JP3231492B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Description
もので、特に電磁変換特性の良好な磁気記録媒体に関す
るものである。
ープ、コンピューターテープ、ディスク等として広く用
いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され、記録
波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式からデ
ジタル方式まで検討されている。この高密度化、短波長
記録のために高出力化と低ノイズ化の努力が進められて
いるが、これらは主に磁気特性の優れた強磁性金属粉末
の磁気特性改良によるところが大きい、すなわち、強磁
性金属粉末の微粒子化や粒度分布を狭めることによって
高保磁力が、Co、Ni等の微量の金属元素を添加する
ことによって高飽和磁束密度が達成される。
の金属元素添加は、本来強磁性粉末が持っている酸化さ
れやすい性質を増長する。つまり、磁気特性が経時的に
劣化するという欠点が生じる。経時的な酸化を防止する
ための手段としては、金属粉末の表面を徐酸化し酸化膜
を形成する方法が一般的に知られている。しかし、酸化
安定性の向上のため特開昭56−30707号公報のよ
うに過酸化物で処理したりして、さらに酸化膜を厚くす
ると磁気特性、特に飽和磁束密度は低下し、金属粉末の
優位性を損なうことになる。
等で処理し、表面を疎水化することも特開昭52−15
5398、同53−5798、同56−169304号
公報等に開示されているが、表面の親油性が大きくなり
過ぎ、分散が悪くなる問題があった。また、特開昭61
−223064号、同61−223065号、同61−
2203066号、同61−223067号、同61−
223068号、同61−223069号、および同6
1−223070号の各公報には、順に2−チオウラシ
ル誘導体、チオサリチル酸、ジチオウラシル、6−メル
カプトプリン、2−メルカプトベンゾチアゾールおよび
6−アミノ−2−チオウラシルを各々使用して表面処理
することを提案している。さらに、これら問題を解消す
るための最も新しくかつ改善された表面処理剤と考えら
れるものとしては、特開平4−6619号公報にアジミ
ノ化合物(−NH−N=N−が環状構造中にある化合
物)、キノン類、ナフトール、オキシム類が開示され、
特開平4−6617号公報では、シクロヘキサン骨格、
水酸基含有化合物を開示し、特開平3−292617号
公報では、ジヒドロキシナフタレンもしくはその誘導体
を使用することを記載している。
た磁気記録媒体においては、磁性層の対ヘッド適正が充
分でなく、磁性層が磁気ヘッドに対して弱く、走行させ
ている内に磁気ヘッドの表面が汚れ、出力が低下すると
いう問題がある。この磁気ヘッド汚れの現象はまた金属
の焼き付きのようにも見える事から焼き付きと呼ばれる
こともある。そして、特に低湿度下で使用する場合、こ
の問題は顕著であった。前記の従来技術において開示さ
れている上記の化合物は、磁性粉末の分散性を主たる効
果とするものであり、磁性層からの付着物が磁気ヘッド
に付着するヘッド汚れや、磁気ヘッドのギャップを埋め
る目詰まりを起こして電磁変換特性を劣化させることが
しばしばあり、これを防ぐ効果については記されていな
い。
により、目詰まりやヘッド汚れを改善しようとするとヘ
ッド磨耗が過多になり、出力の低下が実用にならなくな
るほど大きくなるという問題が起きた。一方、酸化安定
性の向上のため、Cr、Mn、Zn等の金属あるいは金
属酸化物を被着することが、特開昭50−41097、
同51−112465、特公昭44−27942、およ
び特開昭49−41899号公報等に開示されている
が、表面性が変化し、分散が悪化したり磁気特性が劣化
したり、不十分であった。
共に磁性層に研磨性を持たせるため、Alやこれらの化
合物を被着させることが、特公昭63−22366号公
報、特開昭63−103423号公報(極性基バインダ
ーとの組合せ)、特開昭63−103424号公報(特
定研磨剤との組合せ)で開示されている。但し、強磁性
金属粉末の表面のAl量が増えるとテープの研磨性が増
加し、ヘッド汚れの問題も解消できるが、反面、ヘッド
磨耗が増えるという問題が発生する。
減することとヘッド汚れを防止することという相反する
要求を満足することができないのである。よって、より
一層酸化安定性に優れ、また同時に表面処理された強磁
性金属粉末が結合剤樹脂中により一層良好に分散され、
更に磁気ヘッドに対する研磨性が低く抑えられて、かつ
低湿の条件下においても磁気ヘッドの汚れがない磁気記
録媒体が要望されている。
の問題点に鑑みなされたものであり、酸化安定性に優
れ、強磁性金属粉末の結合剤樹脂中における分散が良好
で、磁気ヘッドに対する研磨性が低く抑えられて、かつ
低湿度の条件下においても磁気ヘッド汚れがない高密度
記録に最適な磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。
支持体上に強磁性金属粉末及び結合剤樹脂を主体とする
磁性層を有する磁気記録媒体において、該強磁性金属粉
末は原子換算重量で0.5〜6重量%のAlを含有して
おり、且つ表面に化3の一般式(1)で表される化合物
または化4の一般式(2)で表される化合物を含有して
いることを特徴とする磁気記録媒体により達成できる。
あるいは非置換のアルキル基あるいはアリール基を表
す。但し、R1 およびR2 の両方が同時にHであること
はない。)
は置換あるいは非置換のアルキル基あるいは芳香族基を
表す。但し、R3 およびR4 のうち少なくとも一方は、
−OH基であって、かつ同時に−OH基であることはな
い。)本発明の磁気記録媒体は、使用する強磁性金属粉
末に含有させるAl量を選定すると共に強磁性金属粉末
の表面を処理、含有させる特定な化合物、即ち、一般式
(1)または(2)で表される化合物の化学構造を規定
あるいは選定したものであり、これによりヘッド磨耗量
が少なくて、且つヘッド汚れが少ない、ひいては出力低
下が少ない磁気記録媒体を得たものである。尚、以下、
一般式(1)で表される化合物を本発明の化合物1、一
般式(2)で表される化合物を本発明の化合物2、そし
て両者の一方または両方を指す場合は本発明の化合物と
もいう。尚、本発明の磁気記録媒体においては、本発明
の化合物1および2の両者を用いてもよい。
耗量−出力低下量相関曲線が理想的な方向、即ち、ヘッ
ド磨耗量が少なく、かつ出力低下量が少なくなる方向に
シフトする。強磁性金属粉末にAlが特定量含有されて
いないと磁性層が軟らかくなって、ヘッド汚れが著しく
なり、出力低下が大きくなってしまう。
十分なヘッド磨耗量とヘッド汚れのバランスの問題を上
記の本発明の化合物1または2で表面処理することによ
り解決したものである。本発明の作用機構の詳細は不明
だが、概ね以下のように考えられる。強磁性金属粉末の
