JP2002312920A

JP2002312920A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JP2002312920A
Application number: JP2001119751A
Authority: JP
Inventors: Nobunosuke Kunikata; 暢之介國方; Masaki Suzuki; 雅樹鈴木; Hiroaki Takano; 博昭高野
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 2001-04-18
Filing date: 2001-04-18
Publication date: 2002-10-25

Abstract

(57)【要約】【課題】高出力・高密度記録であって、ヘッド摩耗特性
およびヘッド汚れ等の走行耐久性に極めて優れた磁気記
録媒体を提供すること。【解決手段】非磁性支持体上に、強磁性粉末、バインダ
ー及び研磨剤を含有する磁性層を設け、原子間力顕微鏡
を用いて測定された磁性層表面に存在する４５０μｍ²
当たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１５ｎｍ以上の研
磨剤突起数を５％以下とした磁気記録媒体が提供され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁性層と非磁性支
持体からなる磁気記録媒体に関する。更に詳しくは、Ｖ
ＴＲのヘッド摩耗が改良され、ＶＴＲのヘッド汚れが抑
制される等の走行安定性に優れ、しかも高出力を保つ磁
性層を有する磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般にオーディオ用、ビデオ用、コンピ
ューター用（ディスク、バックアップテープ）等の磁気
記録媒体として、強磁性微粉末をバインダー（結合剤）
中に分散させた磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記
録媒体が用いられている。従来これらの磁気記録媒体
は、磁性層として強磁性微粉末、バインダー、研磨剤を
含むものが使用されてきた。このうち特に研磨剤は、ビ
デオテープレコーダー（ＶＴＲ）のヘッド汚れを抑制
し、常に最良の画像と音声、データ記録を得るために使
用されている。この目的のために、様々な研磨剤が提案
され、例えば特公昭４９−３９４０２号公報、特開昭５
７−１８３６２８号公報、米国特許３６３０９１０号明
細書、特開昭５７−１７９９４５号公報等に開示されて
いる。

【０００３】近年、これらの磁気記録媒体は高密度記録
が要求され、磁気記録媒体表面の超平滑化などにより再
生出力／雑音の高出力化や低雑音化、強磁性微粉末の微
粒子化、金属粉末化、高充填化、磁気記録媒体の薄手化
が要求されている。また記録密度の向上や高画質化のた
めにはＶＴＲでの磁気記録媒体への書き込み速度や呼び
込み速度の短縮化や記録方式（アナログ方式からデジタ
ル方式）の変更、記録幅の減少（５〜２０μｍ）や記録
最短波長の減少（０．１〜０．９μｍ）が必要で、ヘリ
カルスキャンＶＴＲにおいてはヘッドシリンダー速度が
５４００ｒｐｍ以上、またテープとヘッドとの相対速度
も２０ｍ／ｓｅｃをはるかに越えるようになってきてい
る。このような高出力や高速摺動適性を磁気記録媒体に
持たせるためには、磁気記録媒体がＶＴＲの走行系やヘ
ッド、シリンダー系で走行安定性の確保が必要不可欠で
あり、この目的のために、さきに述べた研磨剤以外にカ
ーボンブラックや有機化合物の各種潤滑剤が用いられて
いる。

【０００４】これらの磁気記録媒体の大きな問題点は、
ＶＴＲヘッドとの相性である。高密度記録化のために薄
手化、超平滑化を達成しようとしたとき、ＶＴＲのヘッ
ドに対し摩擦係数を下げることがきわめて困難である。
摩擦係数が上昇すると磁性層の表層が削れヘッドが汚れ
る。このため先に述べたような研磨剤を磁性層中に添加
するが、ヘッド汚れに対し充分効果があるような量を添
加するとヘッド摩耗が著しく増加する。ヘッド摩耗が増
加するとヘッド材質はより硬い方向にすることが提案さ
れ、このため再び磁性層の研磨剤量を増やさなくてはな
らなくなる。

【０００５】また、研磨剤添加量を増やすとＶＴＲヘッ
ドを傷つけることによるＶＴＲヘッド面の粗面化の現象
が起こる。この場合には、ヘッドと媒体とのスペーシン
グが広がることで出力低下が起きることや、粗面化した
ヘッドによる磁性層の表層が削れて、逆にヘッド汚れが
発生してしまうことになる。さらに、研磨剤添加量を増
やすことは、磁性層中の磁性体の充填率が下がり、出力
の低下につながる。このように研磨剤添加量のみによる
特性の制御では、従来ヘッド摩耗とヘッド汚れのバラン
スはいずれかの特性を犠牲にするものであった。

【０００６】高密度記録化のために薄手化、超平滑化を
達成しようとしたときに発生する課題である。ＶＴＲの
ヘッドに対する摩擦係数を低下させるために、研磨剤以
外に潤滑剤の添加が行なわれる。摩擦係数低下のための
潤滑剤の添加は出力低下やヘッド汚れを引き起こす磁性
層の可塑化をもたらす。潤滑剤の添加によって、摩擦係
数の低下と出力低下のバランスを取ることもきわめて困
難であった。

【０００７】また磁性層の表面に於ける研磨剤の存在量
を規定して耐久性を改良しようとする提案がされてい
る。例えば特開昭６１−５７０３６号公報には、モース
硬度６以上の研磨剤粒子を磁性粉に対して３〜１５質量
％の割合で含有させ、且つ磁性層表面における単位面積
当りの粒子の平均個数を０．２５個／μｍ²以上に定め
た磁気記録媒体が開示されている。また、特開昭６０−
９３６３１号公報には、モース硬度７以上の非磁性研磨
剤粒子を磁性層表面１００μｍ²当り２０個以上に定め
た磁気記録媒体が開示されている。特開平６−５２５４
１号公報には、磁性層表面に存在する研磨剤の平均突起
高さを１５ｎｍ以下にすることによりヘッド摩耗及びヘ
ッド汚れを改善することが記載されている。特開平６−
１２６５１号公報では、電磁変換特性と走行性、耐久性
に優れたバランスの取れた磁気記象媒体を得るために、
磁性層の表面粗度Ｒａを０．０１５μｍ以下とし、かつ
高さ０．０３μｍ以上の突起を１ｍｍ²当たり１２５,０
００〜２５０,０００個存在させることが提案されてい
る。る。さらに、特開平６−３０９６５０号公報では、
磁性層表面のＲａ値を小さくした場合の摩擦係数の増加
に伴う走行安定性が低下する問題を解決し、信頼性の高
い磁気記録媒体を提供するために、磁性層に潤滑剤を磁
性粉１００質量部に対して８〜３０質量部添加し、且つ
記磁性層の最も高い突起の頂点から垂直方向下方２０ｎ
ｍに位置しべースフィルムに平行な水平面よりも高い突
起の数を４００〜２５００個／ｍｍ²とすることを提案
している。

