JP3153000B2 - α‐オレフィン重合体の製造法 - Google Patents

α‐オレフィン重合体の製造法

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JP3153000B2
JP3153000B2 JP15242492A JP15242492A JP3153000B2 JP 3153000 B2 JP3153000 B2 JP 3153000B2 JP 15242492 A JP15242492 A JP 15242492A JP 15242492 A JP15242492 A JP 15242492A JP 3153000 B2 JP3153000 B2 JP 3153000B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、α‐オレフィン重合体
の製造法に関する。さらに詳しくは、本発明は、新規な
触媒成分を用いることにより、低減された有機アルミニ
ウム成分量でα‐オレフィン重合体を製造する方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】周期表第IVB族メタロセン化合物とメチ
ルアルモキサンからなる触媒を使用することにより、α
‐オレフィン重合体を高収率で得る方法が知られている
(特開昭58−19503号および同60−35007
号各公報)。これらの提案により、遷移金属あたりの活
性が高く、また、分子量分布が狭いポリマーが得られ
る。
【0003】また、特定のメタロセン化合物を用いるこ
とにより、立体規則性を有するポリプロピレンの製造が
可能になっている(特開昭61−130314号、同6
3−295607号、特開平1−275609号、同1
−301704号、同2−41303号および同2−2
74703号各公報)。しかし、これらの提案により、
工業的に有用な特徴を有する重合体が製造可能となった
が、共触媒であるメチルアルモキサンが非常に高価であ
るうえに、メチルアルモキサンを一般的に多量に使用す
る必要があり、アルミニウム原子あたりの活性が低いこ
となどから、製造コストが高く、そして多量のアルミニ
ウムがオレフィン重合体中に残存してしまうために、こ
の方法には工業上の問題があると思われる。
【0004】これらの問題を解決する目的で種々の提案
がなされている(特開昭61−211307号、同63
−130601号、同64−16803号、特開平2−
22308号、同2−167307号各公報)。これら
の提案により、アルミニウムあたりの活性は多少改善さ
れているが、このようなアルモキサンは溶解性が悪く、
取り扱いにくい上にアルミニウムの除去が難しいため、
オレフィン重合体の品質の低下や色相の悪化等の原因と
なっており、さらに改良が必要であると思われる。
【0005】別の提案として、メチルアルモキサンにそ
の他の有機アルミニウム化合物等を共存させる方法が開
示されている(特開昭60−260602号、同60−
130604号、同63−89506号、同63−17
8108号、同63−218707号、同64−920
6号、特開平1−315407号、同2−22306号
および同2−167310号各公報)。これらの提案に
よりメチルアルモキサンの使用量は低下しているが、ア
ルミニウムあたりの活性は不充分であり、さらに改善が
望まれる。
【0006】一方、あたらな試みとして、メチルアルモ
キサンを使用せずに活性化する方法が開示されている
(公表平1−501950号、同1−502036号、
特開平3−207703号、同3−207704号、同
3−179005号、特開平3−197513号および
同3−197514号各公報)。これらの提案により、
メチルアルモキサンの使用は省略されるが、遷移金属あ
たりの活性が著しく低下するために遷移金属成分をポリ
マーから取り除く操作が必要であると考えられ、さらな
る改良が望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明はが解決しよう
とする課題は、メタロセン化合物あたりの活性を低下さ
せることなく、助触媒であるメチルアルモキサンの使用
量を低減して、品質の良好なα‐オレフィン重合体を製
造する方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
〔発明の概要〕 <要 旨>本発明は、上記の課題を達成するために検討
を行なった結果なされたものである。即ち、本発明によ
るα‐オレフィン重合体の製造法は、下記の成分(A)
および成分(B)からなる触媒にα‐オレフィンを接触
させて重合させること、を特徴とするものである。
【0009】成分(A) 下記の成分(i) 〜(iii) を、成分(i)の希釈濃度を50
μM/リットル以上とした不活性溶媒に希釈して接触さ
せて得られた接触生成物 成分(i) 一般式Q(C5-a-b )(C5-a-c
)MeXYあるいは一般式A(C
5-d-e )(R 2-d J)MeXYで表わされる遷
移金属化合物 〔ここで、(C5-a-b )、(C5-a-c
)および(C5-d-e )は各々Meに配位
する共役五員環配位子(ただし、R、RおよびR
は各々炭素数1〜20の炭化水素残基、ハロゲン基、炭
素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜24のケイ素
含有炭化水素基、炭素数1〜18のリン含有炭化水素
基、炭素数1〜18の窒素含有炭化水素基および炭素数
1〜18のホウ素含有炭化水素基からなる群から選ばれ
る一価の基であり、Rは炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜24のケイ素含有炭化水素基および炭素
数1〜20の酸素含有炭化水素基からなる1価の基であ
る(RとRとは同一であっても異なっていてもよ
い。またRが複数存在する場合に、それらは同一であ
っても異なっていてもよく、またそれぞれの他端におい
て結合していてもよい。同様にR(あるいはR)が
複数存在する場合に、それらは同一であっても異なって
いてもよく、またそれぞれの他端において結合していて
もよい。))を、Qは二つの共役五員環配位子を架橋す
る二価の結合性基を、Aは(C5-d-e )と
(R 2-d J)とを架橋する二価の結合性基を、JはM
eと結合する窒素またはリン原子を、Meは周期表IVB
〜VIB族遷移金属を、XおよびYは各々水素、ハロゲン
基、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のア
ルコキシ基、2個までの炭素数1〜20の炭化水素基で
置換されていてもよいアミノ基、炭素数1〜20のリン
含有炭化水素基および炭素数1〜20のケイ素含有炭化
水素基からなる一価の基(XとYとは同一であっても異
なっていてもよい。)を、aおよびdは0または1を、
bおよびcはaが0のときは0≦b≦5の整数、0≦c
≦5の整数を、aが1のときは0≦b≦4の整数、0≦
c≦4の整数を、eはdが0のときは0≦e≦5の整数
を、dが1のときは0≦e≦4の整数を、示す。〕 成分(ii): 有機ホウ素化合物 成分(iii) : 有機アルミニウム化合物 成分(B) アルモキサン。
【0010】<効 果>本発明の効果は、成分(i)、成
分(ii)および成分(iii) を特定の条件下で予備接触さ
せて、効率的かつ安定的に活性点を形成させた予備接触
生成物(成分(A))とアルモキサン(成分(B))と
を組み合わせてなる触媒によりオレフィンの重合を行な
うことにより、成分(B)の使用量を大巾に削減するこ
とを可能にしたものである。
【0011】本発明においてこのような効果が発現する
機構はまだ十分に解明されていないが、従来の系では、
成分(i)は成分(B)の存在により実際に活性種(一説
には、メタロセンカチオン種といわれている。)が形成