表面は通常、数10Å程度の酸化物被膜が存在し、Fe
の表面は、−O−Fe−OHの構造が存在すると考えら
れる。そしてこの−O−Fe−OHを含む構造は、本発
明の化合物と水素結合または配位結合し、本発明の化合
物と強磁性金属粉末表面原子との結合構造を形成し、酸
化安定性に寄与するものと考えられる。例えば、本発明
の化合物のSH基および/またはOH基によりキレート
的に作用して強磁性金属粉末の表面に強固に付着すると
考えられる。
属粉末に対し適正な相互作用を有して結合すると共にそ
の化学構造から結合剤樹脂との相互作用が適度に制御さ
れ、強磁性金属粉末の分散性を良好にするものと考えら
れる。また、本発明の化合物の分子中にある置換基
R1 、R2 、R3 およびR4 の少なくとも何れかがアル
キル基あるいはアリール基もしくは芳香族基であるため
に磁性層表面の撥水性が改善され、これにより高湿度条
件下では耐酸化性耐腐食性がより高くなると考えられ
る。また磁性層中では結合剤樹脂と強磁性金属粉末との
親和性が高いため磁性層の力学特性が向上し、その結
果、低湿度条件下でも磁気ヘッドの汚れが生じ難くな
り、出力の低下、変動が少なくなると考えられる。
しているために上記機能を保全できると共に適正な研磨
性を磁性層に付与することができるものと考えられる。
次に、本発明の化合物について説明する。まず、本発明
の化合物1について説明する。一般式(1)の化合物
は、例えば R2-CO-CH(R1)-COOHとチオ尿素との反応から
合成することができる。
非置換アルキル基の時、炭素数は、好ましくは1〜2
0、更に好ましくは1〜12であり、置換アルキル基と
しては、アルキルオキシカルボニルアルキル基、アリー
ルオキシカルボニルアルキル基、N−アリールまたはア
ラルキルカルバモイルアルキル基等が例示される。置換
アルキル基における非置換アルキル基に置換した置換基
の炭素数は、1〜20、好ましくは1〜12の範囲から
選択される。
ル基としては、フェニル基、ナフチル基等が例示され
る。該アリール基は、所望により置換基を有していても
よい。本発明の化合物の具体例を以下列挙するが、これ
に限定されるものではない。 (1) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−メチ
ルピリミジン (2) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−エチ
ルピリミジン (3) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−プロ
ピルピリミジン (4) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ブチ
ルピリミジン (5) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ペン
チルピリミジン (6) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ヘキ
シルピリミジン (7) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ヘプ
チルピリミジン (8) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−オク
チルピリミジン (9) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ノニ
ルピリミジン (10) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−デシ
ルピリミジン (11) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ウン
デシルピリミジン (12) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ドデ
シルピリミジン (13) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−トリ
デシルピリミジン (14) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−テト
ラデシルピリミジン (15) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ペン
タデシルピリミジン (16) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ヘキ
サデシルピリミジン (17) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ヘプ
タデシルピリミジン (18) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−オク
タデシルピリミジン (19) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−フェ
ニルピリミジン (20) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−ナフ
チルピリミジン (21) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−5−(N
−メチル−ピペラジニルメチル)−6−フェニルピリミ
ジン (22) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−5,6,
7,8−テトラヒドロキナゾリン また、これらの化合物は、一つ以上の置換基で置換され
てもよく、置換基としては、ハメットの置換基定数で−
0.9〜0.8までの置換基が挙げられ、その具体例と
してはメチル基、エチル基、t−ブチル基等のアルキル
基、フェニル基等のアリール基、Cl、Br等のハロゲ
ン、アミノ基、ジメチルアミノ基等のアミノ基、ヒドロ
キシ基、メトキシ基等のアルコキシ基、アセチル基等の
アシロイル基、エチルオキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、トリクロロメチ
ル基等のハロゲン置換アルキル基等をあげることが出来
る。
に1種以上含有することができる。次に本発明の化合物
2について説明する。一般式(2)において、R3 が-O
H 基である4−ヒドロキシテトラザインデン誘導体は、
R4-CO-CH2-COOCH2CH3(R4 は、前記と同義である。)
と1H-5-アミノ-1,2,4-トリアゾールとの反応から合成す
ることができる。
基である6−ヒドロキシテトラザインデン誘導体は、2
−ヒドラジノ−4−ヒドロキシピリミジンとオルト蟻酸
エステルとの反応により合成することが出来る。本発明
に使用される強磁性金属粉末においては、4−ヒドロキ
シテトラザインデン誘導体および6−ヒドロキシテトラ
