JP3290760B2 - プローブテスト装置およびプローブテスト方法 - Google Patents

プローブテスト装置およびプローブテスト方法

Info

Publication number
JP3290760B2
JP3290760B2 JP16124093A JP16124093A JP3290760B2 JP 3290760 B2 JP3290760 B2 JP 3290760B2 JP 16124093 A JP16124093 A JP 16124093A JP 16124093 A JP16124093 A JP 16124093A JP 3290760 B2 JP3290760 B2 JP 3290760B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measurement
tab
flexible
semiconductor chips
measured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP16124093A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0722478A (ja
Inventor
澤 健 倉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kawasaki Microelectronics Inc
Original Assignee
Kawasaki Microelectronics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Microelectronics Inc filed Critical Kawasaki Microelectronics Inc
Priority to JP16124093A priority Critical patent/JP3290760B2/ja
Publication of JPH0722478A publication Critical patent/JPH0722478A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3290760B2 publication Critical patent/JP3290760B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プローブテスト装置お
よびプローブテスト方法に関し、詳しくは、LSIテス
タやICテスタなどのウエハのプローブテストを複数個
のLSIやICなどを同時に行うことのできるフレキシ
ブルプローブカードを用いるプローブテスト装置および
プローブテスト方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ウエハのプローブテストとしては、ウエ
ハ上に形成されたLSIやICなどの半導体チップ(半
導体集積回路)入出力特性(VIL、VIH、VOL、VOH
や電流特性(Idds)などのDC特性測定を行うDC
テストと、半導体チップ内に構成された回路のロジック
やファンクションの測定を行うファンクションテストと
が行われている。このようなプローブテストは現在、中
心部分が開口されたプリント配線基板と、このプリント
配線基板の開口部の周辺と外周に設けられた端子と、こ
れらの内外周辺端子を接続する配線パターンと、開口部
内周辺に設けられた端子に接合され、先端が所定角度に
折り曲げられた金属針からなるプローブを持つプローブ
カードを用い、半導体チップの電極にプローブの先端を
接触させることによって行われている。
【0003】このようなプローブカードは、接触用金属
ピンを用いているので、高価であるとともに、半導体チ
ップの寸法に対して大型となり、接触圧や取り扱いによ
っては故障しやすく、故障すると修理に高額の費用と専
門技術を必要とするという問題がある。また、プローブ
カードの修理に相当の日数を要し、その間ウエハプロー
ブテストができず、納期遅れなどを生じることになるた
め、高価なプローブカードを予備として所定数保持して
いなければならないという問題がある。
【0004】このため、接触用金属ピンを用いないフレ
キシブルプローブカードが特開平2−234067号公
報に開示されている。ここに開示されたフレキシブルプ
ローブカードは普通の剛性の高いプリント配線基板の代
わりにフレキシブルプリント配線板を用い、金属針から
なるプローブの代わりに半導体チップの電極と対向する
位置に2個の半球状のバンプを形成するものである。半
導体チップの電極とフレキシブルプローブカードのバン
プとを位置合わせした後、フレキシブルプローブカード
のバンプをフレキシブルプリント配線板の上面側から支
持材によって押圧し、2点接触および2回線接続によっ
て接続状態の検査および高信頼性の検査ができるという
効果を有するものである。しかし、上述したプローブカ
ードを用いるテスタは、1個の半導体チップをプローブ
テストするものであるので、同時に複数個の半導体チッ
プをテストすることが全く考慮されておらず、同時測定
ができないという問題がある。
【0005】また、特開平2−186279号公報に
は、プローバと共に使用するために、TABフレームと
その上のダイとにテストポイントを提供するためのプロ
ーブポイントを予めTABフレーム中に設け、TABフ
レーム自身およびこれとダイとの電気的接続やダイの機
能性を電気的に試験することを可能とするTAB試験用
アセンブリおよびその試験方法が開示されている。しか
