JPH08183813A - エチレン系共重合体の製造法 - Google Patents
エチレン系共重合体の製造法Info
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- JPH08183813A JPH08183813A JP32914294A JP32914294A JPH08183813A JP H08183813 A JPH08183813 A JP H08183813A JP 32914294 A JP32914294 A JP 32914294A JP 32914294 A JP32914294 A JP 32914294A JP H08183813 A JPH08183813 A JP H08183813A
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- ethylene
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高分子量のエチレン系共重合体を、メチルア
ルモキサンを用いることなく、芳香族炭化水素溶媒を要
することなく製造する。 【構成】 エチレンと、Ｃ３〜20のモノオレフィンと、
必要に応じＣ４〜20のポリエン化合物を、下記成分
（Ａ）及び（Ｂ）の組合せからなる触媒の存在下に製造
する。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン
ルモキサンを用いることなく、芳香族炭化水素溶媒を要
することなく製造する。 【構成】 エチレンと、Ｃ３〜20のモノオレフィンと、
必要に応じＣ４〜20のポリエン化合物を、下記成分
（Ａ）及び（Ｂ）の組合せからなる触媒の存在下に製造
する。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン
Description
【０００１】〔発明の背景〕
【産業上の利用分野】本発明は、エチレン系共重合体の
製造法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、
オレフィンの取り込みが均一で、しかも、高分子量を保
ったエチレン系共重合体を効率良く製造する方法に関す
る。本発明によれば、高価なオレフィンの使用量を削減
し、しかも、ベタツキの少ない高強度なエチレン系共重
合体を効率良く製造することが可能になる。
製造法に関するものである。更に詳しくは、本発明は、
オレフィンの取り込みが均一で、しかも、高分子量を保
ったエチレン系共重合体を効率良く製造する方法に関す
る。本発明によれば、高価なオレフィンの使用量を削減
し、しかも、ベタツキの少ない高強度なエチレン系共重
合体を効率良く製造することが可能になる。
【０００２】
【従来の技術】メチルアルモキサンおよび遷移金属化合
物を組み合わせてポリα‐オレフィンを製造する方法は
良く知られている（特開昭５８−４５２０５号、同５８
−１９３０９号、同６０−３５００７号、同６１−１３
０３１４号、同６２−２３０８０２号、同６３−１４２
００４号、同６３−２３４００９号、同６４−５１４０
８号および同６４−６６２１４号各公報）。しかし、こ
れらの技術は、アルミニウム原子あたりの活性が低いた
め製造コストが高く、また多量のアルミニウムがオレフ
ィン重合体中に残存してしまうために、工業上の問題が
あると思われる。
物を組み合わせてポリα‐オレフィンを製造する方法は
良く知られている（特開昭５８−４５２０５号、同５８
−１９３０９号、同６０−３５００７号、同６１−１３
０３１４号、同６２−２３０８０２号、同６３−１４２
００４号、同６３−２３４００９号、同６４−５１４０
８号および同６４−６６２１４号各公報）。しかし、こ
れらの技術は、アルミニウム原子あたりの活性が低いた
め製造コストが高く、また多量のアルミニウムがオレフ
ィン重合体中に残存してしまうために、工業上の問題が
あると思われる。
【０００３】これらの問題を解決する目的で、種々の提
案がなされている（特開昭６１−２１１３０７号、同６
３−１３０６０１号、同６４−１６８０３号、特開平２
−２２３０８号および同２−１６７３０７号各公報）。
これらの提案により、アルミニウムあたりの活性は多少
改善されているが、このようなアルモキサンは溶解性が
悪く、取り扱いにくい上にアルミニウムの除去が難しい
ため、オレフィン重合体の品質の低下や色相の悪化等の
原因となっており、さらに改良が必要であると思われ
る。
案がなされている（特開昭６１−２１１３０７号、同６
３−１３０６０１号、同６４−１６８０３号、特開平２
−２２３０８号および同２−１６７３０７号各公報）。
これらの提案により、アルミニウムあたりの活性は多少
改善されているが、このようなアルモキサンは溶解性が
悪く、取り扱いにくい上にアルミニウムの除去が難しい
ため、オレフィン重合体の品質の低下や色相の悪化等の
原因となっており、さらに改良が必要であると思われ
る。
【０００４】別の提案として、メチルアルモキサンにそ
の他の有機アルミニウム化合物等を共存させる方法があ
る（特開昭６０−２６０６０２号、同６０−１３０６０
４号、同６３−８９５０６号、同６３−１７８１０８
号、同６３−２１８７０７号、同６４−９２０６号、特
開平１−３１５４０７号、同２−２２３０６号および同
２−１６７３１０号各公報）。これらの提案によりメチ
ルアルモキサンの使用量は低下しているが、いまだアル
ミニウムあたりの活性は不充分であり、さらに改善が望
まれる。
の他の有機アルミニウム化合物等を共存させる方法があ
る（特開昭６０−２６０６０２号、同６０−１３０６０
４号、同６３−８９５０６号、同６３−１７８１０８
号、同６３−２１８７０７号、同６４−９２０６号、特
開平１−３１５４０７号、同２−２２３０６号および同
２−１６７３１０号各公報）。これらの提案によりメチ
ルアルモキサンの使用量は低下しているが、いまだアル
ミニウムあたりの活性は不充分であり、さらに改善が望
まれる。
【０００５】一方、新たな試みとして、２種以上のアル
キル基を保有するアルモキサン化合物からなるオレフィ
ン重合用触媒成分が提案されている（特開平２−２４７
２０１号、同２−２５０８８６号、同４−４６９０６
号、同４−２６４１０号および同４−２６６９１０号各
公報）。さらに、このようなアルモキサン化合物のアル
キル基の一部が水素に変換されたアルモキサン化合物を
用いる提案もある（特開平３−１３９５０３号公報）。
しかし、このようなアルモキサン化合物は、いずれも会
合度の高いものであって、高活性を保つためには多く使
用する必要があり、そして芳香族系の溶媒にしか溶解し
ないため、工業上の制約が多い。
キル基を保有するアルモキサン化合物からなるオレフィ
ン重合用触媒成分が提案されている（特開平２−２４７
２０１号、同２−２５０８８６号、同４−４６９０６
号、同４−２６４１０号および同４−２６６９１０号各
公報）。さらに、このようなアルモキサン化合物のアル
キル基の一部が水素に変換されたアルモキサン化合物を
用いる提案もある（特開平３−１３９５０３号公報）。
しかし、このようなアルモキサン化合物は、いずれも会
合度の高いものであって、高活性を保つためには多く使
用する必要があり、そして芳香族系の溶媒にしか溶解し
ないため、工業上の制約が多い。
【０００６】一方、重合体の低分子量化の試みとして、
テトラアルキルアルモキサン化合物を使用する提案がな
されている（特開平３−１９７５１４号公報）。このア
ルモキサン化合物は、脂肪族炭化水素溶媒にも容易に溶
解する点で有利なものであるが、エチレン重合には活性
が発現するもののプロピレン等のα‐オレフィンの重合
活性が著しく低いようであって、さらに改良が望まれ
る。
テトラアルキルアルモキサン化合物を使用する提案がな
されている（特開平３−１９７５１４号公報）。このア
ルモキサン化合物は、脂肪族炭化水素溶媒にも容易に溶
解する点で有利なものであるが、エチレン重合には活性
が発現するもののプロピレン等のα‐オレフィンの重合
活性が著しく低いようであって、さらに改良が望まれ
る。
【０００７】有機アルミニウム化合物と水以外の酸素供
給化合物（例えば、ボロキシンやアルキルスズオキシ
ド）との反応生成物の提案がなされている（特開平２−
２５６６８６号、同４−３０４２０２号、同４−３０４
２０３号および４−３０４２０６号各公報）。しかし、
これらの方法で得られるものは、Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を
もつアルモキサンであり、上記と同様の問題を有すると
思われる。
給化合物（例えば、ボロキシンやアルキルスズオキシ
ド）との反応生成物の提案がなされている（特開平２−
２５６６８６号、同４−３０４２０２号、同４−３０４
２０３号および４−３０４２０６号各公報）。しかし、
これらの方法で得られるものは、Ａｌ−Ｏ−Ａｌ結合を
もつアルモキサンであり、上記と同様の問題を有すると
思われる。
【０００８】一方、アルモキサン化合物以外の有機アル
ミニウム化合物として、２価のアルコールや２価のアミ
ンと有機アルミニウム化合物との反応物の提案がなされ
ている（特開平３−６２８０６号公報）。しかし、この
反応による有機アルミニウム化合物は、メタロセン化合
物と組合せた場合、通常著しく低い重合活性しか得るこ
とができないので、メチルアルモキサンの代替化合物と
しては不充分であり、一層の改良が望まれる。
ミニウム化合物として、２価のアルコールや２価のアミ
ンと有機アルミニウム化合物との反応物の提案がなされ
ている（特開平３−６２８０６号公報）。しかし、この
反応による有機アルミニウム化合物は、メタロセン化合
物と組合せた場合、通常著しく低い重合活性しか得るこ
とができないので、メチルアルモキサンの代替化合物と
しては不充分であり、一層の改良が望まれる。
【０００９】一方、エチレン／オレフィン共重合体をメ
チルアルモキサンと遷移金属化合物からなる触媒系で製
造すると、α‐オレフィンの含量の増加とともに、分子
量の低下を引きおこして工業的に有用な分子量を有する
共重合体得られなかったり、あるいは、重合温度を下げ
て生産性の低い製造条件でしか目的の共重合体が得られ
ない等の問題があって、改良が望まれる。 〔発明の概要〕
チルアルモキサンと遷移金属化合物からなる触媒系で製
造すると、α‐オレフィンの含量の増加とともに、分子
量の低下を引きおこして工業的に有用な分子量を有する
共重合体得られなかったり、あるいは、重合温度を下げ
て生産性の低い製造条件でしか目的の共重合体が得られ
ない等の問題があって、改良が望まれる。 〔発明の概要〕
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、上記の従来技術に見られた種々の問題点を
解決することである。すなわち本発明は、分子量の高い
エチレン／オレフィン共重合体を安価で、脂肪族炭化水
素溶媒に可溶な助触媒成分を用いて、製造する方法を提
供するものである。
する課題は、上記の従来技術に見られた種々の問題点を
解決することである。すなわち本発明は、分子量の高い
エチレン／オレフィン共重合体を安価で、脂肪族炭化水
素溶媒に可溶な助触媒成分を用いて、製造する方法を提
供するものである。
【００１１】
＜要旨＞本発明は、上記の問題点を解決するために検討
を行なった結果なされたものである。
を行なった結果なされたものである。
【００１２】すなわち、本発明によるエチレン系共重合
体の製造法は、エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフ
ィンとを触媒の存在下に共重合させてエチレン系共重合
体を製造する方法であって、該触媒が下記の成分（Ａ）
および成分（Ｂ）を組合せたものであること、を特徴と
するものである。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少なくとも１個有する
周期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。
体の製造法は、エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフ
ィンとを触媒の存在下に共重合させてエチレン系共重合
体を製造する方法であって、該触媒が下記の成分（Ａ）
および成分（Ｂ）を組合せたものであること、を特徴と
するものである。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少なくとも１個有する
周期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。
【００１３】本発明によるもう一つのエチレン系共重合
体の製造法は、エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフ
ィンと炭素数４〜２０のポリエン化合物とを触媒の存在
下に共重合させてエチレン系共重合体を製造する方法で
あって、該触媒が下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を
組合せたものであること、を特徴とするものである。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。 ＜効果＞本発明の製造法を用いると、高分子量のエチレ
ン／オレフィン共重合体を高価なメチルアルモキサンを
用いず、また、工業上の制約となる芳香族炭化水素溶媒
を使用する必要もなく得ることが可能になる。
体の製造法は、エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフ
ィンと炭素数４〜２０のポリエン化合物とを触媒の存在
下に共重合させてエチレン系共重合体を製造する方法で
あって、該触媒が下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を
組合せたものであること、を特徴とするものである。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。 ＜効果＞本発明の製造法を用いると、高分子量のエチレ
ン／オレフィン共重合体を高価なメチルアルモキサンを
用いず、また、工業上の制約となる芳香族炭化水素溶媒
を使用する必要もなく得ることが可能になる。
【００１４】本発明では、特定の成分（Ｂ）を使用する
と得られるエチレン系共重合体の分子量が特に大きくな
る。分子量を大きくする効果が特に著しいのは、 式（Ｉ）＝Ｑａ（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）（Ｃ５Ｈ5-a-c
Ｒ５ ｃ）ＭｅＸＹ で表わされる化合物を成分（Ａ）として使用する場合で