【０００８】しかしながら、これらの提案にあって、初
期ヘッド摩耗、ヘッド粗面化、ヘッド汚れ、出力低下の
全ての項目にわたって満足するものは得られなかった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高出
力・高密度記録であって、ヘッド摩耗特性およびヘッド
汚れ等の走行耐久性に極めて優れた磁気記録媒体を提供
することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明によれば下記構成
の磁気記録媒体が提供されて、本発明の上記目的が達成
される。１．非磁性支持体上に、強磁性粉末、バインダー及び研
磨剤を含有する磁性層を設けた磁気記録媒体において、
原子間力顕微鏡を用いて測定された磁性層表面に存在す
る４５０μｍ²当たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１
５ｎｍ以上の研磨剤突起数が５％以下であることを特徴
とする磁気記録媒体。２．磁性層に含まれる研磨剤が、強磁性微粉末１００質
量部当たり４〜２０質量部であることを特徴とする上記
１記載の磁気記録媒体。３．磁性層に含まれる研磨剤がアルミナ、酸化クロムお
よびダイアモンドから選ばれた少なくとも１種であるこ
とを特徴とする上記１または２に記載の磁気記録媒体。４．磁性層の表面粗さが０．１〜６ｎｍであり、且つ非
磁性支持体の磁性層が存在する面の裏面に、表面粗さが
２〜１５ｎｍのバック層を有することを特徴とする上記
１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。

【００１１】本発明は、上記の通り、原子間力顕微鏡を
用いて測定された磁性層表面に存在する４５０μｍ²当
たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１５ｎｍ以上の研磨
剤突起数が５％以下であることを特徴とする。従来技術
により作成された磁性層表面には、原子間力顕微鏡を用
いて測定された研磨剤突起は、高さ１５ｎｍ以上の研磨
剤突起が多く存在し、ＶＴＲヘッド摩耗が多くなり走行
耐久性に劣る問題や、ヘッド粗面化による特性の低下が
起きる磁気記録媒体しか得られなかった。特開平６−５
２５４１号公報には、磁性層表面に存在する研磨剤の平
均突起高さを１５ｎｍ以下にすることによりヘッド摩耗
及びヘッド汚れを改善することが記載されている。しか
し平均高さを１５ｎｍ以下に設定によって初期ヘッド摩
耗の増加は改善することができるが、研磨剤突起の存在
分布が広く１５ｎｍ以上の突起が多く存在する場合には
ヘッド粗面化による特性の低下を改善することができな
かった。本発明の場合、上記の如くに研磨剤突起分布を
制御することにより、ヘッド摩耗特性およびヘッド汚れ
等の走行耐久性に極めて優れる結果が得られる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、詳しく述べる。本発明の磁気記録媒体は、非磁性支
持体上に、強磁性粉末、バインダー及び研磨剤を含有す
る磁性層が形成されてなる。そして原子間力顕微鏡を用
いて測定された該磁性層表面に存在する４５０μｍ²当
たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１５ｎｍ以上の研磨
剤突起数が５％以下、好ましくは３％以下、さらに好ま
しくは０％である。

【００１３】本発明において原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
による磁性層表面の研磨剤突起高さおよび突起数の測定
方法は以下の通りである。米国のデジタルインスツルメ
ンツ社製、ナノスコープ３を用いて、稜角７０度・Ｓｉ
Ｎ製の四角錐探針を使用し、表面粗さを測定する。測定
サンプル表面の１５μｍ×１５μｍの範囲を、５１２×
５１２個の測定点に分割し、各測定点で高さを測定す
る。平均面とは、各測定点の高さを平均した高さの面で
ある。突起の高さとは、平均面からの突起の頂点までの
高さを表す。磁性層表面の突起には「研磨剤突起」と
「非研磨剤突起」がある。「研磨剤突起」とは、突起を
構成する成分の内の固体成分が主として研磨剤であるも
のであり、「非研磨剤突起」とは、主に固体潤滑剤や磁
性体や結合剤成分からなる突起である。上記「研磨剤突
起」と「非研磨剤突起」の判別は、突起部に照射した電
子線の二次電子線の照射スペクトル（ＥＤＡＸ）解析に
より行う。突起部以外の磁性層表面に照射したスペクト
ルと突起部のスペクトルを比較して、研磨剤を構成する
無機元素の検出量の型や、形状観察から判断する。研磨
剤突起高さ分布は、平均面から高さ方向に５ｍｍ間隔の
領域に分割し、各領域に存在する研磨剤突起の数を測定
する。１測定サンプルにつき２視野（面積：４５０μｍ
²）の測定を行う

【００１４】磁性層が多層構成の場合、最上層の磁性層
中に存在する研磨剤の平均粒子サイズは０．１〜１μｍ
が適当で、この時の最上層の厚みは研磨剤の平均粒子サ
イズ以下であっても構わない。磁性層が単層構成の場合
は、磁性層中に存在する研磨剤の平均粒子サイズは多層
構成の場合と同じく０．１〜１μｍが適当で、この時の
単層の厚みは研磨剤の平均粒子サイズ以上であることが
好ましい。また、研磨剤の形状は、球形状、球形に近似
した形状、角を有する形状など、従来用いられている研
磨剤の形状のものを用いることができる。

【００１５】磁性層に含まれる研磨剤の添加量は、強磁
性微粉末１００質量部に対して、４〜２０質量部が好ま
しい。磁性層中に添加する研磨剤量が強磁性微粉末１０
０質量部あたり４質量部末端では、添加量が少ないため
ＶＴＲヘッドに対する充分なクリーニング効果が得にく
くなる。また、テープ製造の搬送工程にて貼りつきやす
くなる問題が発生してしまう。磁性層中に添加する研磨
剤量が強磁性微粉末１００質量部あたり２０質量部を超
える場合は、研磨剤の凝集部が増え、高さが１５ｎｍ以
上の突起の存在比率が５％以上になること、および、全
体の研磨剤突起数が増加しＶＴＲヘッドへの研磨剤突起
の接触頻度が上がることによりヘッド摩耗が増加し、磁
気記録媒体として適当でない。

【００１６】磁性層表面の研磨剤突起高さ分布を前述し
たようにするには、例えば磁性層を形成するための塗布
液を塗布後、乾燥工程での熱量の与え方を設定し、それ
に引き続くカレンダー処理前の磁性層内に残留する溶剤
量を変えることによって、カレンダー工程での研磨剤の
押しつぶれ具合を制御することにより達成できる。即
ち、非磁性層支持体上に強磁性微粉末とバインダーおよ
び研磨剤を含む磁性層形成用塗布液を塗布した後、搬送
速度１０ｍ／分〜９００ｍ／分、温度５０℃〜１３０℃
で２回以上、多段の対向金属ロールによりカレンダー処
理を行うことによって、磁性層表層に存在する研磨剤突
起高さ分布を制御することができ、そしてカレンダー処
理前の磁性層内に残留している溶剤量を０．６〜１４．
０（１０^-6ｍｇ／ｍ³）の範囲にすることで、高さ１５
ｎｍ以上の研磨剤突起の存在比率を５％以下にすること
ができる。

【００１７】磁性層に含まれる研磨剤として、アルミナ
（モース硬度：９）、酸化クロム（モース硬度：９）お
よびダイヤモンド（モース硬度：１０）から選択される
少なくとも１種を用いることが好ましい。このようにモ
ース硬度８以上の研磨剤を使用することによって、磁性
層表面に存在する研磨剤突起のうち、突起高さが１５ｎ
ｍ以上である突起の存在比率が５％以下の場合であって
も十分な研磨特性を得ることができる。