し、このTAB試験用アセンブリおよびその試験方法
は、TAB製造プロセス中に不合格となりTABテープ
から除去されたスクラップクーポンを容易に試験できる
ようにするもので、プローブ・カードやスクラップ・フ
ローバを別に用いる必要があるし、1枚のシリコンウエ
ハ上に形成された半導体チップを同時測定することは全
く考慮されておらず、同時測定は難しいという問題があ
る。
【0006】ところで、LSIテスタの中には、複数個
のLSIを同時に測定する機能(いわゆるMulti−
DUT測定機能)を備えたものがある。これらはテスタ
ピンとして上述した接触用金属ピンを用いるもので、多
数のテスタピンを設け、これらのテスタピンを分割して
複数個のLSIに割り当てるとともに、これらのテスタ
ピンと対応して、LSIに供給するテスト用入力信号の
発生回路、LSIからの出力信号を判定する判定回路
(コンパレータ)、LSIの電気的特性(入出力電圧、
入出力電流等)を測定するDCテストユニット等のテス
トユニットを多数有するものである。そして、これらの
テストユニットはこれに対応し、被測定LSIに割り当
てられたテスタピンを介して被測定LSIのピンに接続
されている。Multi−DUT測定機能付LSIテス
タは、複数個のLSIを同時測定可能であるが、多数の
テストユニットを必要とし、測定ピンとコンパレータと
を被測定ピン数分だけ必要とするため、テスタのコスト
を増大させ、高価なテスタとなってしまうという問題が
ある。
【0007】このため、特開平2−297236号公報
には、複数の被試験RAMに同一のテストデータを記憶
するための手段およびこのテストデータと被試験RAM
からの読み出しデータとを比較する手段を用いることに
よって、比較的ピン数の少ない安価な汎用テスタであっ
ても、複数の被試験RAM機能試験を並行して実施する
ことができるRAM同時テスト回路が開示されている。
また特開平4−270978号公報には、DUT(被測
定デバイス)判定用コンパレータの前段にマルチプレク
サを設けて、1個のコンパレータでDUTの多数の出力
ピンをテストできるように構成したICテスタが開示さ
れている。しかし、これらに開示されたテスタは、複数
のデバイスの同時測定が可能なものではあるが、メモリ
のロジック測定のみに注目しているため、同時測定が可
能であるのは機能性試験であって、DC特性を同時測定
可能なものではないという問題があった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のL
SIテスタやICテスタなどにおいては、DC特性まで
含めた特性をプローブ評価を行う場合に複数の半導体チ
ップを同時測定するには、コンパレータ数を増加させる
か、複数のメモリとクロックを使用してDC特性を犠牲
にするかの方法以外には取り得る方法がなかった。
【0009】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消し、テスト用テストヘッドを増大させることなく、
複数個の半導体チップをそのDC特性および機能性を含
めた特性について同時に測定することができ、すなわ
ち、DC特性測定可能なMulti−DUT測定を行う
ことができ、また同時測定可能な半導体チップを任意か
つ自動的に選択することができ、さらにウエハのプロー
ブテスト時間を短縮するとともにプローブカードなどの
ウエハプローバの寿命の改善と保守管理の容易化を図る
ことのできるプローブテスト装置およびプローブテスト
方法を提供するにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の第1の態様は、絶縁性フレキシブルフィル
ムと、このフレキシブルフィルムに設けられた複数の開
口と、これらの複数の開口の各々の周辺に設けられる複
数のTABバンプと、各々の開口のTABバンプの一部
から重複することなくそれぞれ所定の方向に前記フレキ
シブルフィルムの周辺まで延長する第1のリードを含む
第1配線層と、前記各々の開口のTABバンプの残余に
対応して前記第1配線層に対し絶縁層を介して設けら
れ、重複することなくそれぞれ前記第1のリードの方向
と所定の角度をなす方向に前記フレキシブルフィルムの
周辺まで延長する第2のリードを含む第2配線層と、前
記各々の開口のTABバンプの残余と第2のリードとを
それぞれ接続する接続手段と、前記開口のTABバンプ
に対応して前記フレキシブルフィルムの外周辺部または
外部に設けられるテスタピン接続用パッドと、各開口の
同じ位置のTABパッドから延長する第1または第2の
リードを互い接続するとともに対応するテスタピン接続
用パッドと接続する接続手段とを有するフレキシブルプ
ローブカードを備えたプローブテスト装置を提供するも
のである。ここで、前記開口は矩形であり、その対角線
が一直線上に存在するように配置され、第1のリードと
第2のリードとは略直交するフレキシブルプローブカー
ドであるのが好ましい。
【0011】また、本発明の第2の態様は、上記第1の
態様のプローブテスト装置であって、前記フレキシブル
プローブカードは、さらに前記TABバンプと逆側のフ
レキシブルフィルムの表面の前記開口周辺に積層される
磁性体を有し、さらに前記磁性体に近接して配置される
電磁石とを有し、この電磁石への注入電流によって極性
を変化させて、前記フレキシブルプローブカードの開口
のTABバンプと、これに位置合わせされた、ウエハ上
の半導体チップの電極との電気的接続または非接続を行
い、同時測定する前記半導体チップの個数を自動制御す
ることを特徴とするプローブテスト装置を提供するもの
である。