ザインデン誘導体の一方または両者の誘導体から選択さ
れる化合物を少なくとも1種以上含むことができる。
非置換アルキル基の時、炭素数は、好ましくは1〜2
0、更に好ましくは1〜12であり、置換アルキル基と
しては、アルキルオキシカルボニルアルキル基、アリー
ルオキシカルボニルアルキル基、N−アリールまたはア
ラルキルカルバモイルアルキル基等が例示される。置換
アルキル基における非置換アルキル基に置換した置換基
の炭素数は、1〜20、好ましくは1〜12の範囲から
選択される。
としては、フェニル基、ナフチル基等が例示される。該
芳香族基は、所望により置換基を有していてもよい。本
発明の化合物の具体例を以下列挙するが、これに限定さ
れるものではない。 (1) 4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン (2) 4−ヒドロキシ−6−エチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン (3) 4−ヒドロキシ−6−プロピル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (4) 4−ヒドロキシ−6−ブチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン (5) 4−ヒドロキシ−6−ペンチル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (6) 4−ヒドロキシ−6−ヘキシル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (7) 4−ヒドロキシ−6−ヘプチル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (8) 4−ヒドロキシ−6−オクチル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (9) 4−ヒドロキシ−6−ノニル−1,3,3a,7
−テトラザインデン (10) 4−ヒドロキシ−6−ドデシル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (11) 4−ヒドロキシ−6−ウンデシル−1,3,3
a,7−テトラザインデン (12) 4−ヒドロキシ−6−トリデシル−1,3,3
a,7−テトラザインデン (13) 4−ヒドロキシ−6−ペンタデシル−1,3,3
a,7−テトラザインデン (14) 4−ヒドロキシ−6−ヘプタデシル−1,3,3
a,7−テトラザインデン (15) 4−ヒドロキシ−6−フェニル−1,3,3a,
7−テトラザインデン (16) 4−ヒドロキシ−6−プロポキシカルボニルメチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデン (17) 4−ヒドロキシ−6−ヘキシルオキシカルボニル
メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン (18) 4−ヒドロキシ−6−フェノキシカルボニルメチ
ル−1,3,3a,7−テトラザインデン (19) 4−ヒドロキシ−6−(N−フェニルカルバモイ
ル)メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン (20) 4−ヒドロキシ−6−(N−ベンジルカルバモイ
ル)メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン (21) 4−メチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7
−テトラザインデン (22) 4−エチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7
−テトラザインデン (23) 4−プロピル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (24) 4−ブチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7
−テトラザインデン (25) 4−ペンチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (26) 4−ヘキシル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (27) 4−ヘプチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (28) 4−オクチル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (29) 4−ノニル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,7
−テトラザインデン (30) 4−ドデシル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (31) 4−ウンデシル−6−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデン (32) 4−トリデシル−6−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデン (33) 4−ペンタデシル−6−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデン (34) 4−ヘプタデシル−6−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデン (35) 4−フェニル−6−ヒドロキシ−1,3,3a,
7−テトラザインデン (36) 4−プロポキシカルボニルメチル−6−ヒドロキ
シ−1,3,3a,7−テトラザインデン (37) 4−ヘキシルオキシカルボニルメチル−6−ヒド
ロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン (38) 4−フェノキシカルボニルメチル−6−ヒドロキ
シ−1,3,3a,7−テトラザインデン (39) 4−(N−フェニルカルバモイル)メチル−6−
ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン (40) 4−(N−ベンジルカルバモイル)メチル−6−
ヒドロキシ−1,3,3a,7−テトラザインデン また、これらの化合物は、一つ以上の置換基で置換され
てもよく、置換基としては、ハメットの置換基定数で−
0.9〜0.8までの置換基が挙げられ、その具体例と
してはメチル基、エチル基、t−ブチル基等のアルキル
基、フェニル基等のアリール基、Cl、Br等のハロゲ
ン、アミノ基、ジメチルアミノ基等のアミノ基、ヒドロ
キシ基、メトキシ基等のアルコキシ基、アセチル基等の
