JP3202827B2 - 新規アゾール系シラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 - Google Patents
新規アゾール系シラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤Info
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/28—Applying non-metallic protective coatings
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
Landscapes
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属表面の防錆の改善
等を行うための表面処理剤、特にはプリント回路用銅張
積層板等に用いられる銅箔用表面処理剤として有用な新
規なアゾール系シラン化合物及びその製造方法、並びに
その用途に関する。
等を行うための表面処理剤、特にはプリント回路用銅張
積層板等に用いられる銅箔用表面処理剤として有用な新
規なアゾール系シラン化合物及びその製造方法、並びに
その用途に関する。
【０００２】
【従来の技術】プリント回路用の銅張積層板は銅箔を紙
−フェノール樹脂含浸基材やガラス−エポキシ樹脂含浸
基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
を搭載することにより電子機器用のボードが作られる。
これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常Ｍ面（粗化面、以下同様）と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又Ｍ面の反対側の通常Ｓ面（光沢面、
以下同様）と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のＭ面には黄銅層形成処理
（特公昭５１−３５７１１号公報、同５４−６７０１号
公報）、Ｍ、Ｓ双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等（特公昭５８−７０７７号公報）が行わ
れている。
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基材等に加熱、加圧して積層して形成され、これをエッ
チングして回路網を形成し、これに半導体装置等の素子
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これらの過程では、基材との接着、加熱、酸やアルカリ
液への浸漬、レジストインクの塗布、ハンダ付け等が行
われるため、銅箔には各種の性能が要求される。たとえ
ば、通常Ｍ面（粗化面、以下同様）と呼称されている基
材と接着される側には主として基材との接着性、耐薬品
性等が要求され、又Ｍ面の反対側の通常Ｓ面（光沢面、
以下同様）と呼称されている側には主として耐熱性、耐
湿性等が要求されている。又これらの両面には保管時に
銅箔の酸化変色のないことも要求されている。これらの
要求を満たすために、銅箔のＭ面には黄銅層形成処理
（特公昭５１−３５７１１号公報、同５４−６７０１号
公報）、Ｍ、Ｓ双方の面にはクロメート処理、亜鉛また
は酸化亜鉛とクロム酸化物とからなる亜鉛−クロム基混
合物被覆処理等（特公昭５８−７０７７号公報）が行わ
れている。
【０００３】加えて、近年プリント配線板の微細化への
要請がますます増大化しているが、これに伴うエッチン
グ精度の向上に対応するためＭ面にはさらに低い表面粗
さ（ロープロファイル）も求められている。しかし、Ｍ
面の表面粗さは一方では基材との接着にあたって、アン
カー効果をもたらしているので、Ｍ面に対するこのロー
プロファイルの要求と接着力の向上とは二津背反の関係
にあり、ロープロファイル化によるアンカー効果の低減
分は別の手段による接着力の向上で補償することが必要
である。
要請がますます増大化しているが、これに伴うエッチン
グ精度の向上に対応するためＭ面にはさらに低い表面粗
さ（ロープロファイル）も求められている。しかし、Ｍ
面の表面粗さは一方では基材との接着にあたって、アン
カー効果をもたらしているので、Ｍ面に対するこのロー
プロファイルの要求と接着力の向上とは二津背反の関係
にあり、ロープロファイル化によるアンカー効果の低減
分は別の手段による接着力の向上で補償することが必要
である。
【０００４】また接着力の増強手段としてあるいは前記
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
Ｍ面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている（特公平２−１９９９４号公報、特開昭６３−１
８３１７８号公報、特開平２−２６０９７号公報）。
したロープロファイル化に伴う接着力の増強手段として
Ｍ面にシランカップリング剤を塗布する方法も提案され
ている（特公平２−１９９９４号公報、特開昭６３−１
８３１７８号公報、特開平２−２６０９７号公報）。
【０００５】この種のシランカップリング剤としては、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（ア
ミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシ
ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フ
ェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている〔「高分子
添加剤の最新技術」１２０〜１３４頁、シーエムシー、
１９８８年１月６日発行〕。
