JPH05226125A - 高耐食性希土類磁石の製造方法 - Google Patents
高耐食性希土類磁石の製造方法Info
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- JPH05226125A JPH05226125A JP4061449A JP6144992A JPH05226125A JP H05226125 A JPH05226125 A JP H05226125A JP 4061449 A JP4061449 A JP 4061449A JP 6144992 A JP6144992 A JP 6144992A JP H05226125 A JPH05226125 A JP H05226125A
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- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施したＲＥ−Ｂ
−Ｆｅ系焼結希土類磁石またはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加
工希土類磁石（ＲＥは希土類元素の１種以上、ＴＭは遷
移元素の１種以上を表わす）を、６００℃以上８００℃
未満の温度において真空加熱する。 【効果】 ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施した希土類磁
石を真空加熱することにより、磁石及びめっき層への水
素の吸蔵及び磁石の水素脆化を防止して、高耐食性及び
高レベルの磁気特性を長期間にわたって維持し得るよう
になった。
−Ｆｅ系焼結希土類磁石またはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加
工希土類磁石（ＲＥは希土類元素の１種以上、ＴＭは遷
移元素の１種以上を表わす）を、６００℃以上８００℃
未満の温度において真空加熱する。 【効果】 ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施した希土類磁
石を真空加熱することにより、磁石及びめっき層への水
素の吸蔵及び磁石の水素脆化を防止して、高耐食性及び
高レベルの磁気特性を長期間にわたって維持し得るよう
になった。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は耐食性に優れた希土類磁
石を簡単な工程で生産性よく製造する方法に関し、詳細
には電解もしくは無電解ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施
した希土類磁石を真空加熱することにより、耐食性を高
めて優れた磁気特性を長期間維持できるようにした高耐
食性希土類磁石の製造方法に関するものである。
石を簡単な工程で生産性よく製造する方法に関し、詳細
には電解もしくは無電解ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施
した希土類磁石を真空加熱することにより、耐食性を高
めて優れた磁気特性を長期間維持できるようにした高耐
食性希土類磁石の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】磁石合金は、大型コンピューターの周辺
機器から一般家庭用の各種電気製品等の電気もしくは電
子部品用材料として幅広く利用されているが、特に近年
におけるコンピューターや電気製品の小型化、高性能化
の要求に伴って、磁石合金に対する磁気特性や耐食性等
の要求性能はますます高度のものになっている。
機器から一般家庭用の各種電気製品等の電気もしくは電
子部品用材料として幅広く利用されているが、特に近年
におけるコンピューターや電気製品の小型化、高性能化
の要求に伴って、磁石合金に対する磁気特性や耐食性等
の要求性能はますます高度のものになっている。
【０００３】こうした中にあってＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結
希土類磁石及びＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石
（ＲＥは希土類元素の１種以上、ＴＭは遷移元素の１種
以上をそれぞれ表わす：以下同じ）は磁気特性に優れた
ものであると期待されている。ところがこの希土類磁石
は、非常に活性の高い希土類元素を含有するばかりでな
く、ＲＥリッチ相とＦｅリッチ相が混在する合金である
ため、両相間の電位差による局部電池の影響も加わって
非常にさびやすい。従って実用化に当たっては防錆のた