【００１８】また、磁性層の表面粗さは、カレンダー処
理を行い、好ましくは０．１〜６．０ｎｍ、より好まし
くは１．０〜４．０ｎｍとすることにより、電磁変換特
性の優れた磁気記録媒体を得ることができる。また、磁
性層が存在する非磁性支持体の裏面のバック層の表面粗
さを好ましくは２．０〜１５．０ｎｍ、より好ましくは
５．０〜１２．０ｎｍとすることにより、走行耐久性に
極めて優れる磁気記録媒体を得ることができる。

【００１９】本発明の磁気記録媒体は、既に述べたよう
に、少なくとも強磁性微粉末、バインダー、研磨剤を含
む磁性層が非磁性支持体上に設けられている基本構造を
有するものである。本発明の磁気記録媒体においては、
磁性層中に固体、液体の各種潤滑剤を含んでもよく、ま
た磁性層を設けた非磁性支持体上の反対側の面（裏面）
には非磁性粉体（カーボンブラック、無機粉体、研磨
剤、固体潤滑剤等）とバインダーを含むバック層を設け
ることができる。さらに本発明の磁気記録媒体において
は、磁性層中には、潤滑剤、防錆剤、防黴剤、帯電防止
剤、非磁性粉体、色素、有機磁性化合物、分散剤等を含
んでもよい。また、磁性層は、強磁性微粉末の異なるも
しくは同一の磁性層からなる多層構成としてもよい。

【００２０】本発明の強磁性微粉末としては、γ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｃｏ含有（被着、変成、ドープ）のγ−Ｆｅ
₂Ｏ₃、Ｆｅ₃Ｏ₄、Ｃｏ含有（被着、変成、ドープ）のＦ
ｅ₃Ｏ₄、γ−ＦｅＯＸ、Ｃｏ含有（被着、変成、ドー
プ）のγ−ＦｅＯＸ（Ｘ＝１．３３〜１．５０）、Ｃｒ
Ｏ₂等も使用できるが、特にα−Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆ
ｅ−Ｃｏ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎ
ｉ−Ｐ合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ−Ｂ合金、Ｆｅ−Ｎｉ−
Ｚｎ合金、Ｎｉ−Ｃｏ合金、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ合金など
の強磁性金属微粉末が好ましい。これら強磁性金属微粉
末の粒子サイズは約０．００５〜１μｍの長さで、軸長
／軸幅の比は、１／２〜１５／１程度である。又、これ
らの強磁性金属微粉末の比表面積は、２５〜８０ｍ²／
ｇ、より好ましくは４０〜７０ｍ²／ｇ、抗磁力（Ｈ
ｃ）は１２５０〜２８００Ｏｅ（９８．７５〜２２１．
２ｋＡ／ｍ）、含水率は０．１〜２．０質量％、ｐＨは
３〜１１（５ｇ磁性体／１００ｇ水）が好ましい。これ
らの強磁性微粉末の表面に、防錆剤、表面処理剤、分散
剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれぞれの目的のために、
磁性層用塗布液中に分散させる前に先立って溶剤中で含
浸させて、吸着させてもよい。

【００２１】本発明の磁気記録媒体は、これら強磁性微
粉末が結合剤（バインダー）中に分散された磁性層を非
磁性支持体上に設けたものである。また、強磁性合金粉
末中の金属分は６０質量％以上であり、そして金属分の
７０質量％以上が少なくとも１種類の強磁性金属あるい
は合金（例、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃ
ｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆ
ｅ）であり、該金属分の４０質量％以下、より好ましく
は２０質量％以下の範囲内で他の成分（例、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｚｎ、
Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂ
ａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｂ、Ｐ）を含むことのある合金や、
窒化鉄や炭化鉄等を挙げることができる。特にこの中で
金属鉄の強度を補う為に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｒを単独ない
しは混合して磁性層の表層に設けることが好ましい。ま
た、上記強磁性金属が少量の水酸化物または酸化物、ア
ルカリ金属元素（Ｎａ、Ｋ、等）、アルカリ土類金属元
素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ）を含むものなどであってもよ
い。これらの強磁性金属粉末の製造方法は既に公知であ
り、本発明で用いる強磁性粉末の代表例である強磁性合
金粉末についてもこれら公知の方法に従って製造するこ
とができる。

【００２２】すなわち、強磁性合金微粉末の製造方法の
例としては、下記の方法を挙げることができる。（ａ）複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）を水素など
の還元性気体で還元する方法（ｂ）酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあ
るいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法（ｃ）金属カルボニル化合物を熱分解する方法（ｄ）強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、
次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加し
て還元する方法（ｅ）水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法（ｆ）金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を
得る方法強磁性金属微粉末を使用する場合に、その形状にとくに
制限はないが通常は針状、粒状、サイコロ状、米粒状お
よび板状のものなどが使用され特にさきに述べた針状比
のものが好ましい。また、これら強磁性体のσｓは、１
００〜２１０ｅｍｕ／ｇ（Ａ・ｍ²／ｋｇ）が好まし
い。結晶サイズは１００〜４５０Åが好ましい。さいこ
ろ状のものとしては立方体かもしくは６面体、８面体の
形状のものが好ましい。板状のものとしては板状／厚み
の比が、３／１〜３０／１であるものが好ましい。これ
らの強磁性合金微粉末の例示は、特開昭５３−７０３９
７号、特開昭５８−１１９６０９号、特開昭５８−１３
０４３５号、特開昭５９−８０９０１号、特開昭５９−
１６９０３号、特開昭５９−４１４５３号、特公昭６１
−３７７６１号、米国特許４４４７２６４号、米国特許
４７９１０２１号、米国特許４９３１１９８号の公報等
に記載されている。

【００２３】本発明の磁性層やバック層に使用されるバ
インダーとしては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹
脂、反応型樹脂、電子線硬化型樹脂、紫外線硬化型樹
脂、可視光線硬化型樹脂やこれらの混合物が使用され
る。熱可塑性樹脂としては軟化温度が１５０℃以下、平
均分子量が１００００〜３０００００、重合度が約５０
〜２０００程度のものでより好ましくは２００〜６００
程度であり、例えば塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル共重合体、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニル
アルコール共重合体、塩化ビニル・ビニルアルコール共
重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニル・アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
・アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル・塩
化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル・スチレン
共重合体、メタクリル酸エステル・アクリロニトリル共
重合体、メタクリル酸エステル・塩化ビニリデン共重合
体、メタクリル酸エステル・スチレン共重合体、ウレタ
ンエラストマー、ナイロン−シリコン系樹脂、ニトロセ
ルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッカビニル、塩化ビ
ニリデン・アクリロニトリル共重合体、ブタジエン・ア
クリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニル
ブチラール、セルロース誘導体（セルロースアセテート
ブチレート、セルロースダイアセテート、セルロースト
リアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセル
ロース、エチルセルロース、メチルセルロース、プロピ
ルセルロース、メチルエチルセルロース、カルボキシメ
チルセルロース、アセチルセルロース等）、スチレンブ
ダジエン共重合体、ポリエステル樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、クロロビニルエーテル・アクリル酸エステル共
重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂
及びこれらの混合物等が使用される。これらの樹脂の例
示は、特公昭３７−６８７７号、特公昭３９−１２５２
８号、特公昭３９−１９２８２号、特公昭４０−５３４
９号、特公昭４０−２０９０７号、特公昭４１−９４６
３号、特公昭４１−１４０５９号、特公昭４１−１６９
８５号、特公昭４２−６４２８号、特公昭４２−１１６
２１号、特公昭４３−４６２３号、特公昭４３−１５２
０６号、特公昭４４−２８８９号、特公昭４４−１７９
４７号、特公昭４４−１８２３２号、特公昭４５−１４
０２０号、特公昭４５−１４５００号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭４７−２２０６３号、特公昭４７−
２２０６４号、特公昭４７−２２０６８号、特公昭４７
−２２０６９号、特公昭４７−２２０７０号、特公昭４
７−２７８８６号、特開昭５７−１３３５２１号、特開
昭５８−１３７１３３号、特開昭５８−１６６５３３
号、特開昭５８−２２２４３３号、特開昭５９−５８６
４２号、米国特許４５７１３６４号、米国特許４７５２
５３０号の公報等に記載されている。