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキ
シエトキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−
３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（ア
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ラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フ
ェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−
メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプ
ロピルトリメトキシシラン等が知られている〔「高分子
添加剤の最新技術」１２０〜１３４頁、シーエムシー、
１９８８年１月６日発行〕。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用
が高く、また樹脂との接着性向上作用を有する新規なシ
ラン化合物、その製造方法、及びそれを用いた新規な金
属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤を提供することを
目的とするものである。
たように最近プリント回路が緻密化しているので、使用
されるプリント回路用銅箔に要求される特性はますます
厳しくなっている。本発明は、こうした要請に対応でき
る、すなわち耐熱性に優れ、金属表面に対する防錆作用
が高く、また樹脂との接着性向上作用を有する新規なシ
ラン化合物、その製造方法、及びそれを用いた新規な金
属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤を提供することを
目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
進めた結果、特定のアゾール環を有するシラン化合物が
金属表面に対し優れた防錆作用および樹脂との接着性向
上作用を有することを見出した。
進めた結果、特定のアゾール環を有するシラン化合物が
金属表面に対し優れた防錆作用および樹脂との接着性向
上作用を有することを見出した。
【０００８】本発明は、かかる知見に基づきなされたも
のであり、その要旨は、 （１）下記一般式（１）又は（２）で表される新規アゾ
ール系シラン化合物。
のであり、その要旨は、 （１）下記一般式（１）又は（２）で表される新規アゾ
ール系シラン化合物。
【０００９】
【化３】
【００１０】（ただし、一般式（１）又は（２）におい
て、Ｒ1は水素又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３
のアルキル基、ｎは一般式（１）においては０〜３、一
般式（２）においては１〜３） （２）前記一般式（１）及び（２）で表わされる新規ア
ゾール系シラン化合物からなる混合物、 （３）下記一般式（３）で表されるアゾール系化合物と
下記一般式（４）で表される３−グリシドキシプロピル
シラン化合物とを、８０〜２００℃で反応させることを
特徴とする前記（１）記載のアゾール系シラン化合物の
製造方法、
て、Ｒ1は水素又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３
のアルキル基、ｎは一般式（１）においては０〜３、一
般式（２）においては１〜３） （２）前記一般式（１）及び（２）で表わされる新規ア
ゾール系シラン化合物からなる混合物、 （３）下記一般式（３）で表されるアゾール系化合物と
下記一般式（４）で表される３−グリシドキシプロピル
シラン化合物とを、８０〜２００℃で反応させることを
特徴とする前記（１）記載のアゾール系シラン化合物の
製造方法、
【００１１】
【化４】
【００１２】（ただし、一般式（３），（４）におい
て、Ｒ1は水素又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３
のアルキル基、ｎは０〜３） （４）前記（１）記載の一般式（１）又は（２）で表さ
れるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を有効成
分とする金属表面処理剤、及び、 （５）前記（１）記載の一般式（１）又は（２）で表さ
れるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を有効成
分とする銅箔用表面処理剤にある。
て、Ｒ1は水素又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３
のアルキル基、ｎは０〜３） （４）前記（１）記載の一般式（１）又は（２）で表さ
れるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を有効成
分とする金属表面処理剤、及び、 （５）前記（１）記載の一般式（１）又は（２）で表さ
れるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を有効成
分とする銅箔用表面処理剤にある。
【００１３】以下に本発明をさらに詳細に説明する。上
記一般式（１）又は（２）におけるＲ1は、水素又はＮ
Ｈ2基である。Ｒ2又はＲ3は炭素数が１〜３のアルキル
基であるが、特には合成の容易性からメチル基、エチル
基が好適である。
記一般式（１）又は（２）におけるＲ1は、水素又はＮ
Ｈ2基である。Ｒ2又はＲ3は炭素数が１〜３のアルキル
基であるが、特には合成の容易性からメチル基、エチル
基が好適である。
【００１４】本発明の上記アゾール系シラン化合物
（１）又は（２）は、一般式（３）で表されるアゾール
系化合物と一般式（４）で表される３−グリシドキシプ
