JP3243967B2 - ロータリ式洗浄装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばロータリ式リン
サ等のように、搬送される容器にノズルを追従させて流
体を噴射することにより洗浄を行なうロータリ式洗浄装
置に係り、特に、ノズルに複数種類の洗浄用流体を順次
供給して洗浄を行なうロータリ式洗浄装置に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】一般に、ロータリ式リンサ等のロータリ
式洗浄装置は、回転体の外周部に円周方向等間隔で設け
られた複数のボトルグリッパと、これら各ボトルグリッ
パを反転させて把持している容器を倒立状態にするカム
等の反転手段と、各ボトルグリッパに対応して設けられ
た複数のノズルと、これら各ノズルに供給される洗浄用
流体の供給源と上記ノズルとの間を切換え接続するロー
タリジョイント等の切換手段を備えている。

【０００３】上記ロータリ式洗浄装置には、容器搬送コ
ンベアによって連続的に搬送されてきた容器が等ピッチ
に整列されて供給され、上記ボトルグリッパによってそ
れぞれ把持される。正立した状態でボトルグリッパに把
持された容器は、カム等の反転手段によって反転されて
倒立状態になり、次に、上記ノズルから洗浄用の流体が
噴射されて洗浄される。その後、倒立状態のまま水切り
区間を通過した後、再び反転手段によってボトルグリッ
パが反転されて容器は正立状態に戻り、排出スターホイ
ールを介して上記容器搬送コンベア上に排出される。

【０００４】このようなロータリ式リンサにおいて、複
数種類の異なる洗浄用流体を順次ノズルに供給して容器
に噴射し、この容器を洗浄するようにしたものが既に知
られている（特公平５−８５２２７号等）。この公報に
記載された洗浄装置では、「各内洗ノズル５７は、……
内洗循環洗浄ゾーンＣにおいて、ロータリジョイント５
８を介して……循環洗浄槽に接続され、該循環洗浄槽内
の洗浄液が上記内洗ノズル５７に循環供給されるように
なっている。」そして「上記内洗循環洗浄ゾーンＣを通
過した容器１０は、次に内洗仕上洗浄ゾーンＤを通過す
るようになっている。この内洗仕上洗浄ゾーンＤにおい
ては、上記回転体２４に設けた内洗ノズル５７は上記ロ
ータリジョイント５８を介して清水供給源に切換え接続
されるようになり、該清水供給源からの清浄な洗浄液が
上記ノズルから容器１０内に噴射されて仕上洗浄が行な
われる。」ようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記構成のロータリ式
リンサでは、第１次洗浄を行なう内洗循環洗浄ゾーンＣ
において、内洗ノズル５７に循環洗浄槽内の液を送って
容器に噴射した後、第２次洗浄を行なう内洗仕上洗浄ゾ
ーンＤで、ロータリジョイントによって通路を切換えて
清水供給源に接続することにより、内洗ノズル５７に清
水を送って容器に噴射する。その後、内洗ノズル５７
は、循環洗浄槽および清水供給源のいずれとも遮断され
た状態で水切りゾーン等を通過し、容器の給排を行なう
領域を経て再び内洗循環洗浄ゾーンＣに到達すると、次
の新たな容器に対して第１次洗浄水である循環洗浄槽内
の洗浄液を噴射する。しかしながら、上記内洗ノズル５
７およびこのノズルに至る配管内には、上記第２次洗浄
水である清水が残留したままになっており、この第２次
洗浄水が排出された後でなければ、第１次洗浄水を噴射
することができない。

【０００６】そのため、予め設定された長さを有する第
１次洗浄領域にロスが生じ、設定時間通りの洗浄を行な
うことができなくなってしまう。また、複数種類の流体
を順次噴射して洗浄を行なう場合には、効率の良い洗浄
を行なうために、噴射する洗浄流体の順序が決められて
いるが、このような場合に、第一次の洗浄流体よりも前
に第二次洗浄流体を噴射することによって容器の処理を
行なってしまうと、洗浄プロセスに狂いが生じてしまう
という問題があった。