【0012】また、本発明の第3の態様は、上記第1の
態様のプローブテスト装置であって、さらに前記フレキ
ブルカードの複数個の開口に対し、それぞれ独立に各々
の開口のTABバンプとこれに位置合わせされたウエハ
上の半導体チップの電極とを接触させる手段を有するこ
とを特徴とするプローブテスト装置を提供するものであ
る。
【0013】また、本発明の第4の態様は、上記第2お
よび第3の態様のプローブテスト装置を用いて、ウエハ
上の複数個の半導体チップを同時測定するに際し、測定
のために前記フレキシブルプローブカードのTABバン
プとその電極が接触している半導体チップの個数を検出
し、この被測定半導体チップの個数に応じてコンパレー
タレベルおよびプログラマブルロードを自動変更し、自
動変更された測定条件で複数個の半導体チップの同時測
定を行うことを特徴をするプローブテスト方法を提供す
るものである。
【0014】また、本発明の第5の態様は、上記第2お
よび第3の態様のプローブテスト装置を用いて、複数の
測定項目についてウエハ上の複数個の半導体チップを同
時測定するに際し、複数個の被測定半導体チップの電極
を前記フレキシブルプローブカードのTABバンプに接
触させ、前記被測定半導体チップの個数に応じた測定条
件で測定を行う同時測定モードで一つの測定項目につい
て測定を行ない、被測定半導体チップのすべてが正常で
あった場合には次の測定項目の測定に移行し、前記一つ
の測定項目について測定値が正常値でなかった場合に
は、1個の被測定半導体チップのみの電極を前記フレキ
シブルプローブカードのTABバンプに接触させて、個
別測定条件で測定を行う個別測定モードで複数個の被測
定半導体チップを1個ずつ順次測定を行ない、不良半導
体チップを同定した後、該不良半導体チップを測定対象
から外して、正常な半導体チップのみの電極をフレキシ
ブルプローブカードのTABバンプに接触させ、その個
数に応じて自動変更された測定条件で次の測定項目の同
時測定を行うことを繰り返し、全測定項目の測定が終了
した後、前記フレキシブルプローブカードを移動して、
次の複数個のプローブテストを行うことを特徴とするプ
ローブテスト方法を提供するものである。
【0015】
【発明の作用】本発明の第1の態様のプローブテスト装
置は、絶縁性フレキシブルフィルムにウエハに形成され
た1個の半導体チップの全電極と接触するTABバンプ
が設けられ、このTABバンプから2方向に延長する2
層の配線層からなる基本パターンユニットを複数個有
し、全基本パターンの同一位置にあるTABバンプを互
いに接続するとともに1つのテストヘッドピン接続用パ
ッドに接続したフレキシブルプローブカードを有してい
るので、複数の半導体チップをDC特性および機能性を
含む特性試験を同時に行うことができる。
【0016】本発明の第2の態様のプローブテスト装置
は、フレキシブルプローブカードに積層された磁性体と
これに近接して配置される電磁石によって、また、本発
明の第3の態様のプローブテスト装置は、接触手段によ
って、プローブカードのTABバンプと被測定半導体チ
ップとの接触を各チップ毎に独立に行うことができるの
で、被測定半導体チップを任意に選択することができ
る。
【0017】本発明の第4の態様のプローブテスト方法
は、複数個の半導体チップの同時測定に際し、プローブ
カードのTABバンプにその電極が接触する半導体チッ
プの個数を検出し、この個数に応じて出力のコンパレー
タレベルやプログラマブルロードを自動変更することが
できるので、任意の個数の半導体チップの同時測定をコ
ンパレータを増加させることなく、自動的に行うことが
できる。
【0018】本発明の第5の態様のプローブテスト方法
は、複数個の半導体チップの同時測定を行う同時測定モ
ードと個々の半導体チップの測定を行う個別測定モード
とを有し、1つ測定項目について同時測定モードにおけ
る測定値が正常である場合には次の測定項目に移行し、
異常である場合には、個別測定モードで個々の被測定半
導体チップの測定を順次行って、不良チップを同定し、
終了後、不良チップを除いて、同時測定モードによる測
定を行うので、コンパレータを増加させることなく、ま
たテストヘッドを増大させることなく、DC特性試験も
機能性試験も同様に行うことができ、プローブテスト時
間の短縮を図ることができる。
【0019】
【実施例】本発明に係るプローブテスト装置およびプロ
ーブテスト方法を添付の図面に示す好適実施例に基づい
て以下に詳細に説明する。
【0020】図1は、本発明の第1の態様のプローブテ
スト装置の一実施例の模式図である。同図に示すよう
に、本発明のプローブテスト装置10は、シリコンウエ
ハ12に形成された複数個の半導体チップ(以下、LS
Iチップという)14を測定可能とするためのフレキシ
ブルプローブカード(以下、プローブカードという)1
6と、このプローブカード16の下側においてシリコン
ウエハ12を載置するためのプローバ18と、プローブ
カード16をセットするためのテストヘッド20と、テ
ストヘッド20を介して被測定LSIチップ14の機能
性試験および電気的特性(DC特性)試験を行うテスト
ユニット22とを有する。
【0021】テストユニット22は、被測定LSIチッ
プ14に供給する入力信号の発生回路24および被測定
LSIチップ14からの出力信号を判定する判定回路
(コンパレータ)26からなり、機能性試験を行うため
のファンクションテストユニット27と、入出力電流や
出力電圧などの電気的特性を測定するDCテストユニッ
ト28と、これらのユニット27および28を制御する
制御部30とを有する。
【0022】また、テストヘッド20は、プローブカー