あり、中でもＭｅ＝Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、特にＭｅ＝Ｚｒ
である式（Ｉ）の化合物と成分（Ａ）として用い、成分
（Ｂ）と組合せて触媒として使用すると、前記本発明の
効果が大きい。 〔発明の具体的説明〕本発明によるエチレン系共重合体
の製造法は、下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を組合
せた触媒の存在下に、エチレンと炭素数３〜２０のモノ
オレフィン、あるいはエチレン、炭素数３〜２０のモノ
オレフィンおよび炭素数４〜２０のポリエン化合物を共
重合させることからなる。ここで、「成分（Ａ）および
成分（Ｂ）を組合せた触媒」とは、本発明の効果を損わ
ない限り、成分（Ａ）および成分（Ｂ）以外の成分を組
合わせた触媒を包含するものである。 成分（Ａ） 成分（Ａ）は、共役五員環配位子を少なくとも１個有す
る周期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物である。
と得られるエチレン系共重合体の分子量が特に大きくな
る。分子量を大きくする効果が特に著しいのは、 式（Ｉ）＝Ｑａ（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）（Ｃ５Ｈ5-a-c
Ｒ５ ｃ）ＭｅＸＹ で表わされる化合物を成分（Ａ）として使用する場合で
あり、中でもＭｅ＝Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、特にＭｅ＝Ｚｒ
である式（Ｉ）の化合物と成分（Ａ）として用い、成分
（Ｂ）と組合せて触媒として使用すると、前記本発明の
効果が大きい。 〔発明の具体的説明〕本発明によるエチレン系共重合体
の製造法は、下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を組合
せた触媒の存在下に、エチレンと炭素数３〜２０のモノ
オレフィン、あるいはエチレン、炭素数３〜２０のモノ
オレフィンおよび炭素数４〜２０のポリエン化合物を共
重合させることからなる。ここで、「成分（Ａ）および
成分（Ｂ）を組合せた触媒」とは、本発明の効果を損わ
ない限り、成分（Ａ）および成分（Ｂ）以外の成分を組
合わせた触媒を包含するものである。 成分（Ａ） 成分（Ａ）は、共役五員環配位子を少なくとも１個有す
る周期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物である。
【００１５】この化合物それ自身は、所謂メタロセン化
合物として公知のものである。ここでいう「共役五員環
配位子」は基本的なシクロペンタジエニル環の他に、シ
クロペンタジエニル環を構成員とする縮合環を包含する
ものであり、従って、その代表例は、シクロペンタジエ
ニル基、インデニル基およびフルオレニル基（およびそ
の核置換体）である。
合物として公知のものである。ここでいう「共役五員環
配位子」は基本的なシクロペンタジエニル環の他に、シ
クロペンタジエニル環を構成員とする縮合環を包含する
ものであり、従って、その代表例は、シクロペンタジエ
ニル基、インデニル基およびフルオレニル基（およびそ
の核置換体）である。
【００１６】含有されている遷移金属の原子価を充足さ
せるべくこの化合物は各種の置換基を有する。
せるべくこの化合物は各種の置換基を有する。
【００１７】本発明では上記の通りに定義される遷移金
属化合物を一般に対象とするが、このような化合物で特
に好ましいのは、下式（Ｉ）および下式（II）で示され
る化合物である。これらは、各化合物間および（また
は）化合物間で、併用することができる。
属化合物を一般に対象とするが、このような化合物で特
に好ましいのは、下式（Ｉ）および下式（II）で示され
る化合物である。これらは、各化合物間および（また
は）化合物間で、併用することができる。
【００１８】この好ましい化合物（Ｉ）および（II）の
詳細は、下記の通りである。
詳細は、下記の通りである。
【００１９】 Ｑａ（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ５ ｃ）ＭｅＸＹ （Ｉ） Ｓａ（Ｃ５Ｈ5-a-d Ｒ６ ｄ）ＺＭｅＸＹ （II） 〔ここで、（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）、（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ
５ ｃ）および（Ｃ５Ｈ5- a-d Ｒ６ ｄ）は、それぞれ、Ｍ
ｅに配位する共役五員環配位子を示す。Ｑは、二つの共
役五員環配位子間を架橋する結合性基を示す。Ｓは、共
役五員環配位子とＺ基を架橋する結合性基を示す。Ｍｅ
は、周期律表IVＢ〜VIＢ族の遷移金属を示す。Ｘおよび
Ｙは、それぞれ、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の
炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アミノ
基、炭素数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数
１〜２０のケイ素含有炭化水素を示す。Ｚは、酸素、イ
オウ、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２
のチオアルコキシ基、炭素数１〜４０のケイ素含有炭化
水素基、炭素数１〜４０の窒素含有炭化水素基または炭
素数１〜４０のリン含有炭化水素基を示す。Ｒ４、Ｒ５
およびＲ６は、それぞれ、炭素数１〜２０の炭化水素
基、ハロゲン基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素
数１〜２４のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜１８の
リン含有炭化水素基、炭素数１〜１８の窒素含有炭化水
素基または炭素数１〜１８のホウ素含有炭化水素基を示
す。ａは、０または１を示す。ｂ、ｃおよびｄは、ａが
０のときは０≦ｂ≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａ
が１のときは０≦ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を示
す。〕で表わされる遷移金属化合物である。
５ ｃ）および（Ｃ５Ｈ5- a-d Ｒ６ ｄ）は、それぞれ、Ｍ
ｅに配位する共役五員環配位子を示す。Ｑは、二つの共
役五員環配位子間を架橋する結合性基を示す。Ｓは、共
役五員環配位子とＺ基を架橋する結合性基を示す。Ｍｅ
は、周期律表IVＢ〜VIＢ族の遷移金属を示す。Ｘおよび
Ｙは、それぞれ、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の
炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アミノ
基、炭素数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数
１〜２０のケイ素含有炭化水素を示す。Ｚは、酸素、イ
オウ、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２
のチオアルコキシ基、炭素数１〜４０のケイ素含有炭化
水素基、炭素数１〜４０の窒素含有炭化水素基または炭
素数１〜４０のリン含有炭化水素基を示す。Ｒ４、Ｒ５
およびＲ６は、それぞれ、炭素数１〜２０の炭化水素
基、ハロゲン基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素
数１〜２４のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜１８の
リン含有炭化水素基、炭素数１〜１８の窒素含有炭化水
素基または炭素数１〜１８のホウ素含有炭化水素基を示
す。ａは、０または１を示す。ｂ、ｃおよびｄは、ａが
０のときは０≦ｂ≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａ
が１のときは０≦ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を示
す。〕で表わされる遷移金属化合物である。
【００２０】Ｑは二つの共役五員環配位子間を架橋する
結合性基を、Ｓは共役五員環配位子とＺ基を架橋する結
合性基を表し、具体的には、たとえば下記のものがあ
る。 （イ）メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基、フ
ェニルメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シク
ロヘキシレン基等のＣ１〜Ｃ４アルキレン基もしくはシ
クロヘキシレン基、またはその側鎖低級アルキルまたは
フェニル置換体、（ロ）シリレン基、ジメチルシリレン
基、フェニルメチルシリレン基、ジフェニルシリレン
基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基等のシリ
レン基もしくはオリゴシリレン基またはその側鎖低級ア
ルキルまたはフェニル置換体、（ハ）ゲルマニウム、リ
ン、窒素、ホウ素あるいはアルミニウムを含む炭化水素
基、すなわち架橋基として必要なこれら元素の２価の原
子価を除いた炭化水素基、好ましくは低級アルキル基ま
たはフェニル基、あるいはヒドロカルビルオキシ基、好
ましくは低級アルコキシ基、具体的には（ＣＨ３）２Ｇ
ｅ基、（Ｃ６Ｈ５）２Ｇｅ基、（ＣＨ３）Ｐ基、（Ｃ６
Ｈ５）Ｐ基、（Ｃ４Ｈ９）Ｎ基、（Ｃ６Ｈ５）Ｎ基、
（ＣＨ３）Ｂ基、（Ｃ４Ｈ９）Ｂ基、（Ｃ６Ｈ５）Ｂ
基、（Ｃ６Ｈ５）Ａｌ基、（ＣＨ３Ｏ）Ａｌ基等、であ
る。好ましくはアルキレン基およびシリレン基である。
ａは０または１である。
結合性基を、Ｓは共役五員環配位子とＺ基を架橋する結
合性基を表し、具体的には、たとえば下記のものがあ
る。 （イ）メチレン基、エチレン基、イソプロピレン基、フ
ェニルメチルメチレン基、ジフェニルメチレン基、シク
ロヘキシレン基等のＣ１〜Ｃ４アルキレン基もしくはシ
クロヘキシレン基、またはその側鎖低級アルキルまたは
フェニル置換体、（ロ）シリレン基、ジメチルシリレン
基、フェニルメチルシリレン基、ジフェニルシリレン
基、ジシリレン基、テトラメチルジシリレン基等のシリ
レン基もしくはオリゴシリレン基またはその側鎖低級ア
ルキルまたはフェニル置換体、（ハ）ゲルマニウム、リ
ン、窒素、ホウ素あるいはアルミニウムを含む炭化水素
基、すなわち架橋基として必要なこれら元素の２価の原
子価を除いた炭化水素基、好ましくは低級アルキル基ま
たはフェニル基、あるいはヒドロカルビルオキシ基、好
ましくは低級アルコキシ基、具体的には（ＣＨ３）２Ｇ
ｅ基、（Ｃ６Ｈ５）２Ｇｅ基、（ＣＨ３）Ｐ基、（Ｃ６
Ｈ５）Ｐ基、（Ｃ４Ｈ９）Ｎ基、（Ｃ６Ｈ５）Ｎ基、
（ＣＨ３）Ｂ基、（Ｃ４Ｈ９）Ｂ基、（Ｃ６Ｈ５）Ｂ
基、（Ｃ６Ｈ５）Ａｌ基、（ＣＨ３Ｏ）Ａｌ基等、であ
る。好ましくはアルキレン基およびシリレン基である。
ａは０または１である。
【００２１】上記一般式において、（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４
b ）、（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ５ c ）および（Ｃ５Ｈ5-a-d Ｒ
６ d ）で表される共役五員環配位子は、それぞれ別個に
定義されているけれども、ｂ、ｃおよびｄ、ならびにＲ
４、Ｒ５およびＲ６の定義そのものは同じであるから
（詳細後記）、この三つの共役五員環基は同一でも異な
ってもよいことはいうまでもない。
b ）、（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ５ c ）および（Ｃ５Ｈ5-a-d Ｒ
６ d ）で表される共役五員環配位子は、それぞれ別個に
定義されているけれども、ｂ、ｃおよびｄ、ならびにＲ
４、Ｒ５およびＲ６の定義そのものは同じであるから
（詳細後記）、この三つの共役五員環基は同一でも異な
ってもよいことはいうまでもない。
【００２２】この共役五員環基の一つの具体例は、ｂ＝
０（あるいはｃ＝０、ｄ＝０）のシクロペンタジエニル
基（架橋基ＱあるいはＳ以外の置換基のない）である。
この共役五員環基がｂ≠０（あるいはｃ≠０、ｄ≠０）
であって置換基を有するものである場合、Ｒ４（あるい
はＲ５、Ｒ６）の一つの具体例は、炭化水素基（Ｃ１〜
Ｃ20、好ましくはＣ１〜Ｃ12）であるが、この炭化水素
基は一価の基としてシクロペンタジエニル基と結合して
いても、またこれが複数個存在するときにその２個がそ
れぞれのω‐端で結合してシクロペンタジエニル基の一
部と共に環を形成していてもよい。後者の代表例は、Ｒ
４（あるいはＲ５、Ｒ６）が当該シクロペンタジエニル
基の二重結合を共有して縮合六員環を形成しているも
の、すなわちこの共役五員環基がインデニル基またはフ
ルオレニル基であるものである。すなわち、この共役五
員環基の代表例は、置換または非置換の、シクロペンタ
ジエニル基、インデニル基およびフルオレニル基であ
る。
０（あるいはｃ＝０、ｄ＝０）のシクロペンタジエニル
基（架橋基ＱあるいはＳ以外の置換基のない）である。
この共役五員環基がｂ≠０（あるいはｃ≠０、ｄ≠０）
であって置換基を有するものである場合、Ｒ４（あるい
はＲ５、Ｒ６）の一つの具体例は、炭化水素基（Ｃ１〜
Ｃ20、好ましくはＣ１〜Ｃ12）であるが、この炭化水素
基は一価の基としてシクロペンタジエニル基と結合して
いても、またこれが複数個存在するときにその２個がそ
れぞれのω‐端で結合してシクロペンタジエニル基の一
部と共に環を形成していてもよい。後者の代表例は、Ｒ
４（あるいはＲ５、Ｒ６）が当該シクロペンタジエニル
基の二重結合を共有して縮合六員環を形成しているも
の、すなわちこの共役五員環基がインデニル基またはフ
ルオレニル基であるものである。すなわち、この共役五
員環基の代表例は、置換または非置換の、シクロペンタ
ジエニル基、インデニル基およびフルオレニル基であ
る。
【００２３】Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ、上記
のＣ１〜Ｃ20、好ましくはＣ１〜Ｃ12の炭化水素基の外
に、ハロゲン基（たとえば、フッ素、塩素、臭素）、Ｃ
１〜 12のアルコキシ基、Ｃ１〜24のケイ素含有炭化水素
基（たとえば、ケイ素原子を−Ｓｉ（Ｒ）（Ｒ′）
（Ｒ″）の形で含む炭素数１〜２４の基）、Ｃ１〜18の
リン含有炭化水素基（たとえば、リン原子を−Ｐ（Ｒ）