されるもののこの反応が可逆反応であるために生成した
活性種が直ぐ消失してしまって一定量以上の活性種を得
るためには多量の成分(B)が必要となるのに対し、本
発明の成分(i)、成分(ii)および成分(iii)を特殊な
条件で接触させることにより、活性種の消失が抑えられ
て量論的に活性種を形成するため、アルモキサンは単に
被毒防止および活性種の安定化の役割を果たす量を使用
すれば十分なため、アルモキサンの削減が可能となった
と予想されている。このような効果は従来技術からは全
く予見できないものであると解される。なお、このよう
な推測により本発明は何ら制限を受けるものではない。
【0012】〔発明の具体的説明〕本発明のα‐オレフ
ィン重合体の製造法は、成分(A)および成分(B)か
らなる重合触媒を用いてオレフィンを重合させることか
らなるものである。ここで「成分(A)および成分
(B)からなる」とは、成分(A)および成分(B)を
使用する場合に、その効果を悪化させない限りにおいて
任意の第三成分が共存することを除外するものではな
い。
【0013】<成分(A)> 下記の成分(i) 〜(iii) を、成分(i)の希釈濃度を50
μM/リットル以上とした不活性溶媒に希釈して接触さ
せて得られた接触生成物である。成分(i) 成分(i)は、一般式Q(C5-a-b )(C
5-a-c )MeXYあるいは一般式A(C
5-d-e )(R 2-d J)MeXYで表わされる遷
移金属化合物 〔ここで、(C5-a-b )、(C5-a-c
)および(C5-d-e )は各々Meに配位
する共役五員環配位子(ただし、R、RおよびR
は各々炭素数1〜20の炭化水素残基、ハロゲン基、炭
素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜24のケイ素
含有炭化水素基、炭素数1〜18のリン含有炭化水素
基、炭素数1〜18の窒素含有炭化水素基および炭素数
1〜18のホウ素含有炭化水素基からなる群から選ばれ
る一価の基であり、Rは炭素数1〜20の炭化水素
基、炭素数1〜24のケイ素含有炭化水素基および炭素
数1〜20の酸素含有炭化水素基からなる1価の基であ
る(RとRとは同一であっても異なっていてもよ
い。またRが複数存在する場合に、それらは同一であ
っても異なっていてもよく、またそれぞれの他端におい
て結合していてもよい。同様にR(あるいはR)が
複数存在する場合に、それらは同一であっても異なって
いてもよく、またそれぞれの他端において結合していて
もよい。))を、Qは二つの共役五員環配位子を架橋す
る二価の結合性基を、Aは(C5-d-e )と
(R 2-d J)とを架橋する二価の結合性基を、JはM
eに結合する窒素またはリン原子を、Meは周期表IVB
〜VIB族遷移金属を、XおよびYは各々水素、ハロゲン
基、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のア
ルコキシ基、2個までの炭素数1〜20の炭化水素基で
置換されていてもよいアミノ基、炭素数1〜20のリン
含有炭化水素基および炭素数1〜20のケイ素含有炭化
水素基からなる一価の基(XとYとは同一であっても異
なっていてもよい。)を、aおよびdは0または1を、
bおよびcはaが0のときは0≦b≦5の整数、0≦c
≦5の整数を、aが1のときは0≦b≦4の整数、0≦
c≦4の整数を、eはdが0のときは0≦e≦5の整数
を、dが1のときは0≦e≦4の整数を、示す。〕
【0014】ここで、Qは二つの共役五員環配位子を架
橋する結合性基を、Aは共役五員環配位子と(R 2-d
J)基を架橋する結合性基を表す。詳しくは、(イ)メ
チレン基、エチレン基、イソプロピレン基、フェニルメ
チルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シクロヘキシ
レン基等のアルキレン基、(ロ)シリレン基、ジメチル
シリレン基、フェニルメチルシリレン基、ジフェニルシ
リレン基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基等
のシリレン基、(ハ)ゲルマニウム、リン、窒素、ホウ
素あるいはアルミニウムを含む炭化水素基〔具体的には
(CHGe基、(CGe基、(C
)P基、(C)P基、(C)N基、
(C)N基、(CH)B基、(C)B
基、(C)B基、(C)Al基、(CH
O)Al基等〕等である。
【0015】好ましくはアルキレン基およびシリレン基
である。aおよびdは0または1である。上記一般式に
おいて、(C5-a-b )、(C5-a-c
)および(C5-d-e )で表される共役五員
環配位子は、それぞれ別個に定義されているけれども、
aおよびd、b、cおよびe、ならびにR、Rおよ
びRの定義そのものは同じであるから(詳細後記)、
この三つの共役五員環基は同一でも異なってもよいこと
はいうまでもない。
【0016】この共役五員環基の一つの具体例は、b=
0(あるいはc=0、e=0)のシクロペンタジエニル
基(架橋基QあるいはA以外の置換基のない)である。
この共役五員環基がb≠0(あるいはc≠0、e≠0)
であって置換基を有するものである場合は、R(ある
いはR、R)の一つの具体例は、炭化水素基(C
〜C20、好ましくはC〜C12)であるが、この炭化水
素基は一価の基としてシクロペンタジエニル基と結合し
ていても、またこれが複数個存在するときにその2個が
それぞれの他端で結合してシクロペンタジエニル基の一
部と共に環を形成していてもよい。後者の代表例は、R
(あるいはR、R)が当該シクロペンタジエニル
基の二重結合を共有して縮合六員環を形成しているも
の、すなわちこの共役五員環基がインデニル基、テトラ
ヒドロインデニル基、またはフルオレニル基であるもの
である。すなわち、この共役五員環基の代表例は、置換
または非置換の、シクロペンタジエニル基、インデニル
基、テトラヒドロインデニル基およびフルオレニル基で
ある。
【0017】R、RおよびRは、それぞれ、上記
のC〜C20、好ましくはC〜C12、の炭化水素基の
外に、ハロゲン基(たとえば、フッ素、塩素、臭素)、
アルコキシ基(たとえば、C〜C12のもの)、ケイ素
含有炭化水素基(たとえば、ケイ素原子を−Si(R)
(R)(R)の形で含む炭素数1〜24程度の基)、リ
ン含有炭化水素基(たとえば、リン原子を−P(R)
(R)の形で含む炭素数1〜18程度の基)、窒素含有
炭化水素基(たとえば、窒素原子を−N(R)(R′)
の形で含む炭素数1〜18程度の基)あるいはホウ素含
有炭化水素基(たとえば、ホウ素原子を−B(R)
(R)の形で含む炭素数1〜18程度の基)である。b
(あるいはc)が2以上であってR(あるいはR
)が複数個存在するときは、それらは同一でも異な
っていてもよい。bおよびcはaが0のときは0≦b≦
5の整数、0≦c≦5の整数であり、aが1のときは0
≦b≦4の整数、0≦c≦4の整数であり、eはdが0
のときは0≦e≦5の整数であり、dが1のときは0≦
e≦4の整数である。
【0018】Meは周期表IVB〜IVB族遷移金属、好ま
しくはチタン、ジルコニウム、およびハフニウムであ
る。Jは、Meに結合する窒素原子またはリン原子であ
る。XおよびYは、各々水素、ハロゲン基、炭素数1〜
20、好ましくは1〜10、の炭化水素基、炭素数1〜
20、好ましくは1〜10、のアルコキシ基、アミノ
基、炭素数1〜20、好ましくは1〜12、のアルキル
アミノ基、炭素数1〜20、好ましくは1〜12、のリ
ン含有炭化水素基(具体的には、たとえばジフェニルホ
スフィン基)、あるいは炭素数1〜20、好ましくは1
〜12、のケイ素含有炭化水素基(具体的には、たとえ
ばトリメチルシリル基)である。XとYとは同一でも異
なってもよい。これらのうちハロゲン基、炭化水素基が
好ましい。Meがジルコニウムである場合のこの遷移金
属化合物の具体例は、下記の通りである。