ロピルシラン化合物とを、８０〜２００℃で反応させる
ことにより製造することができる。その反応を式で示す
と次のようになる。
（１）又は（２）は、一般式（３）で表されるアゾール
系化合物と一般式（４）で表される３−グリシドキシプ
ロピルシラン化合物とを、８０〜２００℃で反応させる
ことにより製造することができる。その反応を式で示す
と次のようになる。
【００１５】
【化５】
【００１６】（上記式中、Ｒ1は水素又はＮＨ2基、Ｒ2
及びＲ3は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは一般式
（１）及び（４）においては０〜３、一般式（２）にお
いては１〜３を表す） 上記一般式（３）で表されるアゾール系化合物として好
ましいのは、ベンズイミダゾール、２−アミノベンズイ
ミダゾール等を挙げることができる。又上記一般式
（４）で表される３−グリシドキシプロピルシラン化合
物は、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシ
ラン、３−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキル
シラン、３−グリシドキシプロピルトリアルキルシラン
であり、これらのうちとくに好ましいものを挙げれば、
３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランとして
は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、また３−
グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシランとし
ては、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラ
ン、３−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキルシ
ランとしては、３−グリシドキシプロピルエトキシジメ
チルシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルキルシ
ランとしては、３−グリシドキシプロピルトリエチルシ
ラン等である。
及びＲ3は炭素数１〜３のアルキル基、ｎは一般式
（１）及び（４）においては０〜３、一般式（２）にお
いては１〜３を表す） 上記一般式（３）で表されるアゾール系化合物として好
ましいのは、ベンズイミダゾール、２−アミノベンズイ
ミダゾール等を挙げることができる。又上記一般式
（４）で表される３−グリシドキシプロピルシラン化合
物は、３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラ
ン、３−グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシ
ラン、３−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキル
シラン、３−グリシドキシプロピルトリアルキルシラン
であり、これらのうちとくに好ましいものを挙げれば、
３−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランとして
は、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、また３−
グリシドキシプロピルジアルコキシアルキルシランとし
ては、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラ
ン、３−グリシドキシプロピルアルコキシジアルキルシ
ランとしては、３−グリシドキシプロピルエトキシジメ
チルシラン、３−グリシドキシプロピルトリアルキルシ
ランとしては、３−グリシドキシプロピルトリエチルシ
ラン等である。
【００１７】上記アゾール系化合物と３−グリシドキシ
プロピルシラン化合物との反応は、８０〜２００℃の温
度に加熱したアゾール系化合物に０．１〜１０モル倍量
の３−グリシドキシプロピルシラン化合物を滴下させな
がら行うと良く、反応時間は５分〜２時間程度で十分で
ある。この反応は特には溶媒を必要とはしないが、クロ
ロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等の有
機溶剤を反応溶媒として用いてもよい。尚、この反応
は、水分を嫌うので、水分が混入しないように、乾燥し
た窒素、アルゴン等の水分を含まない気体の雰囲気下で
行うことが好ましい。
プロピルシラン化合物との反応は、８０〜２００℃の温
度に加熱したアゾール系化合物に０．１〜１０モル倍量
の３−グリシドキシプロピルシラン化合物を滴下させな
がら行うと良く、反応時間は５分〜２時間程度で十分で
ある。この反応は特には溶媒を必要とはしないが、クロ
ロホルム、ジオキサン、メタノール、エタノール等の有
機溶剤を反応溶媒として用いてもよい。尚、この反応
は、水分を嫌うので、水分が混入しないように、乾燥し
た窒素、アルゴン等の水分を含まない気体の雰囲気下で
行うことが好ましい。
【００１８】この反応において、上記一般式（１）又は
（２）で示したアゾール系シラン化合物は混合物の状態
で得られるが、これらの化合物は、溶解度の差を利用す
る方法、分取液体クロマトグラフィー等の既知の手段に
より精製され、単離されうる。尚、金属表面処理剤とし
て用いる場合は、これらのアゾール系シラン化合物は必
ずしも単離する必要はなく、混合物のまま用いることが
簡便で好ましい。
（２）で示したアゾール系シラン化合物は混合物の状態
で得られるが、これらの化合物は、溶解度の差を利用す
る方法、分取液体クロマトグラフィー等の既知の手段に
より精製され、単離されうる。尚、金属表面処理剤とし
て用いる場合は、これらのアゾール系シラン化合物は必
ずしも単離する必要はなく、混合物のまま用いることが