アシロイル基、エチルオキシカルボニル基等のアルコキ
シカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、トリクロロメチ
ル基等のハロゲン置換アルキル基等をあげることが出来
る。
磁性金属粉末に1種以上含有させることができる。本発
明の強磁性金属粉末が有する本発明の化合物量は、強磁
性金属粉末表面当たりに換算して、好ましくは10μm
ol/m2 以下、更に好ましくは1〜5μmol/m2
の範囲である。
本発明の化合物で処理、被着させることにより、強磁性
金属粉末に本発明の化合物を含有せしめる手段は、特に
制限はない。以下、具体的に例示すると、 本発明の化合物を低沸点の有機溶媒、例えば、メタ
ノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン等
中に0.1〜10重量%になるように溶解もしくは分散
状態にし、この溶液中に強磁性金属粉末を適当量、通
常、該溶媒に対し、5〜30重量%を投入して混合した
後、有機溶媒を濾過あるいは留去する方法、 例えば、特公平3−263615号公報に開示され
るように強磁性金属粉末と本発明の化合物とを混合して
粉砕し、この混合粉砕により得られた混合物に結合剤と
溶剤とを加えて混練、分散を行う方法、 磁性塗料を調製する際に本発明の化合物を磁性塗料
調製用溶剤の一部に溶解もしくは分散した状態で結合剤
樹脂と強磁性金属粉末と共に投入して混練分散を行う方
法、 等が挙げられる。特に、の方法が望ましい。尚、〜
の方法等は所望により併用できる。
には本発明の化合物を強磁性金属粉末との相互作用が十
分形成されるように存在させることができるが、その量
は、上記強磁性金属粉末の処理量と同程度であり、目的
に応じ、適宜選定すればよい。本発明に使用される強磁
性金属粉末の構成は、Alを原子換算重量で0.5〜6
重量%含むならば、特に限定されることはない。ここ
で、重量%は、強磁性金属粉末において、Alも含む全
金属元素量に対するAlの重量%をいう。本発明におけ
るAlの具体的な測定法としては、強磁性金属粉末を溶
解し、原子吸光法により各金属量を求める方法が挙げら
れる。本発明において、強磁性金属粉末に存在するAl
は、実際は、通常、酸化物の形態で存在すると考えられ
るが、その構造は特に問わず、かつ原子状のAlも包含
する意味である。
める手段としては、従来公知の方法が使用できる。具体
的には、次の方法が例示できる。例えば、α−FeOO
H或いはα−Fe2 O3 などの粒子を通常の方法により
調製し、別に硫酸アルミニウムのような水溶性アルミニ
ウム塩の水溶液を調製して上記の粒子を調製した水溶液
中に分散させた後、この水溶液のpH値を酸性域に調整
して水酸化アルミニウムをα−FeOOHあるいはα−
Fe2 O3 などの粒子の表面に付着もしくは析出させ
る。次いで、水酸化アルミニウムが表面に付着もしくは
析出したα−FeOOHあるいはα−Fe2 O3 などの
粒子を濾取し、乾燥した後、水素あるいは一酸化炭素の
ような還元性ガスを用いて加熱還元することにより製造
することができる。強磁性金属粉末中のアルミニウムの
含有率は、上記の水溶性アルミニウム塩の水溶液の濃度
を変化させることにより、容易に調整することができ
る。
あるいはニッケルなどの強磁性金属、あるいはこれらの
合金を主体とする強磁性金属粉末であって、その粒子
の、好ましくは表面近傍に、アルミニウム成分(好まし
くは酸化物の状態で)を含むものである。該Alは、強
磁性金属粉末に、その原子換算重量で、0.5〜6重量
%、好ましくは1〜5重量%、特に好ましくは1.5〜
4重量%含有される。
金属粉末の例としては、強磁性金属粉末中の金属分が7
5重量%以上であり、そして金属分の80重量%以上が
少なくとも一種類の強磁性金属あるいは合金(例えば、
Fe、Co、Ni、Fe−Co、Fe−Ni、Co−N
i、Co−Ni−Fe)であり、もしくはその金属分の
20重量%以下の範囲内で他の成分(例えば、Si、
S、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Y、M
o、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、T
a、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、
Pr、Nd、B、P等から選択される元素、好ましくは
Si、P等が例示できる)が例示される。
は、その粒子サイズは、望ましくは、BET法による比
表面積が30乃至60m2 /gであって、X線回折法か
ら求められる結晶子サイズが100乃至300Åであ
る。比表面積が余りに小さいと高密度記録に充分に対応
できなくなり、又余り大きくても分散が充分に行えずに
平滑な面の磁性層が形成できずこれ又高密度記録に対応
できなくなるので好ましくない。
110emu/g以上、望ましくは120emu/g以
上である。また抗磁力としては、800Oe以上、望ま
しくは900Oe以上である。その粒子の針状比(平均
粒子長/平均幅)は5以上であることが望ましい。本発
明に使用される強磁性金属粉末の製造方法は、特に制限
されないが、例えば、次の方法で製造することができ
る。 (1)強磁性金属の有機酸塩、例えば、複合有機酸塩
(主としてシュウ酸塩)と水素などの還元性気体で還元
する方法。 (2)針状オキシ水酸化物あるいはこれらに他金属を含
有せしめたもの、あるいはこれらのオキシ水酸化物から
得た針状酸化鉄を還元する方法。 (3)強磁性金属を低圧の不活性ガス中で蒸発させる方
法。 (4)金属カルボニル化合物を熱分解する方法。 (5)水銀電極を用いて強磁性金属粉末を電析させた
後、水銀を分離する方法。 (6)強磁性金属をつくりうる金属の塩の水溶液中で還
元性物質(水素化ホウ素化合物、次亜リン酸塩あるいは
ヒドラジンなど)を用いて還元し、強磁性金属粉末を得
る方法。
よって製造される強磁性金属粉末が、使いやすいが、な
かでも(2)によって得られる強磁性金属粉末は製造コ
ストと品質の点で最も望ましい。このようにして得られ
た強磁性金属粉末の表面は、化学的安定性を向上させる
ために酸化膜を設けておくことが好ましく、例えば、公
知の下記等の徐酸化処理のいずれを施したものでも用い
ることができる。 ・有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法。 ・有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表
面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法。 ・有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整
して表面に酸化皮膜を形成する方法。
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等、特に制限なく