【0019】(イ)架橋する結合基を有せず共役五員環
配位子を2個有する遷移金属、例えば (1) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、(2) ビス(メチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(3) ビス(ジメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
(4) ビス(トリメチルシクロペンタジエニル)ジル
コニウムジクロリド、(5) ビス(テトラメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(6)
ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(7) ビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(8) ビス(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(9) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、(1
0) ビス(シクロペンタジエニル)メチルジルコニウ
ムモノクロリド、(11) ビス(シクロペンタジエニ
ル)エチルジルコニウムモノクロリド、(12) ビス
(シクロペンタジエニル)フェニルジルコニウムモノク
ロリド、(13) ビス(シクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジメチル、(14) ビス(シクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジフェニル、(15) ビス(シクロペ
ンタジエニル)ジルコニウムジネオペンチル、(16)
ビス(シクロペンタジエニル)ジルコニウムジハイドラ
イド、(17) (シクロペンタジエニル)(インデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(18) (シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド
等。
【0020】(ロ)アルキレン基で架橋した五員環配位
子を2個有する遷移金属化合物、例えば (1) メチレンビス(インデニル)ジルコニウムジク
ロリド、(2) エチレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(3) エチレンビス(インデニル)
ジルコニウムモノハイドライドモノクロリド、(4)
エチレンビス(インデニル)メチルジルコニウムモノク
ロリド、(5) エチレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムモノメトキシモノクロリド、(6) エチレンビス
(インデニル)ジルコニウムジエトキシド、(7) エ
チレンビス(インデニル)ジルコニウムジメチル、
(8) エチレンビス(4,5,6,7‐テトラヒドロ
インデニル)ジルコニウムジクロリド、(9) エチレ
ンビス(2‐メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(10) エチレン(2,4‐ジメチルシクロペンタ
ジエニル)(3′,5′‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、
【0021】(11) エチレン(2‐メチル‐4‐tert
ブチルシクロペンタジエニル)(3′‐tetrブチル‐
5′‐メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、(12) エチレン(2,3,5‐トリメチルシ
クロペンタジエニル)(2′,4′,5′‐トリメチル
シクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(1
3) イソプロピリデンビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(14) イソプロピリデンビス(2,4
‐ジメチルシクロペンタジエニル)(3′,5′‐ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
(15) イソプロピリデンビス(2‐メチル‐4‐tert
ブチルシクロペンタジエニル)(3′‐tertブチル‐5
‐メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(16) メチレン(シクロペンタジエニル)(3,
4‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、(17) メチレン(シクロペンタジエニル)
(3,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムクロリドヒドリド、(18) メチレン(シクロペンタ
ジエニル)(3,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)
ジルコニウムジメチル、(19) メチレン(シクロペン
タジエニル)(3,4‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジフェニル、(20) メチレン(シク
ロペンタジエニル)(トリメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、
【0022】(21) メチレン(シクロペンタジエニ
ル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(22) イソプロピリデン(シクロペン
タジエニル)(3,4‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(23) イソプロピリデ
ン(シクロペンタジエニル)(2,3,4,5‐テトラ
メチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(24) イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(3‐メチルインデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(25) イソプロピリデン(シクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(26)
イソプロピリデン(2‐メチルシクロペンタジエニ
ル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(27)
イソプロピリデン(2,5‐ジメチルシクロペンタジ
エニル)(3,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(28) イソプロピリデン
(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニル)(フルオレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(29) エチレン(シ
クロペンタジエニル)(3,5‐ジメチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、(30) エチレン
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、
【0023】(31) エチレン(2,5‐ジメチルシク
ロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジク
ロリド、(32) エチレン(2,5‐ジエチルシクロペ
ンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(33) ジフェニルメチレン(シクロペンタジエニ
ル)(3,4‐ジエチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド、(34) ジフェニルメチレン(シク
ロペンタジエニル)(3,4‐ジエチルシクロペンタジ
エニル)ジルコニウムジクロリド、(35) シクロヘキ
シリデン(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(36) シクロヘキシリデン
(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニル)(3′,
4′‐ジメチルジメチルシクロペンタジエニル)ジルコ
ニウムジクロリド等。
【0024】(ハ)シリレン基で架橋した五員環配位子
を2個有する遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(2) ジメチルシリレン(4,5,
6,7‐テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロ
リド、(3) ジメチルシリレン(2‐メチルインデニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(4) ジメチルシリレ
ンビス(2,4‐ジメチルインデニル)ジルコニウムジ
クロリド、(5) ジメチルシリレン(2,4‐ジメチ
ルシクロペンタジエニル)(3′,5′‐ジメチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、(6)
フェニルメチルシリレンビス(インデニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(7) フェニルメチルシリレンビス
(4,5,6,7‐テトラヒドロインデニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(8) フェニルメチルシリレン
(2,4‐ジメチルシクロペンタジエニル)(3′‐
5′‐ジメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジ
クロリド、(9) フェニルメチルシリレン(2,3,
5‐トリメチルシクロペンタジエニル)(2,4,5‐
トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロ
リド、(10) フェニルメチルシリレンビス(テトラメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
【0025】(11) ジフェニルシリレンビス(インデ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(12) テトラメチル
ジシリレンビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(13) テトラメチルジシリレンビス(シクロペン
タジエニル)ジルコニウムジクロリド、(14) テトラ
メチルジシリレン(3‐メチルシクロペンタジエニル)
(インデニル)ジルコニウムジクロリド、(15) ジメ
チルシリレン(シクロペンタジエニル)(3,4‐ジメ
チルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
(16) ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(トリメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジク
ロリド、(17) ジメチルシリレン(シクロペンタジエ
ニル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(18) ジメチルシリレン(シクロペ
ンタジエニル)(3,4‐ジエチルシクロペンタジエニ
ル)ジルコニウムジクロリド、(19) ジメチルシリレ
ン(シクロペンタジエニル)(トリエチルシクロペンタ
ジエニル)ジルコニウムジクロリド、(20) ジメチル
シリレン(シクロペンタジエニル)(テトラエチルシク
ロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド、
【0026】(21) ジメチルシリレン(シクロペンタ
ジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド、
(22) ジメチルシリレン(シクロペンタジエニル)
(2,7‐ジ‐t‐ブチルフルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド、(23) ジメチルシリレン(シクロペンタ
ジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド、(24) ジメチルシリレン(2‐メチルシ
クロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウムジ
クロリド、(25) ジメチルシリレン(2,5‐ジメチ
ルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(26) ジメチルシリレン(2‐エチル
シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド、(27) ジメチルシリレン(2,5‐ジエ
チルシクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニ
ウムジクロリド、(28) ジエチルシリレン(2‐メチ
ルシクロペンタジエニル)(2,7‐ジ‐t‐ブチルフ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(29) ジメチ
ルシリレン(2,5‐ジメチルシクロペンタジエニル)
(2,7‐ジ‐t‐ブチルフルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド、(30) ジメチルシリレン(2‐エチルシ
クロペンタジエニル)(2,7‐ジ‐t‐ブチルフルオ
レニル)ジルコニウムジクロリド、
【0027】(31) ジメチルシリレン(ジエチルシク
ロペンタジエニル)(2,7‐ジ‐t‐ブチルフルオレ
ニル)ジルコニウムジクロリド、(32) ジメチルシリ
レン(メチルシクロペンタジエニル)(オクタヒドロフ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(33) ジメチ
ルシリレン(ジメチルシクロペンタジエニル)(オクタ
ヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリド、(34)
ジメチルシリレン(エチルシクロペンタジエニル)
(オクタヒドロフルオレニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(35) ジメチルシリレン(ジエチルシクロペンタ
ジエニル)(オクタヒドロフルオレニル)ジルコニウム
ジクロリド等。
【0028】(ニ)ゲルマニウム、アルミニウム、ホウ
素、リンあるいは窒素を含む炭化水素基で架橋された五
員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルゲルマニウムビス(インデニル)ジル
コニウムジクロリド、(2) ジメチルゲルマニウム
(シクロペンタジエニル)(フルオレニル)ジルコニウ
ムジクロリド、(3) メチルアルミニウムビス(イン
デニル)ジルコニウムジクロリド、(4) フェニルア