ド16との電気的接続のためのテスタピン32を有し、
本発明の第2および第3の態様のプローブテスト装置1
0では、さらに選択された被測定LSIチップ14の測
定を可能とするためにこのLSIチップ14(の電極)
にプローブカード16(のTABバンプ44)を接触さ
せる手段34と、この接触手段を駆動制御する駆動制御
手段36と、この駆動制御手段によってプローブカード
16が接触して電気的に接続され、同時測定が行われる
LSIチップ14の個数を検出する手段38とを有す
る。ここで、当然のことながらテストユニット22とテ
ストヘッド24とは電気的に接続されている。
【0023】次に、プローブカード16は、本発明の最
も特徴とするものであって、略正方形状の絶縁性フレキ
シブルフィルム(フレキシブル配線基板)40と、この
フィルム40の所定位置に穿孔された複数個(図示例で
は9個)の開口42(LSIチップA1、B2、C3、
D4、・・・・、I9に対応)と、これらの開口42の
周辺に被測定LSIチップ14の電極に対応して設けら
れるTABバンプ44(図1および図3参照)と、フィ
ルム40上において、図中開口42の両縦側辺のTAB
バンプ44からそれぞれ横方向左右に延長された複数の
横リード45からなる第1配線層46と、図中開口42
の両横側辺のTABバンプ44からそれぞれ縦方向上下
に延長された複数の縦リード47からなる第2配線層4
8と、これらの第1配線層46の横リード45および縦
配線層48の縦リード47のうち各々の開口42の同じ
位置(各LSIチップ14の同じ電極に対応する位置)
から延長されたリード45、47同士を互いに接続し、
フィルム40上に設けられた接点49に接続する縦横接
続配線50、52と、開口42、TABバンプ44、配
線層46、48、接点49、接続配線50、52が設け
られたフレキシブルフィルム40を固定するためのプリ
ント配線基板54と、このプリント配線基板54の外周
部に開口42のTABバンプ44(被測定LSIチップ
14の電極)に対応して設けられ、テストヘッド20と
接続するのに用いられるテスタピン接続用パッド56と
を有する。
【0024】フレキシブルフィルム40は、4隅が欠け
た正方形を有し、プリント配線基板54は、硬質で外形
が円形であり、中央にフレキシブルフィルム40のサイ
ズより小さい4隅が4分円となった正方形の開口58を
有し、この開口58上にフレキシブルフィルム40は載
置され、その四辺がプリント配線基板54上に接着固定
される。図示例では、フィルム40の複数個の開口42
は、LSIチップA1、B2、C3、D4、・・・・、
I9に対応して9個が対角線状に並ぶ配置となっている
が、本発明はこれに限定されず、開口42周辺に設けら
れているTABバンプからフィルム40の外縁部の接続
配線50、52まで延長されたリード45、47同士が
互いに重複せず、他の開口42上を走ることがなけれ
ば、どのように配置することも可能である。また、図示
例では、開口42の形状も、LSIチップ14の形状に
合わせて正方形となっているが、本発明はこれに限定さ
れるわけではなく、矩形(長方形)、菱形、多角形、円
形、楕円形などLSIチップ14の電極の配置に応じて
適宜選択すればよいし、LSIチップ14の形状に合わ
せても合わせなくてもよい。
【0025】図3に、本発明のプローブカード16の1
つの開口42と、この開口42の周辺のTABバンプ4
4から引き出される配線構造からなるプローブカードの
基本パターンユニット41に示す。本発明のプローブカ
ード16は、これらの基本パターンユニット41を複数
個組み合わせたものである。図3において、開口42の
周辺部に被測定LSIチップ14の電極位置に対応して
TABバンプ44が設けられている。図示例では1辺当
り12個のTABバンプ44が内側辺に沿って設けられ
ているが、本発明はこれに限定されず、測定対象となる
LSIチップ14の電極数および配置に応じて決定すれ
ばよい。
【0026】図3において、開口42の縦方向の両側辺
のTABバンプ44からは横方向に横リード45が延長
され、フレキシブルフィルム40の外縁部において少し
ずつ斜めにずれて配置される端点(接点)51に接続さ
れる。これらの複数の横リード45は第1配線層(横配
線層)46を形成する。一方、開口42の横方向の両側
辺のTABバンプ44からは縦方向に短い縦リード47
aが接点47bまで延長される。接点47bから縦リー
ド47が延長され、図3には示されていないが、同様に
フレキシブルフィルム40の外縁部において、少しずつ
斜めにずれて配置される端点(接点)53に接続される
(図2参照)。ここで短い縦リード47aは第1配線層
46を形成し、縦リード47は第2配線層(縦配線層)
48を形成する。ここで、第1配線層46と第2配線層
48との間には図示しない絶縁層が介在し、接点47b
は、この絶縁層に空けられた孔を通してリード47aと
リード47とを電気的に接続する接点である。また、第
1配線層46の横リード45の接点51では前述の絶縁
層を通して縦方向の接続配線50が接続され、この接続
配線50は第2配線層48に形成される。一方、第2配
線層48の縦リード47の接点53では前述の絶縁層を
通して横方向の接続配線52が接続され、この接続配線
52は第1配線層46に形成される。
【0027】図示例においては、開口42の周辺のTA
Bバンプ44から延長されるリード45、47を2層配
線として縦方向と横方向の略直交する方向に配置した
が、本発明はこれに限定されず、TABバンプ44から
のリード45と47の延長方向は任意の角度で交差して
