JP3142172B2 - 接着性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石およびその製造方法 - Google Patents
接着性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石およびその製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁
石体（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上で
あり、ＴＭはＦｅまたはＦｅとＣｏである）の表面に順
次Ｎｉめっき層とクロム酸塩層とを被覆してなり、かつ
耐食性を維持しつつ従来よりも接着性を著しく改善した
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法に関する。
石体（ＲはＹを含む希土類元素の１種または２種以上で
あり、ＴＭはＦｅまたはＦｅとＣｏである）の表面に順
次Ｎｉめっき層とクロム酸塩層とを被覆してなり、かつ
耐食性を維持しつつ従来よりも接着性を著しく改善した
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電気・電子機器の高性能化・小型化に伴
って、その一部たる永久磁石にも同様の要求が強まって
きた。すなわち以前の最強の永久磁石は希土類・コバル
ト（Ｒ−Ｃｏ）系であったが、近年より強力なＲ−ＴＭ
−Ｂ系永久磁石が台頭してきた。（特開昭５９−４６０
０８号）。ここにＲはＹを含む希土類元素の１種または
２種以上の組合わせであり、ＴＭはＦｅ，Ｃｏ等の遷移
金属を中心として、一部を他の金属元素または非金属元
素で置換したもの、Ｂは硼素である。しかし、Ｒ−ＴＭ
−Ｂ系永久磁石は極めて錆やすいという問題点があっ
た。そこで、耐食性を改善するために、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系
永久磁石体表面に耐酸化性の被覆層を設ける手段がとら
れてきた。被覆層の種類としては、Ｎｉめっき、耐酸化
性樹脂、Ａｌイオンプレーティング等が提案されてお
り、とりわけＮｉめっきは簡易な処理でＲ−ＴＭ−Ｂ系
永久磁石の耐食性を向上するものとして注目されている
（特開昭６０−５４４０６号）。Ｎｉめっきは耐酸化性
樹脂と比較して表面被覆層の機械的強度に優れており、
また被覆層自体の吸湿性がほとんど無いという長所を有
している。しかしながら、耐酸化性樹脂層と異なり、Ｎ
ｉめっき被覆層表面にはピンホールが存在するという問
題点があった。そのため被覆層自身の吸湿性の有無にか
かわらず、経時変化に伴い水分がピンホールを通じてＲ
−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体に浸透し、腐食劣化を引き起こ
すという問題があった。この問題を解決するため、Ｎｉ
めっき層の上にクロム酸塩被覆層を設ける手法を本発明
者らは提案した（特願平２−２６６９７７号）。クロム
酸塩被覆層はきわめて薄いが密着性にすぐれ、非晶質で
孔がなく水にぬれにくいので、下地金属を湿気から非常
によく保護する作用を有している。
って、その一部たる永久磁石にも同様の要求が強まって
きた。すなわち以前の最強の永久磁石は希土類・コバル
ト（Ｒ−Ｃｏ）系であったが、近年より強力なＲ−ＴＭ
−Ｂ系永久磁石が台頭してきた。（特開昭５９−４６０
０８号）。ここにＲはＹを含む希土類元素の１種または
２種以上の組合わせであり、ＴＭはＦｅ，Ｃｏ等の遷移
金属を中心として、一部を他の金属元素または非金属元
素で置換したもの、Ｂは硼素である。しかし、Ｒ−ＴＭ
−Ｂ系永久磁石は極めて錆やすいという問題点があっ
た。そこで、耐食性を改善するために、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系
永久磁石体表面に耐酸化性の被覆層を設ける手段がとら
れてきた。被覆層の種類としては、Ｎｉめっき、耐酸化
性樹脂、Ａｌイオンプレーティング等が提案されてお
り、とりわけＮｉめっきは簡易な処理でＲ−ＴＭ−Ｂ系
永久磁石の耐食性を向上するものとして注目されている
（特開昭６０−５４４０６号）。Ｎｉめっきは耐酸化性
樹脂と比較して表面被覆層の機械的強度に優れており、
また被覆層自体の吸湿性がほとんど無いという長所を有
している。しかしながら、耐酸化性樹脂層と異なり、Ｎ
ｉめっき被覆層表面にはピンホールが存在するという問
題点があった。そのため被覆層自身の吸湿性の有無にか
かわらず、経時変化に伴い水分がピンホールを通じてＲ