【０００７】本発明は上記欠点を除くためになされたも
ので、複数種類の洗浄用流体を、ノズルとそれぞれの供
給源とを切換え接続することにより、順次供給して容器
に噴射するようにしたロータリ式リンサにおいて、第一
次の洗浄用流体を噴射する前に、ノズルおよび配管等の
内部に残留していた流体を排出し、その内部を第一次洗
浄用流体と置換し、または、空の状態にしておくことに
より、第一次洗浄領域に到達した時に直ちに第一次洗浄
用流体を噴射できるようにしたロータリ式洗浄装置を提
供することを目的とするものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明に係るロータリ式
洗浄装置は、回転体に所定間隔で設けられた複数のボト
ルグリッパと、これら各ボトルグリッパに対応して設け
られ、そのグリッパに保持されている容器に流体を噴射
するノズルと、このノズルに複数種類の流体をそれぞれ
供給する複数の流体供給源と、これら複数の流体供給源
とノズルとの間の通路を切換えて順次ノズルに接続する
切換手段とを備えており、回転中の処理領域内で上記ノ
ズルに複数種類の流体を順次供給して、ボトルグリッパ
に保持されている容器に噴射するとともに、上記処理領
域の前後に設けた容器供給手段と容器排出手段によって
ボトルグリッパへの容器の給排を行なうようにしたもの
であって、さらに、上記容器排出手段と容器供給手段と
の間に、処理領域で最初に供給される流体の供給源とノ
ズルとを接続する通路を形成したものである。

【０００９】また、第２の発明は、上記ノズルにエアを
供給するエア供給源を設けるとともに、上記容器排出手
段と容器供給手段との間に、このエア供給源とノズルと
を接続する通路を形成したものである。

【００１０】

【作用】上記第１の発明に係るロータリ式洗浄装置で
は、複数の流体供給源とノズルとの間の通路を切換手段
によって切換接続することにより、処理領域内で、複数
種類の流体を容器に順次噴射し、洗浄終了後、ボトルグ
リッパがこの容器を排出して次の容器を受取るまでの間
の空走領域で、上記複数種類の流体のうち、処理領域で
最初に噴射される流体をノズルへ給送する。すると、処
理領域の最後に噴射されて切換手段からノズルへ至る通
路内に残留していた流体が上記最初の流体に置換され
る。従って、次の容器に対し流体を噴射する際に、最初
に噴射されるべき流体が時間の遅れなく直ちに噴射され
る。

【００１１】また、第２の発明に係るロータリ式洗浄装
置では、洗浄を終了し容器を排出した後、空走領域でノ
ズルにエアを吹込むことにより、処理領域の最後に噴射
されて切換手段からノズルへ至る通路内に残留していた
流体を放出して、切換手段からノズルへ至る通路内を空
にする。その結果、次の容器に対し、最初の流体を噴射
する前に、上記最後の流体が噴射されてしまうことがな
い。

【００１２】

【実施例】以下、図面に示す実施例により本発明を説明
する。図１は本発明の一実施例に係るロータリ式リンサ
の配置を簡略化して示す平面図であり、容器搬送コンベ
ア２によって連続的に搬送されてきた容器は、タイミン
グスクリュー４によって所定ピッチに整列され、入口ス
ターホイール（容器供給手段）６を介して、ロータリ式
リンサ１内に導入される。ロータリ式リンサ１の回転体
には後に説明するボトルグリッパが円周方向等間隔で設
けられており、各ボトルグリッパがそれぞれ上記入口ス
ターホイール６から供給された容器を正立した状態で把
持する。ボトルグリッパは、回転体の回転（矢印Ｒ方向
に回転する）に伴って、先ず、第１の反転領域Ａにおい
てカム１８によって反転されて把持している容器を倒立
状態にする。