もよいし、また、2層以上の多層配線としてもよい。本
発明の第1の態様のプローブテスト装置は基本的に以上
のように構成される。
【0028】図4に本発明の第2の態様のプローブテス
ト装置10の接触手段34の詳細を示す。接触手段34
は、プローブカード16の開口42の周辺のフィルム4
0の下面に設けられたTABバンプ44に対応するフィ
ルム40の上面側の位置に積層された磁性体60と、プ
ローブカード16がLSIチップ14に位置合わせして
配置(整置)された時に磁性体60に対向する位置に所
定間隔離隔して配置される電磁石62と、電磁石62を
駆動する電流を流す電源および電流の向きを制御する手
段からなる駆動制御手段36(図1参照)とを有する。
電磁石に流す電流の向きによって磁性体60と電磁石6
2との極性が一致するとき、両者には反撥力が働き、図
中左側のLSIチップ14(A1)の場合のようにプロ
ーブカード16のTABバンプ44をLSIチップA1
の電極に確実に接触させ、電気的接続がなされる。こう
して、LSIチップA1を測定に供される。一方、磁性
体60と電磁石62との極性が逆になるとき、両者には
引力が働き、図中真中のLSIチップ14(B2)の場
合のようにプローブカード16をLSIチップB2から
引き離し、TABバンプ44とLSIチップB2の電極
との間を所定間隔、例えば1μm離間させる。こうして
LSIチップB2は測定から外される。
【0029】こうして、電磁石62に流す電流の向きを
制御することにより、測定するLSIチップ14を任意
に選択することができるし、同時に測定するLSIチッ
プ14の個数と位置を任意に選択することができる。こ
こで、磁性体60を設ける方法としては特に制限はない
が、例えば、磁性体のアモルファスシートを蒸着するこ
とにより移層してもよい。
【0030】なお、図4に示す例では、プローブカード
16に磁性体60を設け、テストヘッド20に電磁石6
2を設けているが、本発明はこれに限定されず、プロー
ブカード16と電磁石62との間に所定重量の支持体を
介在させ、この支持体を介してプローブカード16のT
ABバンプ44をLSIチップ14の電極の接触を行
い、支持体とプローブカード16とを一体として引き離
すようにしてもよい。この他機械的にプローブカード1
6の開口部42の周辺のTABバンプ44を上下させる
ものであってもよい。
【0031】本発明の第2および第3の態様のプローブ
テスト装置は基本的に以上のように構成されるが、以下
に本発明の第4および第5の態様のプローブテスト方法
について説明する。
【0032】本発明の第4の態様のプローブテスト方法
においては、図4に示す接触手段34の電磁石62に流
す電流駆動手段36によって制御される電流の向きを検
出手段38によって検出し、測定状態(プローブカード
16の開口42周辺のTABバンプ44がLSIチップ
14と接触し、電気的接続がなされている状態)にある
LSIチップ14の個数を検出し、テストユニット22
に個数データとして伝送し、制御部30においてファン
クションユニット27のコンパレータ26のコンパレー
タレベルおよび入力信号発生回路24のプログラマブル
ロードやDCテスト条件などの測定条件を選択された被
測定LSIチップ14の個数に応じて自動変更し、この
自動変更された測定条件で、ファンクションテストおよ
びDCテストなどのプローブテストを行うものである。
測定条件の自動変更は、予めLSIチップ14の1個当
たりの測定条件を制御部30のメモリに記憶させてお
き、個数に応じて必要な測定条件を演算させるように構
成しておくことができる。
【0033】本発明の第5の態様のプローブテスト方法
を図5に示す。まず、LSIチップ14が形成されたシ
リコンウエハ12をプローバ18上に載置し、所定位置
にセットし、その上にプローブカード16およびテスト
ヘッド20を位置合わせして設置する。
【0034】次に、測定ルーチンをスタートし、測定モ
ードを同時測定モードに設定し、測定するLSIチップ
14の個数を全部、図2に示す例では9個とし、テスト
ユニット22の制御部30でコンパレータレベルやプロ
グラマブルロードなどの初期測定条件を設定する。同時
に、駆動制御手段36によって接触手段34の電磁石6
2に所定向きの電流を流し、プローブカード16のすべ
ての開口42の周辺部に設けられた磁性体62との間に
斥力を生じさせ、すべての開口42の周辺のTABバン
プ44とLSIチップ14(A1、B2、C3、D4、
・・・・、I9)の電極とを確実に接触させ、電気的に
接続する(導通状態)。
【0035】次に測定項目を設定する。ここで、測定項
目はDCテストで、入力電圧VIL、VIH、出力電圧
OL、VOH、スタンバイ電流Iddsとし、ファンクシ
ョンテストでLSIチップ14の導通のロジックをロジ
ック1、故障のパターンをロジック2とし、VIL→VIH
→VOL→VOH→Idds→ロジック1→ロジック2の順
序でこれら全部を測定をLSIチップ14に対して行う
ものとする。
【0036】設定項目についてテストユニット22のD
Cテストユニット28またはファンクションテストユニ
ット27を用いて測定を行い、得られた結果をコンパレ
ータ26で判定し、測定値が正常(PASS)であれ
ば、次の測定項目に移行する。全部測定項目が終了し、
移行する測定項目がない場合には接触手段34の電磁石
62に流す電流の向きを変えてプローブカード16の磁
性体60を電磁石62に接触させて、TABバンプ44
とすべてのLSIチップ14の電極との間の接触を解除
し、非導通状態とする。この後、プローブカード16を
シリコンウエハ12の次のLSIチップ14群に移動
