JPH04276603A - 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 - Google Patents
耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石Info
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- JPH04276603A JPH04276603A JP3062560A JP6256091A JPH04276603A JP H04276603 A JPH04276603 A JP H04276603A JP 3062560 A JP3062560 A JP 3062560A JP 6256091 A JP6256091 A JP 6256091A JP H04276603 A JPH04276603 A JP H04276603A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Hard Magnetic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、R−TM−B系永久磁
石であって、磁石体表面に被覆されたNiめっき層の上
に、更にクロム酸塩被覆層を設けることで耐食性を著し
く改善したものに関する。
石であって、磁石体表面に被覆されたNiめっき層の上
に、更にクロム酸塩被覆層を設けることで耐食性を著し
く改善したものに関する。
【0002】
【従来の技術】電気・電子機器の高性能・小型化に伴な
って、その一部品たる永久磁石にも同様の要求が強まっ
てきた。すなわち以前の最強の永久磁石は希土類・コバ
ルト(R−Co)系であったが、近年、より強力なR−
TM−B系永久磁石が台頭してきた(特開昭59−46
008号)。ここにRはYを含む希土類元素の1種又は
2種類以上の組合せであり、TMはFe,Co等の遷移
金属中心として、一部を他の金属元素又は非金属元素で
置換したもの、Bは硼素である。しかし、R−TM−B
系永久磁石は極めて錆やすいという問題点があった。そ
のため、耐食性を改善するために、永久磁石体表面に耐
酸化性の被覆層を設ける手段がとられてきた。被覆層の
種類としては、Niめっき、耐酸化性樹脂、Alイオン
プレーティング等が提案されており、とりわけNiめっ
きは簡易な処理でR−TM−B系永久磁石の耐食性を向
上するものとして注目されている(特開昭60−544
06号)。Niめっきは、耐酸化性樹脂と比較して表面
被覆層の機械的強度に優れており、また被覆層自体の吸
湿性がほとんどないという長所を有している。しかしな
がら、耐酸化性樹脂層と異なり、Niめっき被覆層表面
にはピンホールが存在するという問題点があった。その
ため被覆層自身の吸湿性の有無にかかわらず、経時変化
に伴い水分がピンホールを通じて磁石体に浸透し、腐食
劣化を引き起こすという問題があった。この問題を解決
するため、現在までにNiめっき層の上に更にNiめっ
きを施す2層めっきや、耐酸化性樹脂の被覆によるピン
ホールの埋め込み等の手法が提案されている(特開昭6
3−110707号)。
って、その一部品たる永久磁石にも同様の要求が強まっ
てきた。すなわち以前の最強の永久磁石は希土類・コバ
ルト(R−Co)系であったが、近年、より強力なR−
TM−B系永久磁石が台頭してきた(特開昭59−46
008号)。ここにRはYを含む希土類元素の1種又は
2種類以上の組合せであり、TMはFe,Co等の遷移
金属中心として、一部を他の金属元素又は非金属元素で
置換したもの、Bは硼素である。しかし、R−TM−B
系永久磁石は極めて錆やすいという問題点があった。そ
のため、耐食性を改善するために、永久磁石体表面に耐
酸化性の被覆層を設ける手段がとられてきた。被覆層の
種類としては、Niめっき、耐酸化性樹脂、Alイオン
プレーティング等が提案されており、とりわけNiめっ
きは簡易な処理でR−TM−B系永久磁石の耐食性を向
上するものとして注目されている(特開昭60−544
06号)。Niめっきは、耐酸化性樹脂と比較して表面
被覆層の機械的強度に優れており、また被覆層自体の吸
湿性がほとんどないという長所を有している。しかしな
がら、耐酸化性樹脂層と異なり、Niめっき被覆層表面
にはピンホールが存在するという問題点があった。その
ため被覆層自身の吸湿性の有無にかかわらず、経時変化
に伴い水分がピンホールを通じて磁石体に浸透し、腐食
劣化を引き起こすという問題があった。この問題を解決
するため、現在までにNiめっき層の上に更にNiめっ
きを施す2層めっきや、耐酸化性樹脂の被覆によるピン