簡便で好ましい。
【００１９】上記アゾール系シラン化合物を金属表面処
理剤として用いる場合、その対象金属には特に制限はな
い。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合金等の表面処理剤
として有用である。しかし、銅の表面処理剤として用い
ることが好適であり、特にはプリント回路用銅張積層板
等に用いられる銅箔の表面処理剤として用いると本発明
の効果を十分に発揮することができる。この銅箔には銅
箔の表面を粗面化処理したもの、銅箔に黄銅層形成処理
したもの、クロメート処理したもの、亜鉛−クロム基混
合物被覆処理したもの等も包含される。
理剤として用いる場合、その対象金属には特に制限はな
い。たとえば銅、亜鉛及びこれらの合金等の表面処理剤
として有用である。しかし、銅の表面処理剤として用い
ることが好適であり、特にはプリント回路用銅張積層板
等に用いられる銅箔の表面処理剤として用いると本発明
の効果を十分に発揮することができる。この銅箔には銅
箔の表面を粗面化処理したもの、銅箔に黄銅層形成処理
したもの、クロメート処理したもの、亜鉛−クロム基混
合物被覆処理したもの等も包含される。
【００２０】上記アゾール系シラン化合物は、少なくと
もその一種をそのまま直接金属表面に塗布してもよい
が、メタノール、エタノール等のアルコール類、又はそ
れらと水との混合溶液、更には、アセトン、酢酸エチ
ル、トルエン等の溶剤で０．００１〜２０重量％になる
ように希釈し、この液に金属を浸漬させる方法で塗布す
ることが簡便で好ましい。尚、このアゾール系シラン化
合物は単独で用いてもよいが、他の防錆剤、あるいはカ
ップリング剤等と混合して用いてもよい。
もその一種をそのまま直接金属表面に塗布してもよい
が、メタノール、エタノール等のアルコール類、又はそ
れらと水との混合溶液、更には、アセトン、酢酸エチ
ル、トルエン等の溶剤で０．００１〜２０重量％になる
ように希釈し、この液に金属を浸漬させる方法で塗布す
ることが簡便で好ましい。尚、このアゾール系シラン化
合物は単独で用いてもよいが、他の防錆剤、あるいはカ
ップリング剤等と混合して用いてもよい。
【００２１】
【実施例】アゾール系シラン化合物の合成 （ベンズイミダゾールと３−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシランとの反応） 実施例１ ベンズイミダゾール５．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）を１２
０℃で加温し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、３−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１１．８ｇ
（０．０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。滴下終了
後、さらに１２０℃の温度で１時間反応させた。
メトキシシランとの反応） 実施例１ ベンズイミダゾール５．９ｇ（０．０５ｍｏｌ）を１２
０℃で加温し、アルゴン雰囲気下で撹拌しながら、３−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン１１．８ｇ
（０．０５ｍｏｌ）を１時間かけて滴下した。滴下終了
後、さらに１２０℃の温度で１時間反応させた。
【００２２】反応生成物は透明な黄色の粘稠な液体（以
下「混合成分１」という）として得られた。この生成物
は透明な黄色の粘性液体で数週間以上ゲル化せず安定で
あった。またアルコール、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン等に可溶であり、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーにより混合物であることを確認した。
下「混合成分１」という）として得られた。この生成物
は透明な黄色の粘性液体で数週間以上ゲル化せず安定で
あった。またアルコール、クロロホルム、テトラヒドロ
フラン等に可溶であり、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーにより混合物であることを確認した。
【００２３】また、この一部を採取して、1Ｈ−ＮＭＲ
で分析した結果、＞ＮＨピークは完全に消失しており、
反応は完全に進行していた。またＩＲよりＯＨ基の伸縮
振動のピークも確認され、これからも上記した反応が進
行したことがわかった（図１，２）。
で分析した結果、＞ＮＨピークは完全に消失しており、
反応は完全に進行していた。またＩＲよりＯＨ基の伸縮
振動のピークも確認され、これからも上記した反応が進
行したことがわかった（図１，２）。
【００２４】混合成分１をゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーにより分取し（以下化合物１という）、Ｆ
Ｔ−ＩＲで分析した結果、ＯＨ基の伸縮振動のピークが
認められず、さらに1Ｈ−ＮＭＲで分析した結果、メト
キシ基の積分比が減少していることにより、上記化合物
１は上記一般式（２）においてＲ1が水素、Ｒ2がメチ
ル、ｎが３である下記式（２−１）の構造を有し、また
混合成分１には式（２−１）の化合物の他、下記式（１
−１）の構造を有する化合物が混合していることが分か
った。なお、化合物１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図３
に、同ＩＲスペクトルを図４に示す。
トグラフィーにより分取し（以下化合物１という）、Ｆ
Ｔ−ＩＲで分析した結果、ＯＨ基の伸縮振動のピークが
認められず、さらに1Ｈ−ＮＭＲで分析した結果、メト
キシ基の積分比が減少していることにより、上記化合物
１は上記一般式（２）においてＲ1が水素、Ｒ2がメチ