（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）、Ｃ１〜18の
窒素含有炭化水素基（たとえば、窒素原子を−Ｎ（Ｒ）
（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）あるいはＣ
１〜18のホウ素含有炭化水素基（たとえば、ホウ素原子
を−Ｂ（Ｒ）（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）
である。ｂ（あるいはｃ、ｄ）が２以上であってＲ
４（あるいはＲ５、Ｒ６）が複数個存在するときは、そ
れらは同一でも異なっていてもよい。
のＣ１〜Ｃ20、好ましくはＣ１〜Ｃ12の炭化水素基の外
に、ハロゲン基（たとえば、フッ素、塩素、臭素）、Ｃ
１〜 12のアルコキシ基、Ｃ１〜24のケイ素含有炭化水素
基（たとえば、ケイ素原子を−Ｓｉ（Ｒ）（Ｒ′）
（Ｒ″）の形で含む炭素数１〜２４の基）、Ｃ１〜18の
リン含有炭化水素基（たとえば、リン原子を−Ｐ（Ｒ）
（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）、Ｃ１〜18の
窒素含有炭化水素基（たとえば、窒素原子を−Ｎ（Ｒ）
（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）あるいはＣ
１〜18のホウ素含有炭化水素基（たとえば、ホウ素原子
を−Ｂ（Ｒ）（Ｒ′）の形で含む炭素数１〜１８の基）
である。ｂ（あるいはｃ、ｄ）が２以上であってＲ
４（あるいはＲ５、Ｒ６）が複数個存在するときは、そ
れらは同一でも異なっていてもよい。
【００２４】ｂ、ｃおよびｄは、ａが０のときは０≦ｂ
≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａが１のときは０≦
ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を満足する整数であ
る。
≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａが１のときは０≦
ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を満足する整数であ
る。
【００２５】Ｍｅは、周期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属、
好ましくはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムであ
る。特にはジルコニウムが好ましい。
好ましくはチタン、ジルコニウムおよびハフニウムであ
る。特にはジルコニウムが好ましい。
【００２６】Ｚは、酸素（−Ｏ−）、イオウ（−Ｓ
−）、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキ
シ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のチオアル
コキシ基、炭素数１〜４０、好ましくは１〜１８のケイ
素含有炭化水素基、炭素数１〜４０、好ましくは１〜１
８の窒素含有炭化水素基、炭素数１〜４０、好ましくは
１〜１８のリン含有炭化水素基である。Ｚが酸素および
イオウのように二価の基であるときは、その原子価の一
方は前記の通りＳによって定義され、他方はＸまたはＹ
によって充足される。
−）、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキ
シ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２のチオアル
コキシ基、炭素数１〜４０、好ましくは１〜１８のケイ
素含有炭化水素基、炭素数１〜４０、好ましくは１〜１
８の窒素含有炭化水素基、炭素数１〜４０、好ましくは
１〜１８のリン含有炭化水素基である。Ｚが酸素および
イオウのように二価の基であるときは、その原子価の一
方は前記の通りＳによって定義され、他方はＸまたはＹ
によって充足される。
【００２７】ＸおよびＹは、各々独立して、水素、ハロ
ゲン基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０の炭化水
素基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキ
シ基、アミノ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２
のリン含有炭化水素基（具体的には、たとえばジフェニ
ルホスフィン基）、あるいは炭素数１〜２０、好ましく
は１〜１２のケイ素含有炭化水素基（具体的には、たと
えばトリメチルシリル基）である。ＸとＹとは同一でも
異なってもよい。これらのうちハロゲン基、炭化水素基
が好ましい。
ゲン基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０の炭化水
素基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１０のアルコキ
シ基、アミノ基、炭素数１〜２０、好ましくは１〜１２
のリン含有炭化水素基（具体的には、たとえばジフェニ
ルホスフィン基）、あるいは炭素数１〜２０、好ましく
は１〜１２のケイ素含有炭化水素基（具体的には、たと
えばトリメチルシリル基）である。ＸとＹとは同一でも
異なってもよい。これらのうちハロゲン基、炭化水素基
が好ましい。
【００２８】Ｍｅがジルコニウムである場合のこの遷移
金属化合物の具体例は、下記の通りである。
金属化合物の具体例は、下記の通りである。
【００２９】（イ）架橋する結合基を有せず共役五員環
配位子を２個有する遷移金属化合物、例えば (1) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、(2) ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(3) ビス（ジメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(4) ビス
（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、(5) ビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(6) ビス（ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(7) ビス（ｎ‐ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(8) ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(9) ビス（フルオレニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(10) ビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、(11) ビ
ス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノク
ロリド、(12) ビス（シクロペンタジエニル）エチルジ
ルコニウムモノクロリド、(13) ビス（シクロペンタジ
エニル）フェニルジルコニウムモノクロリド、(14) ビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、(1
5) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェ
ニル、(16) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジネオペンチル、(17) ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジハイドライド、(18) （シクロペン
タジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
(19) （シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジル
コニウムジクロリド等。
配位子を２個有する遷移金属化合物、例えば (1) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、(2) ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(3) ビス（ジメチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(4) ビス
（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジク
ロリド、(5) ビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(6) ビス（ペンタメチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(7) ビス（ｎ‐ブチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(8) ビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(9) ビス（フルオレニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(10) ビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウムモノクロリドモノハイドライド、(11) ビ
ス（シクロペンタジエニル）メチルジルコニウムモノク
ロリド、(12) ビス（シクロペンタジエニル）エチルジ
ルコニウムモノクロリド、(13) ビス（シクロペンタジ
エニル）フェニルジルコニウムモノクロリド、(14) ビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、(1
5) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジフェ
ニル、(16) ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジネオペンチル、(17) ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジハイドライド、(18) （シクロペン
タジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
(19) （シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジル
コニウムジクロリド等。
【００３０】（ロ）アルキレン基で架橋した五員環配位
子を２個有する遷移金属化合物、例えば (1) メチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロ
リド、(2) エチレンビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、(3) エチレンビス（インデニル）ジルコ
ニウムモノハイドライドモノクロリド、(4) エチレン
ビス（インデニル）メチルジルコニウムモノクロリド、
(5) エチレンビス（インデニル）ジルコニウムモノメ
トキシモノクロリド、(6) エチレンビス（インデニ
ル）ジルコニウムジエトキシド、(7) エチレンビス
（インデニル）ジルコニウムジメチル、(8) エチレン
ビス（４，５，６，７‐テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジクロリド、(9) エチレンビス（２‐メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、(10) エチレン
ビス（２‐エチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、(11) エチレンビス（２，４‐ジメチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(12) エチレンビス（２
‐メチル‐４‐トリメチルシリルインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド (13) エチレンビス（２，４‐ジメチル‐５，６，７‐
トリヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド (14) エチレン（２，４‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル）（３′，５′‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(15) エチレン（２‐メチル‐
４‐tertブチルシクロペンタジエニル）（３′‐tertブ
チル‐５′‐メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(16) エチレン（２，３，５‐トリメチ
ルシクロペンタジエニル）（２′，４′，５′‐トリメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(17) イソプロピリデンビス（２‐メチルインデニル）
ジルコニウムジクロリド (18) イソプロピリデンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(19) イソプロピリデンビス（２，４‐
ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、(20)
イソプロピリデン（２，４‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（３′，５′‐ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(21) イソプロピリデン（２
‐メチル‐４‐tertブチルシクロペンタジエニル）
（３′‐tertブチル‐５′‐メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(22) メチレン（シクロ
ペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(23) メチレン（シク
ロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムクロリドヒドリド、(24) メチレ
ン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、(25) メチレ
ン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、(26) メチ
レン（シクロペンタジエニル）（トリメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(27) メチレン
（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリド、(28) イソプロピ
リデン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(29)
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（２，３，
４，５‐テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(30) イソプロピリデン（シクロペン
タジエニル）（３‐メチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(31) イソプロピリデン（シクロペンタジエ
ニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(32)
イソプロピリデン（２‐メチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(33)
イソプロピリデン（２，５‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロリド、(34) イソプロピリデン（２，５
‐ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(35) エチレン（シクロペンタ
ジエニル）（３，５‐ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(36) エチレン（シクロペン
タジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、(37) エチレン（２，５‐ジメチルシクロペンタジ
エニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(3
8) エチレン（２，５‐ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(39)
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，４
‐ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド、(40) ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニ
ル）（３，４‐ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(41) シクロヘキシリデン（シクロ
ペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、(42) シクロヘキシリデン（２，５‐ジメチルシ
クロペンタジエニル）（３′，４′‐ジメチルジメチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド等。
子を２個有する遷移金属化合物、例えば (1) メチレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロ
リド、(2) エチレンビス（インデニル）ジルコニウム
ジクロリド、(3) エチレンビス（インデニル）ジルコ
ニウムモノハイドライドモノクロリド、(4) エチレン
ビス（インデニル）メチルジルコニウムモノクロリド、
(5) エチレンビス（インデニル）ジルコニウムモノメ
トキシモノクロリド、(6) エチレンビス（インデニ
ル）ジルコニウムジエトキシド、(7) エチレンビス
（インデニル）ジルコニウムジメチル、(8) エチレン
ビス（４，５，６，７‐テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジクロリド、(9) エチレンビス（２‐メチル
インデニル）ジルコニウムジクロリド、(10) エチレン
ビス（２‐エチルインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド、(11) エチレンビス（２，４‐ジメチルインデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(12) エチレンビス（２
‐メチル‐４‐トリメチルシリルインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド (13) エチレンビス（２，４‐ジメチル‐５，６，７‐
トリヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリド (14) エチレン（２，４‐ジメチルシクロペンタジエニ
ル）（３′，５′‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(15) エチレン（２‐メチル‐
４‐tertブチルシクロペンタジエニル）（３′‐tertブ
チル‐５′‐メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(16) エチレン（２，３，５‐トリメチ
ルシクロペンタジエニル）（２′，４′，５′‐トリメ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(17) イソプロピリデンビス（２‐メチルインデニル）
ジルコニウムジクロリド (18) イソプロピリデンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(19) イソプロピリデンビス（２，４‐
ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド、(20)
イソプロピリデン（２，４‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（３′，５′‐ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(21) イソプロピリデン（２
‐メチル‐４‐tertブチルシクロペンタジエニル）
（３′‐tertブチル‐５′‐メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(22) メチレン（シクロ
ペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(23) メチレン（シク
ロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウムクロリドヒドリド、(24) メチレ
ン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、(25) メチレ
ン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジフェニル、(26) メチ
レン（シクロペンタジエニル）（トリメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(27) メチレン
（シクロペンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリド、(28) イソプロピ
リデン（シクロペンタジエニル）（３，４‐ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(29)
イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）（２，３，
４，５‐テトラメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(30) イソプロピリデン（シクロペン
タジエニル）（３‐メチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(31) イソプロピリデン（シクロペンタジエ
ニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(32)
イソプロピリデン（２‐メチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(33)
イソプロピリデン（２，５‐ジメチルシクロペンタジエ
ニル）（３，４‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロリド、(34) イソプロピリデン（２，５
‐ジメチルシクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(35) エチレン（シクロペンタ
ジエニル）（３，５‐ジメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(36) エチレン（シクロペン
タジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリ
ド、(37) エチレン（２，５‐ジメチルシクロペンタジ
エニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(3
8) エチレン（２，５‐ジエチルシクロペンタジエニ
ル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(39)
ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）（３，４
‐ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
リド、(40) ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニ
ル）（３，４‐ジエチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(41) シクロヘキシリデン（シクロ
ペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジクロ
リド、(42) シクロヘキシリデン（２，５‐ジメチルシ
クロペンタジエニル）（３′，４′‐ジメチルジメチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド等。
【００３１】（ハ）シリレン基架橋五員環配位子を有す
る遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(2) ジメチルシリレンビス（４，５，
６，７‐テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロ
リド、(3) ジメチルシリレンビス（２‐メチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(4) ジメチルシリレ
ンビス（２，４‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(5) ジメチルシリレン（２，４‐ジメチル
シクロペンタジエニル）（３′，５′‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(6) フェ
ニルメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(7) フェニルメチルシリレンビス（４，
５，６，７‐テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(8) フェニルメチルシリレンビス（２，４
‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド (9) フェニルメチルシリレン（２，４‐ジメチルシク
ロペンタジエニル）（３′，５′‐ジメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(10) フェニル
メチルシリレン（２，３，５‐トリメチルシクロペンタ
ジエニル）（２′，４′，５′‐トリメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(11) フェニル
メチルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(12) ジフェニルシリレ
ンビス（２，４‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド (13) ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(14) ジフェニルシリレンビス（２‐
メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド (15) テトラメチルジシリレンビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、(16) テトラメチルジシリレンビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(17) テトラメチルジシリレン（３‐メチルシクロペン
タジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
(18) ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）
（３，４‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(19) ジメチルシリレン（シクロペンタ
ジエニル）（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(20) ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(21) ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３，４‐ジエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリド、(22) ジメチルシ