−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体に浸透し、腐食劣化を引き起こ
すという問題があった。この問題を解決するため、Ｎｉ
めっき層の上にクロム酸塩被覆層を設ける手法を本発明
者らは提案した（特願平２−２６６９７７号）。クロム
酸塩被覆層はきわめて薄いが密着性にすぐれ、非晶質で
孔がなく水にぬれにくいので、下地金属を湿気から非常
によく保護する作用を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、Ｎｉめ
っきを被覆した後にクロム酸塩層を被覆した状態のもの
では充分な接着性能を得られないことがその後判明し
た。すなわち、以上のような被覆を施したＲ−ＴＭ−Ｂ
系希土類永久磁石は他の部材と接着剤で接着して使用す
る場合が多く、当然クロム酸塩被覆層と接着剤との接着
強度が問題となる。本発明者らはＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁
石体の表面に順次Ｎｉめっき層とクロム酸塩層とを被覆
したものと他の部材とを接着した場合に充分な接着性能
が得られないことを知見した。従って、本発明の課題
は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体の表面に順次Ｎｉめっき
層とクロム酸塩層とを被覆してなり、かつ耐食性を維持
しつつ従来よりも接着性を著しく改善したＲ−ＴＭ−Ｂ
系永久磁石およびその製造方法を提供することにある。
っきを被覆した後にクロム酸塩層を被覆した状態のもの
では充分な接着性能を得られないことがその後判明し
た。すなわち、以上のような被覆を施したＲ−ＴＭ−Ｂ
系希土類永久磁石は他の部材と接着剤で接着して使用す
る場合が多く、当然クロム酸塩被覆層と接着剤との接着
強度が問題となる。本発明者らはＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁
石体の表面に順次Ｎｉめっき層とクロム酸塩層とを被覆
したものと他の部材とを接着した場合に充分な接着性能
が得られないことを知見した。従って、本発明の課題
は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体の表面に順次Ｎｉめっき
層とクロム酸塩層とを被覆してなり、かつ耐食性を維持
しつつ従来よりも接着性を著しく改善したＲ−ＴＭ−Ｂ
系永久磁石およびその製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
に取り組んだ末、十分な接着性能を得られない原因がク
ロム酸塩被覆層上に形成される有機皮膜によることを知
見した。この有機皮膜形成状態で接着剤を介して接着を
行った場合には、有機皮膜と相手材とを接着することに
なり接着性能が低下するのである。本発明者らはこの有
害な有機皮膜の除去について鋭意検討した結果、アルカ
リ溶液による浸漬処理が有効であることを知見した。本
発明はこの知見に基づきなされたものである。前記課題
を解決した本発明の接着性を改善したＲ−ＴＭ−Ｂ系永
久磁石は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含む希
土類元素の１種または２種以上であり、ＴＭはＦｅまた
はＦｅとＣｏである）の表面に順次Ｎｉめっき層とクロ
ム酸塩層とが被覆されているとともに前記クロム酸塩層
の表面の有機皮膜が除去されて接着性に富んでいるＲ−
ＴＭ−Ｂ系永久磁石であって、アクリル系接着剤を用い
た場合でＡＳＴＭ−Ｄ−１００２−６４に準拠したせん
断強度試験に基づく接着強度が６０〜２００ｋｇ／ｃｍ
２であることを特徴とする。また本発明の接着性を改善
したＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石の製造方法は、Ｒ−ＴＭ−
Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含む希土類元素の１種または
２種以上であり、ＴＭはＦｅまたはＦｅとＣｏである）
の表面にＮｉめっき層を被覆し、次いでクロム酸溶液中
に浸漬してクロム酸塩層を被覆し、次いでアルカリ溶液
中に浸漬する処理を行い、次いで水洗し、乾燥すること
を特徴とする。本発明のＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石は、ア
ルカリ溶液の洗浄作用を用いてクロム酸塩層上に形成さ
れた有機皮膜を分解・除去することにより接着性能を向
上したものである。そして、後述の実施例に示すように
アルカリ溶液中での浸漬処理を行ったものはこの浸漬処