【００１３】次に、一次洗浄領域Ｂで、各ボトルグリッ
パに対応して設けられているノズルに、一次洗浄用流体
を給送して上記容器内に噴射することにより第一次の洗
浄工程を行なう。一次洗浄領域Ｂを通過した後、二次洗
浄領域Ｃでは、上記一次洗浄用流体とは異なる種類の二
次洗浄用流体をノズルに送り、容器内に噴射して第二次
洗浄工程を行なう。その後、水切り領域Ｄでは、ノズル
への流体の供給を遮断し、容器を倒立状態のまま搬送し
て洗浄された容器の水切りを行なう。水切りが終了した
後、容器を把持しているボトルグリッパは、第２の反転
領域Ｅで上記カム１８により再び反転されて容器を正立
状態に戻し、この正立した容器は出口スターホイール
（容器排出手段）８を介して上記容器搬送コンベア２上
に排出される。出口スターホイール８と入口スターホイ
ール６との間の区間は、ボトルグリッパが空の状態で回
転移動する空走領域Ｆになっており、入口スターホイー
ル６の位置に到達すると、ボトルグリッパに新たな容器
が引き渡され、上記各工程を繰返す。なお、上記一次洗
浄領域Ｂ、二次洗浄領域Ｃおよび水切り領域Ｄを合わせ
た全体を処理領域Ｇと呼ぶことにする。

【００１４】図２は、上記ロータリ式リンサ１の要部を
示す縦断面図であり、この図によりロータリ式リンサ１
の構成について詳細に説明する。中央の回転軸１０の上
部に取付けられて一体的に回転する回転体１２の外周寄
りに、円周方向等間隔で複数のボトルグリッパ１４が設
けられている。これら各ボトルグリッパ１４は、回転体
１２の外周縁部に立てられた支柱１６に回転可能に支持
されており、カム１８（図１参照）等の反転手段によっ
て、回転体１２の中心方向を向いた位置（図２に示す位
置）と、回転体１２の外方側を向いた位置との間で反転
できるようになっている。ボトルグリッパ１４は、回転
体１２の外方を向いているときに、上記入口スターホイ
ール６を介して供給される正立状態の容器２０の首部を
掴み、第１の反転領域Ａにおいて回転体１２の内方側に
向けて反転されると、上記容器２０を図２に示すような
倒立状態にする。

【００１５】各ボトルグリッパ１４が反転することによ
り倒立状態にされた容器２０の下方には、洗浄用の流体
を容器２０内に噴射するノズル２２がそれぞれ配置され
ている。これら各ノズル２２は、それぞれノズルパイプ
２４を介してロータリバルブ２６に接続されている。こ
のロータリバルブ２６が、後に説明するように、洗浄用
流体の供給通路の連通遮断を行なう。

【００１６】ロータリバルブ２６は、回転体１２の中心
部寄りの回転軸１０の周囲に取付けられて一体的に回転
する回転プレート２８と、この回転プレート２８の下方
に配置された中間プレート３０および固定プレート３２
とから構成されている。中間プレート３０は、固定プレ
ート３２上に設けられた複数の位置決めピン３４によっ
てこの固定プレート３２に一体的に連結されており、上
記回転プレート２８の下面が中間プレート３０の上面に
対し回転摺動する。固定プレート３２の下面側には、複
数本の昇降ロッド３６が取付けられ、一方、回転軸１０
の周囲に配置されている固定筒体３８のブラケット３８
ａには、複数のガイドブッシュ４０が保持されており、
上記昇降ロッド３６がこのガイドブッシュ４０内に嵌合
することにより、固定プレート３２は、昇降可能に支持
されるとともに回転が規制されている。昇降ロッド３６
の周囲には、スプリング４２が配置されて固定プレート
３２を上方へ付勢し、中間プレート３０を上方の回転プ
レート２８に圧接させている。