【００２４】熱硬化性樹脂または反応型樹脂は、塗布液
の状態では、２００，０００以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱加湿することにより、縮合、付加等の
反応により分子量はほぼ無限大となる。また、これらの
樹脂のなかで、樹脂が熱分解するまでの間に軟化または
溶融しないものが好ましい。具体的には例えばフェノー
ル樹脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタンポリカーボネー
ト樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シ
リコン樹脂、アクリル系反応樹脂（電子線硬化樹脂）、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ニトロセルロースメラミン
樹脂、高分子量ポリエステル樹脂とイソシアネートプレ
ポリマーの混合物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートとの混合物、尿素ホルムアルデ
ヒド樹脂、低分子量グリコール／高分子量ジオール／ト
リフェニルメタントリイソシアネートの混合物、ポリア
ミン樹脂、ポリイミン樹脂及びこれらの混合物等であ
る。これらの樹脂の例示は特公昭３９−８１０３号、特
公昭４０−９７７９号、特公昭４１−７１９２号、特公
昭４１−８０１６号、特公昭４１−１４２７５号、特公
昭４２−１８１７９号、特公昭４３−１２０８１号、特
公昭４４−２８０２３号、特公昭４５−１４５０１号、
特公昭４５−２４９０２号、特公昭４６−１３１０３
号、特公昭４７−２２０６５号、特公昭４７−２２０６
６号、特公昭４７−２２０６７号、特公昭４７−２２０
７２号、特公昭４７−２２０７３号、特公昭４７−２８
０４５号、特公昭４７−２８０４８号、特公昭４７−２
８９２２号等に記載されている。これらの熱可塑、熱硬
化性樹脂、反応型樹脂は、樹脂が持つ主たる官能基以外
の官能基としてカルボン酸（ＣＯＯＭ）、スルフィン
酸、スルフェン酸、スルホン酸（ＳＯ₃Ｍ）、燐酸（Ｐ
Ｏ（ＯＭ）（ＯＭ））、ホスホン酸、硫酸（ＯＳＯ
₃Ｍ）、及びこれらのエステル基等の酸性基（Ｍは、水
素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属または炭化水
素基を表す）、アミノ酸類；アミノスルホン酸、アミノ
アルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベタ
イン型等の両性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、
アミド基また、水酸基、アルコキシル基、チオール基、
アルキルチオ基、ハロゲン基（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、
シリル基、シロキサン基、エポキシ基、イソシアナト
基、シアノ基、ニトリル基、オキソ基、アクリル基、フ
ォスフィン基を通常１〜６種含み、各々の官能基は樹脂
１ｇあたり１×１０^-6ｅｑ〜１×１０^-2ｅｑを含むこと
が好ましい。なかでも、スルホン酸、燐酸、フォスホン
酸、エポキシ基および水酸基のうち少なくとも１つ以上
の官能基を有する樹脂が特に好ましい。

【００２５】磁性層やバック層に用いるポリイソシアネ
ートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４'−
ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチ
レン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイ
ソシアネート、イソホロンシイソシアネート、トリフェ
ニルメタントリイソシアネート、インホロンジイソシア
ネート等のイソシアネート類、また当該イソシアネート
類とポリアルコールとの生成物、またイソシアネート類
の縮合に依って生成した２〜１０量体のポリイソシアネ
ート、またポリイソシアネートとポリウレタンとの生成
物で末端官能基がイソシアネートであるもの等を使用す
ることができる。これらポリイソシアネート類の平均分
子量は１００〜２００００のものが好適である。これら
ポリイソシアネートの市販されている商品名としては、
コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、
コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、ミリオネート
ＭＴＬ（日本ポリウレタン株製）、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、タケネート３００Ｓ、タケネー
ト５００（武田薬品株製）、スミジュールＴ−８０、ス
ミジュール４４Ｓ、スミジュールＰＦ、スミジュール
Ｌ、スミジュールＮデスモジュールＬ、デスモジュール
ＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、デスモ
ジュールＴ６５、デスモジュール１５、デスモジュール
Ｒ、デスモジュールＲＦ、デスモジュールＳＬ、デスモ
ジュールＺ４２７３（住友バイエル社製）等があり、こ
れらを単独若しくは硬化反応性の差を利用して二つ若し
くはそれ以上の組み合わせによって使用することができ
る。また、硬化反応を促進する目的で、水酸基を有する
化合物（ブタンジオール、ヘキサンジオール、分子量が
１０００〜１００００のポリウレタン、水等）、アミノ
基を有する化合物（モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン等）や金属酸化物の触媒や鉄アセ
チルアセトネート等の触媒を併用することも出来る。こ
れらの水酸基やアミノ基を有する化合物は多官能である
ことが望ましい。

【００２６】これらポリイソシアネートは、磁性層、バ
ック層とも、結合剤樹脂とポリイソシアネートの総量１
００質量部あたり２〜７０質量部で使用することが好ま
しく、より好ましくは５〜５０質量部である。これらの
例示は特開昭６０−１３１６２２号、特開昭６１−７４
１３８号等の公報において示されている。これらの結合
剤の単独または組合わされたものが使われ、ほかに添加
剤が加えられる。磁性層の強磁性微粉末と結合剤との混
合割合は、質量比で強磁性微粉末１００質量部に対して
結合剤３〜１００質量部の範囲で使用される。バック層
の微粉末と結合剤の混合割合は質量比で微粉末１００質
量部に対して結合剤８〜１５０質量部の範囲で使用され
る。添加剤としては分散剤、潤滑剤、帯電防止剤、酸化
防止剤、溶剤等が加えられる。