ルミニウムビス(インデニル)ジルコニウムジクロリ
ド、(5) フェニルホスフィノビス(インデニル)ジ
ルコニウムジクロリド、(6) エチルホラノビス(イ
ンデニル)ジルコニウムジクロリド、(7) フェニル
アミノビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド、
(8) フェニルアミノ(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリド、等が例示され
る。
【0029】(ホ)五員環配位子を1個有する遷移金属
化合物、例えば (1) ペンタメチルシクロペンタジエニル‐ビス(フ
ェニル)アミノジルコニウムジクロリド (2) インデニル‐ビス(フェニル)アミノジルコニ
ウムジクロリド (3) 4,5,6,7‐テトラヒドロインデニル‐ビ
ス(トリメチルシリル)アミノジルコニウムジクロリド (4) ペンタメチルシクロペンタジエニルビスフェニ
ルホスフィノジルコニウムジクロリド (5) ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)フェニルアミノジルコニウムジクロリド (6) ジメチルシリレン(テトラヒドロインデニル)
デシルアミノジルコニウムジクロリド (7) ジメチルシリレン(テトラヒドロインデニル)
((トリメチルシリル)アミノ)ジルコニウムジクロリ
ド (8) ジメチルゲルマン(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)(フェニル)アミノジルコニウムジクロリド (9) フェニルメチルシリレン(フルオレニル)
(2,6‐ジイソプロピルフェニル)アミノジルコニウ
ムジクロリド、等が例示される。 (ヘ)また、上記(イ)〜(ホ)の化合物の塩素を臭
素、ヨウ素、ヒドリド、メチル、フェニル等に置きかえ
たものも使用可能である。
【0030】さらに、本発明では、成分(i) として上記
(イ)〜(ホ)に例示したジルコニウム化合物の中心金
属をジルコニウムからチタン、ハフニウム、ニオブ、モ
リブデンまたはタングステンに換えた化合物も用いるこ
とが出来る。これらのうちで好ましいのは、ジルコニウ
ム化合物、ハフニウム化合物およびチタニウム化合物で
ある。さらに好ましいのは、アルキレン基あるいはシリ
レン基で架橋したチタニウム化合物、ジルコニウム化合
物およびハフニウム化合物である。
【0031】成分(ii) 成分(ii)は、有機ホウ素化合物である。本発明では、
本発明の効果が認められるものであれば、いずれも使用
可能である。そのようなものの例としては、(イ)トリ
メチルホウ素、トリエチルホウ素、トリフェニルホウ
素、トリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、トリイ
ソプロピルホウ素、トリブチルホウ素、トリキシリルホ
ウ素、トリス(フルオロフェニル)ホウ素、トリス(ジ
フルオロフェニル)ホウ素、ジメチルフェニルホウ素、
ジフェニルホウ素、ジフェニルメトキシホウ素等のホウ
素化合物、(ロ)トリフェニルカルビルテトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ホウ素、等の有機ホウ素化合物
が例示される。これらのうち、アリールホウ素化合物が
好ましい。特に好ましくはハロゲン置換フェニルホウ素
化含物、中でもフルオロフェニルホウ素化合物、殊にト
リス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素、である。
【0032】成分(iii) 成分(iii)は、有機アルミニウム化合物である。具体例
としては、R 3-n AlXまたはR 3-m Al(OR
(ここで、RおよびRは同一または異なって
もよい炭素数1〜20程度の炭化水素残基または水素原
子、Rは炭素数1〜20程度の炭化水素残基、Xはハ
ロゲン、nおよびmはそれぞれ0≦n≦3、0<m<3
の数)あるいは下記の一般式(I)または(II)で表わ
されるものがある。
【0033】
【化1】
【0034】(ここで、pは0〜40、好ましくは2〜
25、の数であり、Rは炭化水素残基、好ましくは炭
素数1〜10、特に好ましくは炭素数1〜4、のもの、
を示す。)具体的には、(イ)トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミ
ニウム、トリデシルアルミニウムなどのトリアルキルア
ルミニウム、(ロ)ジエチルアルミニウムモノクロライ
ド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エチル
アルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウムジ
クロライドなどのアルキルアルミニウムハライド、
(ハ)ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソブチ
ルアルミニウムハイドライドなどのアルキルアルミニウ
ムハイドライド、(ニ)ジエチルアルミニウムエトキシ
ド、ジエチルアルミニウムフェノキシドなどのアルミニ
ウムアルコキシド、(ホ)メチルアルモキサン、エチル
アルモキサン、イソブチルアルモキサン、メチルイソブ
チルアルモキサンなどのアルモキサンなどが例示され
る。これらを複数種混合して用いることも可能である。
これらのうち、トリアルキルアルミニウム、アルモキサ
ンなどが好ましい。
【0035】接触条件 成分(i)、成分(ii)および成分(iii)の使用量の割合
は、成分(i)の遷移金属化合物(金属原子換算)と成分
(ii)のルイス酸のモル比(成分(i)/成分(ii))で
1/10000〜10/1、好ましくは1/100〜2
/1、さらに好ましくは1/50〜1/1、である。成
分(i)と成分(iii)(アルミニウム原子換算)の使用量
の割合は、成分(i)/成分(iii)=1/10000〜1
0/1、好ましくは1/100〜3/1、さらに好まし
くは1/50〜1/1、である。
【0036】接触温度は、−78℃〜200℃、好まし
くは−10℃〜100℃、さらに好ましくは0℃〜50
℃、である。接触は、不活性溶媒に希釈して接触させる
方法で行なうことができる。成分(i)の希釈濃度は50
μM/リットル以上、さらに好ましくは200μM/リ
ットル以上、の条件下で行なう。また、接触は不活性ガ
ス雰囲気下で行なうのが通常であるが、α‐オレフィン
存在下で、小量の予備重合ポリマーを生成させる条件で
行なうことも可能である。
【0037】<成分(B)>成分(B)は、下式(III)
または(IV)で示されるアルモキサンである。
【0038】
【化2】
【0039】(ここで、qは0〜40、好ましくは2〜
25、の数であり、Rは炭化水素残基、好ましくは炭
素数1〜10、特に好ましくは炭素数1〜4、のもの、
を示す。)アルモキサンは一種類のトリアルキルアルミ
ニウムまたは二種類以上のトリアルキルアルミニウムと
水との反応により得られる生成物である。具体的には一
種類のトリアルキルアルミニウムから得られるメチルア
ルモキサン、エチルアルモキサン、ブチルアルモキサ
ン、イソブチルアルモキサン等、および二種類のトリア
ルキルアルミニウムと水から得られるメチルエチルアル
モキサン、メチルブチルアルモキサン、メチルイソブチ
ルアルモキサン等が例示される。これらのアルモキサン
を複数種併用することも可能であり、トリメチルアルミ
ニウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアル
ミニウム、ジメチルアルミニウムクロリド等の他のアル
キルアルミニウムと併用することも可能である。
【0040】また、二種類のアルモキサンあるいは一種
類のアルモキサンと他の有機アルミニウム化合物とを反