【００１７】次に、図３ないし図５により、上記ロータ
リバルブ２６の構成について説明する。図３はロータリ
バルブ２６を構成する３枚のプレート２８，３０，３２
を上下に分離して示す斜視図、図４は中間プレート３０
の平面図、図５は固定プレート３２の平面図である。回
転プレート２８の内部には、上記ボトルグリッパ１４と
同数、すなわち、ノズル２２の数と同数の吐出通路２８
ａが等間隔で放射状に形成されている。各吐出通路２８
ａは、その洗浄用流体の入口が、回転プレート２８の下
面側の同一円周２８ｂ上に等間隔で並び、洗浄用流体の
出口は、回転プレート２８の外周面に等間隔で開口して
いる。これら各吐出通路２８ａの出口側の開口に、上記
ノズルパイプ２４が接続されている。

【００１８】固定プレート３２の上面側には、回転軸１
０の軸芯を中心とする２つの円弧状の長孔３２ａ，３２
ｂが形成されている。これら２つの長孔３２ａ，３２ｂ
は近接して配置されており、第１の長孔３２ａが終了す
ると直ちに第２の長孔３２ｂが開始するようになってい
る。第１の長孔３２ａには、固定プレート３２の外周面
に開口する一次洗浄用流体の供給口３２ｃ（図５参照、
なお、図３では供給口を省略してある）が設けられてお
り、この長孔３２ａは、供給口３２ｃに連結された供給
配管４４（図２参照）を介して、一次洗浄用流体の供給
源（図示せず）に接続されている。また、第２の長孔３
２ｂには、固定プレート３２の側面に開口する２つの二
次洗浄用流体の供給口３２ｄ，３２ｅが設けられてお
り、この長孔３２ｂは、これら供給口３２ｄ，３２ｅに
連結された供給配管を介して、二次処理流体の供給源
（図示せず）に接続されている。上記第１の長孔３２ａ
および第２の長孔３２ｂは、それぞれ図１に示す一次洗
浄領域Ｂおよび二次洗浄領域Ｃに位置するように配置さ
れている。なお、両長孔３２ａ，３２ｂに設けられてい
る供給口３２ｃ，３２ｄ，３２ｅの数は、それぞれ１個
または２個に限るものではなく、長孔３２ａ，３２ｂの
長さに応じて適宜形成することができる。

【００１９】さらに、固定プレート３２には、その上面
に開口する小孔３２ｆが形成されている。この小孔３２
ｆには、固定プレート３２の側面に開口する供給口３２
ｇ（図５参照、なお、図３では上記各長孔３２ａ，３２
ｂの供給口３２ｃ，３２ｄ，３２ｅと同様に図示を省略
してある）が形成されており、本実施例では、この供給
口３２ｇが、上記一次洗浄用流体の供給配管４４に接続
されている。固定プレート３２の小孔３２ｆは、図１の
出口スターホイール８と入口スターホイール６の間の上
記空走領域Ｆ内に位置するように配置されている。

【００２０】固定プレート３２上に連結されている中間
プレート３０には、固定プレート３２の２個所の円弧状
の長孔３２ａ，３２ｂと上下の位置を一致させて、ほぼ
同一の長さの２つの円弧状の貫通通路３０ａ，３０ｂが
形成されている。また、上記固定プレート３２の小孔３
２ｆと上下の位置を一致させて上下に貫通する小径の貫
通孔３０ｃが形成されている。なお、これら固定プレー
ト３２の２つの長孔３２ａ，３２ｂおよび小孔３２ｆ
と、中間プレート３０の２つの貫通通路３０ａ，３０ｂ
小径の貫通孔３０ｃは、それぞれ、上記回転プレート２
８に設けられている吐出通路２８ａの入口側の開口（回
転プレート２８の下面側の開口）が配置されている円周
２８ｂと同一半径の円周上に位置している。