ル、ｎが３である下記式（２−１）の構造を有し、また
混合成分１には式（２−１）の化合物の他、下記式（１
−１）の構造を有する化合物が混合していることが分か
った。なお、化合物１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図３
に、同ＩＲスペクトルを図４に示す。
【００２５】
【化６】
【００２６】実施例２ 実施例１のベンズイミダゾールに代えて、２−アミノベ
ンズイミダゾールを使用し、又、反応温度を１００℃と
した以外は実施例１と同様に反応を行い、混合成分２を
得た。次に、以上生成したアゾール系シラン（混合成分
１，２および化合物１）を銅箔の表面処理剤として評価
した。評価方法は以下の通りである。
ンズイミダゾールを使用し、又、反応温度を１００℃と
した以外は実施例１と同様に反応を行い、混合成分２を
得た。次に、以上生成したアゾール系シラン（混合成分
１，２および化合物１）を銅箔の表面処理剤として評価
した。評価方法は以下の通りである。
【００２７】耐湿性試験 電解銅箔（厚さ７５μｍ、４．５×４．５ｃｍ）をアセ
トンで脱脂し、３％の硫酸水溶液で洗浄した。この銅箔
の光沢面に、前記で得られた混合成分１，２のアゾール
系シラン化合物をそれぞれ６重量％の濃度になるように
メタノールに溶解し、この溶液をスピンコーターで塗布
し、０．３μｍのアゾール系シラン化合物の薄膜を作成
し、これを試験片とした。
トンで脱脂し、３％の硫酸水溶液で洗浄した。この銅箔
の光沢面に、前記で得られた混合成分１，２のアゾール
系シラン化合物をそれぞれ６重量％の濃度になるように
メタノールに溶解し、この溶液をスピンコーターで塗布
し、０．３μｍのアゾール系シラン化合物の薄膜を作成
し、これを試験片とした。
【００２８】この試験片を温度８０℃、湿度９５％の恒
温恒湿槽に２４時間入れ、変色の程度で耐湿性を評価し
た。比較のため、上記アゾール系シラン化合物に代え
て、シランカップリング剤として市販されている３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン（以下単に「エ
ポキシシラン」と言う）及びアゾール系化合物として市
販されているベンズイミダゾール、２−アミノベンズイ
ミダゾールを同様に０．３μｍ塗布した銅箔及び何も塗
布しない銅箔（以下「ブランク」とする）について同様
に評価し、結果を表１に示した。
温恒湿槽に２４時間入れ、変色の程度で耐湿性を評価し
た。比較のため、上記アゾール系シラン化合物に代え
て、シランカップリング剤として市販されている３−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン（以下単に「エ
ポキシシラン」と言う）及びアゾール系化合物として市
販されているベンズイミダゾール、２−アミノベンズイ
ミダゾールを同様に０．３μｍ塗布した銅箔及び何も塗
布しない銅箔（以下「ブランク」とする）について同様
に評価し、結果を表１に示した。
【００２９】
【表１】
【００３０】（注）耐湿性試験；５：変色なし、４：わ
ずかに変色、３：少し変色、２：橙色又は黄色に変色、
１：黒褐色に変色接着性試験 電解銅箔（３３μｍ）の粗化面に黄銅層を形成後、亜鉛
又は酸化亜鉛とクロム酸化物との亜鉛−クロム基混合物
をめっき被覆した銅箔（２５×２５ｃｍ）に、アゾール
系シランの０．４重量％水−メタノール混合溶液を塗布
した後、１００℃の乾燥器中で、５分間乾燥した。そし
て前記銅箔の粗化面をガラス繊維クロスにエポキシ樹脂
を含浸させた基材に接着し、ＪＩＳ Ｃ ６４８１に規
定する方法により常態ピール強度を測定した。比較のた
め、アゾール系シランの代わりにエポキシシランを用い
て同様の処理を行ったもの及び塗布処理を行わないもの
についても同様の方法で接着性を試験した。この結果を
表２に示した。
ずかに変色、３：少し変色、２：橙色又は黄色に変色、
１：黒褐色に変色接着性試験 電解銅箔（３３μｍ）の粗化面に黄銅層を形成後、亜鉛
又は酸化亜鉛とクロム酸化物との亜鉛−クロム基混合物
をめっき被覆した銅箔（２５×２５ｃｍ）に、アゾール
系シランの０．４重量％水−メタノール混合溶液を塗布
した後、１００℃の乾燥器中で、５分間乾燥した。そし
て前記銅箔の粗化面をガラス繊維クロスにエポキシ樹脂
を含浸させた基材に接着し、ＪＩＳ Ｃ ６４８１に規
定する方法により常態ピール強度を測定した。比較のた
め、アゾール系シランの代わりにエポキシシランを用い
て同様の処理を行ったもの及び塗布処理を行わないもの
についても同様の方法で接着性を試験した。この結果を
表２に示した。
【００３１】
【表２】
【００３２】以上の結果から本発明の化合物が、金属の
表面処理剤として耐湿性（防錆作用）、接着性向上作用
等に優れていることがわかる。
表面処理剤として耐湿性（防錆作用）、接着性向上作用
等に優れていることがわかる。
【００３３】
【発明の効果】本発明の新規なアゾール系シラン化合物
は金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤として有用な
もので、耐熱性、防錆作用及び樹脂との接着性向上作用
等に優れるという効果を有するものである。
は金属表面処理剤、特に銅箔用表面処理剤として有用な
もので、耐熱性、防錆作用及び樹脂との接着性向上作用
等に優れるという効果を有するものである。
【図１】混合成分１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
【図２】同ＩＲスペクトル
【図３】化合物１（式（２−１））の1Ｈ−ＮＭＲスペ
クトル
クトル