理を行わない場合に比べて２倍以上の接着強度を得るこ
とができる。接着強度の弱いタイプのアクリル系接着剤
であってもＡＳＴＭ−Ｄ−１００２によるせん断強度試
験で６０ｋｇ／ｃｍ２以上の接着強度を得ることができ
た。本発明におけるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹ
を含む希土類元素の1種または２種以上であり、ＴＭは
ＦｅまたはＦｅとＣｏである）のＦｅの一部をＣｏで置
換することができ、さらに添加目的に応じてＧａ，Ａ
ｌ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｇｅ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ｎｉ他を添加できる。
本発明にはいかなるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体でも用い
ることができる。またその製造方法は焼結法、溶湯急冷
法あるいはそれらの変形法等のいずれでもよい。次に、
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体へのＮｉめっき層、クロム酸
塩層およびアルカリ溶液による表面処理層の形成方法に
ついて説明する。まず、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体を有
機溶剤により脱脂した後にＮｉめっきを施す。電解Ｎｉ
めっきの場合電流密度は１〜２Ａ／ｄｍ２がよく、Ｎｉ
めっき層の厚さは５〜２０μｍが好ましい。Ｎｉめっき
の前処理には加工変質層の除去およびめっき前活性化を
図る上で酸性溶液を用いるのがよい。硫酸や塩酸等の強
酸がめっき前活性化にとって有効であるが、めっき前処
理によりＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体が劣化するのを極力
避けるために、２〜１０ｖｏｌ％の硝酸による第１エッ
チング、その後過酸化水素５〜１０ｖｏｌ％および酢酸
１０〜３０ｖｏｌ％の混酸による第２エッチングを行う
ことが最も望ましい。次いでＮｉめっき処理を行う。Ｎ
ｉめっきの種類としては例えばワット浴、スルファミン
酸浴、アンモン浴のいずれでもよいが、光沢めっきが好
ましい。無光沢めっきは柱状晶結晶を有する分好ましく
ないが、密着性がよくかつ応力も少ないことから多層め
っきの下地としては有効である。次いでクロム酸塩被覆
処理を行う。Ｎｉめっき処理後に水洗し、次いでクロム
酸溶液中に浸漬する処理を行う。クロム酸溶液温度は２
０〜８０℃がよく、浸漬時間は１〜１０分がよい。クロ
ム酸溶液の種類として酸性度の高い無水クロム酸あるい
は重クロム酸を用いるのがよく、浸漬処理の活性化を図
る上でＣｒ濃度は０．０１ｍｏｌ／ｌ以上にするのが望
ましい。最後にアルカリ溶液中に浸漬する処理を行う。
クロム酸塩被覆処理後に水洗し、次いでアルカリ溶液中
に浸漬する処理を行う。アルカリ溶液の種類としては潮
解性を有する水酸化ナトリウム溶液または水酸化カリウ
ム溶液を用いるのがよい。アルカリ溶液の洗浄効果を十
分に得るためにアルカリ溶液濃度は３重量％以上にする
のがよい。またアルカリ溶液温度は２０〜８０℃が望ま
しく、浸漬時間は１〜１０分が望ましい。浸漬処理終了
後水洗し、次いで乾燥する。乾燥温度は２０〜１２０℃
がよい。過度の加熱はクロム酸塩皮膜の耐食性劣化をも
たらすため乾燥温度は１２０℃をこえてはならない。
に取り組んだ末、十分な接着性能を得られない原因がク
ロム酸塩被覆層上に形成される有機皮膜によることを知
見した。この有機皮膜形成状態で接着剤を介して接着を
行った場合には、有機皮膜と相手材とを接着することに
なり接着性能が低下するのである。本発明者らはこの有
害な有機皮膜の除去について鋭意検討した結果、アルカ
リ溶液による浸漬処理が有効であることを知見した。本
発明はこの知見に基づきなされたものである。前記課題
を解決した本発明の接着性を改善したＲ−ＴＭ−Ｂ系永
久磁石は、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含む希
土類元素の１種または２種以上であり、ＴＭはＦｅまた
はＦｅとＣｏである）の表面に順次Ｎｉめっき層とクロ
ム酸塩層とが被覆されているとともに前記クロム酸塩層
の表面の有機皮膜が除去されて接着性に富んでいるＲ−
ＴＭ−Ｂ系永久磁石であって、アクリル系接着剤を用い
た場合でＡＳＴＭ−Ｄ−１００２−６４に準拠したせん
断強度試験に基づく接着強度が６０〜２００ｋｇ／ｃｍ
２であることを特徴とする。また本発明の接着性を改善
したＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石の製造方法は、Ｒ−ＴＭ−
Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含む希土類元素の１種または
２種以上であり、ＴＭはＦｅまたはＦｅとＣｏである）
の表面にＮｉめっき層を被覆し、次いでクロム酸溶液中
に浸漬してクロム酸塩層を被覆し、次いでアルカリ溶液
中に浸漬する処理を行い、次いで水洗し、乾燥すること
を特徴とする。本発明のＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石は、ア
ルカリ溶液の洗浄作用を用いてクロム酸塩層上に形成さ
れた有機皮膜を分解・除去することにより接着性能を向
上したものである。そして、後述の実施例に示すように
アルカリ溶液中での浸漬処理を行ったものはこの浸漬処
理を行わない場合に比べて２倍以上の接着強度を得るこ
とができる。接着強度の弱いタイプのアクリル系接着剤
であってもＡＳＴＭ−Ｄ−１００２によるせん断強度試
験で６０ｋｇ／ｃｍ２以上の接着強度を得ることができ
た。本発明におけるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹ
を含む希土類元素の1種または２種以上であり、ＴＭは
ＦｅまたはＦｅとＣｏである）のＦｅの一部をＣｏで置
換することができ、さらに添加目的に応じてＧａ，Ａ
ｌ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ，Ｔａ，
Ｍｏ，Ｇｅ，Ｓｂ，Ｓｎ，Ｂｉ，Ｎｉ他を添加できる。
本発明にはいかなるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体でも用い
ることができる。またその製造方法は焼結法、溶湯急冷
法あるいはそれらの変形法等のいずれでもよい。次に、
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体へのＮｉめっき層、クロム酸
塩層およびアルカリ溶液による表面処理層の形成方法に
ついて説明する。まず、Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体を有
機溶剤により脱脂した後にＮｉめっきを施す。電解Ｎｉ
めっきの場合電流密度は１〜２Ａ／ｄｍ２がよく、Ｎｉ
めっき層の厚さは５〜２０μｍが好ましい。Ｎｉめっき
の前処理には加工変質層の除去およびめっき前活性化を
図る上で酸性溶液を用いるのがよい。硫酸や塩酸等の強
酸がめっき前活性化にとって有効であるが、めっき前処
理によりＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体が劣化するのを極力
避けるために、２〜１０ｖｏｌ％の硝酸による第１エッ
チング、その後過酸化水素５〜１０ｖｏｌ％および酢酸
１０〜３０ｖｏｌ％の混酸による第２エッチングを行う
ことが最も望ましい。次いでＮｉめっき処理を行う。Ｎ
ｉめっきの種類としては例えばワット浴、スルファミン
酸浴、アンモン浴のいずれでもよいが、光沢めっきが好
ましい。無光沢めっきは柱状晶結晶を有する分好ましく
ないが、密着性がよくかつ応力も少ないことから多層め
っきの下地としては有効である。次いでクロム酸塩被覆
処理を行う。Ｎｉめっき処理後に水洗し、次いでクロム
酸溶液中に浸漬する処理を行う。クロム酸溶液温度は２
０〜８０℃がよく、浸漬時間は１〜１０分がよい。クロ
ム酸溶液の種類として酸性度の高い無水クロム酸あるい
は重クロム酸を用いるのがよく、浸漬処理の活性化を図
る上でＣｒ濃度は０．０１ｍｏｌ／ｌ以上にするのが望
ましい。最後にアルカリ溶液中に浸漬する処理を行う。
クロム酸塩被覆処理後に水洗し、次いでアルカリ溶液中
に浸漬する処理を行う。アルカリ溶液の種類としては潮
解性を有する水酸化ナトリウム溶液または水酸化カリウ
ム溶液を用いるのがよい。アルカリ溶液の洗浄効果を十
分に得るためにアルカリ溶液濃度は３重量％以上にする
のがよい。またアルカリ溶液温度は２０〜８０℃が望ま
しく、浸漬時間は１〜１０分が望ましい。浸漬処理終了
後水洗し、次いで乾燥する。乾燥温度は２０〜１２０℃
がよい。過度の加熱はクロム酸塩皮膜の耐食性劣化をも
たらすため乾燥温度は１２０℃をこえてはならない。
【０００５】
【実施例】Ｎｄ（Ｆｅ０．７Ｃｏ０．２Ｂ０．０７Ｇａ
０．０３）６．５なる組成の合金をアーク溶解にて作製
し、得られたインゴットをスタンプミルおよびディスク
ミルで粗粉砕した。その後、Ｎ２ガスを粉砕媒体として