【００２１】また、固定プレート３２の面上には、上記
２つの長孔３２ａ，３２ｂおよび小孔３２ｆが形成され
ている円周の内周側と外周側に、それぞれ環状溝３２
ｈ，３２ｉ（図２参照、なお、図３および図５では図示
を省略）が形成されており、これら環状溝３２ｈ，３２
ｉ内にＯリングが嵌着されて上記長孔３２ａ，３２ｂお
よび小孔３２ｆの液密を保持している。

【００２２】上記構成のロータリ式リンサ１の作用につ
いて説明する。容器搬送コンベア２から連続的に搬送さ
れてきた容器２０は、タイミングスクリュー４によって
所定のピッチに整列され、入口スターホイール６を介し
てリンサ１内に供給される。リンサ１には、所定の間隔
でボトルグリッパ１４が設けられており、正立した状態
でリンサ１内に供給された容器２０は、各ボトルグリッ
パ１４によって把持される。

【００２３】リンサ１には、上記ボトルグリッパ１４を
反転させる反転機構（この実施例では図１に示すカム１
８）が設けられており、第１の反転領域Ａでこのカム１
８が回転体１２の外周側から内周側へ向けて移動するこ
とによりボトルグリッパ１４を反転させて容器２０を倒
立状態にする。容器２０が反転されると、各ボトルグリ
ッパ１４に対応して回転体１２上に設けられている各ノ
ズル２２がこの容器２０の口部内に挿入される（図２に
示す状態）。

【００２４】第１の反転領域Ａに続いて一次洗浄領域Ｂ
が設定されている。ロータリバルブ２６を構成する上記
固定プレート３２および中間プレート３０にそれぞれ形
成されている第１の長孔３２ａおよび第１の貫通通路３
０ａがこの一次洗浄領域Ｂに位置しており、回転体１２
の回転に伴って、ノズルパイプ２４が接続されている回
転プレート２８の吐出通路２８ａの入口側の開口が、中
間プレート３０のこの貫通通路３０ａに連通すると、図
示しない流体供給源から供給された一次洗浄用流体が、
固定プレート３２の供給口３２ｃ、第１の長孔３２ａ、
中間プレート３０の第１の貫通通路３０ａ、回転プレー
ト２８の吐出通路２８ａおよびノズルパイプ２４を介し
て送られ、ノズル２２から容器２０内に噴射されて一次
洗浄が行なわれる。

【００２５】上記一次洗浄領域Ｂの次に、二次洗浄領域
Ｃが設けられている。上記固定プレート３２および中間
プレート３０にそれぞれ形成されている第２の長孔３２
ｂおよび第２の貫通通路３０ｂがこの二次洗浄領域Ｃに
位置しており、ノズルパイプ２４が接続されている回転
プレート２８の吐出通路２８ａの入口側の開口が、中間
プレート３０のこの第２の貫通通路３０ｂに連通する
と、図示しない第２の流体供給源から供給された二次洗
浄用流体が、固定プレート３２の供給口３２ｄ，３２
ｅ、第２の長孔３２ｂ、中間プレート３０の第２の貫通
通路３０ｂ、回転プレート２８の吐出通路２８ａおよび
ノズルパイプ２４を介して送られ、ノズル２２から容器
２０内に噴射されて二次洗浄が行なわれる。

【００２６】上記回転プレート２８に形成された吐出通
路２８ａが中間プレート３０の第２の貫通通路３０ｂを
通過すると、洗浄用流体の供給は遮断される。容器２０
はボトルグリッパ１４によって把持され、倒立状態のま
ま水切り領域Ｄを搬送されて水切りが行なわれる。水切
りが終了した容器２０は、次の第２の反転領域Ｅで上記
カム１８により再び反転されて正立状態に戻され、出口
スターホイール８を介して上記容器搬送コンベア２上に
排出され、次の工程に送られる。

