス・ポンプ装置。
JP5279873A 1992-11-10 1993-11-09 基板バイアス・ポンプ装置 Pending JPH076581A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US97549492A 1992-11-10 1992-11-10
US975494 1992-11-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH076581A true JPH076581A (ja) 1995-01-10

Family

ID=25523087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5279873A Pending JPH076581A (ja) 1992-11-10 1993-11-09 基板バイアス・ポンプ装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6137342A (ja)
JP (1) JPH076581A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100480326B1 (ko) * 1995-03-29 2005-04-06 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 반도체집적회로장치 및 마이크로컴퓨터

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4109340B2 (ja) * 1997-12-26 2008-07-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路装置
KR100338548B1 (ko) * 1999-07-28 2002-05-27 윤종용 반도체 메모리 장치의 부스팅 회로
US6285243B1 (en) * 2000-02-23 2001-09-04 Micron Technology, Inc. High-voltage charge pump circuit

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3808468A (en) * 1972-12-29 1974-04-30 Ibm Bootstrap fet driven with on-chip power supply
US3942047A (en) * 1974-06-03 1976-03-02 Motorola, Inc. MOS DC Voltage booster circuit
US4336466A (en) * 1980-06-30 1982-06-22 Inmos Corporation Substrate bias generator
JPS57199335A (en) * 1981-06-02 1982-12-07 Toshiba Corp Generating circuit for substrate bias
US4733108A (en) * 1982-06-28 1988-03-22 Xerox Corporation On-chip bias generator
US4494223B1 (en) * 1982-09-16 1999-09-07 Texas Instruments Inc Sequentially clocked substrate bias generator for dynamic memory
US4585954A (en) * 1983-07-08 1986-04-29 Texas Instruments Incorporated Substrate bias generator for dynamic RAM having variable pump current level
US4581546A (en) * 1983-11-02 1986-04-08 Inmos Corporation CMOS substrate bias generator having only P channel transistors in the charge pump
US4631421A (en) * 1984-08-14 1986-12-23 Texas Instruments CMOS substrate bias generator
US4628215A (en) * 1984-09-17 1986-12-09 Texas Instruments Incorporated Drive circuit for substrate pump
JPH02309661A (ja) * 1989-05-24 1990-12-25 Toshiba Corp 半導体集積回路
US5038325A (en) * 1990-03-26 1991-08-06 Micron Technology Inc. High efficiency charge pump circuit

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100480326B1 (ko) * 1995-03-29 2005-04-06 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼 반도체집적회로장치 및 마이크로컴퓨터

Also Published As

Publication number Publication date
US6137342A (en) 2000-10-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4071783A (en) Enhancement/depletion mode field effect transistor driver
US5343088A (en) Charge pump circuit for a substrate voltage generator of a semiconductor memory device
US4321661A (en) Apparatus for charging a capacitor
JP2628724B2 (ja) 電圧増倍器集積回路と整流器素子
US5198699A (en) Capacitor-driven signal transmission circuit
US5347171A (en) Efficient negative charge pump
US4176289A (en) Driving circuit for integrated circuit semiconductor memory
JP3281984B2 (ja) 基板電圧発生回路
US5973552A (en) Power savings technique in solid state integrated circuits
EP0485016A2 (en) Integrated charge pump circuit with back bias voltage reduction
US5493486A (en) High efficiency compact low power voltage doubler circuit
EP0066974B1 (en) Improved substrate bias generator
US5412257A (en) High efficiency N-channel charge pump having a primary pump and a non-cascaded secondary pump
US3646369A (en) Multiphase field effect transistor dc driver
US5355028A (en) Lower power CMOS buffer amplifier for use in integrated circuit substrate bias generators
US4491748A (en) High performance FET driver circuit
JP2704459B2 (ja) 半導体集積回路装置
US5379174A (en) Semiconductor protecting apparatus and method for preventing destruction of internal circuit caused by latch-up
US4468576A (en) Inverter circuit having transistors operable in a shallow saturation region for avoiding fluctuation of electrical characteristics
JPH076581A (ja) 基板バイアス・ポンプ装置
JP3190940B2 (ja) 昇圧回路
JP3890614B2 (ja) 昇圧電圧供給回路
EP0109004B1 (en) Low power clock generator
JP3718040B2 (ja) 出力電圧発生回路装置
JP2888513B2 (ja) 論理回路

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20040806

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20040914

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20041214

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20041217

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050617