リレン（シクロペンタジエニル）（トリエチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(23) ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラエチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(24)
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(25) ジメチルシリレ
ン（シクロペンタジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチル
フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(26) ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(27) ジメチル
シリレン（２‐メチルシクロペンタジエニル）（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロリド、(28) ジメチルシリ
レン（２，５‐ジメチルシクロペンタジエニル）（フル
オレニル）ジルコニウムジクロリド、(29) ジメチルシ
リレン（２‐エチルシクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(30) ジメチルシリレ
ン（２，５‐ジエチルシクロペンタジエニル）（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロリド、(31) ジエチルシリ
レン（２‐メチルシクロペンタジエニル）（２，７‐ジ
‐ｔ‐ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロリド、
(32) ジメチルシリレン（２，５‐ジメチルシクロペン
タジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチルフルオレニル）
ジルコニウムジクロリド、(33) ジメチルシリレン（２
‐エチルシクロペンタジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブ
チルフルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(34) ジ
メチルシリレン（ジエチルシクロペンタジエニル）
（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチルフルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、(35) ジメチルシリレン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(36) ジメチルシリレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(37) ジメチルシリレン（エチ
ルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(38) ジメチルシリレン
（ジエチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフル
オレニル）ジルコニウムジクロリド等。
る遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(2) ジメチルシリレンビス（４，５，
６，７‐テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロ
リド、(3) ジメチルシリレンビス（２‐メチルインデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(4) ジメチルシリレ
ンビス（２，４‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(5) ジメチルシリレン（２，４‐ジメチル
シクロペンタジエニル）（３′，５′‐ジメチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(6) フェ
ニルメチルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(7) フェニルメチルシリレンビス（４，
５，６，７‐テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジ
クロリド、(8) フェニルメチルシリレンビス（２，４
‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジクロリド (9) フェニルメチルシリレン（２，４‐ジメチルシク
ロペンタジエニル）（３′，５′‐ジメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(10) フェニル
メチルシリレン（２，３，５‐トリメチルシクロペンタ
ジエニル）（２′，４′，５′‐トリメチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロリド、(11) フェニル
メチルシリレンビス（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(12) ジフェニルシリレ
ンビス（２，４‐ジメチルインデニル）ジルコニウムジ
クロリド (13) ジフェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(14) ジフェニルシリレンビス（２‐
メチルインデニル）ジルコニウムジクロリド (15) テトラメチルジシリレンビス（インデニル）ジル
コニウムジクロリド、(16) テトラメチルジシリレンビ
ス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
(17) テトラメチルジシリレン（３‐メチルシクロペン
タジエニル）（インデニル）ジルコニウムジクロリド、
(18) ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）
（３，４‐ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロリド、(19) ジメチルシリレン（シクロペンタ
ジエニル）（トリメチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(20) ジメチルシリレン（シクロペ
ンタジエニル）（テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロリド、(21) ジメチルシリレン（シ
クロペンタジエニル）（３，４‐ジエチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリド、(22) ジメチルシ
リレン（シクロペンタジエニル）（トリエチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(23) ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（テトラエチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、(24)
ジメチルシリレン（シクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(25) ジメチルシリレ
ン（シクロペンタジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチル
フルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(26) ジメチ
ルシリレン（シクロペンタジエニル）（オクタヒドロフ
ルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(27) ジメチル
シリレン（２‐メチルシクロペンタジエニル）（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロリド、(28) ジメチルシリ
レン（２，５‐ジメチルシクロペンタジエニル）（フル
オレニル）ジルコニウムジクロリド、(29) ジメチルシ
リレン（２‐エチルシクロペンタジエニル）（フルオレ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(30) ジメチルシリレ
ン（２，５‐ジエチルシクロペンタジエニル）（フルオ
レニル）ジルコニウムジクロリド、(31) ジエチルシリ
レン（２‐メチルシクロペンタジエニル）（２，７‐ジ
‐ｔ‐ブチルフルオレニル）ジルコニウムジクロリド、
(32) ジメチルシリレン（２，５‐ジメチルシクロペン
タジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチルフルオレニル）
ジルコニウムジクロリド、(33) ジメチルシリレン（２
‐エチルシクロペンタジエニル）（２，７‐ジ‐ｔ‐ブ
チルフルオレニル）ジルコニウムジクロリド、(34) ジ
メチルシリレン（ジエチルシクロペンタジエニル）
（２，７‐ジ‐ｔ‐ブチルフルオレニル）ジルコニウム
ジクロリド、(35) ジメチルシリレン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジルコニ
ウムジクロリド、(36) ジメチルシリレン（ジメチルシ
クロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニル）ジ
ルコニウムジクロリド、(37) ジメチルシリレン（エチ
ルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフルオレニ
ル）ジルコニウムジクロリド、(38) ジメチルシリレン
（ジエチルシクロペンタジエニル）（オクタヒドロフル
オレニル）ジルコニウムジクロリド等。
【００３２】（ニ）ゲルマニウム、アルミニウム、ホウ
素、リンあるいは窒素を含む炭化水素基で架橋された五
員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルゲルマニウムビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(2) ジメチルゲルマニウム（シク
ロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジク
ロリド、(3) メチルアルミニウムビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、(4) フェニルアルミニウム
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、(5) フ
ェニルホスフィノビス（インデニル）ジルコニウムジク
ロリド、(6) エチルボラノビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(7) フェニルアミノビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(8) フェニルアミノ
（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリド、等が例示される。
素、リンあるいは窒素を含む炭化水素基で架橋された五
員環配位子を有する遷移金属化合物、例えば (1) ジメチルゲルマニウムビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(2) ジメチルゲルマニウム（シク
ロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジク
ロリド、(3) メチルアルミニウムビス（インデニル）
ジルコニウムジクロリド、(4) フェニルアルミニウム
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド、(5) フ
ェニルホスフィノビス（インデニル）ジルコニウムジク
ロリド、(6) エチルボラノビス（インデニル）ジルコ
ニウムジクロリド、(7) フェニルアミノビス（インデ
ニル）ジルコニウムジクロリド、(8) フェニルアミノ
（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウ
ムジクロリド、等が例示される。
【００３３】（ホ）五員環配位子を１個有する遷移金属
化合物、例えば (1) ペンタメチルシクロペンタジエニル‐ビス（フェ
ニル）アミノジルコニウムジクロリド、(2) インデニ
ル‐ビス（フェニル）アミノジルコニウムジクロリド、
(3) ペンタメチルシクロペンタジエニル‐ビス（トリ
メチルシリル）アミノジルコニウムジクロリド、(4)
ペンタメチルシクロペンタジエニルフェノキシジルコニ
ウムジクロリド、(5) ジメチルシリレン（テトラメチ
ルシクロペンタジエニル）（ｔ‐ブチルアミノ）ジルコ
ニウムジクロリド、(6) ジメチルシリレン（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）フェニルアミノジルコニウ
ムジクロリド、(7) ジメチルシリレン（テトラヒドロ
インデニル）デシルアミノジルコニウムジクロリド、
(8) ジメチルシリレン（テトラヒドロインデニル）
（ビス（トリメチルシリル）アミノ）ジルコニウムジク
ロリド、(9) ジメチルゲルマン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）フェニルアミノジルコニウムジクロリ
ド、等が例示される。
化合物、例えば (1) ペンタメチルシクロペンタジエニル‐ビス（フェ
ニル）アミノジルコニウムジクロリド、(2) インデニ
ル‐ビス（フェニル）アミノジルコニウムジクロリド、
(3) ペンタメチルシクロペンタジエニル‐ビス（トリ
メチルシリル）アミノジルコニウムジクロリド、(4)
ペンタメチルシクロペンタジエニルフェノキシジルコニ
ウムジクロリド、(5) ジメチルシリレン（テトラメチ
ルシクロペンタジエニル）（ｔ‐ブチルアミノ）ジルコ
ニウムジクロリド、(6) ジメチルシリレン（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）フェニルアミノジルコニウ