【００２７】この出口スターホイール８と上記入口スタ
ーホイール６との間は、ボトルグリッパ１４が容器２０
を排出した後次の容器２０を引渡されるまでの空走領域
Ｆであり、上記中間プレート３０に形成された小径の貫
通孔３０ｃおよび固定プレート３２に形成された小孔３
２ｆは、この空走領域Ｆ内に位置している。回転体１２
が回転して、上記ノズル２２に洗浄用流体を送るノズル
パイプ２４に接続されている回転プレート２８の吐出通
路２８ａが、この中間プレート３０の貫通穴３０ｃに連
通すると、一次洗浄用流体の供給源からこの流体がノズ
ルパイプ２４を通ってノズル２２に送られる。上記二次
洗浄領域Ｃで二次洗浄を行なった後、上記水切り領域Ｄ
および第２の反転領域Ｅでは、回転プレート２８の吐出
通路２８ａの入口側開口（回転プレート２８の下面側開
口）が中間プレート３０の上面によって閉塞されていた
ため、ノズルパイプ２４およびノズル２０の内部には、
二次洗浄用流体が残留していたが、空走領域Ｆで一次洗
浄用流体が送られることにより、残留していた二次洗浄
用流体はノズル２２から放出され、ノズル２２およびノ
ズルパイプ２４内は、一次洗浄用流体に置換される。

【００２８】このようにノズル２２およびノズルパイプ
２４内から二次洗浄用流体を放出して一次洗浄用流体と
置換しておくことにより、次の容器２０に対する洗浄を
行なう際に、その容器２０が一次洗浄領域Ｂに入ると直
ちに一次洗浄用流体が吐出される。従って、所定の洗浄
区間を確実に確保することができる。また、一次洗浄を
行なう前に二次洗浄流体を容器２０に噴射してしまうこ
とがないで、洗浄プロセスが狂ってしまうことがなく、
所定の洗浄プロセスを正確に実行することが可能にな
る。

【００２９】なお、上記実施例では、空走領域Ｆに配置
されている固定プレート３２の小孔３２ｆには、一次洗
浄用流体の供給源を接続して、ノズル２２およびノズル
パイプ２４内に残留していた二次洗浄用流体を一次洗浄
用流体に置換するようにしていたが、上記固定プレート
３２の小孔３２ｆをエア供給源に接続するようにしても
良い。この場合には、空走領域Ｆでエアを給送してノズ
ル２２およびノズルパイプ２４内に残留していた二次洗
浄用流体を放出し、内部を空の状態にすることにより、
次の一次洗浄領域Ｂで一次洗浄用流体を噴射する前に二
次洗浄用流体を容器２０に対して噴射してしまうことが
なく、所定の洗浄プロセスを実行することが可能であ
る。

【００３０】上記一次洗浄および二次洗浄においてノズ
ル２２に供給される洗浄用流体は異種の流体であれば良
く、各種の組合せにすることが可能である。

【００３１】例えば、ａ．一次洗浄用流体として次亜塩
素水、二次洗浄用流体として純水を使用し、容器２０の
給排を行なう空走領域Ｆにおいて、一次洗浄用流体をノ
ズル２２に供給してノズル２２およびノズルパイプ２４
内の純水を次亜塩素水に置換する。このように一次洗浄
を行なう前に、前回の二次洗浄で使用した流体を一次洗
浄用流体に置換しておくことにより、次の容器２０に対
する一次洗浄では、洗浄開始と同時に次亜塩素水を噴射
することができるので、洗浄時間にロスが発生すること
がなく、有効で確実な洗浄を行なうことができる。ま
た、従来の装置の場合のように、一次洗浄用流体である
次亜塩素水による洗浄の前に二次洗浄用流体である純水
を噴射してしまうことがないので、所望の正確な洗浄プ
ロセスを実行することができる。