ジェットミルで微粉砕を行い、粉砕粒度３．５μｍ（Ｆ
ＳＳＳ）の微粉を得た。得られた原料微粉を１５ｋＯｅ
の磁場中で横磁場成形した。成形圧力は２Ｔｏｎ／ｃｍ
２であった。本成形体を真空中で１０９０℃×２時間焼
結した。焼結体を１８×１０×６ｍｍ寸法に切り出し、
次いで９００℃のアルゴン雰囲気中に２時間加熱保持し
た後に急冷し、さらに６００℃のアルゴン雰囲気中で１
時間保持した。こうして得られた試料について、めっき
前処理として５ｖｏｌ％の硝酸による第１エッチング、
その後過酸化水素１０ｖｏｌ％、酢酸２５ｖｏｌ％の混
酸による第２エッチングを行った。その後、下記実施
例、比較例に示す作業条件で各種表面処理を施した。
０．０３）６．５なる組成の合金をアーク溶解にて作製
し、得られたインゴットをスタンプミルおよびディスク
ミルで粗粉砕した。その後、Ｎ２ガスを粉砕媒体として
ジェットミルで微粉砕を行い、粉砕粒度３．５μｍ（Ｆ
ＳＳＳ）の微粉を得た。得られた原料微粉を１５ｋＯｅ
の磁場中で横磁場成形した。成形圧力は２Ｔｏｎ／ｃｍ
２であった。本成形体を真空中で１０９０℃×２時間焼
結した。焼結体を１８×１０×６ｍｍ寸法に切り出し、
次いで９００℃のアルゴン雰囲気中に２時間加熱保持し
た後に急冷し、さらに６００℃のアルゴン雰囲気中で１
時間保持した。こうして得られた試料について、めっき
前処理として５ｖｏｌ％の硝酸による第１エッチング、
その後過酸化水素１０ｖｏｌ％、酢酸２５ｖｏｌ％の混
酸による第２エッチングを行った。その後、下記実施
例、比較例に示す作業条件で各種表面処理を施した。
【０００６】（実施例１） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。次いでＮａＯＨ濃度が５０ｇ／ｌ
の２０℃の溶液中で１分間浸漬後、水洗した。その後１
００℃で５分間乾燥した。 （実施例２） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。次いで、ＫＯＨ濃度が５０ｇ／ｌ
の２０℃の溶液中で１分間浸漬後、水洗した。その後１
００℃で５分間乾燥した。 （実施例３） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、 Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ濃度が１５ｇ／ｌの
５０℃の溶液中で５分間浸漬後、水洗した。次いでＮａ
ＯＨ濃度が５０ｇ／ｌの２０℃の溶液中で１分間浸漬
後、水洗した。その後１００℃で５分間乾燥した。 （比較例１） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。その後１００℃で５分間乾燥し
た。 （比較例２） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、 Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ濃度が１５ｇ／ｌの
５０℃の溶液中で５分間浸漬後、水洗した。その後１０
０℃で５分間乾燥した。
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。次いでＮａＯＨ濃度が５０ｇ／ｌ
の２０℃の溶液中で１分間浸漬後、水洗した。その後１
００℃で５分間乾燥した。 （実施例２） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。次いで、ＫＯＨ濃度が５０ｇ／ｌ
の２０℃の溶液中で１分間浸漬後、水洗した。その後１
００℃で５分間乾燥した。 （実施例３） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、 Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ濃度が１５ｇ／ｌの
５０℃の溶液中で５分間浸漬後、水洗した。次いでＮａ
ＯＨ濃度が５０ｇ／ｌの２０℃の溶液中で１分間浸漬
後、水洗した。その後１００℃で５分間乾燥した。 （比較例１） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、ＣｒＯ３濃度が１０ｇ／ｌの５０℃の溶液中で５分
間浸漬後、水洗した。その後１００℃で５分間乾燥し
た。 （比較例２） 光沢ワット浴によるＮｉめっき処理後に水洗した。次
に、 Ｎａ２Ｃｒ２Ｏ７・２Ｈ２Ｏ濃度が１５ｇ／ｌの
５０℃の溶液中で５分間浸漬後、水洗した。その後１０
０℃で５分間乾燥した。
【０００７】実施例１〜３、比較例１、２で得られた各
試料のＮｉめっき層の膜厚は１０μｍであった。実施例