ムジクロリド、(7) ジメチルシリレン（テトラヒドロ
インデニル）デシルアミノジルコニウムジクロリド、
(8) ジメチルシリレン（テトラヒドロインデニル）
（ビス（トリメチルシリル）アミノ）ジルコニウムジク
ロリド、(9) ジメチルゲルマン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）フェニルアミノジルコニウムジクロリ
ド、等が例示される。
【００３４】（ヘ）また、上記（イ）〜（ホ）の化合物
の塩素を臭素、ヨウ素、ヒドリド、メチル、フェニル等
に置きかえたものも使用可能である。
の塩素を臭素、ヨウ素、ヒドリド、メチル、フェニル等
に置きかえたものも使用可能である。
【００３５】さらに、本発明では、遷移金属成分、成分
（Ａ）、として上記（イ）〜（ヘ）に例示したジルコニ
ウム化合物の中心金属をジルコニウムからチタン、ハフ
ニウム、ニオブ、モリブデンまたはタングステン等に換
えた化合物も用いることができる。
（Ａ）、として上記（イ）〜（ヘ）に例示したジルコニ
ウム化合物の中心金属をジルコニウムからチタン、ハフ
ニウム、ニオブ、モリブデンまたはタングステン等に換
えた化合物も用いることができる。
【００３６】これらのうちで好ましいのは、ジルコニウ
ム化合物、ハフニウム化合物およびチタニウム化合物で
ある。さらに好ましいのは、アルキレン基あるいはシリ
レン基で架橋したチタニウム化合物、ジルコニウム化合
物およびハフニウム化合物である。 ＜成分（Ｂ）＞成分（Ｂ）は、ヘキサイソブチルアルモ
キサンである。ヘキサイソブチルアルモキサンは、例え
ば、下記の方法で製造することができる。 （１） ヘキサン溶媒中に硫酸銅五水和物を懸濁させ、
−５０℃に冷却した後、水１モルに対し、４／３倍モル
のトリイソブチルアルミニウムを滴下した後、ゆっくり
室温に戻す方法、 （２） ヘプタンに希釈したトリイソブチルアルミニウ
ム中に、高速撹拌下、Ａｌに対し３／４モルの水分量に
対応する飽和水を含有したトルエンを滴下する方法。 （３） テトライソブチルアルモキサンのヘキサン希釈
液中に、高速撹拌下、Ａｌに対し１／４モルの水分量に
対応する飽和水を含有したトルエンを滴下する方法。 ＜任意成分（Ｃ）＞本発明によるエチレン系共重合体の
製造法で用いられる触媒は、「成分（Ａ）および成分
（Ｂ）を組合せたもの」であって、この「成分（Ａ）お
よび成分（Ｂ）を組合せてなる」触媒は、本発明の効果
を損わない限りにおいて成分（Ａ）および成分（Ｂ）以
外の任意成分（Ｃ）を使用することが可能であることは
前記したところである。任意成分（Ｃ）としては、
（イ）活性水素含有化合物、例えば、Ｈ２Ｏ、メタノー
ル、エタノールおよびブタノール等、（ロ）電子供与性
化合物、例えばエーテル、エステルおよびアミン等、
（ハ）無機酸エステル、例えばホウ酸エチル、ホウ酸フ
ェニル、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸フェニ
ル、亜リン酸フェニル、テトラエトキシシラン、テトラ
フェノキシシランおよびジフェニルジメトキシシラン
等、（ニ）有機金属化合物、例えばトリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム、ジエチルアルミニウムハライド、ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジブチルエチルマグネシウム、ブ
チルマグネシウムブロミドおよびブチルリチウム等、を
例示することが出来る。また、シロキシ化合物、例えば
テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン
およびメチルハイドロジェンポリシロキサン等も使用可
能である。 ＜触媒の形成＞本発明による触媒成分（成分（Ａ））
は、これと上記の成分（Ｂ）ならびに必要により前記の
ような任意成分（Ｃ）とを重合槽内で、あるいは重合槽
外で、重合させるべきモノマーの存在下あるいは不存在
下に、接触させることによりオレフィン重合用触媒とす
ることが出来る。
ム化合物、ハフニウム化合物およびチタニウム化合物で
ある。さらに好ましいのは、アルキレン基あるいはシリ
レン基で架橋したチタニウム化合物、ジルコニウム化合
物およびハフニウム化合物である。 ＜成分（Ｂ）＞成分（Ｂ）は、ヘキサイソブチルアルモ
キサンである。ヘキサイソブチルアルモキサンは、例え
ば、下記の方法で製造することができる。 （１） ヘキサン溶媒中に硫酸銅五水和物を懸濁させ、
−５０℃に冷却した後、水１モルに対し、４／３倍モル
のトリイソブチルアルミニウムを滴下した後、ゆっくり
室温に戻す方法、 （２） ヘプタンに希釈したトリイソブチルアルミニウ
ム中に、高速撹拌下、Ａｌに対し３／４モルの水分量に
対応する飽和水を含有したトルエンを滴下する方法。 （３） テトライソブチルアルモキサンのヘキサン希釈
液中に、高速撹拌下、Ａｌに対し１／４モルの水分量に
対応する飽和水を含有したトルエンを滴下する方法。 ＜任意成分（Ｃ）＞本発明によるエチレン系共重合体の
製造法で用いられる触媒は、「成分（Ａ）および成分
（Ｂ）を組合せたもの」であって、この「成分（Ａ）お
よび成分（Ｂ）を組合せてなる」触媒は、本発明の効果
を損わない限りにおいて成分（Ａ）および成分（Ｂ）以
外の任意成分（Ｃ）を使用することが可能であることは
前記したところである。任意成分（Ｃ）としては、
（イ）活性水素含有化合物、例えば、Ｈ２Ｏ、メタノー
ル、エタノールおよびブタノール等、（ロ）電子供与性
化合物、例えばエーテル、エステルおよびアミン等、
（ハ）無機酸エステル、例えばホウ酸エチル、ホウ酸フ
ェニル、リン酸メチル、リン酸エチル、リン酸フェニ
ル、亜リン酸フェニル、テトラエトキシシラン、テトラ
フェノキシシランおよびジフェニルジメトキシシラン
等、（ニ）有機金属化合物、例えばトリメチルアルミニ
ウム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミ
ニウム、ジエチルアルミニウムハライド、ジエチルアル
ミニウムエトキシド、ジブチルエチルマグネシウム、ブ
チルマグネシウムブロミドおよびブチルリチウム等、を
例示することが出来る。また、シロキシ化合物、例えば
テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン
およびメチルハイドロジェンポリシロキサン等も使用可
能である。 ＜触媒の形成＞本発明による触媒成分（成分（Ａ））
は、これと上記の成分（Ｂ）ならびに必要により前記の
ような任意成分（Ｃ）とを重合槽内で、あるいは重合槽
外で、重合させるべきモノマーの存在下あるいは不存在
下に、接触させることによりオレフィン重合用触媒とす
ることが出来る。
【００３７】成分（Ａ）と成分（Ｂ）からなる触媒を重
合で使用する場合の上記成分（Ａ）および成分（Ｂ）の
使用量は任意であるが、一般的には成分（Ｂ）中のアル
ミニウム原子と成分（Ａ）の遷移金属（Ｍｅ）の原子比
（Ａｌ／Ｍｅ）で０．０１〜１００，０００、好ましく
は０．１〜３０，０００、さらに好ましくは２〜１０，
０００である。接触方法は、任意であって、重合時に各
成分を別々に導入して接触させてもよいし、予め接触さ
せて使用してもよい。 ＜単量体／共重合体＞本発明は、エチレンと炭素数３〜
２０のモノオレフィン、またはエチレン、炭素数３〜２
０のモノオレフィンおよび炭素数４〜２０のポリエン化
合物、の共重合体を製造することを目的とするものであ
る。
合で使用する場合の上記成分（Ａ）および成分（Ｂ）の
使用量は任意であるが、一般的には成分（Ｂ）中のアル
ミニウム原子と成分（Ａ）の遷移金属（Ｍｅ）の原子比
（Ａｌ／Ｍｅ）で０．０１〜１００，０００、好ましく
は０．１〜３０，０００、さらに好ましくは２〜１０，
０００である。接触方法は、任意であって、重合時に各
成分を別々に導入して接触させてもよいし、予め接触さ
せて使用してもよい。 ＜単量体／共重合体＞本発明は、エチレンと炭素数３〜
２０のモノオレフィン、またはエチレン、炭素数３〜２
０のモノオレフィンおよび炭素数４〜２０のポリエン化
合物、の共重合体を製造することを目的とするものであ
る。
【００３８】（イ） 炭素数３〜２０のオレフィンとし
ては、具体的には、炭素数３〜２０程度のα‐オレフィ
ン、例えばプロピレン、１‐ブテン、１‐ペンテン、１
‐ヘキセン、４‐メチル‐ペンテン‐１、３‐メチルブ
テン‐１、１‐オクテン、１‐デセン、１‐ウンデセ
ン、１‐ドデセン、１‐エイコセンおよびスチレン等で
あり、好ましくは炭素数３〜１０のα‐オレフィン、炭
素数５〜１５程度の環状オレフィン、例えばシクロペン
テン、ノルボルネン、シクロヘプテン、シクロオクテ
ン、５‐メチル‐２‐ノルボルネン、５‐エチルノルボ
ルネン、テトラヒドロ‐４，７‐メタノインデン、１，
４，５，８‐ジメタノ‐オクタヒドロナフタレンおよび
２‐プロピル‐１，４，５，８‐ジメタノ‐オクタヒド
ロナフタレン等が例示される。
ては、具体的には、炭素数３〜２０程度のα‐オレフィ
ン、例えばプロピレン、１‐ブテン、１‐ペンテン、１
‐ヘキセン、４‐メチル‐ペンテン‐１、３‐メチルブ
テン‐１、１‐オクテン、１‐デセン、１‐ウンデセ
ン、１‐ドデセン、１‐エイコセンおよびスチレン等で
あり、好ましくは炭素数３〜１０のα‐オレフィン、炭
素数５〜１５程度の環状オレフィン、例えばシクロペン
テン、ノルボルネン、シクロヘプテン、シクロオクテ
ン、５‐メチル‐２‐ノルボルネン、５‐エチルノルボ
ルネン、テトラヒドロ‐４，７‐メタノインデン、１，
４，５，８‐ジメタノ‐オクタヒドロナフタレンおよび
２‐プロピル‐１，４，５，８‐ジメタノ‐オクタヒド
ロナフタレン等が例示される。
【００３９】（ロ） 炭素数４〜２０のジエン化合物と
しては、炭素数４〜２０程度の鎖状ジエンおよび炭素数
６〜１５程度の環状ジエン、具体的には、例えばブタジ
エン、１，３‐ペンタジエン、１，４‐ヘキサジエン、
１，５‐ヘキサジエン、４‐メチル‐１，４‐ヘキサジ
エン、７‐メチル‐１，６‐オクタジエン、１，７‐オ
クタジエン、１，９‐デカジエン、ノルボルナジエン、
５‐エチリデンノルボルネン、５‐ビニルノルボルネ
ン、ジビニルベンゼン等が例示される。本発明では、炭
素数４〜１２の鎖状ジエンが好ましい。
しては、炭素数４〜２０程度の鎖状ジエンおよび炭素数
６〜１５程度の環状ジエン、具体的には、例えばブタジ
エン、１，３‐ペンタジエン、１，４‐ヘキサジエン、
１，５‐ヘキサジエン、４‐メチル‐１，４‐ヘキサジ
エン、７‐メチル‐１，６‐オクタジエン、１，７‐オ
クタジエン、１，９‐デカジエン、ノルボルナジエン、
５‐エチリデンノルボルネン、５‐ビニルノルボルネ
ン、ジビニルベンゼン等が例示される。本発明では、炭
素数４〜１２の鎖状ジエンが好ましい。
【００４０】共重合体として好ましいものは、（イ）エ
チレンと一種の炭素数３〜２０のオレフィンの共重合体
の中では、例えば、エチレン／プロピレン、エチレン／
１‐ブテン、エチレン／１‐ヘキセン、エチレン／１‐
オクテン、エチレン／ノルボルネンおよびエチレン／ジ
メタノオクタヒドロナフタレン共重合体等、（ロ）エチ
レンと二種以上の炭素数３〜２０のオレフィン共重合体
の中では、例えば、エチレン／１‐ブテン／１‐デセ
ン、エチレン／プロピレン／ノルボルネン、エチレン／
プロピレン／スチレンおよびエチレン／１‐ヘキセン／
４‐メチルペンテン‐１共重合体等、（ハ）エチレン、
炭素数３〜２０のオレフィン、ジエンの多元共重合体の
中では、例えば、エチレン／プロピレン／エチリデンノ
ルボルネン、エチレン／１‐ブテン／メチルオクタジエ
ン、エチレン／プロピレン／１，５‐ヘキサジエン、エ
チレン／ノルボルネン／ノルボルナジエンおよびエチレ
ン／スチレン／ジビニルベンゼン共重合体等、が例示さ
れる。
チレンと一種の炭素数３〜２０のオレフィンの共重合体
の中では、例えば、エチレン／プロピレン、エチレン／
１‐ブテン、エチレン／１‐ヘキセン、エチレン／１‐
オクテン、エチレン／ノルボルネンおよびエチレン／ジ
メタノオクタヒドロナフタレン共重合体等、（ロ）エチ
レンと二種以上の炭素数３〜２０のオレフィン共重合体
の中では、例えば、エチレン／１‐ブテン／１‐デセ
ン、エチレン／プロピレン／ノルボルネン、エチレン／
プロピレン／スチレンおよびエチレン／１‐ヘキセン／
４‐メチルペンテン‐１共重合体等、（ハ）エチレン、
炭素数３〜２０のオレフィン、ジエンの多元共重合体の
中では、例えば、エチレン／プロピレン／エチリデンノ
ルボルネン、エチレン／１‐ブテン／メチルオクタジエ
ン、エチレン／プロピレン／１，５‐ヘキサジエン、エ
チレン／ノルボルネン／ノルボルナジエンおよびエチレ
ン／スチレン／ジビニルベンゼン共重合体等、が例示さ
れる。
【００４１】共重合体の各モノマーの組成は、各モノマ
ー成分の合計を１００モル％とした場合に、エチレン２
０〜９９モル％、炭素数３〜２０のオレフィン１〜８０
モル％、炭素数４〜２０のポリエン化合物０〜１０モル
％の範囲である。好ましくはエチレン５０〜９９モル
％、オレフィン１〜５０モル％、ジエン０〜５モル％の
範囲である。 ＜共重合体の製造＞本発明の共重合体の製造法は、溶媒
を用いる溶媒重合に適用されるのはもちろんであるが、
実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、気相重合、溶
融重合にも適用される。また、連続重合、回分式重合、
さらには、多相を使用する連続重合にも適用される。
ー成分の合計を１００モル％とした場合に、エチレン２
０〜９９モル％、炭素数３〜２０のオレフィン１〜８０
モル％、炭素数４〜２０のポリエン化合物０〜１０モル
％の範囲である。好ましくはエチレン５０〜９９モル
％、オレフィン１〜５０モル％、ジエン０〜５モル％の
範囲である。 ＜共重合体の製造＞本発明の共重合体の製造法は、溶媒
を用いる溶媒重合に適用されるのはもちろんであるが、
実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合、気相重合、溶
融重合にも適用される。また、連続重合、回分式重合、
さらには、多相を使用する連続重合にも適用される。
【００４２】溶媒重合の場合の溶媒としては、ヘキサ
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素溶媒の単
独あるいは混合物が用いられる。
ン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン、
トルエン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素溶媒の単
独あるいは混合物が用いられる。