し、新たなテストルーチンを開始する。次のLSIチッ
プ群がない場合はテストを終了し、シリコンウエハ12
をプローバ18から除去する。
【0037】一方、測定値が正常でない場合(FAI
L)には、測定モードが個別測定モードに変わる。この
個別測定モードで、測定条件を1個の測定条件に設定
し、1個のLSIチップ14、例えばA1を選択し、選
択された1個のLSIチップA1の測定を同一の測定項
目について行う。測定結果が正常(PASS)であれ
ば、次の1個のLSIチップ14を選択する。一方、個
別測定モードでの測定値が正常でない(FAIL)場合
には、このLSIチップ14を不良(FAIL)チップ
として同定し、次の1個のLSIチップ14を選択す
る。このようにして、1個ずつLSIチップ14を選択
して、選択するLSIチップ14がなくなるまで測定を
繰り返す。
【0038】個別測定モードで選択するLSIチップ1
4がなくなると個別測定モードが同時測定モードに変わ
る。ここで次の測定項目の測定においては、同定された
不良LSIチップ14を除いた残りのすべてのLSIチ
ップ14を接触手段34により導通状態にする。そし
て、導通状態にあるLSIチップ14の個数を検出手段
38により検出し、その個数に応じて、出力コンパレー
タの電流負荷を自動的にレベル変更して測定条件を設定
する。こうして、個数に応じて設定された測定条件で残
りの正常なすべてのLSIチップ14の測定を行う。こ
うして、本発明の第4の態様のプローブテスト方法によ
り、プローブテストを全自動で行うことができる。
【0039】本発明に係るプローブテスト装置およびプ
ローブテスト方法は基本的に以上のように構成される
が、本発明はこれに限定されず、例えば第1配線層と第
2配線層との間の絶縁層をフレキシブルプローブカード
の絶縁性フレキシブルフィルムとし、この両側に両配線
層を形成してよいなど、本発明の要旨を逸脱しない範囲
において設計の変更や改良が可能なことはもちろんであ
る。
【0040】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の第1、第
2および第3の態様によれば、ウエハに形成された任意
の複数個の半導体チップのDC特性および機能特性を含
む特性試験をコンパレータを増加させることなく、また
テストヘッドを増大させることなく、同時測定すること
ができる。また、こうしてウエハのプローブテスト時間
の短縮を図ることができる。さらに、ウエハのプローブ
カードの1つの基本パターンユニットが不良となって
も、他の部分での測定が可能であり、ウエハプローバの
寿命の改善と保守管理の容易化を図ることができる。
【0041】また、本発明の第4の態様によれば、複数
個の半導体チップの同時測定に際しプローブカードのT
ABバンプにその電極が接触する半導体チップの個数を
検出し、この個数に応じて出力のコンパレータレベルや
プログラマブルロードを自動変更することができるの
で、任意の個数の半導体チップの同時測定をコンパレー
タを増加させることなく、自動的に行うことができる。
【0042】本発明の第5の態様によれば、複数個の半
導体チップの同時測定を行う同時測定モードと個々の半
導体チップの測定を行う個別測定モードとを有し、1つ
測定項目について同時測定モードにおける測定値が正常
である場合には次の測定項目に移行し、異常である場合
には、個別測定モードで個々の被測定半導体チップの測
定を順次行って、不良チップを同定し、終了後、不良チ
ップを除いて、同時測定モードによる測定を行うので、
コンパレータを増加させることなく、またテストヘッド
を増大させることなく、DC特性試験も機能性試験も同
様に行うことができ、プローブテスト時間の短縮を図る
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプローブテスト装置の一実施例の
模式図である。
【図2】本発明に係るプローブテスト装置に用いられる
フレキシブルプローブカードの一実施例の平面模式図で
ある。
【図3】図2に示すフレキシブルプローブカードの基本
パターンユニットの一実施例の模式図である。
【図4】本発明に係るプローブテスト装置に用いられる
接触手段の一実施例の模式図である。
【図5】本発明に係るプローブテスト方法の一例を示す
フローチャートである。
【符号の説明】
10 プローブテスト装置 12 シリコンウエハ 14 半導体チップ(LSIチップ) 16 フレキシブルプローブカード 18 プローバ 20 テストヘッド 22 テストユニット 24 入力信号発生回路 26 判定回路(コンパレータ) 27 ファンクションテストユニット 28 DCテストユニット 30 制御部 32 テスタピン 34 接触手段 36 駆動制御手段 38 検出手段 40 フレキシブルフィルム 41 基本パターンユニット 42、58 開口 44 TABバンプ 45、47、47a リード 46、48 配線層 47b、49、51、53 接点 50、52 接続配線 54 プリント配線基板 56 テスタピン接続用パッド 60 磁性体 62 電磁石
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−268035(JP,A) 特開 平4−236440(JP,A) 特開 平4−266043(JP,A) 特開 平5−144894(JP,A) 特開 平5−47864(JP,A) 特開 平1−128381(JP,A) 特開 昭60−260861(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/66