【００３２】ｂ．上記ａと同様に、一次洗浄用流体とし
て次亜塩素水、二次洗浄用流体として純水を使用すると
ともに、容器２０の給排を行なう空走領域Ｆにおいて
は、エア供給源に接続してエアの吹出しを行なうように
する。この場合には、二次洗浄後ノズル２２およびノズ
ルパイプ２４内に残留していた純水はエアによって吹出
されるので、次の容器２０に対する一次洗浄の開始時に
は、ノズル２２およびノズルパイプ２４内は空になって
いる。従って、一次洗浄用流体の噴射前に二次洗浄用流
体が噴射されてしまうことはなく、正確な洗浄プロセス
を実行することができる。また、ノズルパイプ２４内が
空の場合には、一次洗浄用流体がノズル２２から噴射さ
れるまでに僅かな時間のずれが生じるが、一次洗浄領域
の長さを調整することにより補うことが可能である。

【００３３】ｃ．一次洗浄用流体として液体ではなくエ
アを用い、二次洗浄用流体として水を使用する。この場
合には、空走領域Ｆにおける置換用の流体としてエアを
用いてノズル２２およびノズルパイプ２４内に残留して
いる水を放出して空にする。このような洗浄プロセスを
行なう場合には、一次洗浄領域Ｂで容器２０にエアを噴
射してちりやほこりを吹き飛ばしてから二次洗浄領域Ｃ
においてリンスを行なうようになっているが、従来の装
置では、一次洗浄領域でエアを噴射する前に、残留して
いた水が容器に吹付けられるので、ちりやほこりが容器
２０に付着してしまうため、エアによって吹き飛ばすこ
とが不可能になってしまうという問題があったが、本発
明によれば、エアの吹出し前に水が吹付けられてしまう
ことがないので、必ずエアによってほこり等を吹き飛ば
した後水によって洗浄が行なわれことになり、優れた洗
浄効果を奏することができる。

【００３４】ｄ．一次洗浄用流体として５０°Ｃ〜６０
度Ｃの温度の循環水、二次洗浄用流体として８５°Ｃの
仕上用温水を使用する。そして、空走領域Ｆでは、一次
洗浄用流体である５０°Ｃ〜６０度Ｃの温度の循環水を
送って、ノズル２２およびノズルパイプ２４内に残留し
ている二次洗浄用流体として８５°Ｃの仕上用温水を置
換する。または、空走領域Ｆでエアを送り込むことによ
り、ノズル２２およびノズルパイプ２４内に残留してい
る二次洗浄用流体を放出してその内部を空にする。

【００３５】ｅ．一次洗浄用流体としてスチーム、二次
洗浄用流体としてホットエアを用いる。また、容器２０
の給排を行なう空走領域Ｆでは、一次洗浄用流体である
スチームを供給して、ノズル２２およびノズルパイプ２
４に残留していたホットエアをスチームに置換する。こ
の場合にも、次の容器２０に対する一次洗浄領域Ｂにお
いて、洗浄開始と同時にスチームを容器２０に噴射する
ことができる。

【００３６】また、別の実施例として、上記公報（特公
平５−８５２２７）に記載された従来の洗浄装置と同様
に、一次洗浄用流体として容器２０に噴射されたのち回
収された循環水を用い、二次洗浄用流体として清水を使
用する。さらに、固定プレート３２と中間プレート３０
に、上記第１，第２の長孔３２ａ，３２ｂおよび第１，
第２の円弧状の貫通通路３０ａ，３０ｂに加えて、水切
り領域Ｄ（図１参照）に位置する部分に、別の第３の長
孔および第３の貫通通路を形成し、これら長孔および貫
通通路を介してエアを吹付けるようにして水切りを行な
う。そして、空走領域Ｆでは、上記一次洗浄用流体を送
り込む。この構成では、水切り領域Ｄにおいて、ノズル
２２およびノズルパイプ２４にエアを送ることにより、
二次洗浄の終了後残留していた清水を排出してノズル２
２およびノズルパイプ２４内を空にした後、このノズル
２２およびノズルパイプ２４内に一次洗浄用流体を満た
しておくので、次回の洗浄時の一次洗浄用領域Ｂにおい
て、正確な洗浄領域を確保することができる。