めの表面処理が不可欠となり、たとえばＮｉやＺｎなど
の金属、或いはそれらの合金をめっきする方法；りん酸
塩処理やクロメート処理等の化成処理を施す方法；浸漬
法やスプレー法等によりエポキシ系樹脂やアクリル系樹
脂等の樹脂コーティングを施す方法等が提案されてい
る。これらの中でもとくに汎用されているのは、複雑な
設備を要することなく比較的安価に実施することのでき
るＮｉめっきあるいはＮｉ−Ｐ等のＮｉ合金めっき法で
ある。
希土類磁石及びＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石
（ＲＥは希土類元素の１種以上、ＴＭは遷移元素の１種
以上をそれぞれ表わす：以下同じ）は磁気特性に優れた
ものであると期待されている。ところがこの希土類磁石
は、非常に活性の高い希土類元素を含有するばかりでな
く、ＲＥリッチ相とＦｅリッチ相が混在する合金である
ため、両相間の電位差による局部電池の影響も加わって
非常にさびやすい。従って実用化に当たっては防錆のた
めの表面処理が不可欠となり、たとえばＮｉやＺｎなど
の金属、或いはそれらの合金をめっきする方法；りん酸
塩処理やクロメート処理等の化成処理を施す方法；浸漬
法やスプレー法等によりエポキシ系樹脂やアクリル系樹
脂等の樹脂コーティングを施す方法等が提案されてい
る。これらの中でもとくに汎用されているのは、複雑な
設備を要することなく比較的安価に実施することのでき
るＮｉめっきあるいはＮｉ−Ｐ等のＮｉ合金めっき法で
ある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらＮｉ等の
金属もしくは合金をめっきする方法では、必ずしも満足
のいくめっき密着性および耐食性は得られない。その理
由の１つは次の様に考えることができる。即ち、これら
の希土類磁石は水素吸蔵性が高く、水素吸蔵によって脆
化する性質があるので、ＮｉまたはＮｉ合金めっき法を
採用すると、希土類磁石中にめっき時に発生する水素が
吸蔵されてめっき界面で脆化割れを起こし、めっき剥離
を起こして耐食性を維持できなくなるものと考えられ
る。こうした問題を回避するため、蒸着めっき等の気相
めっき法も提案されているが、この方法ではめっき層の
ピンホール欠陥が耐食性向上の大きな障害となる。
金属もしくは合金をめっきする方法では、必ずしも満足
のいくめっき密着性および耐食性は得られない。その理
由の１つは次の様に考えることができる。即ち、これら
の希土類磁石は水素吸蔵性が高く、水素吸蔵によって脆
化する性質があるので、ＮｉまたはＮｉ合金めっき法を
採用すると、希土類磁石中にめっき時に発生する水素が
吸蔵されてめっき界面で脆化割れを起こし、めっき剥離
を起こして耐食性を維持できなくなるものと考えられ
る。こうした問題を回避するため、蒸着めっき等の気相
めっき法も提案されているが、この方法ではめっき層の
ピンホール欠陥が耐食性向上の大きな障害となる。
【０００５】また浸漬法やスプレー法等によって樹脂コ
ーティングを施す方法でも、十分な密着性と耐食性は得
られ難く、しかも磁石表面に均一な樹脂コーティング被
膜を形成することは困難であって、特に磁石のエッジ部
は耐食性不足となり易く、この部分を起点として腐食が
進行する。本発明は上記の様な状況に着目してなされた
ものであって、その目的は、水素吸蔵等の問題を生じる
ことなく、優れた磁気特性を長期的に維持し得る様な高
耐食性希土類磁石を提供しようとするものである。
ーティングを施す方法でも、十分な密着性と耐食性は得
られ難く、しかも磁石表面に均一な樹脂コーティング被
膜を形成することは困難であって、特に磁石のエッジ部
は耐食性不足となり易く、この部分を起点として腐食が
進行する。本発明は上記の様な状況に着目してなされた
ものであって、その目的は、水素吸蔵等の問題を生じる
ことなく、優れた磁気特性を長期的に維持し得る様な高
耐食性希土類磁石を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すること
のできた本発明の構成は、ＮｉまたはＮｉ合金めっきを
施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石またはＲＥ−Ｔ
Ｍ−Ｂ系熱間加工希土類磁石を６００℃以上８００℃未
満の温度にて真空加熱するところに要旨を有するもので
ある。
のできた本発明の構成は、ＮｉまたはＮｉ合金めっきを
施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石またはＲＥ−Ｔ
Ｍ−Ｂ系熱間加工希土類磁石を６００℃以上８００℃未
満の温度にて真空加熱するところに要旨を有するもので