【００２７】磁性層やバック層に使用されるカーボンブ
ラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、
カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いる事が
できる。これらカーボンブラックはテープの帯電防止
剤、遮光剤、摩擦係数調節剤、耐久性向上を目的として
使用される。これらカーボンブラックの米国における略
称の具体例を示すとＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＩＩＳＡＦ、
Ｔ、ＨＡＦ、ＳＰＦ、ＦＦ、ＦＥＦ、ＨＭＦ、ＧＰＦ、
ＡＰＦ、ＳＲＦ、ＭＰＦ、ＥＣＦ、ＳＣＦ、ＣＦ、Ｆ
Ｔ、ＭＴ、ＨＣＣ、ＨＣＦ、ＭＣＦ、ＬＦＦ、ＲＣＦ等
があり、米国のＡＳＴＭ規格のＤ−１７６５−８２ａに
分類されているものを使用することができる。

【００２８】磁性層やバック層に使用されるこれらカー
ボンブラックの平均粒子サイズは、５〜１０００ミリμ
ｍ（電子顕微鏡）、窒素吸着法比表面積は１〜８００ｍ
²／ｇ、ｐＨは４〜１１（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−１
９８２法）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）吸油量は１
０〜８００ｍｌ／１００ｇ（ＪＩＳ規格Ｋ−６２２１−
１９８２法）である。本発明に使用されるカーボンブラ
ックのサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる目的で
５〜１００ｎｍのカーボンブラックを、また塗布膜の強
度を制御するときに５０〜１０００ｎｍのカーボンブラ
ックを用いる。また塗布膜の表面粗さを制御する目的
で、表面の平滑化のために、より微粒子のカーボンブラ
ック（１００ｎｍ未満）を、粗面化して摩擦係数を下げ
る目的で粗粒子のカーボンブラック（１００ｎｍ以上）
を用いる。

【００２９】このようにカーボンブラックの種類と添加
量は磁気記録媒体に要求される目的に応じて使い分けら
れる。また、これらのカーボンブラックを、後述の分散
剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用し
てもよい。また、カーボンブラックを製造するときの炉
の温度を２０００℃以上で処理して表面の一部をグラフ
ァイト化したものも使用できる。また、特殊なカーボン
ブラックとして中空カーボンブラックを使用することも
できる。磁性層の場合、強磁性微粉末１００質量部に対
して０．１〜２０質量部で用いることが望ましい。バッ
ク層の場合結合剤１００質量部に対して２０〜４００質
量部で用いることが望ましい。バック層に使用出来るカ
ーボンブラックは、例えば『カーボンブラック便覧』、
カーボンブラック協会編、（昭和４６年発行）を参考に
することが出来る。これらカーボンブラックの例示は米
国特許４５３９２５７号、米国特許４６１４６８５号、
特開昭６１−９２４２４号、特開昭６１−９９９２２７
号の公報等に記載されている。

【００３０】バック層で用いられる研磨剤は、磁気テー
プの耐久性を向上させるために用いられ、一般的に研磨
作用若しくは研磨作用をもつ材料でα−アルミナ、γ−
アルミナ、α、γ−アルミナ、溶融アルミナ、酸化クロ
ム、ダイアモンドのうち少なくとも一種以上を用いるこ
とが好ましい。これ以外の研磨剤として炭化珪素、酸化
セリウム、コランダム、α−酸化鉄、ザクロ石、エメリ
ー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、ガーネット、珪
素、窒化珪素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭化硼素、
炭化タングステン、チタンカーバイド、トリポリ、ケイ
ソウ土、ドロマイド等で、主としてモース硬度６以上の
材料を１乃至４種迄の組合わせで使用することが好まし
い。これらの研磨剤は平均粒子サイズが０．００５〜５
μｍの大きさのものが使用され、特に好ましくは０．０
１〜２μｍである。これらの具体例としては住友化学
（株）製のＡＫＰ１、ＡＫＰ１５、ＡＫＰ２０、ＡＫＰ
３０、ＡＫＰ５０、ＡＫＰ８０、Ｈｉｔ５０、Ｈｉｔ６
０、Ｈｉｔ１００等が挙げられる。これらについては特
公昭５２−２８６４２号、特公昭４９−３９４０２号、
特開昭６３−９８８２８号、米国特許３６８７７２５
号、米国特許３００７８０７号、米国特許３０４１１９
６号、米国特許３２９３０６６号、米国特許３６３０９
１０号、米国特許３８３３４１２号、米国特許４１１７
１９０号、英国特許１１４５３４９号、西独特許８５３
２１１号等に記載されている。

【００３１】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつも
のが使用される。具体的には、例えば、二硫化モリブデ
ン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フ
ッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコー
ン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フ
ッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフ
ィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそ
のアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのア
ルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フッ素含有アル
キル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）の金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｃｕ、など）または、炭素数１２〜２２の一価、二
価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三
価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と
からなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルま
たはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物の
モノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２
２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなど
が使用できる。

【００３２】これらの具体例としてはステアリン酸ブチ
ル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステ
アリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステア
リン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステ
アレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アン
ヒドロソルビタントリステアレート、オレイルアルコー
ル、ラウリルアルコール等が挙げられる。また、アルキ
レンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、ア
ルキルフェノールエチレンオキサイド付加体等のノニオ
ン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級ア
ンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性
剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル
基、燐酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性
剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコー
ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型等
の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤
については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発
行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防
止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に
異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純
物が含まれてもかまわない。これらの不純分は０〜３０
％が好ましく、さらに好ましくは０〜１０％である。

【００３３】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は非磁性層、磁性層でその種類、量を必要に応じ
使い分けることができる。例えば、非磁性層、磁性層で
融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御す
ること、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面への
にじみ出しを制御すること、界面活性剤量を調節するこ
とで塗布の安定性を向上させること、潤滑剤の添加量を
非磁性層で多くして潤滑効果を向上させることなど考え
られ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。

【００３４】本発明に使用する分散剤、分散助剤として
は、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン
酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、エライ
ジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸、ベ
ヘン酸、マレイン酸、フタル酸等の炭素数２〜４０個の
脂肪酸（Ｒ¹ＣＯＯＨ、Ｒ¹は炭素数１〜３９個のアルキ
ル基、フェニル基またはアラルキル基を示す）、この脂
肪酸のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはアルカ
リ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ等）、Ｃｕ、Ｐｂ、ＮＨ
₄等から成る金属石鹸（オレイン酸銅）、脂肪酸アミ
ド；レシチン（大豆油レシチン）等が使用される。この
他に炭素数４〜４０の高級アルコール、（ブタノール、
オクチルアルコール、ミリスチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、セチルアルコール、イソセチルアルコー
ル）及びこれらの硫酸エステル、スルホン酸、フェニル
スルホン酸、アルキルスルホン酸、スルホン酸エステ
ル、燐酸モノエステル、燐酸ジエステル、燐酸トリエス
テル、アルキルホスホン酸、フェニルホスホン酸、アミ
ン化合物等も使用可能である。また、ポリエチレングリ
コール、ポリエチレンオキサイド、スルホ琥珀酸、スル
ホ琥珀酸金属塩、スルホ琥珀酸エステル等も使用可能で
ある。これらの分散剤は通常一種類以上で用いられ、一
種類の分散剤は結合剤１００質量部に対して０．００５
〜２０質量部の範囲で添加される。これらの分散剤の使
用方法は、強磁性微粉末や非磁性微粉末の表面に予め被
着させても良く、また分散途中で添加してもよい。この
ようなものは、例えば特公昭３９−２８３６９号、特公
昭４４−１７９４５号、特公昭４４−１８２２１号、特
公昭４８−７４４１号、特公昭４８−１５００１号、特
公昭４８−１５００２号、特公昭４８−１６３６３号、
特公昭４９−３９４０２号、米国特許３３８７９９３
号、同３４７００２１号等に於いて示される。