ホールの埋め込み等の手法が提案されている(特開昭6
3−110707号)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、2層め
っきや耐酸化性樹脂の被覆による手法は、下層Niめっ
き層と上層Niめっき層あるいは耐酸化性樹脂層との密
着性ならびに上層Niめっき層あるいは耐酸化性樹脂層
自身の耐食性に関する問題点を有していた。そのため、
上記手法では十分な耐食性改善を図ることができず問題
となっていた。そこで、本発明の目的は、信頼性の高い
耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石を提供するこ
とにある。
っきや耐酸化性樹脂の被覆による手法は、下層Niめっ
き層と上層Niめっき層あるいは耐酸化性樹脂層との密
着性ならびに上層Niめっき層あるいは耐酸化性樹脂層
自身の耐食性に関する問題点を有していた。そのため、
上記手法では十分な耐食性改善を図ることができず問題
となっていた。そこで、本発明の目的は、信頼性の高い
耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石を提供するこ
とにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、重量比でR(
ここでRは、Yを含む希土類元素の1種又は2種類以上
の組合せ)5〜40%、TM(ここでTMはFeを主体
とする遷移金属であって一部を他の金属元素又は非金属
元素で置換してもよい。)50〜90%、B(硼素)0
.2〜8%からなるR−TM−B系永久磁石の表面に、
Niめっき層を設け、更にその上に強い揆水性を有する
クロム酸塩被膜層を設けたことを特徴とする耐食性を改
善したR−TM−B系永久磁石である。一般鋼材に施さ
れたZnめっきやCdめっきの後処理、またZnダイカ
スト,Al,Mgなどの防食に利用されているクロム酸
塩処理は、現在一般市販品に広く普及している化成処理
方法である。この手法によると、Niめっき被膜表面に
クロム酸溶液を作用させることにより、不溶性の3価C
rの酸化物と酸化作用のある6価Crの塩から成る複合
被膜が形成される。この被膜は非晶質で孔が無く強い揆
水性を有しており、下地金属を湿気から非常によく保護
するものと考えられる。本発明は、上記クロム酸塩被膜
の有する揆水性により、R−TM−B系永久磁石の耐食
性を向上するものである。本発明において、Fe,Co
,Ni等のTMの一部を置換する元素は、その添加目的
に応じて、Ga,Al,Ti,V,Cr,Mn,Zr,
Hf,Nb,Ta,Mo,Ge,Sb,Sn,Bi,N
i他を添加でき、本発明はいかなるR−TM−B系磁石
にも適用できる。また、その製造方法は焼結法、溶湯急
冷法、あるいはそれらの変形法のいずれの方法でもよい
。製造方法としては、有機溶剤による脱脂の後にめっき
を施す。電流密度は1〜2A/dm2が良くめっき層の
厚さは5〜20μmが好ましい。めっき前処理に関して
は、加工変質層の除去及びめっき前活性化を図る上で、
酸性溶液を用いるのが良い。硫酸や塩酸等の強酸がめっ
き前活性化にとって有効であるが、めっき前処理の材質
への影響を極力避けるためには、2〜10vol%の硝
酸によル第1エッチング、その後過酸化水素5〜10v
ol%、酢酸10〜30vol%の混酸による第2エッ
チングが最も望ましい。次いでNiめっき処理を行なう
。Niめっきの種類としてはワット浴、スルファミン酸
浴、アンモン浴いずれでもよいが光沢めっきが良い。無
光沢めっきは柱状晶組織を有する為、好ましくない。た
だし密着性が良く、応力も少ないことから、多層めっき
の下地としては有効である。最後に、クロム酸塩処理を
行なう。Niめっき処理後の水洗の後に、クロム酸溶液
中で浸漬処理を行う。クロム酸塩温度は20〜80℃が
良く、浸漬時間は1〜10分が良い。クロム酸溶液の種
類としては、酸性度の高い無水クロム酸、あるいは重ク
ロム酸を用いるのが良く。Cr濃度は0.01mol/
l以上が良い。酸性度の低いクロム酸を用いたクロム酸
を用いたクロム酸塩処理では、揆水性をもたないクロム
酸塩被膜が形成されるため好ましくない。また、浸漬処
理の活性化を図る上でも、クロム酸溶液の種類としては
酸性度の高いクロム酸を用いるのが好ましい。更に述べ
ると、クロム酸溶液を用いる硫酸、塩酸、硝酸等の強酸
を除いたクロム酸溶液を用いるのが望ましい。本発明の
クロム酸塩処理におけるクロム酸溶液中の強酸の含有は
、クロム酸溶液の過度の活性化をもたらすため、被膜質
であるNiの溶解を引き起こし、クロム酸塩被膜の密着
性に対し好ましくない。また、強酸がNiめっき上のピ