従来公知の種々のものを使用できる。例えば、塩化ビニ
ル、ビニルエステル、(メタ)アクリル酸エステル、ス
チレン等の付加重合系の共重合体、ポリエステル、ポリ
ウレタン等の縮重合系のポリマー等が挙げられる。ま
た、本発明の結合剤は、強磁性金属粉末の分散を向上さ
せるために極性基を有していることが好ましい。
脂あるいは硬化剤を含ませることも可能であり、その例
としては、ポリイソシアネート化合物、ポリエポキシ化
合物等の熱硬化性の樹脂、化合物や不飽和二重結合を含
有する紫外線・電子線硬化樹脂、化合物がある。紫外線
・電子線硬化樹脂の例とその製造方法については特開昭
62−256219号に詳細に記載されている。
軟化温度が150℃以下、平均分子量が10000〜3
00000、重合度が約50〜2000程度のもので、
例えば、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、(メ
タ)アクリロニトリル、ブタジエン、ビニルエステル、
(メタ)アクリルアミド、塩化ビニル、塩化ビニリデン
等の重合体あるいはこれらの誘導体の重合体或いは共重
合体や更にこれらと共重合可能なモノマーとの共重合
体、例えば、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル塩化ビ
ニリデン共重合体、アクリル酸エステルスチレン共重合
体、メタクリル酸エステルアクリロニトリル共重合体、
メタクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、メタク
リル酸エステルスチレン共重合体、ウレタンエラストマ
ー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセルロース−ポ
リアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビニリデンアク
リロニトリル共重合体、ブタジエンアクリロニトリル共
重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セル
ロース誘導体(セルロースアセテートブチレート、セル
ロースダイアセテート、セルローストリアセテート、セ
ルロースプロピオネート、ニトロセルロース、エチルセ
ルロース、メチルセルロース、プロピルセルロース、メ
チルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
アセチルセルロース等)、スチレンブタジエン共重合
体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル
酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の
熱可塑性樹脂及びこれらの混合物等が使用される。
液の状態では200000以下の分子量であり、塗布、
乾燥後に加熱することにより、縮合、付加等の反応によ
り分子量は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のな
かで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しない
ものが好ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フ
ェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエス
テル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、メタ
クリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポリマーの
混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネート
との混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリ
コール/高分子量ジオール/トリフェニルメタントリイ
ソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリイミン樹
脂及びこれらの混合物等である。
応型樹脂は、主たる官能基以外に以下に挙げる極性基を
有するものを少なくとも使用することが望ましい。該極
性基としては、カルボン酸基、スルフィン酸基、スルフ
ェン酸基、スルホン酸基、燐酸基、硫酸基、ホスホン
基、ホスフィン基、ホウ酸基、硫酸エステル基、燐酸エ
ステル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基(こ
れらの酸性基は、Na塩などの形でもよい);アミノ酸
類の基;アミノスルホン酸類の基、アミノアルコールの
硫酸または燐酸エステル類の基;アルキルベタイン型等
の両性類の基;アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド
基等の塩基性基;反応により水酸基を生ずるエポキシ
基、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲン
基、シリル基、シロキサン基などを通常1種以上6種以
内含むことができる。特に好ましい極性基としてはエポ
キシ基、−OH、−COOM、−SO3 M、−OSO3
M、−PO3 M2 、−OPO3 M2 基を挙げることがで
きる(ここで、MはHあるいはNa、K等のアルカリ金
属、アンモニウムイオンである。)。これらの極性基
は、極性基を含有するモノマーを共重合(共縮合重合)
させることにより、または高分子反応を利用して樹脂に
導入することが可能である。上記極性基は樹脂重量に対
し1×10-5当量/g〜1×10-3当量/g含むことが
好ましい。
塩化ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。特に、
極性基としては、エポキシ基、−SO3 M、−OH基等
が好ましい。極性基含有樹脂の好ましい具体例としては
−SO3 Na含有ポリウレタン(東洋紡(株)製「UR
−8300」)、−SO3 Na含有ポリエステルポリウ
レタン(東洋紡(株)製「バイロン530」)、−SO
3 Na含有塩化ビニル酢酸ビニル共重合体(日本ゼオン
(株)製「MR−110」)などが挙げられる。
上の組合せとしても用いることができ、例示した極性基
を有さない通常の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は反
応型樹脂等と共に用いてもよい。この場合、前記極性基
含有量樹脂が30重量%以上、好ましくは50〜100
重量%以上存在することが好ましい。本発明において
は、結合剤樹脂の量は、強磁性金属粉末100重量部当
たり8〜25重量部が好ましい。結合剤樹脂の量が少な
いと分散性や耐久性が劣り、また結合剤樹脂の量が多い