【図４】同ＩＲスペクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荻野 幸男 埼玉県戸田市新曽南３丁目17番35号 株 式会社日鉱共石内 (56)参考文献 特開 平６−293779（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−279464（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−279463（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−279462（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−279461（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−279456（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−157088（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−221587（ＪＰ，Ａ) 特表 昭62−502467（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07F 7/10 C07F 7/18 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (5)
- 【請求項１】 下記一般式（１）又は（２）で表される
新規アゾール系シラン化合物。 【化１】 （ただし、一般式（１）又は（２）において、Ｒ1は水
素又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３のアルキル
基、ｎは一般式（１）においては０〜３、一般式（２）
においては１〜３） - 【請求項２】 請求項１記載の一般式（１）及び（２）
で表わされる新規アゾール系シラン化合物からなる混合
物。 - 【請求項３】 下記一般式（３）で表されるアゾール系
化合物と下記一般式（４）で表される３−グリシドキシ
プロピルシラン化合物とを、８０〜２００℃で反応させ
ることを特徴とする請求項１記載のアゾール系シラン化
合物の製造方法。 【化２】 （ただし、一般式（３），（４）において、Ｒ1は水素
又はＮＨ2基、Ｒ2，Ｒ3は炭素数が１〜３のアルキル
基、ｎは０〜３） - 【請求項４】 請求項１記載の一般式（１）又は（２）
で表されるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を
有効成分とする金属表面処理剤。 - 【請求項５】 請求項１記載の一般式（１）又は（２）
で表されるアゾール系シラン化合物の少なくとも１種を
有効成分とする銅箔用表面処理剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07004793A JP3202827B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規アゾール系シラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07004793A JP3202827B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規アゾール系シラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06279458A JPH06279458A (ja) | 1994-10-04 |
| JP3202827B2 true JP3202827B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=13420273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07004793A Expired - Lifetime JP3202827B2 (ja) | 1993-03-29 | 1993-03-29 | 新規アゾール系シラン化合物及びその製造方法並びにそれを用いる金属表面処理剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3202827B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003231734A (ja) | 2001-12-06 | 2003-08-19 | Nikko Materials Co Ltd | 有機カルボン酸塩組成物及びその製造方法並びにエポキシ樹脂用添加剤 |
| JP4260418B2 (ja) | 2001-12-07 | 2009-04-30 | 日鉱金属株式会社 | 塩基性シランカップリング剤有機カルボン酸塩組成物、その製造方法、並びにそれを含むエポキシ樹脂組成物 |
| JP5359585B2 (ja) * | 2008-10-22 | 2013-12-04 | 信越化学工業株式会社 | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| JP5359584B2 (ja) * | 2009-06-15 | 2013-12-04 | 信越化学工業株式会社 | アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法 |
| WO2014156362A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔 |
| WO2014156361A1 (ja) * | 2013-03-28 | 2014-10-02 | 古河電気工業株式会社 | 表面処理銅箔 |
| CN106801228B (zh) * | 2017-02-22 | 2019-03-08 | 济南惠信实业有限公司 | 一种含硅咪唑啉缓蚀剂的制备方法 |
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