ンホールを通じて磁石体に浸透した場合には、磁石体に
腐食を発生させる可能性があるため、浸漬処理には強酸
を除いたクロム酸溶液を用いるのが望ましい。浸漬処理
終了後水洗し、乾燥を行なう。乾燥温度は20〜120
度が良い。過度の加熱はクロム酸塩被膜の耐食性劣化を
もたらすため乾燥温度は120度をこえてはならない。
ここでRは、Yを含む希土類元素の1種又は2種類以上
の組合せ)5〜40%、TM(ここでTMはFeを主体
とする遷移金属であって一部を他の金属元素又は非金属
元素で置換してもよい。)50〜90%、B(硼素)0
.2〜8%からなるR−TM−B系永久磁石の表面に、
Niめっき層を設け、更にその上に強い揆水性を有する
クロム酸塩被膜層を設けたことを特徴とする耐食性を改
善したR−TM−B系永久磁石である。一般鋼材に施さ
れたZnめっきやCdめっきの後処理、またZnダイカ
スト,Al,Mgなどの防食に利用されているクロム酸
塩処理は、現在一般市販品に広く普及している化成処理
方法である。この手法によると、Niめっき被膜表面に
クロム酸溶液を作用させることにより、不溶性の3価C
rの酸化物と酸化作用のある6価Crの塩から成る複合
被膜が形成される。この被膜は非晶質で孔が無く強い揆
水性を有しており、下地金属を湿気から非常によく保護
するものと考えられる。本発明は、上記クロム酸塩被膜
の有する揆水性により、R−TM−B系永久磁石の耐食
性を向上するものである。本発明において、Fe,Co
,Ni等のTMの一部を置換する元素は、その添加目的
に応じて、Ga,Al,Ti,V,Cr,Mn,Zr,
Hf,Nb,Ta,Mo,Ge,Sb,Sn,Bi,N
i他を添加でき、本発明はいかなるR−TM−B系磁石
にも適用できる。また、その製造方法は焼結法、溶湯急
冷法、あるいはそれらの変形法のいずれの方法でもよい
。製造方法としては、有機溶剤による脱脂の後にめっき
を施す。電流密度は1〜2A/dm2が良くめっき層の
厚さは5〜20μmが好ましい。めっき前処理に関して
は、加工変質層の除去及びめっき前活性化を図る上で、
酸性溶液を用いるのが良い。硫酸や塩酸等の強酸がめっ
き前活性化にとって有効であるが、めっき前処理の材質
への影響を極力避けるためには、2〜10vol%の硝
酸によル第1エッチング、その後過酸化水素5〜10v
ol%、酢酸10〜30vol%の混酸による第2エッ
チングが最も望ましい。次いでNiめっき処理を行なう
。Niめっきの種類としてはワット浴、スルファミン酸
浴、アンモン浴いずれでもよいが光沢めっきが良い。無
光沢めっきは柱状晶組織を有する為、好ましくない。た
だし密着性が良く、応力も少ないことから、多層めっき
の下地としては有効である。最後に、クロム酸塩処理を
行なう。Niめっき処理後の水洗の後に、クロム酸溶液
中で浸漬処理を行う。クロム酸塩温度は20〜80℃が
良く、浸漬時間は1〜10分が良い。クロム酸溶液の種
類としては、酸性度の高い無水クロム酸、あるいは重ク
ロム酸を用いるのが良く。Cr濃度は0.01mol/
l以上が良い。酸性度の低いクロム酸を用いたクロム酸
を用いたクロム酸塩処理では、揆水性をもたないクロム
酸塩被膜が形成されるため好ましくない。また、浸漬処
理の活性化を図る上でも、クロム酸溶液の種類としては
酸性度の高いクロム酸を用いるのが好ましい。更に述べ
ると、クロム酸溶液を用いる硫酸、塩酸、硝酸等の強酸
を除いたクロム酸溶液を用いるのが望ましい。本発明の
クロム酸塩処理におけるクロム酸溶液中の強酸の含有は
、クロム酸溶液の過度の活性化をもたらすため、被膜質
であるNiの溶解を引き起こし、クロム酸塩被膜の密着
性に対し好ましくない。また、強酸がNiめっき上のピ
ンホールを通じて磁石体に浸透した場合には、磁石体に
腐食を発生させる可能性があるため、浸漬処理には強酸
を除いたクロム酸溶液を用いるのが望ましい。浸漬処理
終了後水洗し、乾燥を行なう。乾燥温度は20〜120
度が良い。過度の加熱はクロム酸塩被膜の耐食性劣化を
もたらすため乾燥温度は120度をこえてはならない。
【0005】
【実施例】Nd(Fe0.7Co0.2B0.07Ga
0.03)6.5なる組成の合金をアーク溶解にて作製
し、得られたインゴットをスタンプミル及びディスクミ
ルで粗粉砕した。 その後、N2ガスを粉砕媒体としてジェットミルで微粉
砕を行い、粉砕粒度3.5μm(FSSS)の微粉砕を
得た。得られた原料粉を15KOeの磁場中で横磁場成
形した。成形圧力は2Ton/cm2であった。本成形
体を真空中で1090℃×2時間焼結した。焼結体を1
8×10×6mm寸法に切り出し、次いで900℃のア
ルゴン雰囲気中に2時間加熱保持した後に急冷し温度を