【００３５】本発明の磁気記録媒体に用いる防黴剤とし
ては、２−（４−チアゾリル）−ベンズイミダゾール、
Ｎ−（フルオロジクロロメチルチオ）−フタルイミド、
１０，１０'−オキシビスフェノキサルシン、２，４，
５，６−テトラクロロイソフタロニトリル、Ｐ−トリル
ジヨードメチルスルホン、トリヨードアリルアルコー
ル、ジヒドロアセト酸、フェニルオレイン酸水酸、酸化
ビス（トリブチル金属）、サルチルアニライド等が挙げ
られる。このようなものは、例えば「微生物災害と防止
技術」１９７２年工学図書、「化学と工業」３２、９０
４（１９７９）等に於いて示されている。これらの防黴
剤は結合剤１００質量部に対して、０．００５〜２０質
量部の範囲で使用される。

【００３６】本発明の磁気記録媒体に用いるカーボンブ
ラック以外の帯電防止剤としては、グラファイト、変性
グラファイト、カーボンブラックグラフトポリマー、酸
化錫−酸化アンチモン、酸化錫、酸化チタン−酸化錫−
酸化アンチモン、等の導電性粉末；サポニン等の天然界
面活性剤；アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、多価アルコール、多価アルコールエステ
ル、アルキルフェノールＥＯ付加体等のノニオン界面活
性剤；高級アルキルアミン類、環状アミン、ヒダントイ
ン誘導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級アン
モニウム塩類、ピリジンそのほかの複素環類、ホスホニ
ウムまたはスルホニウム類等のカチオン界面活性剤；カ
ルボン酸、スルホン酸、ホスホン酸、燐酸、硫酸エステ
ル、ホスホン酸エステル、燐酸エステル基などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤；アミノ酸類；アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベタイン型の両性界面活性剤等が使用され
る。これら帯電防止剤として使用し得る界面活性剤化合
物例の一部は特開昭６０−２８０２５号、米国特許２２
７１６２３号、同２２４０４７２号、同２２８８２２６
号、同２６７６１２２号、同２６７６９２４号、同２６
７６９７５号、同２６９１５６６号、同２７２７８６０
号、同２７３０４９８号、同２７４２３７９号、同２７
３９８９１号、同３０６８１０１号、同３１５８４８４
号、同３２０１２５３号、同３２１０１９１号、同３２
９４５４０号、同３４１５６４９号、同３４４１４１３
号、同３４４２６５４号、同３４７５１７４号、同３５
４５９７４号、西独特許公開（ＯＬＳ）１９４２６６５
号、英国特許１０７７３１７号、同１１９８４５０号等
をはじめ、小田良平他著『界面活性剤の合成とその応
用』（槙書店１９７２年版）；Ａ．Ｗ．ベイリ著『サー
フェスアクティブエージエンツ』（インターサイエ
ンスパブリケーションコーポレイテッド１９８５年
版）；Ｔ．Ｐ．シスリー著『エンサイクロペティアオ
ブサーフェスアクティブエージェンツ、第２巻』
（ケミカルパブリシュカンパニー１９６４年版）；『界
面活性剤便覧』第六刷（産業図書株式会社、昭和４１年
１２月２０日）；丸茂秀雄著『帯電防止剤』幸書房（１
９６８）等の成書に記載されている。これらの界面活性
剤は単独または混合して添加してもよい。磁気記録媒体
における、これらの界面活性剤の使用量は、強磁性微粉
末１００質量部当たり０．０１〜１０質量部である。ま
たバック層での使用量は結合剤１００質量部当たり０．
０１〜３０質量部である。これらは帯電防止剤として用
いられるものであるが、時としてそのほかの目的、例え
ば分散、磁気特性の改良、潤滑性の改良、塗布助剤、湿
潤剤、硬化促進剤、分散促進剤として適用される場合も
ある。

【００３７】本発明の分散、混練、塗布の際に使用する
有機溶媒としては、任意の比率でアセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン系；メ
タノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イ
ソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチル
シクロヘキサノールなどのアルコール系；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプ
ロピル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエーテ
ル等のエステル系；ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエ
チルエーテル、ジオキサン等のエーテル系；ベンゼン、
トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、ス
チレン等のタール系（芳香族炭化水素）；メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩
素化炭化水素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアルデヒド、ヘ
キサン等のものが使用できる。またこれら溶媒は通常任
意の比率で２種以上で用いる。また１質量％以下の量で
微量の不純物（その溶媒自身の重合物、水分、原料成分
等）を含んでもよい。これらの溶剤は、磁性層形成用塗
布液、バック層形成用塗布液、あるいは下塗層形成用塗
布液の固形分１００質量部に対して１００〜２００００
０質量部で用いられる。好ましい磁性液の固形分率は５
〜４０質量％である。またバック層形成用塗布液の好ま
しい固形分率は５〜３０質量％である。有機溶媒の代わ
りに水系溶媒（水、アルコール、アセトン等）を使用す
ることもできる。

【００３８】磁気記録層やバック層の形状は、上記の組
成などを任意に組合せて有機溶媒に単独もしくは複合し
て含浸、溶解、混合、分散、混練、希釈を任意の順序で
組み合わせて塗布溶液を作成して支持体上に塗布・乾燥
・配向する。テープもしくはディスクとして使用する場
合には、支持体の厚みは２．５〜５００μｍ程度、好ま
しくは３〜１００μｍ程度がよい。

【００３９】支持体の素材としては、ポリエチレンナフ
タレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、
ポリアミド等のプラスチックが好ましい。これら支持体
に関しては例えば、西独特許３３３８８５４Ａ、特開昭
５９−１１６９２６号、特開昭６１−１２９７３１号、
米国特許４３８８３６８号；三石幸夫著、『繊維と工
業』３１巻ｐ５０〜５５、１９７５年などに記載され
ている。ビデオテープ等の場合これら支持体の中心線平
均表面粗さは０・１〜３０ｎｍ（カットオフ値０．２５
ｍｍ）が好ましい。またこれら支持体のヤング率（Ｆ５
値）は目的に応じて、巾方向、長手方向とも２〜１００
Ｋｇ／ｍｍ²を選択することが出来る。