【００３７】

【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、回転
体の処理領域内で上記ノズルに複数種類の流体を順次供
給して、ボトルグリッパに保持されている容器に噴射す
るとともに、回転体の空走領域内でボトルグリッパへの
容器の給排を行なうようにしたロータリ式洗浄装置の、
上記空走領域内に、処理領域で最初に供給される流体の
供給源とノズルとを接続する通路を形成し、処理領域の
最初の工程で流体を容器に噴射する前に、この流体と、
最終の工程で容器に噴射された流体とを置換しておくこ
とにより、次の容器に対して流体を噴射する際に、直ち
に所定の流体を噴射することができるので正確な洗浄区
間を確保することが可能であり、しかも、所定の流体と
異なる流体を先に噴射してしまうことがなく、正しい洗
浄プロセスを実施することができる。

【００３８】また、ノズルにエアを供給するエア供給源
を設けるとともに、回転体の空走領域内に、このエア供
給源とノズルとを接続する通路を形成したことにより、
空走領域で、ノズルおよびノズルパイプ内を空にしてお
くことができるので、次の容器に対する洗浄時に、前回
の洗浄工程で最後に容器に噴射された液が先に噴射され
てしまうことがなく、正確な洗浄プロセスを実行するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係るロータリ式洗浄装置の
配置を簡略化して示す平面図である。

【図２】上記ロータリ式洗浄装置の要部の縦断面図であ
る。

【図３】上記ロータリ式洗浄装置のロータリバルブを分
解して示す斜視図である。

【図４】上記ロータリバルブを構成する中間プレートの
平面図である。

【図５】上記ロータリバルブを構成する固定プレートの
平面図である。

【符号の説明】

Ｆ 空走領域 Ｇ 処理領域 ６ 容器供給手段（入口スターホイール） ８ 容器排出手段（出口スターホイール） １２ 回転体 １４ ボトルグリッパ ２０ 容器 ２２ ノズル ２６ 切換手段（ロータリバルブ）

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 回転体に所定間隔で設けられた複数のボ
   トルグリッパと、各ボトルグリッパに対応して設けら
   れ、そのグリッパに保持されている容器に流体を噴射す
   るノズルと、このノズルに複数種類の流体をそれぞれ供
   給する複数の流体供給源と、これら複数の流体供給源と
   ノズルとの間の通路を切換えて順次ノズルに接続する切
   換手段とを備え、回転中の処理領域内で上記ノズルに複
   数種類の流体を順次供給して、ボトルグリッパに保持さ
   れている容器に噴射するとともに、上記処理領域の前後
   に設けた容器供給手段と容器排出手段によってボトルグ
   リッパへの容器の給排を行なうようにしたロータリ式洗
   浄装置において、上記容器排出手段と容器供給手段との
   間に、処理領域で最初に供給される流体の供給源とノズ
   ルとを接続する通路を形成したことを特徴とするロータ
   リ式洗浄装置。
2. 【請求項２】 回転体に所定間隔で設けられた複数のボ
   トルグリッパと、各ボトルグリッパに対応して設けら
   れ、そのグリッパに保持されている容器に流体を噴射す
   るノズルと、このノズルに複数種類の流体をそれぞれ供
   給する複数の流体供給源と、これら複数の流体供給源と
   ノズルとの間の通路を切換えて順次ノズルに接続する切
   換手段とを備え、回転中の処理領域内で上記ノズルに複
   数種類の流体を順次供給して、ボトルグリッパに保持さ
   れている容器に噴射するとともに、上記処理領域の前後
   に設けた容器供給手段と容器排出手段によってボトルグ
   リッパへの容器の給排を行なうようにしたロータリ式洗
   浄装置において、上記ノズルにエアを供給するエア供給
   源を設けるとともに、上記容器排出手段と容器供給手段
   との間に、このエア供給源とノズルとを接続する通路を
   形成したことを特徴とするロータリ式洗浄装置。