１〜３、比較例１、２で得られた各試料に対し、８０
℃、９０％ＲＨでの５００時間の耐食性試験およびＡＳ
ＴＭ−Ｄ−１００２−６４に準拠したせん断強度試験方
法に基づく接着性試験を行った。接着性試験に際して、
接着剤としてアクリル系嫌気性接着剤である日本ロック
タイト（株）製の３２６ＵＶ（以下接着剤Ａという）お
よび電気化学（株）のハードロック（以下接着剤Ｂとい
う）を使用し、硬化条件は常温での２４時間放置とし
た。また、相手材はＡＳＴＭ−Ｄ−１００２（鋼板）を
用い、貼合せ長さは１２．５ｍｍとした。さらに、測定
時における引張速度は５ｍｍ／分とした。結果を表１に
示す。表１で、試料番号１〜３は各々実施例１〜３の処
理のものと相手材とを接着剤Ａで接着した場合、試料番
号４〜５は各々比較例１、２の処理のものと相手材とを
接着剤Ａで接着した場合、試料番号６〜８は各々実施例
１〜３の処理のものと相手材とを接着剤Ｂで接着した場
合、試料番号９、１０は各々比較例１、２の処理のもの
と相手材とを接着剤Ｂで接着した場合に対応する。耐食
性は８０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れて５００時
間経過後の試料の外観変化を目視で観察した。実施例１
〜３、比較例１、２のいずれも変化はなかった。次に、
表１の接着性試験結果は前記破壊せん断強度の測定値を
示したものである。表１より、試料番号１〜３の接着強
度（破壊せん断強度）が試料番号４、５に比べて大幅に
改善されていることがわかる。また、試料番号６〜８の
接着強度（破壊せん断強度）が試料番号９、１０に比べ
て大幅に改善されていることがわかる。したがって、本
発明のＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石は良好な耐食性を維持し
つつ従来に比べて接着性を著しく向上したものであるこ
とがわかる。
試料のＮｉめっき層の膜厚は１０μｍであった。実施例
１〜３、比較例１、２で得られた各試料に対し、８０
℃、９０％ＲＨでの５００時間の耐食性試験およびＡＳ
ＴＭ−Ｄ−１００２−６４に準拠したせん断強度試験方
法に基づく接着性試験を行った。接着性試験に際して、
接着剤としてアクリル系嫌気性接着剤である日本ロック
タイト（株）製の３２６ＵＶ（以下接着剤Ａという）お
よび電気化学（株）のハードロック（以下接着剤Ｂとい
う）を使用し、硬化条件は常温での２４時間放置とし
た。また、相手材はＡＳＴＭ−Ｄ−１００２（鋼板）を
用い、貼合せ長さは１２．５ｍｍとした。さらに、測定
時における引張速度は５ｍｍ／分とした。結果を表１に
示す。表１で、試料番号１〜３は各々実施例１〜３の処
理のものと相手材とを接着剤Ａで接着した場合、試料番
号４〜５は各々比較例１、２の処理のものと相手材とを
接着剤Ａで接着した場合、試料番号６〜８は各々実施例
１〜３の処理のものと相手材とを接着剤Ｂで接着した場
合、試料番号９、１０は各々比較例１、２の処理のもの
と相手材とを接着剤Ｂで接着した場合に対応する。耐食
性は８０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れて５００時
間経過後の試料の外観変化を目視で観察した。実施例１
〜３、比較例１、２のいずれも変化はなかった。次に、
表１の接着性試験結果は前記破壊せん断強度の測定値を
示したものである。表１より、試料番号１〜３の接着強
度（破壊せん断強度）が試料番号４、５に比べて大幅に
改善されていることがわかる。また、試料番号６〜８の
接着強度（破壊せん断強度）が試料番号９、１０に比べ
て大幅に改善されていることがわかる。したがって、本
発明のＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石は良好な耐食性を維持し
つつ従来に比べて接着性を著しく向上したものであるこ
とがわかる。
【０００８】
【表１】
【０００９】
【発明の効果】以上記述の通り、本発明によれば、Ｒ−
ＴＭ−Ｂ系永久磁石体の表面に順次Ｎｉめっき層とクロ
ム酸塩層とを被覆しているとともにそのクロム酸塩被覆
層の表面が接着性に富んでいるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石
およびその製造方法を提供することができる。
ＴＭ−Ｂ系永久磁石体の表面に順次Ｎｉめっき層とクロ
ム酸塩層とを被覆しているとともにそのクロム酸塩被覆
層の表面が接着性に富んでいるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石
およびその製造方法を提供することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含