【００４０】分散、混練の方法には特に制限はなく、ま
た各成分の添加順序（樹脂、粉体、潤滑剤、溶媒等）、
分散・混練中の添加位置、同一原料の分割添加、分散温
度（０〜８０℃）、湿度などは適宜設定することができ
る。磁性塗料（磁性層用塗布液）およびバック層塗料
（バック層用塗布液）の調製には、通常の混練機、例え
ば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペ
ブルミル、トロンミル、サンドグライダー、ツェグバリ
(Szegvari)アトラクター、高速インペラー、分散機、高
速ストーンミル、高速度衝撃ミル、ディスパー、ニーダ
ー、高速ミキサー、リボンブレンダー、コニーダー、イ
ンテンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー、ディス
パーザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー押し出し
機、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分散機など
を用いることができる。通常分散・混練にはこれらの分
散・混練機を複数備え、連続的に処理を行う。混練分散
に関する技術の詳細は、Ｔ．Ｃ．ＰＡＴＴＯＮ著（テ
ー．シー．パットン）“ＰａｉｎｔＦｌｏｗａｎｄ
ＰｉｇｍｅｎｔＤｉｓｐｅｒｓｉｏｎ”（ペイント
フローアンドピグメントディスパージョン）１９
６４年ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ社発行
（ジョンウイリーアンドサンズ））や田中信一著
『工業材料』２５巻３７（１９７７）などや当該書籍の
引用文献に記載されている。これら分散、混練の補助材
料として分散・混練を効率よく進めるため、球相当径で
１０ｃｍφ〜０．０５ｍｍφの径のスチールボール、ス
チールビーズ、セラミックビーズ、ガラスビーズ、有機
ポリマービーズを用いることが出来る。またこれら材料
は球形に限らない。また、米国特許第２５８１４１４号
及び同第２８５５１５６号などの明細書にも記載があ
る。本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献
などに記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料
およびバック層塗料を調製することができる。硬化剤や
一部添加剤（磁性体と反応性の高い脂肪酸、燐酸、ホス
ホン酸、スルホン酸、及びこれらのエステル類）は、塗
布直前にミキシングバブル等の添加機を用いて、塗布液
に添加してもよい。

【００４１】支持体上へ前記の磁性層用塗布液、バック
層用塗布液、および下塗用塗布液を塗布する方法として
は、塗布液の粘度を１〜２００００センチストークス
（２５℃）に調整し、エアードクターコート、ブレード
コート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コー
ト、リバースロールコート、トランスファーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キヤストコート、ス
プレイコート、ロッドコート、正回転ロールコート、カ
ーテンコート、押出コート、バーコート、エクストルー
ジョンコート等が利用出来、その他の方法も可能であ
り、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーティン
グ工学』２５３頁〜２７７頁（昭和４６．３．２０．発
行）等に詳細に記載されている。これら塗布液の塗布の
順番は任意に選択でき、また所望の液の塗布の前に下塗
り層塗布を連続して行ってもよい。また、磁性層もしく
はバック層を多層で構成するときは、同時多層塗布、逐
次多層塗布等を行ってもよい。これらは、例えば、特開
昭５７−１２３５３２号公報、特公昭６２−３７４５１
号公報、特開昭５９−１４２７４１号公報、特開昭５９
−１６５２３９号公報の明細書等にしめされている。

【００４２】このような方法により、支持体上に約１〜
１００μｍ（固形分で０．１〜５０ｇ／ｍ²）厚みほど
で塗布された磁性液は、必要により層中の磁性粉末を直
ちに２０〜１３０℃で多段階で乾燥しながら５００〜５
０００Ｇ程で所望の方向（垂直、長手、幅、ランダム、
斜め等）へ配向させる処理を施したのち、形成した磁性
層を０．１〜１０μｍ厚みに乾燥する。このときの支持
体の搬送速度は、通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で行な
われ、複数の乾燥ゾーンで乾燥温度を２０℃〜１３０℃
で制御し塗布膜の残留溶剤量を０．０１〜４０ｍｇ／ｍ
²とする。本発明ではこのあとスーパーカレンダー処理
を磁気記録媒体に施し表面平滑化加工を施し、磁性層と
バック層の中心線平均表面粗さを所望の値に調整し、さ
らに所望も形状に裁断して、本発明の磁気記録体を製造
する。このときスーパーカレンダー処理は、対向の金属
ロールを用いることが好ましい。このとき磁気記録媒体
の処理する搬送速度は通常１０ｍ／分〜９００ｍ／分で
行なわれ、通常２回以上の多段の金属ロールで処理し、
その成形温度は５０℃〜１３０℃で行なうことが好まし
い。その余の処理は金属ロールと超硬度プラスチック、
超硬度プラスチック同志の組合せを用いてもよい。

【００４３】これらの製造方法は、粉体の予備処理、表
面処理、混練・分散、塗布・配向・乾燥、平滑処理、熱
処理、ＥＢ処理、表面研磨処理、裁断、巻き取りの工程
を連続して行うことが望ましい。これらは、例えば、特
公昭４０−２３６２５号公報、特公昭３９−２８３６８
号公報、特公昭４７−３８８０２号公報、英国特許１１
９１４２４号、特公昭４８−１１３３６号公報、特開昭
４９−５３６３１号、特開昭５０−１１２００５号、特
開昭５１−７７３０３号、特公昭５２−１７４０４号、
特開昭６０−７０５３２号公報、特開平２−２６５６７
２号、米国特許第３４７３９６０号、米国特許第４７２
８５６９号、米国特許第４７４６５４２号明細書等に示
されている。また、特公昭４１−１３１８１号公報に示
される方法はこの分野における基本的、且つ重要な技術
と考えられている。

【００４４】このように作成した磁気記録媒体を裁断し
たあと所望のプラスチックや金属のリールに巻き取る。
巻き取る直前ないしはそれ以前の工程において磁気記録
媒体（磁性層、バック層、エッジ端面、ベース面）をバ
ーニシュおよびまたはクリーニングを行うことが望まし
い。バーニツシュは磁気記録媒体を具体的にサファイア
刃、剃刀刃、超硬材料刃、ダイアモンド刃、セラミック
ス刃のような硬い材料により磁気記録媒体表面の突起部
分をそぎおとし平滑にする。これらの材料のモース硬度
は８以上が好ましいが特に制限はなく突起を除去できる
ものであればよい。これら材料の形状は特に刃である必
要はなく、角型、丸型、ホイール（回転する円筒形状の
周囲にこれらの材質を付与してもよい）のような形状で
も使用できる。また磁気記録媒体のクリーニングは、磁
気記録媒体表面の汚れや余分な潤滑剤を除去する目的で
磁気記録媒体表層を不織布などで磁性層面、バック層
面、エッジ端面、バック側のベース面をワイピングする
ことにより行う。このようなワイピングの材料としては
例えば日本バイリーン製の各種バイリーンや東レ製のト
レシー、エクセーヌ、商品名キムワイプ、富士写真フィ
ルム製各種研磨テープ、または不織布はナイロン製不織
布、ポリエステル製不織布、レーヨン製不織布、アクリ
ロニトリル製不織布、混紡不織布など、ティッシュペー
パー等が使用できる。これらは例えば特公昭４６−３９
３０９号、特公昭５８−４６７６８号、特開昭５６−９
０４９号、特公昭５８−４６７６７号、特開昭６３−
２５９８３０号、特開平１−２０１８２４号等にも記載
されている。