ある。
【０００７】
【作用】本発明に係る高耐食性希土類磁石の製造方法
は、ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ
系焼結希土類磁石またはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土
類磁石を、６００℃以上８００℃未満の温度において真
空加熱するものである。
は、ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ
系焼結希土類磁石またはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土
類磁石を、６００℃以上８００℃未満の温度において真
空加熱するものである。
【０００８】即ち、めっき処理後に真空加熱を施すこと
により、めっき工程で基材の磁石中に、またはめっき層
中に吸蔵された水素を追い出し、例えば永年の使用の途
中でメッキ層中の水素が磁石中に拡散するのを防ぎ、磁
石界面の水素脆化を防ぐものである。これによってＮｉ
またはＮｉ合金めっきによる耐食性を更に高めると共
に、希土類磁石の高磁気特性を維持することができる。
まず希土類磁石の表面に施されるＮｉまたはＮｉ合金め
っきとしては、後に真空加熱するので相当量の水素発生
を伴う電解めっきであっても採用できるが、もちろん無
電解めっきの採用を排除するものではない。
により、めっき工程で基材の磁石中に、またはめっき層
中に吸蔵された水素を追い出し、例えば永年の使用の途
中でメッキ層中の水素が磁石中に拡散するのを防ぎ、磁
石界面の水素脆化を防ぐものである。これによってＮｉ
またはＮｉ合金めっきによる耐食性を更に高めると共
に、希土類磁石の高磁気特性を維持することができる。
まず希土類磁石の表面に施されるＮｉまたはＮｉ合金め
っきとしては、後に真空加熱するので相当量の水素発生
を伴う電解めっきであっても採用できるが、もちろん無
電解めっきの採用を排除するものではない。
【０００９】ここで採用される電解めっき法としては特
に限定されるものではないが、例えば市販のワット浴も
しくはその改良品である種々のＮｉめっき浴、あるいは
Ｎｉ−Ｐ，Ｎｉ−Ｂ等の合金めっき浴を用いて行うこと
ができる。めっき浴のｐＨや電流密度等のめっき条件
は、めっき効率や目標めっき厚さ等に応じて適宜選択す
ればよい。また無電解めっき法を採用する場合について
も、通常の無電解めっき浴、あるいはＮｉ−Ｐ，Ｎｉ−
Ｂ，Ｎｉ−Ｗ−Ｐ等の無電解Ｎｉ合金めっき浴を使用す
ればよい。
に限定されるものではないが、例えば市販のワット浴も
しくはその改良品である種々のＮｉめっき浴、あるいは
Ｎｉ−Ｐ，Ｎｉ−Ｂ等の合金めっき浴を用いて行うこと
ができる。めっき浴のｐＨや電流密度等のめっき条件
は、めっき効率や目標めっき厚さ等に応じて適宜選択す
ればよい。また無電解めっき法を採用する場合について
も、通常の無電解めっき浴、あるいはＮｉ−Ｐ，Ｎｉ−
Ｂ，Ｎｉ−Ｗ−Ｐ等の無電解Ｎｉ合金めっき浴を使用す
ればよい。
【００１０】該ＮｉまたはＮｉ合金めっき層の好ましい
厚さは５μｍ〜１５μｍであり、薄過ぎる場合はピンホ
ール欠陥を完全に解消することができず、十分な耐食性
が得られ難くなる。また厚過ぎる場合には、耐食性はそ
れ以上改善されず不経済であるばかりでなく、めっき応
力の増大によってめっき密着性が悪くなる恐れがでてく
る。
厚さは５μｍ〜１５μｍであり、薄過ぎる場合はピンホ
ール欠陥を完全に解消することができず、十分な耐食性
が得られ難くなる。また厚過ぎる場合には、耐食性はそ
れ以上改善されず不経済であるばかりでなく、めっき応
力の増大によってめっき密着性が悪くなる恐れがでてく
る。
【００１１】上記の如く電解もしくは無電解Ｎｉまたは
Ｎｉ合金を施した希土類磁石に真空加熱を施すことによ
って、めっき工程で基材の磁石中またはめっき層中に吸
蔵された水素を追い出すことができる。このため、例え
ば永年の使用の途中でめっき層の水素が磁石中に拡散す
ることを抑制し、めっき界面での水素脆化やそれに伴う
めっき割れやめっき剥離を防いで優れた耐食性を維持す
ることができる。また磁石の磁気特性の劣化を抑制する
ことができ、高磁気特性を維持することができる。
Ｎｉ合金を施した希土類磁石に真空加熱を施すことによ
って、めっき工程で基材の磁石中またはめっき層中に吸
蔵された水素を追い出すことができる。このため、例え
ば永年の使用の途中でめっき層の水素が磁石中に拡散す
ることを抑制し、めっき界面での水素脆化やそれに伴う
めっき割れやめっき剥離を防いで優れた耐食性を維持す
ることができる。また磁石の磁気特性の劣化を抑制する