応させることにより、変成されたアルモキサンを用いる
ことも可能である。これらの中で好ましいものは、メチ
ルアルモキサン、イソブチルアルモキサン、メチルイソ
ブチルアルモキサンおよびこれらのアルモキサンとトリ
アルキルアルミニウムの混合物が用いられる。特に好ま
しいのはメチルアルモキサンおよびメチルイソブチルア
ルモキサンである。
【0041】これらのアルモキサンは公知の様々な条件
下に調製することができる。具体的には以下の様な方法
が例示できる。 (イ) トリアルキルアルミニウムをトルエン、ベンゼ
ン、エーテル等の適当な有機溶剤を用いて直接水と反応
させる方法、(ロ) トリアルキルアルミニウムと結晶
水を有する塩水和物、例えば硫酸銅、硫酸アルミニウム
の水和物と反応させる方法、(ハ) トリアルキルアル
ミニウムとシリカゲル等に含浸させた水分とを反応させ
る方法、(ニ) トリメチルアルミニウムとトリイソブ
チルアルミニウムを混合し、トルエン、ベンゼン、エー
テル等の適当な有機溶剤を用いて直接水と反応させる方
法、(ホ) トリメチルアルミニウムとトリイソブチル
アルミニウムを混合し、結晶水を有する塩水和物、例え
ば硫酸銅、硫酸アルミニウムの水和物と加熱反応させる
方法、(ヘ) シリカゲル等に水分を含浸させ、トリイ
ソブチルアルミニウムで処理した後、トリメチルアルミ
ニウムで追加処理する方法、(ト) メチルアルモキサ
ンおよびイソブチルアルモキサンを公知の方法で合成
し、これら二成分を所定量混合し、加熱反応させる方
法。
【0042】<α‐オレフィン重合体の製造>本発明の
α‐オレフィン重合体の製造は、上記の成分(A)およ
び成分(B)からなる重合触媒を、重合槽内で、重合さ
せるべきモノマーの存在下で混合接触させることにより
行なわれる。本発明で使用する成分(A)および成分
(B)の使用量は任意であるが、本発明の効果を充分発
揮させる条件としては、成分(B)のアルモキサンのア
ルミニウム原子と成分(A)の遷移金属化合物の金属原
子との原子比(Al/Me)で0.01〜10000、
好ましくは0.1〜3000、さらに好ましくは1〜2
000、特に好ましくは20〜1000、である。
【0043】本発明の触媒は、成分(A)および(B)
以外に、他の成分を含みうるものであることは前記した
通りであるが、成分(A)および(B)に加えることが
可能な第三成分(任意成分)としては、例えば(イ)
水、メタノール、エタノール、ブタノール等の活性水素
含有化合物、(ロ)エーテル、エステル、アミン等の電
子供与性化合物、(ハ)ホウ酸フェニル、ジメチルメト
キシアルミニウム、亜リン酸フェニル、テトラエトキシ
シラン、ジフェニルジメトキシシラン等のアルコキシ含
有化合物、を例示することができる。
【0044】本発明によるオレフィン重合用触媒は、通
常のスラリー重合に適用されるのはもちろんであるが、
実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、溶液重合また
は気相重合法にも適用される。また連続重合、回分式重
合または予備重合を行なう方式にも適用される。したが
って、この触媒にオレフィンを触媒させて重合させるこ
とからなる本発明によるα‐オレフィン重合体の製造法
は、上記の各重合法ないし重合様式を採用してなるもの
である。スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ヘキ
サン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素の単
独あるいは混合物が用いられる。重合温度は−78℃か
ら200℃程度、好ましくは0℃〜150℃、であり、
そのとき分子量調節剤として補助的に水素を用いること
ができる。スラリー重合のとき、成分(A)の使用量
は、0.0001〜1.0グラム成分(A)/リットル
溶剤の範囲内が好ましい。
【0045】本発明による触媒系で重合するα‐オレフ
ィン類(本発明では、エチレンを包含するものとす
る)、言い換えれば、本発明による触媒に接触させるα
‐オレフィン類は、一般式R−CH=CH(ここでR
は水素原子または炭素数1〜20の炭化水素残基であ
り、分枝基を有してもよい。)で表わされるものであ
る。具体的には、エチレン、プロピレン、ブテン‐1、
ペンテン‐1、ヘキセン‐1、4‐メチルペンテン‐
1、デセン‐1、ヘキサデセン‐1などのオレフィン類
がある。好ましいのは、エチレンおよびプロピレンであ
る。これらの重合の場合に、エチレンに対して50重量
パーセントまで、好ましくは20重量パーセントまで、
の上記オレフィンとの共重合を行なうことができ、プロ
ピレンに対して30重量パーセントまでの上記オレフィ
ン、特にエチレン、ブテン‐1、ヘキセン‐1、デセン
‐1、ヘキサデセン‐1等との共重合を行なうことがで
きる。その他の共重合性モノマー(たとえば酢酸ビニ
ル、ジオレフィン等)との共重合を行なうこともでき
る。
【0046】
【実施例】
〔実施例1〕 <成分(A)の製造>エチレンビス(4,5,6,7‐
テトラヒドロインデンニル)ジルコニウムジクロリド
を、J. Orgmet. Chem. (288) 63 〜67 1985に従って合
成した。次いで、充分に窒素置換した300mlフラスコ
に、脱水脱酸素したジエチルエーテル100ml、および
上記に合成したエチレンビス〔4,5,6,7‐テトラ
ヒドロインデニル〕ジルコニウムジクロリドを1.28
グラム(3mM)導入した。次いでメチルリチウム
(1.6M/L ジエチルエーテル希釈溶液)3.8ml
(6mM)を−50℃以下で10分かけて滴下した。こ
れを−50℃以下で1時間保った後、2時間かけて室温
まで昇温した。昇温後、室温下で6時間反応させた。反
応終了後、溶媒を減圧留去した。これにトルエン50ミ
リリットルを加え、不溶物をろ過した後、20ミリリッ
トルに濃縮し、−5℃で一晩放置した。生成した結晶を
ろ過して乾燥させた結果、エチレンビス〔4,5,6,
7‐テトラヒドロインデニル〕ジルコニウムジメチル
0.95グラム(成分(i))が得られた。充分に窒素置
換した300mlフラスコに、脱水及び脱気したトルエン
100ml、上記で合成したエチレンビス〔4,5,6,
7‐テトラヒドロインデニル〕ジルコニウムジメチル
(成分(i))43ミリグラム(0.1mM)および成分
(ii)としてトリス(ペンタフルオロフェニル)ホウ素
110ミリグラム(0.20mM)を混合し、次いで成
分(iii)としてトリメチルアルミニウム36ミリグラム
(0.5mM)を加えて、室温下で30分混合して、目
的とする成分(A)の希釈溶液を得た。
【0047】<プロピレンの重合>攪拌および温度制御
装置のついた内容積1.0リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに、充分に脱水および脱酸素したトルエン
400ミリリットル、成分(B)としてシェリング社製
メチルアルモキサンを0.06グラム(1mM:アルミ
ニウム原子換算)および上記で得た成分(A)を2ml
(成分(i)換算で2μM)導入し、プロピレン圧力=7
Kg/cm2 G、重合温度40℃で2時間重合操作を行なっ
た。重合終了後、重合溶液を1リットルのエタノール中
に抜き出し、重合体をろ別し、乾燥させたところ、77
グラムのポリマーを回収した。ゲルパーミュエーション
クロマトグラフィーの測定の結果、このものは数平均分
子量(Mn)22.6×103 、分子量分布は重量平均
分子量/数平均分子量の比で2.03であった。JEO
L.FX−200により13C−NMRを測定した結果、
トリアッドの〔mm〕分率は、0.926であった。
【0048】〔実施例2〕 <プロピレンの重合>成分(B)のメチルアルモキサン
(シェリング社製)を0.036グラム(0.6mM)
使用する以外はすべて実施例1と同一条件で重合操作を
行なった。結果は表1に示される通りである。