む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴＭはＦｅ
またはＦｅとＣｏである）の表面に順次Ｎｉめっき層と
クロム酸塩層とが被覆されているとともに前記クロム酸
塩層の表面の有機皮膜が除去されて接着性に富んでいる
Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石であって、アクリル系接着剤を
用いた場合でＡＳＴＭ−Ｄ−１００２−６４に準拠した
せん断強度試験に基づく接着強度が６０〜２００ｋｇ／
ｃｍ２であることを特徴とする接着性を改善したＲ−Ｔ
Ｍ−Ｂ系永久磁石。 - 【請求項２】 Ｒ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石体（ＲはＹを含
む希土類元素の１種または２種以上であり、ＴＭはＦｅ
またはＦｅとＣｏである）の表面にＮｉめっき層を被覆
し、次いでクロム酸溶液中に浸漬してクロム酸塩層を被
覆し、次いでアルカリ溶液中に浸漬する処理を行い、次
いで水洗し、乾燥することを特徴とする接着性を改善し
たＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04140850A JP3142172B2 (ja) | 1991-06-03 | 1992-06-02 | 接着性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3-131040 | 1991-06-03 | ||
| JP13104091 | 1991-06-03 | ||
| JP04140850A JP3142172B2 (ja) | 1991-06-03 | 1992-06-02 | 接着性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05198414A JPH05198414A (ja) | 1993-08-06 |
| JP3142172B2 true JP3142172B2 (ja) | 2001-03-07 |
Family
ID=26465993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04140850A Expired - Fee Related JP3142172B2 (ja) | 1991-06-03 | 1992-06-02 | 接着性を改善したｒ−ｔｍ−ｂ系永久磁石およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3142172B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9905345B2 (en) | 2015-09-21 | 2018-02-27 | Apple Inc. | Magnet electroplating |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4539179B2 (ja) * | 2004-06-04 | 2010-09-08 | 日立金属株式会社 | 物品の表面に形成したニッケルめっき被膜の濡れ性を改善する方法 |
| JP5708123B2 (ja) | 2011-03-25 | 2015-04-30 | Tdk株式会社 | 磁石部材 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63110707A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-16 | Hitachi Metals Ltd | 永久磁石 |
-
1992
- 1992-06-02 JP JP04140850A patent/JP3142172B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9905345B2 (en) | 2015-09-21 | 2018-02-27 | Apple Inc. | Magnet electroplating |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05198414A (ja) | 1993-08-06 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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