と磁性層の充填度が減少し、望ましくない。ただし、こ
こで言う結合剤樹脂とは、硬化剤を使用する場合はそれ
を含める。
ネート化合物が例示される。ポリイソシアネート化合物
としては、分子中に−N=C=O基を2個以上有する脂
肪族、芳香族および脂環式化合物から選ばれるジ、トリ
およびテトライソシアネートが例示できる。具体的に
は、トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−1,
5−ジイソシアネート、o−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の
イソシアネート類、又当該イソシアネート類とポリアル
コールとの生成物、又イソシアネート類の縮合に依って
生成したポリイソシアネート等を使用することができ
る。これらポリイソシアネートの市販されている商品名
としては、コロネートL、コロネートHL、コロネート
2030、コロネート2031、ミリオネートMR、ミ
リオネートMTL (日本ポリウレタン(株)製)、タ
ケネートD−102、タケネートD−110N、タケネ
ートD−200、タケネートD−202(武田薬品
(株)製)、デスモジュールL、デスモジュールIL、
デスモジュールN、デスモジュールHL(住友バイエル
社製)等があり、これらを単独若しくは硬化反応性の差
を利用して二つ若しくはそれ以上の組み合わせによって
使用することができる。又、硬化反応を促進する目的
で、水酸基(ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子
量が1000〜10000のポリウレタン、水 等)、
アミノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメ
チルアミン等)を有する化合物や金属酸化物の触媒を併
用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ基を有する
化合物は多官能である事が望ましい。これらのポリイソ
シアネート化合物は結合剤樹脂総量の1〜50重量%、
望ましくは10〜30重量%で用いることが好ましい。
添加剤として、潤滑剤、分散剤、研磨剤、帯電防止剤等
を含んでもよい。潤滑剤としては、炭素数12〜20個
の一塩基性脂肪酸と炭素数3〜12個の一価のアルコー
ルから成る脂肪酸エステル類、ジアルキルポリシロキサ
ン(アルキルは炭素数1〜5個)、ジアルコキシポリシ
ロキサン(アルコキシは炭素数1〜4個)、モノアルキ
ルモノアルコキシポリシロキサン(アルキルは炭素数1
〜5個、アルコキシは炭素数1〜4個)、フェニルポリ
シロキサン、フロロアルキルポリシロキサン(アルキル
は炭素数1〜5個)などのシリコンオイル;グラファイ
ト等の導電性微粉末;二硫化モリブデン、二硫化タング
ステンなどの無機粉末;ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフル
オロエチレン等のプラスチック微粉末;α−オレフィン
重合物;常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素(n−オレ
フィン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素数
約20);フルオロカーボン類等が使用できる。これら
の潤滑剤は、通常、結合剤100重量部に対して0.2
〜20重量部の範囲で添加され得る。
しては、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリス
チン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレ
イン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステ
アロール酸等の炭素数12〜18個の脂肪酸(R1 CO
OH、R1 は炭素数11〜17個のアルキル基またはア
ルケニル基);前記の脂肪酸のアルカリ金属(Li、N
a、K等)またはアルカリ土類金属(Mg、Ca、B
a)からなる金属石鹸;前記の脂肪酸エステルの弗素を
含有した化合物;前記脂肪酸のアミド;ポリアルキレン
オキサイドアルキルリン酸エステル;レシチン;トリア
ルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩(ア
ルキルは炭素数1〜5個、オレフィンはエチレン、プロ
ピレンなど);等が使用される。この他に炭素数12以
上の高級アルコール、及びこれらの他に硫酸エステル等
も使用可能である。これらの分散剤は、結合剤100重
量部に対して0.5〜20重量部の範囲で添加される。
に使用される材料でモース硬度が5以上好ましくは7以
上の非磁性無機微粉末があげられ、具体的には酸化アル
ミニウム(α−Al2 O3 、γ−Al2 O3 、溶融アル
ミナ、コランダムなど)、酸化クロム(Cr2 O3 )、
酸化鉄(α−Fe2 O3 )、二酸化珪素、二酸化チタン
等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の炭化物、窒化硼
素等の窒化物、ダイアモンド等の微粉末を挙げることが
できいる。これらの平均粒子径は、0.05〜1.0μ
mが好ましく、強磁性粉末100重量部に対して1〜1
2重量部であるが、2〜5重量部でも充分である。即
ち、本発明では、従来の通常の磁気記録媒体に比べて研
磨剤量を低減することができ、ひいては出力を向上でき
るという効果を奏する。尚、従来の磁気記録媒体では、
研磨剤量は、ヘッド汚れを防止するためには一般的に2
〜20重量部の範囲で添加しなければならない。
(特に、平均粒径が10〜300nmのものが好まし
い。)、カーボンブラックグラフトポリマー等の導電性
微粉末;サポニン等の天然界面活性剤;アルキレンオキ
サイド系、グリセリン系、グリシドール系等のノニオン
界面活性剤;高級アルキルアミン類、第四級アンモニウ
ム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニウムま
たはスルホニウム類、等のカチオン界面活性剤;カルボ
ン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステ
ル基などの酸性基を含むアニオン界面活性剤等が使用さ
れる。
部に対して0.2〜20重量部が、界面活性剤は0.1
〜10重量部の範囲で添加される。これらの界面活性剤
は単独または混合して添加しても良い。これらは帯電防
止剤として用いられるものであるが、時としてそのほか
の目的、例えば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、
塗布助剤として適用される場合もある。
磁性金属粉末や結合剤等を溶媒に浸漬、溶解し、公知の
分散機で分散後、非磁性支持体に塗布することによって