【0049】〔比較例1、2〕 <成分(A)の製造>実施例1で成分(A)を製造する
際に、成分(ii)のトリス(ペンタフルオロフェニル)
ホウ素あるいは成分(iii)のトリメチルアルミニウムを
使用しない以外は全て実施例1と同一条件で重合操作を
行なった。 <プロピレンの重合>上記で製造した成分(A)を用い
る以外は全て実施例1と同一条件で重合操作を行なっ
た。結果は表1に示される通りである。
【0050】〔比較例3〕 <プロピレンの重合>実施例1で用いた装置を用い、実
施例1の成分(A)を用いるかわりに、成分(i)のエチ
レンビス〔4,5,6,7‐テトラヒドロインデニル〕
ジルコニウムジメチルを0.86ミリグラム(2μ
M)、成分(ii)のトリス(ペンタフルオロフェニル)
ホウ素2.20ミリグラム(4μM)、および成分(ii
i)のトリメチルアルミニウム0.72ミリグラムを加
え、次いで、成分(B)のメチルアルモキサン(シェリ
ング社製)を0.06グラムを導入して、実施例1と同
一条件で重合操作を行なった。結果は表1に示される通
りである。
【0051】〔比較例4〕 <プロピレンの重合>成分(i)のエチレンビス(4,
5,6,7‐テトラヒドロインデニル〕ジルコニウムジ
メチルを0.86ミリグラム、および成分(B)のメチ
ルアルモキサン(シェリング社製)を0.06グラムを
導入する以外は全て実施例1と同一条件で重合操作を行
なった。結果は表1に示される通りである。
【0052】〔実施例3〜9〕 <成分(A)の製造>実施例1の成分(A)の製造の際
に、各成分の使用量ならびに成分(ii)、成分(iii)の
種類を表2の通りに変更する以外は、全て実施例1と同
一条件で成分(A)を製造した。 <プロピレンの重合>上記で製造した成分(A)を用い
る以外は全て実施例1と同一条件で重合操作を行なっ
た。結果は表2に示される通りである。
【0053】〔実施例10〕 <成分(i)の製造>ジメチルシリルビス(テトラヒドロ
インデニル)ジルコニウムジクロリドを、J. Orgmet. C
hem. (342) 21 〜29 1988およびJ. Orgmet. Chem. (36
9) 359〜370 1989に従って合成した。具体的には、窒素
置換した300ミリリットルフラスコに、ビス(インデ
ニル)ジメチルシラン5.4gをテトラヒドロフラン1
50ミリリットルに希釈し、−50℃以下に冷却した
後、n‐ブチルリチウム(1.6M/L)を23.6ミ
リリットルを30分かけて滴下した。滴下終了後、1時
間かけて室温まで昇温し、室温下で4時間反応させて反
応液Aを合成した。
【0054】窒素置換した500ミリリットルフラスコ
にテトラヒドロフラン200ミリリットル導入し、−5
0℃以下に冷却した後、四塩化ジルコニウム4.38グ
ラムをゆっくり導入した。次いで反応液Aを全量導入し
た後、3時間かけてゆっくり室温まで昇温した。室温下
で2時間反応させた後、さらに60℃に昇温し2時間反
応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去した後、トルエ
ン100ミリリットルに溶解し再留去によりジメチルシ
リルビス(インデニル)ジルコニウムジクロリド粗結晶
を3.86グラム得た。次いで、この粗結晶をジクロロ
メタン150ミリリットルに溶解し、500ミリリット
ルオートクレーブに導入し、白金‐カーボン(0.5重
量%白金担持)触媒5グラム導入後、H=50Kg/cm
2 G、50℃の条件下で5時間水添反応を行なった。反
応終了後、触媒をろ別した後、溶媒を減圧留去し、トル
エンで抽出した後再結晶することにより、目的のジメチ
ルシリルビス(テトラヒドロインデニル)ジルコニウム
ジクロリド1.26グラムを得た。
【0055】<成分(A)の製造>上記で合成した成分
(i)を用いる以外は全て実施例1と同一条件で成分
(A)を製造した。 <プロピレンの重合>上記の成分(A)を用いる以外は
全て実施例1と同一条件で重合した。結果は表3に示さ
れる通りである。
【0056】〔比較例5〕実施例10で製造した成分
(i)を用いる以外は全て比較例4と同一条件で重合操作
を行なった。結果は表3に示される通りである。
【0057】〔実施例11〕 <成分(i)の製造>イソプロピリデン(シクロペンタジ
エニル)(フルオレニル)ジルコニウムジクロリドの製
造 充分に窒素置換した500mlフラスコに、THF200
ml、フルオレン16.5gを導入し−50℃以下に冷却
した後、メチルリチウムジエチルエーテル希釈溶液
(1.4M)を67mlを30分かけて滴下した後、徐々
に室温まで昇温し3時間反応させた。次いで再度−50
℃以下に冷却した後、6,6‐ジメチルフルベン10グ
ラムを30分かけて滴下した。滴下終了後、ゆっくり室
温迄昇温し、2昼夜反応させた。反応終了後、HOを
60ml加えて反応を停止し、エーテル層を分離し、無水
MgSOを用いて脱水した後、エーテルをエバポレー
ション乾燥することにより2‐シクロペンタジエニル2
‐フルオレニルプロパン粗結晶17.6グラムを得た。
【0058】次いで、上記粗結晶10グラムをTHF1
00ミリリットルに希釈し−50℃以下に冷却し、n‐
ブチルリチウム46.0ml(0.0736モル)を10
分間で滴下した。1時間かけて室温に戻し、室温下で2
時間反応させた。次に、窒素気流下で、溶媒を蒸発させ
て乾燥させた後、ジクロロメタン100ミリリットルを
加え、−50℃以下に冷却した。次に、予め低温下で5
0ミリリットルのジクロロメタンに四塩化ジルコニウム
8.16グラム混合した溶液を、一気にフィードした。
混合後、3時間かけてゆっくり昇温し、室温下で一昼夜
反応させた。反応終了後、固形物をろ過して取り除き、
ろ液を濃縮して再結晶することにより4.68グラムの
赤色のイソプロピリデン(シクロペンタジエニル)(フ
ルオレニル)ジルコニウムジクロリドを得た。 <成分(A)の製造>上記で製造した成分(i)を用いる
以外は全て実施例1と同一条件で成分(A)を製造し
た。 <プロピレンの重合>上記で得た成分(A)を用いる以
外は全て実施例1と同一条件で重合操作を行なった。結
果は表3に示される通りである。
【0059】〔比較例6〕実施例11で製造した成分
(i)を用いる以外は全て比較例4と同一条件で重合操作
を行なった。結果は表3に示される通りである。
【0060】〔実施例12〕 <成分(i)の製造>ジメチルシリレン(テトラメチルシ
クロペンタジエニル)tertブチルアミノチタニウムジク
ロリドを特開平3−163088号公報の実施例2に準
じて合成した。 <成分(A)の製造>上記で製造した成分(i)を用いる
以外は全て実施例1と同一条件で成分(A)を製造し
た。 <プロピレンの重合>上記で得た成分(A)を用いる以
外は全て実施例1と同一条件で重合操作を行なった。結
果は表3に示される通りである。
【0061】〔比較例7〕実施例12で製造した成分
(i)を用いる以外は全て比較例4と同一条件で重合操作
を行なった。結果は表3に示される通りである。
【0062】〔実施例13〕 <エチレンの重合>攪拌および温度制御装置のついた内
容積1.0リットルのステンレス鋼製オートクレーブ
に、充分に脱水および脱酸素したトルエン400ミリリ
ットル、成分(B)としてシェリング社製メチルアルモ
キサンを0.06グラム(1mM)および実施例1で得
た成分(A)を2ml(成分(i)換算で2μM)導入し、
水素を50ミリリットル導入後、エチレン圧力=5Kg/
cm2 G、重合温度70℃で1時間重合操作を行った。重
合終了後、重合スラリーを1リットルのエタノール中に
抜き出し、重合体をろ別し乾燥させた結果、45グラム
のポリマーを回収した。成分(i)あたりの活性は52,
000(グラムポリエチレン/グラム成分(i))であ
り、メチルアルモキサンあたりは750グラムポリエチ
レン/グラムMAO)であった。190℃でMI(2.