【００４３】重合温度は、−７８〜３００℃程度、好ま
しくは−２０〜２５０℃、である。反応系のオレフィン
圧には特に制限がないが、好ましくは常圧〜３０００Kg
／cm2 ‐Ｇの範囲である。また、重合に際しては公知の
手段、例えば温度、圧力の選定あるいは水素の導入によ
り分子量調節を行なうことができる。
しくは−２０〜２５０℃、である。反応系のオレフィン
圧には特に制限がないが、好ましくは常圧〜３０００Kg
／cm2 ‐Ｇの範囲である。また、重合に際しては公知の
手段、例えば温度、圧力の選定あるいは水素の導入によ
り分子量調節を行なうことができる。
【００４４】
実施例−１成分（Ａ）の製造 ジメチルシリレンビス（テトラヒドロインデニル）ジル
コニウムジクロリドを、J. Orgmet. Chem. (342)21〜29
1988及びJ. Orgmet. Chem.(369)359〜370 19 89に従っ
て合成した。
コニウムジクロリドを、J. Orgmet. Chem. (342)21〜29
1988及びJ. Orgmet. Chem.(369)359〜370 19 89に従っ
て合成した。
【００４５】具体的には、窒素置換した３００ミリリッ
トルフラスコに、ビス（インデニル）ジメチルシラン
５．４ｇをテトラヒドロフラン１５０ミリリットルに希
釈し、−５０℃以下に冷却した後、ｎ‐ブチルリチウム
（１．６Ｍ／Ｌ）２３．６ミリリットルを３０分かけて
滴下した。滴下終了後、１時間かけて室温まで昇温し、
室温下で４時間反応させて反応液Ａを合成した。
トルフラスコに、ビス（インデニル）ジメチルシラン
５．４ｇをテトラヒドロフラン１５０ミリリットルに希
釈し、−５０℃以下に冷却した後、ｎ‐ブチルリチウム
（１．６Ｍ／Ｌ）２３．６ミリリットルを３０分かけて
滴下した。滴下終了後、１時間かけて室温まで昇温し、
室温下で４時間反応させて反応液Ａを合成した。
【００４６】窒素置換した５００ミリリットルフラスコ
に、テトラヒドロフラン２００ミリリットルを導入し−
５０℃以下に冷却した後、四塩化ジルコニウム４．３８
グラムをゆっくり導入した。次いで反応液Ａを全量導入
した後、３時間かけてゆっくり室温まで昇温した。室温
下で２時間反応させた後、さらに６０℃に昇温し２時間
反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去した後、トル
エン１００ミリリットルに溶解し再留去によりジメチル
シリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド粗
結晶を３．８６グラム得た。
に、テトラヒドロフラン２００ミリリットルを導入し−
５０℃以下に冷却した後、四塩化ジルコニウム４．３８
グラムをゆっくり導入した。次いで反応液Ａを全量導入
した後、３時間かけてゆっくり室温まで昇温した。室温
下で２時間反応させた後、さらに６０℃に昇温し２時間
反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去した後、トル
エン１００ミリリットルに溶解し再留去によりジメチル
シリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロリド粗
結晶を３．８６グラム得た。
【００４７】次いで、この粗結晶をジクロロメタン１５
０ミリリットルに溶解し、５００ミリリットルオートク
レーブに導入し、白金‐カーボン（０．５重量％白金担
持）触媒５グラム導入後、Ｈ２＝５０Kg／cm2 Ｇ、５０
℃の条件下で５時間水添反応を行なった。反応終了後、
触媒を濾別した後、溶媒を減圧留去し、トルエンで抽出
した後再結晶することにより、目的のジメチルシリレン
ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド１．２６グラムを得た。成分（Ｂ）の製造 ヘキサイソブチルアルモキサンを以下の方法に従って合
成した。
０ミリリットルに溶解し、５００ミリリットルオートク
レーブに導入し、白金‐カーボン（０．５重量％白金担
持）触媒５グラム導入後、Ｈ２＝５０Kg／cm2 Ｇ、５０
℃の条件下で５時間水添反応を行なった。反応終了後、
触媒を濾別した後、溶媒を減圧留去し、トルエンで抽出
した後再結晶することにより、目的のジメチルシリレン
ビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジクロリ
ド１．２６グラムを得た。成分（Ｂ）の製造 ヘキサイソブチルアルモキサンを以下の方法に従って合
成した。
【００４８】具体的には、窒素置換した５００ミリリッ
トルのフラスコに、ｎ‐ヘキサン１００ミリリットル及
び硫酸銅５水和物１０グラム（Ｈ２Ｏで０．２モル）を
導入し、−５０℃以下に冷却した。次いで、ｎ‐ヘキサ
ン希釈のトリイソブチルアルミニウム（１０ｗｔ％）を
３１０ミリリットル（０．２６７モル）を２０分かけて
−４０℃を越えない速度でフィードした。フィード終了
後、２時間かけて反応系を室温に昇温し、室温下で１晩
反応させた。反応終了後、硫酸銅を濾過で除去した後、
高真空下で溶媒及びフリーのトリイソブチルアルミを留
去し、目的の粘稠な液体であるヘキサイソブチルアルモ
キサン３２グラムを得た。この化合物１グラム中にはＡ
ｌ原子が、２０．２重量％含まれていた。エチレン／プロピレンの重合 充分に窒素置換した撹拌および温度制御装置のついた内
容積１．５リットルのステンレス鋼製オートクレーブ
に、充分脱水および脱酸素したヘプタン５００ミリリッ
トル、上記で得た成分（Ｂ）ヘキサイソブチルアルミニ
ウムのヘキサン希釈液（０．２グラム／cc）を２．５ミ
リリットル（１．０ミリモル）、及び成分（Ａ）のジメ
チルシリレンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニ
ウムジクロリドを０．４５６ミリグラム（１マイクロモ
ル）導入し、４０℃に昇温した。昇温後、エチレン３０
０cc／min 、プロピレン３００cc／min で一定速度で各
モノマーを１時間導入し、重合を実施した。１時間後の
最終圧力は４．１kg／cmＧであった。フィード終了とと
もに、モノマーをパージし、重合スラリーを塩酸エタノ
ール５００ミリリットル中に抜き出し、水洗を行なった
後、スチームストリッピングで溶媒を留去して得られた
ポリマーをアセトン洗浄した後、乾燥させた。その結
果、２６．８グラムのエチレンプロピレン共重合体を得
た。得られたポリマーの分子量は重量平均分子量で４６
８，０００、数平均分子量２１１，０００、エチレン含
量は６６．７重量％であった。 比較例−１ 成分（Ｂ）のヘキサイソブチルアルモキサンのかわり
に、ＷＩＴＣＯ社製メチルアルモキサンを５８ミリグラ
ム（１ミリモル）用いる以外は、全て実施例−１と同一
条件で重合操作を行なった。結果は表−１に示される通
りである。 実施例−２、３、４、５ エチレン、プロピレンのフィード速度、並びに重合温度
を表−１に示すように変更する以外は全て実施例−１と
同一条件で重合操作を行なった。結果は表−１に示され
る通りである。 実施例−６エチレン／１‐ヘキセンの共重合 充分にエチレンガスで置換した撹拌および温度制御装置
のついた内容積１．５リットルのステンレス鋼製オート
クレーブに、充分に脱水および脱酸素したヘプタン５０
０ミリリットル、１‐ヘキセン３０ミリリットル、実施
例−１で合成した触媒成分（Ｂ）をアルミニウム換算で
１ミリモル、次いで実施例−１で合成したジメチルシリ
レンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジク
ロリドを１マイクロモル加えた後昇温し、７０℃、７kg
／cm2 Ｇ、２時間重合操作を行なった。重合終了後、３
リットルのエタノール中に重合反応液を投入し、析出し
た重合体を濾別し乾燥したところ、２１．９グラムのポ
リマーを得た。従って触媒活性は、４８，０００ｇ・ポ
リマー／ｇ成分（Ａ）であった。１９０℃のＭＩは０．
８５ｇ／１０分、ポリマーの融点は１０８．９℃、13Ｃ
−ＮＭＲの測定の結果、１‐ヘキセンの含量は４．１モ
ル％であった。 実施例−７エチレン／１‐ヘキセン／１，５‐ヘキサジエン共重合 １，５‐ヘキサジエンを１０ｍｌ使用し、１‐ヘキセン
使用量を２０ｍｌにする以外は全て実施例−６と同一条
件で重合操作を行なった。結果は表−２に示される通り
である。 比較例−２エチレン／１‐ヘキセン共重合 実施例−６において、ヘキサイソブチルアルモキサンの
かわりに、ＷＩＴＣＯ社製メチルアルモキサンを１ｍＭ
用いる以外は全て実施例−６と同一条件で重合操作を行
なった。結果は表−２に示される通りである。 実施例−８ ＷＩＴＣＯ社製ヘキサイソブチルアルモキサンを１ミリ
モル用いる以外は全て、実施例−６と同一条件で重合操
作を行なった。結果は表−２に示される通りである。 実施例−９成分（Ａ）の合成 ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）（tert‐ブチルアミド）チタニウムジクロリドの合
成 充分に窒素置換した３００ミリリットルのフラスコに、
脱水及び脱気したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００
ミリリットルを入れ、これに関東化学（株）社製（tert
‐ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジメチルシラン２．５２グラム（１０ミリモル）を
溶解した。次いで、これを−５０℃以下に冷却した後、
これに１．５Ｍ濃度にジエチルエーテルで希釈したメチ
ルリチウムを１３．４ミリリットル（２０ミリモル）を
１０分かけて導入した。次いで１時間かけて室温まで昇
温し、室温下で６時間反応させた。反応終了後、溶媒を
留去した後、ＴＨＦで数回洗浄し、ジリチウム（tert‐
ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジメチルシラン２．１６グラムを得た。
トルのフラスコに、ｎ‐ヘキサン１００ミリリットル及
び硫酸銅５水和物１０グラム（Ｈ２Ｏで０．２モル）を
導入し、−５０℃以下に冷却した。次いで、ｎ‐ヘキサ
ン希釈のトリイソブチルアルミニウム（１０ｗｔ％）を
３１０ミリリットル（０．２６７モル）を２０分かけて
−４０℃を越えない速度でフィードした。フィード終了
後、２時間かけて反応系を室温に昇温し、室温下で１晩
反応させた。反応終了後、硫酸銅を濾過で除去した後、
高真空下で溶媒及びフリーのトリイソブチルアルミを留
去し、目的の粘稠な液体であるヘキサイソブチルアルモ
キサン３２グラムを得た。この化合物１グラム中にはＡ
ｌ原子が、２０．２重量％含まれていた。エチレン／プロピレンの重合 充分に窒素置換した撹拌および温度制御装置のついた内
容積１．５リットルのステンレス鋼製オートクレーブ
に、充分脱水および脱酸素したヘプタン５００ミリリッ
トル、上記で得た成分（Ｂ）ヘキサイソブチルアルミニ
ウムのヘキサン希釈液（０．２グラム／cc）を２．５ミ
リリットル（１．０ミリモル）、及び成分（Ａ）のジメ
チルシリレンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニ
ウムジクロリドを０．４５６ミリグラム（１マイクロモ
ル）導入し、４０℃に昇温した。昇温後、エチレン３０
０cc／min 、プロピレン３００cc／min で一定速度で各
モノマーを１時間導入し、重合を実施した。１時間後の
最終圧力は４．１kg／cmＧであった。フィード終了とと
もに、モノマーをパージし、重合スラリーを塩酸エタノ
ール５００ミリリットル中に抜き出し、水洗を行なった
後、スチームストリッピングで溶媒を留去して得られた
ポリマーをアセトン洗浄した後、乾燥させた。その結
果、２６．８グラムのエチレンプロピレン共重合体を得
た。得られたポリマーの分子量は重量平均分子量で４６
８，０００、数平均分子量２１１，０００、エチレン含
量は６６．７重量％であった。 比較例−１ 成分（Ｂ）のヘキサイソブチルアルモキサンのかわり
に、ＷＩＴＣＯ社製メチルアルモキサンを５８ミリグラ
ム（１ミリモル）用いる以外は、全て実施例−１と同一
条件で重合操作を行なった。結果は表−１に示される通
りである。 実施例−２、３、４、５ エチレン、プロピレンのフィード速度、並びに重合温度
を表−１に示すように変更する以外は全て実施例−１と
同一条件で重合操作を行なった。結果は表−１に示され
る通りである。 実施例−６エチレン／１‐ヘキセンの共重合 充分にエチレンガスで置換した撹拌および温度制御装置
のついた内容積１．５リットルのステンレス鋼製オート
クレーブに、充分に脱水および脱酸素したヘプタン５０
０ミリリットル、１‐ヘキセン３０ミリリットル、実施
例−１で合成した触媒成分（Ｂ）をアルミニウム換算で
１ミリモル、次いで実施例−１で合成したジメチルシリ
レンビス（テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジク
ロリドを１マイクロモル加えた後昇温し、７０℃、７kg
／cm2 Ｇ、２時間重合操作を行なった。重合終了後、３
リットルのエタノール中に重合反応液を投入し、析出し
た重合体を濾別し乾燥したところ、２１．９グラムのポ
リマーを得た。従って触媒活性は、４８，０００ｇ・ポ
リマー／ｇ成分（Ａ）であった。１９０℃のＭＩは０．
８５ｇ／１０分、ポリマーの融点は１０８．９℃、13Ｃ
−ＮＭＲの測定の結果、１‐ヘキセンの含量は４．１モ
ル％であった。 実施例−７エチレン／１‐ヘキセン／１，５‐ヘキサジエン共重合 １，５‐ヘキサジエンを１０ｍｌ使用し、１‐ヘキセン
使用量を２０ｍｌにする以外は全て実施例−６と同一条
件で重合操作を行なった。結果は表−２に示される通り
である。 比較例−２エチレン／１‐ヘキセン共重合 実施例−６において、ヘキサイソブチルアルモキサンの
かわりに、ＷＩＴＣＯ社製メチルアルモキサンを１ｍＭ
用いる以外は全て実施例−６と同一条件で重合操作を行
なった。結果は表−２に示される通りである。 実施例−８ ＷＩＴＣＯ社製ヘキサイソブチルアルモキサンを１ミリ
モル用いる以外は全て、実施例−６と同一条件で重合操
作を行なった。結果は表−２に示される通りである。 実施例−９成分（Ａ）の合成 ジメチルシリレン（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）（tert‐ブチルアミド）チタニウムジクロリドの合
成 充分に窒素置換した３００ミリリットルのフラスコに、
脱水及び脱気したテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１００
ミリリットルを入れ、これに関東化学（株）社製（tert