600℃に保持したアルゴン雰囲気中で1時間保持した
。こうして得られた試料について、めっき前処理として
5vol%の硝酸による第1エッチング、その後過酸化
水素10vol%、酢酸25vol%の混酸による第2
エッチングを行なった。その後、表1に示す作業条件で
、各種表面処理を施した。
0.03)6.5なる組成の合金をアーク溶解にて作製
し、得られたインゴットをスタンプミル及びディスクミ
ルで粗粉砕した。 その後、N2ガスを粉砕媒体としてジェットミルで微粉
砕を行い、粉砕粒度3.5μm(FSSS)の微粉砕を
得た。得られた原料粉を15KOeの磁場中で横磁場成
形した。成形圧力は2Ton/cm2であった。本成形
体を真空中で1090℃×2時間焼結した。焼結体を1
8×10×6mm寸法に切り出し、次いで900℃のア
ルゴン雰囲気中に2時間加熱保持した後に急冷し温度を
600℃に保持したアルゴン雰囲気中で1時間保持した
。こうして得られた試料について、めっき前処理として
5vol%の硝酸による第1エッチング、その後過酸化
水素10vol%、酢酸25vol%の混酸による第2
エッチングを行なった。その後、表1に示す作業条件で
、各種表面処理を施した。
【0006】
【表1】
なお、表1に記載した試料のNiめっき層の膜厚は
、すべて10μmであった。表1に示した試料に関して
、80℃90%RHでの500時間の耐食試験及び35
℃5%NaClでの100時間の塩水噴霧試験を行なっ
た。結果を表2に示す。
、すべて10μmであった。表1に示した試料に関して
、80℃90%RHでの500時間の耐食試験及び35
℃5%NaClでの100時間の塩水噴霧試験を行なっ
た。結果を表2に示す。
【0007】
【表2】
表2において、耐食試験結果は試料の外観変化を、
塩水噴霧試験結果は赤錆発生時間を示したものである。 表2より、本発明による永久磁石は、従来の磁石と比較
して、耐食性を著しく向上し得ることがわかる。
塩水噴霧試験結果は赤錆発生時間を示したものである。 表2より、本発明による永久磁石は、従来の磁石と比較
して、耐食性を著しく向上し得ることがわかる。
【0008】
【発明の効果】本発明により、希土類と鉄を主体とした
磁石において、従来のめっきでは不十分であった耐食性
の顕著な向上が図られた。
磁石において、従来のめっきでは不十分であった耐食性
の顕著な向上が図られた。
Claims (1)
- 【請求項1】 重量比でR(ここでRは、Yを含む希
土類元素の1種又は2種類以上の組合せ)5〜40%、
TM(ここでTMはFeを主体とする遷移金属)50〜
90%、B(硼素)0.2〜8%からなるR−TM−B
系永久磁石の表面に、Niめっき層を設け、更にその上
に強い揆水性を有するクロム酸塩被膜層を設けたことを
特徴とする耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3062560A JPH04276603A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3062560A JPH04276603A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04276603A true JPH04276603A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=13203787
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3062560A Pending JPH04276603A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04276603A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9905345B2 (en) | 2015-09-21 | 2018-02-27 | Apple Inc. | Magnet electroplating |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP3062560A patent/JPH04276603A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9905345B2 (en) | 2015-09-21 | 2018-02-27 | Apple Inc. | Magnet electroplating |
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