16kg荷重)は1.5であった。
【0063】〔比較例8〕実施例1の成分(A)を用い
るかわりに、エチレンビス〔4,5,6,7‐テトラヒ
ドロインデニル〕ジルコウニムジメチルを0.86ミリ
グラム(2μM)を用いる以外は全て実施例12と同一
条件で重合した。その結果、21グラムのポリマーを回
収した。活性は24,400(グラムポリエチレン/グ
ラム成分(i))であり、メチルアルモキサンあたりは3
50(グラムポリエチレン/グラムMAO)であった。
MIは1.4であった。
【0064】〔実施例14〕 <プロピレン/ヘキセンの共重合>攪拌および温度制御
装置のついた内容積1.0リットルのステンレス鋼製オ
ートクレーブに充分に脱水および脱酸素したトルエン4
00ミリリットル、1‐ヘキセン10ミリリットル、実
施例1で得た成分(A)を2ml(2μM)、シェリング
社製メチルアルモキサンを0.06グラム(1μM)導
入し、プロピレン圧力=5Kg/cm2 G、重合温度=40
℃で2時間重合操作を行った。重合終了後、重合溶液を
3リットルのメタノール中に抜き出し、重合体をろ別し
乾燥させたところ、52.3グラムのポリマーが回収さ
れた。ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの測定
の結果、このものは数平均分子量(Mn)2.45×1
3 、分子量分布は重量平均分子量/数平均分子量の比
で1.91であった。トリアッド〔mm〕分率は0.9
18、ヘキセン含量は3.8モル%であった。
【0065】〔比較例9〕成分(A)のかわりに、エチ
レンビス〔4,5,6,7‐テトラヒドロインデニル〕
ジルコウニムジメチルを0.86mg(2μM)用いる以
外は全て実施例13と同一条件で重合操作を行なった。
その結果、17.8グラムのポリマーが回収された。数
平均分子量(Mn)2.33×103 、分子量分布はM
w/Mn=1.93、トリアッド〔mm〕分率は0.9
20、およびヘキセン含量は3.9モル%であった。
【0066】
【表1】
【0067】(イ) エチレンビス(4,5,6,7‐
テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジメチル
【0068】
【表2】
【0069】
【表3】
【0070】(ロ) ジメチルシリレン(4,5,6,
7‐テトラヒドロインデニル)ジルコニウムジクロリド (ハ) イソプロピリデン(シクロペンタジエニル)
(フルオレニル)ジルコニウムジクロリド (ニ) ジメチルシリレン(テトラメチルシクロペンタ
ジエニル)tertブチルアミノチタニウムジクロリド
【0071】
【発明の効果】本発明によれば、アルモキサンの使用量
を大巾に削減できることは、「発明の概要」の項におい
て前記したところである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 4/60 - 4/70

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記の成分(A)および成分(B)からな
    る触媒にα‐オレフィンを接触させて重合させることを
    特徴とする、α‐オレフィン重合体の製造法。 成分(A) 下記の成分(i) 〜(iii) を、成分(i) の希釈濃度を50
    μM/リットル以上とした不活性溶媒に希釈して接触さ
    せて得られた接触生成物 成分(i) 一般式Q(C5-a-b )(C5-a-c
    )MeXYあるいは一般式A(C
    5-d-e )(R 2-d J)MeXYで表わされる遷
    移金属化合物 〔ここで、(C5-a-b )、(C5-a-c
    )および(C5-d-e )は各々Meに配位
    する共役五員環配位子(ただし、R、RおよびR
    は各々炭素数1〜20の炭化水素残基、ハロゲン基、炭
    素数1〜12のアルコキシ基、炭素数1〜24のケイ素
    含有炭化水素基、炭素数1〜18のリン含有炭化水素
    基、炭素数1〜18の窒素含有炭化水素基および炭素数
    1〜18のホウ素含有炭化水素基からなる群から選ばれ
    る一価の基であり、Rは炭素数1〜20の炭化水素
    基、炭素数1〜24のケイ素含有炭化水素基および炭素
    数1〜20の酸素含有炭化水素基からなる1価の基であ
    る(RとRとは同一であっても異なっていてもよ
    い。またRが複数存在する場合に、それらは同一であ
    っても異なっていてもよく、またそれぞれの他端におい
    て結合していてもよい。同様にR(あるいはR)が
    複数存在する場合に、それらは同一であっても異なって
    いてもよく、またそれぞれの他端において結合していて
    もよい。))を、Qは二つの共役五員環配位子を架橋す
    る二価の結合性基を、Aは(C5-d-e )と
    (R 2-d J)とを架橋する二価の結合性基を、JはM
    eと結合する窒素またはリン原子を、Meは周期表IVB
    〜VIB族遷移金属を、XおよびYは各々水素、ハロゲン
    基、炭素数1〜20の炭化水素基、炭素数1〜20のア
    ルコキシ基、2個までの炭素数1〜20の炭化水素基で
    置換されていてもよいアミノ基、炭素数1〜20のリン
    含有炭化水素基および炭素数1〜20のケイ素含有炭化
    水素基からなる一価の基(XとYとは同一であっても異
    なっていてもよい。)を、aおよびdは0または1を、
    bおよびcはaが0のときは0≦b≦5の整数、0≦c
    ≦5の整数を、aが1のときは0≦b≦4の整数、0≦
    c≦4の整数を、eはdが0のときは0≦e≦5の整数
    を、dが1のときは0≦e≦4の整数を、示す。〕 成分(ii): 有機ホウ素化合物 成分(iii) : 有機アルミニウム化合物 成分(B) アルモキサン。
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