‐ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）ジメチルシラン２．５２グラム（１０ミリモル）を
溶解した。次いで、これを−５０℃以下に冷却した後、
これに１．５Ｍ濃度にジエチルエーテルで希釈したメチ
ルリチウムを１３．４ミリリットル（２０ミリモル）を
１０分かけて導入した。次いで１時間かけて室温まで昇
温し、室温下で６時間反応させた。反応終了後、溶媒を
留去した後、ＴＨＦで数回洗浄し、ジリチウム（tert‐
ブチルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）
ジメチルシラン２．１６グラムを得た。
【００４９】次いで、充分窒素置換した３００ミリリッ
トルフラスコに、脱水および脱酸素したジエチルエーテ
ル１００ミリリットルおよび四塩化チタニウム０．３８
グラム（２ミリモル）を−５０℃以下で混合した。次い
で、これに、上記で得たジリチウム（tert‐ブチルアミ
ド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジメチルシ
ラン２ミリモル（０．５３グラム）をテトラヒドフラン
１０ミリリットルに希釈したものを、−５０℃以下で３
０分かけて滴下した。滴下終了後、１時間かけて室温ま
で昇温し、室温下で１昼夜反応させた。反応終了後、溶
媒を留去した後、トルエン５０ミリリットルを加え濾別
により塩化リチウムを除去した。次いでトルエンを蒸溜
し、ｎ‐ペンタン３０ミリリットルを加えて溶解させた
後、冷蔵庫に一昼夜保管した結果、０．２５グラムの黄
色の結晶として目的のジメチルシリレン（テトラメチル
シクロペンタジエニル）tert‐ブチルアミドチタニウム
ジクロリドを得た。エチレン／１‐ヘキセンの重合 上記成分（Ａ）を２マイクロモル用い、重合温度を９５
℃にする以外は全て実施例−８と同一条件で重合操作を
行なった。結果は表−２に示される通りである。
トルフラスコに、脱水および脱酸素したジエチルエーテ
ル１００ミリリットルおよび四塩化チタニウム０．３８
グラム（２ミリモル）を−５０℃以下で混合した。次い
で、これに、上記で得たジリチウム（tert‐ブチルアミ
ド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジメチルシ
ラン２ミリモル（０．５３グラム）をテトラヒドフラン
１０ミリリットルに希釈したものを、−５０℃以下で３
０分かけて滴下した。滴下終了後、１時間かけて室温ま
で昇温し、室温下で１昼夜反応させた。反応終了後、溶
媒を留去した後、トルエン５０ミリリットルを加え濾別
により塩化リチウムを除去した。次いでトルエンを蒸溜
し、ｎ‐ペンタン３０ミリリットルを加えて溶解させた
後、冷蔵庫に一昼夜保管した結果、０．２５グラムの黄
色の結晶として目的のジメチルシリレン（テトラメチル
シクロペンタジエニル）tert‐ブチルアミドチタニウム
ジクロリドを得た。エチレン／１‐ヘキセンの重合 上記成分（Ａ）を２マイクロモル用い、重合温度を９５
℃にする以外は全て実施例−８と同一条件で重合操作を
行なった。結果は表−２に示される通りである。
【００５０】
【表１】
【００５１】
【表２】
【００５２】
【発明の効果】本発明によるエチレン系共重合体の製造
法によれば、高分子量のエチレン／オレフィン共重合体
を高価なメチルアルモキサンを用いず、そして、工業上
の制約となる芳香族炭化水素溶媒を使用する必要もなく
得ることが可能になることは、「発明の概要」の項にお
いて前記したところである。
法によれば、高分子量のエチレン／オレフィン共重合体
を高価なメチルアルモキサンを用いず、そして、工業上
の制約となる芳香族炭化水素溶媒を使用する必要もなく
得ることが可能になることは、「発明の概要」の項にお
いて前記したところである。
Claims (9)
- 【請求項１】エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフィ
ンとを触媒の存在下に共重合させてエチレン系共重合体
を製造する方法であって、該触媒が下記の成分（Ａ）お
よび成分（Ｂ）を組合せたものであることを特徴とす
る、エチレン系共重合体の製造法。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。 - 【請求項２】成分（Ａ）の化合物が、下式（Ｉ）および
（または）下式（II）で示される化合物である、請求項
１に記載のエチレン系共重合体の製造法。 Ｑａ（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ５ ｃ）ＭｅＸＹ （Ｉ） Ｓａ（Ｃ５Ｈ5-a-d Ｒ６ ｄ）ＺＭｅＸＹ （II） 〔ここで、（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）、（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ
５ ｃ）および（Ｃ５Ｈ5- a-d Ｒ６ ｄ）は、それぞれ、Ｍ
ｅに配位する共役五員環配位子を示す。Ｑは、二つの共
役五員環配位子間を架橋する結合性基を示す。Ｓは、共
役五員環配位子とＺ基を架橋する結合性基を示す。Ｍｅ
は、周期律表IVＢ〜VIＢ族の遷移金属を示す。Ｘおよび
Ｙは、それぞれ、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の
炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アミノ
基、炭素数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数
１〜２０のケイ素含有炭化水素を示す。Ｚは、酸素、イ
オウ、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２
のチオアルコキシ基、炭素数１〜４０のケイ素含有炭化
水素基、炭素数１〜４０の窒素含有炭化水素基または炭
素数１〜４０のリン含有炭化水素基を示す。Ｒ４、Ｒ５
およびＲ６は、それぞれ、炭素数１〜２０の炭化水素
基、ハロゲン基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素
数１〜２４のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜１８の
リン含有炭化水素基、炭素数１〜１８の窒素含有炭化水
素基または炭素数１〜１８のホウ素含有炭化水素基を示
す。ａは、０または１を示す。ｂ、ｃおよびｄは、ａが
０のときは０≦ｂ≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａ
が１のときは０≦ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を示
す。〕 - 【請求項３】成分（Ａ）の化合物が、式（Ｉ）で示され
る化合物である、請求項２に記載のエチレン系共重合体
の製造法。 - 【請求項４】モノオレフィンが炭素数３〜１０のモノオ
レフィンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の
エチレン系共重合体の製造法。 - 【請求項５】エチレンと炭素数３〜２０のモノオレフィ
ンと炭素数４〜２０のポリエン化合物とを触媒の存在下
に共重合させてエチレン系共重合体を製造する方法であ
って、該触媒が下記の成分（Ａ）および成分（Ｂ）を組
合せたものであることを特徴とする、エチレン系共重合
体の製造法。 成分（Ａ）：共役五員環配位子を少くとも１個有する周
期律表IVＢ〜VIＢ族遷移金属化合物、 成分（Ｂ）：ヘキサイソブチルアルモキサン。 - 【請求項６】成分（Ａ）の化合物が、下式（Ｉ）および
（または）下式（II）で示される化合物である、請求項
５に記載のエチレン系共重合体の製造法。 Ｑａ（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ５ ｃ）ＭｅＸＹ （Ｉ） Ｓａ（Ｃ５Ｈ5-a-d Ｒ６ ｄ）ＺＭｅＸＹ （II） 〔ここで、（Ｃ５Ｈ5-a-b Ｒ４ ｂ）、（Ｃ５Ｈ5-a-c Ｒ
５ ｃ）および（Ｃ５Ｈ5- a-d Ｒ６ ｄ）は、それぞれ、Ｍ
ｅに配位する共役五員環配位子を示す。Ｑは、二つの共
役五員環配位子間を架橋する結合性基を示す。Ｓは、共
役五員環配位子とＺ基を架橋する結合性基を示す。Ｍｅ
は、周期律表IVＢ〜VIＢ族の遷移金属を示す。Ｘおよび
Ｙは、それぞれ、水素、ハロゲン基、炭素数１〜２０の
炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、アミノ
基、炭素数１〜２０のリン含有炭化水素基または炭素数
１〜２０のケイ素含有炭化水素を示す。Ｚは、酸素、イ
オウ、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２
のチオアルコキシ基、炭素数１〜４０のケイ素含有炭化
水素基、炭素数１〜４０の窒素含有炭化水素基または炭
素数１〜４０のリン含有炭化水素基を示す。Ｒ４、Ｒ５
およびＲ６は、それぞれ、炭素数１〜２０の炭化水素
基、ハロゲン基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素
数１〜２４のケイ素含有炭化水素基、炭素数１〜１８の
リン含有炭化水素基、炭素数１〜１８の窒素含有炭化水
素基または炭素数１〜１８のホウ素含有炭化水素基を示
す。ａは、０または１を示す。ｂ、ｃおよびｄは、ａが
０のときは０≦ｂ≦５、０≦ｃ≦５、０≦ｄ≦５を、ａ
が１のときは０≦ｂ≦４、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４を示
す。〕 - 【請求項７】成分（Ａ）の化合物が、式（Ｉ）で示され
る化合物である、請求項６に記載のエチレン系共重合体
の製造法。 - 【請求項８】モノオレフィンが炭素数３〜１０のモノオ
レフィンである、請求項５〜７のいずれか１項に記載の
エチレン系共重合体の製造法。 - 【請求項９】ポリエン化合物が炭素数４〜１２のポリエ
ン化合物である、請求項５〜８のいずれか１項に記載の
エチレン系共重合体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32914294A JPH08183813A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | エチレン系共重合体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32914294A JPH08183813A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | エチレン系共重合体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08183813A true JPH08183813A (ja) | 1996-07-16 |
Family
ID=18218112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32914294A Pending JPH08183813A (ja) | 1994-12-28 | 1994-12-28 | エチレン系共重合体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08183813A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001005853A1 (fr) * | 1999-07-21 | 2001-01-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Copolymere d'olefine |
| US6444603B1 (en) | 1997-12-22 | 2002-09-03 | Mitsui Chemicals, Inc. | Catalyst component for ethylenically unsaturated monomer polymerization, catalyst for ethylenically unsaturated monomer polymerization, and process for ethylenically unsaturated monomer polymerization using said catalyst |
| WO2017159622A1 (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 日本ゼオン株式会社 | ポリエーテルゴムを含有するゴム架橋物、および導電性ロール |
-
1994
- 1994-12-28 JP JP32914294A patent/JPH08183813A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6444603B1 (en) | 1997-12-22 | 2002-09-03 | Mitsui Chemicals, Inc. | Catalyst component for ethylenically unsaturated monomer polymerization, catalyst for ethylenically unsaturated monomer polymerization, and process for ethylenically unsaturated monomer polymerization using said catalyst |
| WO2001005853A1 (fr) * | 1999-07-21 | 2001-01-25 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Copolymere d'olefine |
| US6858676B1 (en) | 1999-07-21 | 2005-02-22 | Sumitomo Chemical Company, Ltd. | Olefin derived copolymer |
| WO2017159622A1 (ja) * | 2016-03-17 | 2017-09-21 | 日本ゼオン株式会社 | ポリエーテルゴムを含有するゴム架橋物、および導電性ロール |
| CN108779325A (zh) * | 2016-03-17 | 2018-11-09 | 日本瑞翁株式会社 | 含有聚醚橡胶的橡胶交联物及导电性辊 |
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