【００４５】特に本発明においては、モース硬度９以上
の材質からなる回転刃もしくは研磨テープで処理するこ
とが必要で、回転刃の場合は、巻き付け角度１８０度以
上、回転刃９００回転以上で処理する事が好ましい。研
磨テープで処理する場合は接触面が０．１ｍｍ以上ある
ことが必要である。このときの磁気記録媒体にかかるテ
ンションは１／２吋幅あたり２００ｇ以上であることが
必要で、この処理装置の前後でのテンション変化が２０
０ｇ以上であることが必要である。

【００４６】

【実施例】以下に、本発明を実施例により更に具体的に
説明する。以下に示す成分、割合、操作順序等は本発明
の精神から逸脱しない範囲において変更しうるものであ
ることは本業界に携わるものにとつては容易に理解され
ることである。従って、本発明は下記の実施例に制限に
されるべきではない。なお、実施例中の部は質量部を示
す。

【００４７】実施例１（上層磁性層）強磁性金属微粉末組成 Fe／Co＝１００／３０１００部Ｈｃ：２３５０Ｏｅ（１８５．６ｋＡ／ｍ）ＢＥＴ法による比表面積：４９ｍ²／ｇ結晶子サイズ：１６０Å 表面被膜化合物：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、Ｙ₂Ｏ₃ 粒子サイズ（長軸径）：０．０９μｍ針状比：７ σｓ：１４５ｅｍｕ／ｇ（Ａ・ｍ²／ｋｇ）塩化ビニル系共重合体１０部日本ゼオン製ＭＲ−１１０ポリウレタン樹脂東洋紡製ＵＲ８２００６部 α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．１５μｍ）５部カーボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）０．５部ブチルステアレート１部ステアリン酸５部メチルエチルケトン９０部シクロヘキサノン３０部トルエン６０部

【００４８】下層塗布層（非磁性）非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ヘマタイト８０部長軸長：０．１５μｍＢＥＴ法による比表面積：５２ｍ²／ｇｐＨ：８タップ密度：０．８ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ、表面被膜化合物：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ カーボンブラック２０部平均一次粒子径：１６ｍμ ＤＢＰ吸油量：８０ｍｌ／１００ｇｐＨ：８．０ＢＥＴ法による比表面積：２５０ｍ²／ｇ揮発分：１．５％塩化ビニル系共重合体１２部日本ゼオン製ＭＲ−１１０ポリエステルポリウレタン樹脂５部東洋紡製ＵＲ５５００Ａ α−Ａｌ₂Ｏ₃（平均粒径０．３μｍ）１部ブチルステアレート１部ステアリン酸１部メチルエチルケトン１００部シクロヘキサノン５０部トルエン５０部

【００４９】バック塗料組成（１）カーボンブラック（キャボットＢＰ８００）９０部カーボンブラック（カンカルブＭＴＣＩ）１０部 α−アルミナ（住友化学ＨＩＴ１００）０．２部ウレタン樹脂３０部（東洋紡：ＵＲ８３００）シクロヘキサノン２００部メチルエチルケトン３００部（２）ポリイソシアネート（日本ポリウレタン株製：コロネート３０４０) ２０部メチルエチルケトン３５００部硫酸バリウム（堺化学ＢＦ１）０．２部ステアリン酸２エチルヘキシル０．５部オレイン酸銅０．１部塩化ビニル共重合体樹脂４０部（日本ゼオン株製：ＭＲ−１１０）トルエン２００部シリコーン（信越化学ＫＦ６９）０．１部

【００５０】上記の塗料について、各成分をオープンニ
ダーで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。
得られた上層磁性液に研磨剤スラリーを混合した。得ら
れた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン
（株）製コロネートＬ）を、下層塗布層の塗布液には５
部加え、磁性上層は１部加え、さらにそれぞれにメチル
エチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加
え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過
し、下層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調整
した。

【００５１】得られた下層塗布層塗布液を、乾燥後の厚
さが１．３μｍになるように、さらにその直後にその上
に磁性層の厚さが０．２５μｍになるように、厚さ６．
０μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．００１μ
ｍのポリエチレンテレフタレート支持体上に同時重層塗
布をおこない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに５００
０Ｇ（５００ｍＴ）の磁力を持つコバルト磁石と４００
０Ｇ（４００ｍＴ）の磁力をもつソレノイドにより配向
させ乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成
される７段のカレンダーで温度１００℃にて分速２００
ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバ
ック層を塗布した。６．３５ｍｍの幅にスリットして、
ＤＶＣＰＲＯ用テープ１２３分物を作成した。

【００５２】カレンダー処理前のテープ残留溶剤量を変
更し、研磨剤の突起高さ分布を調整し、本発明品および
比較例サンプルを作成し、ＶＴＲ走行でのヘッド摩耗、
ヘッド汚れ測定を行った結果の一覧を表１に示した。ま
た、研磨剤の添加量を変更して本発明品および比較例サ
ンプルを作成し、ＶＴＲ走行での摩耗、ヘッド汚れ測定
を行った結果の一覧を表２に示した。

【００５３】

【表１】

【００５４】

【表２】

【００５５】評価方法を下記する。（１）全長走行ヘッド汚れ、１００パス後業務用デジタルＶＴＲ（ＤＶＣＰＲＯ）のＡＪ−Ｄ７５
０（松下電器産業製）を用いて、２３℃５０％ＲＨ環境
で再生／巻き戻しを１００回繰り返し、全長走行後ヘッ
ドの汚れを評価した。各ヘッドショルダー部分についた
汚れを５点法で判定した。点数の高い方が、ヘッド汚れ
の少ないことを表している。（２）初期ヘッド摩耗業務用デジタルＶＴＲ（ＤＶＣＰＲＯ）のＡＪ−Ｄ７５
０（松下電器産業製）を用いて、２３℃５０％ＲＨ環境
で記録／巻き戻し／再生を８巻連続で走行した後のヘッ
ドの摩耗量を測定した。（３）傷によるヘッド粗面化（１）記載の全長走行評価後のヘッド表面を顕微鏡で観
察し、傷の発生の有無を確認した。

【００５６】表１および表２に示される結果から、以下
のことが明らかである。本発明の磁気記録テープ（実施
例１〜８）は、高さが１５ｎｍを越える研磨剤突起の存
在比率が５％以下に制御されており、初期ヘッド摩耗、
ヘッド汚れに優れる。一方、比較例１〜５は、高さが１
５ｎｍを越える研磨剤突起の存在比率が５％を越えてお
り、上記特性に劣る。

【００５７】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、原子間力顕微
鏡を用いて測定された磁性層表面に存在する４５０μｍ
²当たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１５ｎｍ以上の
研磨剤突起数を５％以下としたことにより、高出力・高
密度記録であって、ヘッド摩耗特性およびヘッド汚れ等
の走行耐久性に極めて優れる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者高野博昭神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号富士写真フイルム株式会社内Ｆターム(参考） 5D006 BA10 DA04 FA02 FA05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に、強磁性粉末、バイン
ダー及び研磨剤を含有する磁性層を設けた磁気記録媒体
において、原子間力顕微鏡を用いて測定された磁性層表面に存在す
る４５０μｍ²当たりの全研磨剤突起数のうち、高さ１
５ｎｍ以上の研磨剤突起数が５％以下であることを特徴
とする磁気記録媒体。