行われる。溶媒としては、有機溶剤が望ましく、任意の
比率で混合使用することができる。以下にその具体例を
示すと、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアル
コール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸
エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエステ
ル系;エーテル、グリコールジメチルエーテル、グリコ
ールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコール
エーテル系;ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、クロルベンゼン、スチレンなどのタール系(芳香族
炭化水素);メチレンクロライド、エチレンクロライ
ド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリ
ン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素、N,N−ジ
メチルホルムアルデヒド、ヘキサン等が使用できる。
添加剤等からなる磁性塗料の作製における分散、混合の
方法は任意であり、従来公知の方法が適用できる。例え
ば、磁性塗料を幾つかの組成物に分けて後で混合するこ
となどができる。混練分散に当たっては各種の混練機が
使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロールミ
ル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラ
インダー、ゼグバリ(Szegvari)、アトライタ
ー、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速衝
撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジ
ナイザー、超音波分散機などを用いることができる。
方法としては、従来公知の方法を用いることが出来、詳
しくは「コーティング工学」(昭和46年朝倉書店)等
の成書に記載されている方法を行うことができる。上記
のようにして調製した磁性塗料の塗布方法としては任意
の塗布装置、例えば、エアードクターコート、ブレード
コート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスファーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キャストコート、ス
プレイコート、バーコート、スピンコート等を使用する
方法等が挙げられる。
PATTON著(テー.シー.パットン)“塗料の流動
と顔料分散”(1975年)に記載された如く多層同時
塗布法によって同時に2層以上の磁性層を設けてもよ
い。本発明で使用する非磁性支持体には特に制限はな
く、通常使用されているものを用いることができる。非
磁性支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレ、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、
ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリサルホン、ポリエ
ーテルサルホン等の各種合成樹脂のフィルム、およびア
ルミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げること
ができる。非磁性支持体は一般には2.5〜100μ
m、好ましくは3〜80μmの厚さのものが使用され、
テープ、シート、カード、ディスク、ドラムなどの形状
で使用される。
しては、従来公知の方法を用いることができ、詳しくは
「コーティング工学」(昭和46年朝倉書店)等に記載
されている方法を用いることができる。このような方法
により、支持体上に塗布された磁性層は必要により層中
の強磁性粉末を配向する処理をした後、乾燥され、カレ
ンダリング処理(加圧成形処理)などの表面処理を施さ
れる。
の照射処理等を必要に応じて行うこともできる。その後
所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録媒体を
製造する。磁性層の厚みは特に制限はないが、通常、
0.5〜6、更には2〜4μmである。磁性層を重層等
の多層構造にする場合はさらに一層が0.2〜1μmと
薄くても良い。又、この乾燥厚味は磁気記録媒体の用
途、形状、規格などにより決められる。
層を形成することも、非磁性支持体と磁性層との間に中
間層を形成することも、また磁性層と反対面に非磁性粉
末と樹脂からなるバック層を形成することもでき、その
手段は、公知の方法が適用できる。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、
「部」は「重量部」を示す。 実施例1 (磁性塗料用組成) 強磁性金属粉末 100部 組成(原子換算重量) Fe/Co/Ni/Al/Si=90.5/4/2/2.1/1.4 Hc 1750Oe、BET法による比表面積 56m2 /g 粒子サイズ(長軸径) 0.18μm、針状比 9 σS :126emu/g 本発明の化合物1 3.2部 (3) 2−メルカプト−4−ヒドロキシ−6−プロピルピリミジン 強磁性金属粉末表面当たりの処理量(表面処理量)3.0μmol/m2 塩化ビニル系樹脂 12部 SO3 Na 1×10-4当量/g、重合度 300 ポリエステルポリウレタン樹脂 5部 ネオペンチルグリコール/カプロラクトンポリオール/MDI=0.9/ 2.6/1、SO3 Na 1×10-4当量/g α−アルミナ(平均粒子径0.2μm) 10部 カーボンブラック(平均粒子径0.03μm) 0.5部 メチルエチルケトン 100部 シクロヘキサノン 100部 (磁気記録媒体の作製)上記強磁性金属粉末と本発明の
化合物1とを混合粉砕し、この混合粉砕で得られた混合
物に結合剤と溶剤を加えて混練し、得られた混練物に研
磨剤等の添加剤を加えてサンドミルを用いて、分散させ
た。得られた分散液にポリイソシアネートを5部、ステ
アリン酸を2部とブチルステアレート2部を溶解したM
EK溶液50部を加えて、更に高速剪断分散した後、1
μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、塗
布液を調製した。
チレンテレフタレート支持体上に乾燥膜厚が3.5μm
になるように塗布し、まだ湿潤状態にあるうちに300
0Gの磁力をもつコバルト磁石と1500Gの磁力をも
つソレノイドにより配向させ、乾燥後、金属ロールで構
成されるカレンダーで処理し、8mmの幅にスリット
し、8mmビデオテープを製造した。
部(強磁性金属粉末表面当たりに換算した添加量で0.