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁性フレキシブルフィルムと、このフレ
    キシブルフィルムに設けられた複数の開口と、これらの
    複数の開口の各々の周辺に設けられる複数のTABバン
    プと、各々の開口のTABバンプの一部から重複するこ
    となくそれぞれ所定の方向に前記フレキシブルフィルム
    の周辺まで延長する第1のリードを含む第1配線層と、
    前記各々の開口のTABバンプの残余に対応して前記第
    1配線層に対し絶縁層を介して設けられ、重複すること
    なくそれぞれ前記第1のリードの方向と所定の角度をな
    す方向に前記フレキシブルフィルムの周辺まで延長する
    第2のリードを含む第2配線層と、前記各々の開口のT
    ABバンプの残余と第2のリードとをそれぞれ接続する
    接続手段と、前記開口のTABバンプに対応して前記フ
    レキシブルフィルムの外周辺部または外部に設けられる
    テスタピン接続用パッドと、各開口の同じ位置のTAB
    パッドから延長する第1または第2のリードを互い接続
    するとともに対応するテスタピン接続用パッドと接続す
    る接続手段とを有するフレキシブルプローブカードを備
    えたプローブテスト装置。
  2. 【請求項2】前記開口は矩形であり、その対角線が一直
    線上に存在するように配置され、第1のリードと第2の
    リードとは略直交するフレキシブルプローブカードであ
    る請求項1に記載のプローブテスト装置。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載のプローブテスト
    装置であって、前記フレキシブルプローブカードは、さ
    らに前記TABバンプと逆側のフレキシブルフィルムの
    表面の前記開口周辺に積層される磁性体を有し、さらに
    前記磁性体に近接して配置される電磁石とを有し、この
    電磁石への注入電流によって極性を変化させて、前記フ
    レキシブルプローブカードの開口のTABバンプと、こ
    れに位置合わせされた、ウエハ上の半導体チップの電極
    との電気的接続または非接続を行い、同時測定する前記
    半導体チップの個数を自動制御することを特徴とするプ
    ローブテスト装置。
  4. 【請求項4】請求項1または2に記載のプローブテスト
    装置であって、さらに前記フレキシブルカードの複数個
    の開口に対し、それぞれ独立に各々の開口のTABバン
    プとこれに位置合わせされたウエハ上の半導体チップの
    電極とを接触させる手段を有することを特徴とするプロ
    ーブテスト装置。
  5. 【請求項5】請求項3または4に記載のプローブテスト
    装置を用いて、ウエハ上の複数個の半導体チップを同時
    測定するに際し、測定のために前記フレキシブルプロー
    ブカードのTABバンプとその電極が接触している半導
    体チップの個数を検出し、この被測定半導体チップの個
    数に応じてコンパレータレベルおよびプログラマブルロ
    ードを自動変更し、自動変更された測定条件で複数個の
    半導体チップの同時測定を行うことを特徴をするプロー
    ブテスト方法。
  6. 【請求項6】請求項3または4に記載のプローブテスト
    装置を用いて、複数の測定項目についてウエハ上の複数
    個の半導体チップを同時測定するに際し、 複数個の被測定半導体チップの電極を前記フレキシブル
    プローブカードのTABバンプに接触させ、前記被測定
    半導体チップの個数に応じた測定条件で測定を行う同時
    測定モードで一つの測定項目について測定を行ない、被
    測定半導体チップのすべてが正常であった場合には次の
    測定項目の測定に移行し、 前記一つの測定項目について測定値が正常値でなかった
    場合には、1個の被測定半導体チップのみの電極を前記
    フレキシブルプローブカードのTABバンプに接触させ
    て、個別測定条件で測定を行う個別測定モードで複数個
    の被測定半導体チップを1個ずつ順次測定を行ない、不
    良半導体チップを同定した後、該不良半導体チップを測
    定対象から外して、正常な半導体チップのみの電極をフ
    レキシブルプローブカードのTABバンプに接触させ、
    その個数に応じて自動変更された測定条件で次の測定項
    目の同時測定を行うことを繰り返し、全測定項目の測定
    が終了した後、前記フレキシブルプローブカードを移動
    して、次の複数個のプローブテストを行うことを特徴と
    するプローブテスト方法。
JP16124093A 1993-06-30 1993-06-30 プローブテスト装置およびプローブテスト方法 Expired - Lifetime JP3290760B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16124093A JP3290760B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 プローブテスト装置およびプローブテスト方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16124093A JP3290760B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 プローブテスト装置およびプローブテスト方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0722478A JPH0722478A (ja) 1995-01-24
JP3290760B2 true JP3290760B2 (ja) 2002-06-10