5倍)にした以外は、同様にして8mmビデオテープを
製造した。 実施例3 実施例1において、本発明の化合物1の添加量を9.6
部(強磁性金属粉末表面当たりに換算した添加量で3
倍)にした以外は、同様にして8mmビデオテープを製
造した。
の化合物2(4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3
a,7−テトラザインデン=前記例示化合物(1) )を使
用し、添加量を2.9部(強磁性金属粉末表面当たりに
換算した添加量では同量)にした以外は、実施例1と同
様にして8mmビデオテープを製造した。
成が、Fe/Co/Ni/Al/Si=85.5/6/
4/3.5/1である強磁性金属粉末(比表面積 58
m2 /g、Hc 1660Oe、σS 124emu/
g)を使用した以外は、実施例1と同様にして8mmビ
デオテープを製造した。
成が、Fe/Co/Ni/Al/Si=94.3/0/
0/5.7/0である強磁性金属粉末(比表面積 58
m2 /g、Hc 1610Oe、σS 124emu/
g)を使用した以外は、実施例1と同様にして8mmビ
デオテープを製造した。
基含有シランカップリング剤(TSL8331)を使用
し、添加量を4.2部(強磁性金属粉末表面当たりに換
算した添加量では同量)にした以外は、実施例1と同様
にして8mmビデオテープを製造した。
ルフォスホン酸(PPA)を使用し、添加量を3部(強
磁性金属粉末表面当たりに換算した添加量では同量)に
した以外は、実施例1と同様にして8mmビデオテープ
を製造した。 比較例3 実施例1において、本発明の化合物1を添加しない以外
は、実施例1と同様にして8mmビデオテープを製造し
た。
フェニルフォスホン酸(PPA)を使用し、添加量を3
部(強磁性金属粉末表面当たりに換算した添加量では同
量)にした以外は、実施例1と同様にして8mmビデオ
テープを製造した。
は、実施例1と同様にして8mmビデオテープを製造し
た。 比較例6 実施例6において使用した本発明の化合物1の代わりに
フェニルフォスホン酸(PPA)を使用し、添加量を3
部(強磁性金属粉末表面当たりに換算した添加量では同
量)にした以外は、実施例1と同様にして8mmビデオ
テープを製造した。
は、実施例1と同様にして8mmビデオテープを製造し
た。以上の実施例および比較例の主な要件をまとめて表
1に示した。以上の様にして得られた試料につき、下記
の各種の性能を評価した。 <磁性層の研磨性> (ヘッド磨耗量)ソニー製EVO−9500のデッキを
用い、5℃、相対湿度80%の雰囲気下で、120分長
のテープで10回繰り返し走行させ、走行前後のヘッド
突出量変化をユニオン社製Hisomet光学顕微鏡に
より測定した。 (鋼球に対する磁性層の研磨性)23℃、相対湿度10
%の雰囲気下で、1/4インチの鋼球に30gの荷重を
かけて、磁性層上を400mm(20mm×20回)走
行させ、磁性層との接触により、磨耗した鋼球の体積
(磨耗量)を調べた。 <ヘッド汚れ> (出力低下)ソニー製V900のデッキを用い、23
℃、相対湿度10%の雰囲気下で、120分長のテープ
で10回再生を繰り返した時の、再生1回目に対する1
0回目とのRF出力の比(10回目/1回目)を求め
た。 (ガラスに対する磁性層の付着性)23℃、相対湿度1
0%の雰囲気下で、1/4インチのガラス球に30gの
荷重をかけて、磁性層上を20mmの距離で10回往復
させ、磁性層との接触により磨耗したガラス球面上に占
める磁性層が付着している面積の比を求めた。評価基準
は以下の通りである。
ている面積が1/5以下の状態。 中 …同比率が1/5〜1/2の範囲にある状態。 大 …同比率が1/2以上にある状態。 <酸化安定性> (磁性層の耐候性)60℃、相対湿度90%の雰囲気下
に1週間放置し、磁気特性の変化を調べた。東英工業
(株)製振動試験磁束計を用いて磁場強度(Hm)を5
kOeとしたときの磁性層の抗磁力(Hc)と飽和磁束
密度(Bm)及び残留磁束密度(Br)を求め、初期の
値との差の割合(%)(ΔHc、ΔBm)を求めた。 <分散性> (Hc,Bm)前記東英工業(株)製振動試験磁束計を
用いてHmを5kOeで測定した。 (中心線平均表面粗さ(Ra))三次元表面粗さ計(小
坂研究所製)を用い、カットオフ0.25mmで測定し
た。 (電磁変換特性) 「7MHz出力」富士写真フィルム(株)製FUJIX
8 8mmビデオデッキを用いて7MHz信号を記録
し、この信号を再生したときの7MHz信号再生出力を
オシロスコープで測定した。レファレンスは富士写真フ
ィルム(株)製8ミリテープSAGP6−120であ
る。
比較例とほぼ同じヘッド磨耗量を示しながら、ガラスに
対して磁性層の付着がなく、出力低下が低く抑制される
ことが分かる(図2および図3参照)。即ち、Alを所
定量含む同じ組成の強磁性金属粉末を使用した場合、本
発明の化合物を使用するとヘッド汚れが防止できるから
出力低下が効果的に抑制できることを示している。
有させるAl量を特定すると共に強磁性金属粉末の表面
を特定構造のピリミジンまたはテトラザインデンで処
理、含有せしめることにより、特に低湿度においてもヘ
ッド磨耗量が少なくて、且つヘッド汚れが少ない、ひい
ては出力低下が少ない磁気記録媒体を提供できる。
Claims (2)
- 【請求項1】 非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結
合剤樹脂を主体とする磁性層を有する磁気記録媒体にお
いて、該強磁性金属粉末は原子換算重量で0.5〜6重
量%のAlを含有しており、且つ表面に化1の一般式
(1)で表される化合物を含有していることを特徴とす
る磁気記録媒体。 【化1】 (式中、R1 およびR2 は、Hまたは置換あるいは非置
換のアルキル基あるいはアリール基を表す。但し、R1
およびR2 の両方が同時にHであることはない。) - 【請求項2】 非磁性支持体上に強磁性金属粉末及び結
合剤樹脂を主体とする磁性層を有する磁気記録媒体にお
いて、該強磁性金属粉末は原子換算重量で0.5〜6重
量%のAlを含有しており、且つ表面に化2の一般式
(2)で表される化合物を含有していることを特徴とす
る磁気記録媒体。 【化2】 (式中、R3 およびR4 は、−OH基または置換あるい
は非置換のアルキル基あるいは芳香族基を表す。但し、
R3 およびR4 のうち少なくとも一方は、−OH基であ
って、かつ同時に−OH基であることはない。)
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