Family

ID=15731315

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16124093A Expired - Lifetime JP3290760B2 (ja) 1993-06-30 1993-06-30 プローブテスト装置およびプローブテスト方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3290760B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102559271B1 (ko) * 2016-06-03 2023-07-25 세메스 주식회사 다이 본딩 장치

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60260861A (ja) * 1984-06-08 1985-12-24 Hitachi Ltd プロ−ブ
JPH01128381A (ja) * 1987-11-12 1989-05-22 Fujitsu Ltd Lsiウエハの試験方法
US5148103A (en) * 1990-10-31 1992-09-15 Hughes Aircraft Company Apparatus for testing integrated circuits
JP2919087B2 (ja) * 1991-01-21 1999-07-12 富士通株式会社 半導体試験装置
JPH0547864A (ja) * 1991-08-12 1993-02-26 Advantest Corp プローブ
JPH05144894A (ja) * 1991-11-19 1993-06-11 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Tab−ic検査用プローブカード
JPH06268035A (ja) * 1993-03-10 1994-09-22 Eejingu Tesuta Kaihatsu Kyodo Kumiai マイクロプローバ

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0722478A (ja) 1995-01-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0138754B1 (ko) 전기회로측정용 탐침의 접촉검지장치 및 이 접촉검지장치를 이용한 전기회로 측정장치
US6605951B1 (en) Interconnector and method of connecting probes to a die for functional analysis
KR100196195B1 (ko) 프로우브 카드
WO2004053508A1 (ja) 検査方法及び検査装置
JPH10111315A (ja) プローブカードおよびこれを用いた試験装置
JPH02257650A (ja) 集積回路の自己検査装置
KR100720788B1 (ko) 인쇄 회로 기판을 이용해 칩을 테스트하기 위한 장치
JPH1048298A (ja) 半導体装置の高速試験方法
JPH0541421A (ja) 電気回路測定用探針の接触検知装置及びこの接触検知装置を用いた電気回路測定装置
JPH09107011A (ja) 半導体装置、およびこの半導体装置の位置合わせ方法
JP3290760B2 (ja) プローブテスト装置およびプローブテスト方法
JPH09121100A (ja) 回路基板上の部品の配向を判定するためのテストシステム
JP2951166B2 (ja) 半導体テスト装置、半導体テスト回路チップ及びプローブカード
JP2737774B2 (ja) ウェハテスタ
JPH09230005A (ja) 回路基板検査装置
JP2004361249A (ja) 基板検査装置
JP2000206148A (ja) プロ―ブカ―ド及びそのプロ―ブカ―ドを用いたプロ―ビング方法
JPH08330368A (ja) 半導体回路装置群及びそのプローブ試験方法
TWI786702B (zh) 積體電路裝置之檢測系統、訊號源及電源供應裝置
JP2003255023A (ja) プローブカード及びプローブカード試験方法
JP3135135B2 (ja) 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置
JP3346707B2 (ja) 半導体集積回路装置の検査方法
JPH1164385A (ja) 検査用基板のプローブ
JP2004095802A (ja) 半導体試験装置
KR100707878B1 (ko) 수직형 프로브 카드

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20020305

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100322

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110322

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120322

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130322

Year of fee payment: 11