ことができ、高磁気特性を維持することができる。
【００１２】真空加熱方法としては、特に限定されるも
のではなく、一般に金属の焼鈍に使用される真空焼鈍炉
における加熱でよい。またその真空排気能力は、上記Ｎ
ｉまたはＮｉ合金表面の酸化を抑制できる程度の能力が
あればよい。
のではなく、一般に金属の焼鈍に使用される真空焼鈍炉
における加熱でよい。またその真空排気能力は、上記Ｎ
ｉまたはＮｉ合金表面の酸化を抑制できる程度の能力が
あればよい。
【００１３】真空加熱の温度は６００℃以上８００℃未
満の範囲にする必要がある。６００℃未満では磁石及び
めっき層中の水素を十分に追い出すことができず、また
８００℃以上では希土類磁石の溶体化が急速に進み、組
織が変化するため磁気特性を劣化させてしまい適切では
ない。加熱時間は、真空加熱の温度、真空度等の諸条件
に伴い適宜決定すればよいが、好ましくは２０分以上加
熱することが水素の追い出しを十分にする上で望まし
い。また、真空加熱処理後、上記めっきの表面に更にク
ロメート処理等の化成処理や有機コーティング処理等を
施してさらに耐食性を高めることも勿論可能である。
満の範囲にする必要がある。６００℃未満では磁石及び
めっき層中の水素を十分に追い出すことができず、また
８００℃以上では希土類磁石の溶体化が急速に進み、組
織が変化するため磁気特性を劣化させてしまい適切では
ない。加熱時間は、真空加熱の温度、真空度等の諸条件
に伴い適宜決定すればよいが、好ましくは２０分以上加
熱することが水素の追い出しを十分にする上で望まし
い。また、真空加熱処理後、上記めっきの表面に更にク
ロメート処理等の化成処理や有機コーティング処理等を
施してさらに耐食性を高めることも勿論可能である。
【００１４】次に本発明で使用されるＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系
焼結希土類磁石及びＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁
石について説明する。まずＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類
磁石は、希土類元素の少なくとも１種とＢ及びＦｅを必
須元素として含むものであり、ＲＥで示される希土類元
素としては、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈ
ｏ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｐｍ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌ
ｕ，Ｙなどを挙げることができ、これらは単独で使用し
てもよく或は必要により２種以上を併用することもでき
る。上記希土類元素の中でも特に好ましいのはＰｒとＮ
ｄである。
焼結希土類磁石及びＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁
石について説明する。まずＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類
磁石は、希土類元素の少なくとも１種とＢ及びＦｅを必
須元素として含むものであり、ＲＥで示される希土類元
素としては、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈ
ｏ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｐｍ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌ
ｕ，Ｙなどを挙げることができ、これらは単独で使用し
てもよく或は必要により２種以上を併用することもでき
る。上記希土類元素の中でも特に好ましいのはＰｒとＮ
ｄである。
【００１５】これらＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石中
に占めるＲＥの好ましい含有量（以下、特記しない限り
原子％を意味する）は８〜３０％であり、８％未満では
十分な保磁力が得られにくく、３０％を超えると残留磁
束密度が不足気味となる。またＢの好ましい含有率は２
〜２８％であり、２％未満では十分な保磁力が得られ難
く、一方２８％を超えると残留磁束密度が不十分とな
る。Ｆｅは４０〜９０％の範囲が好ましく、４０％未満
では残留磁束密度が不足気味となり、一方９０％を超え
ると高レベルの保磁力が得られ難くなる。
に占めるＲＥの好ましい含有量（以下、特記しない限り
原子％を意味する）は８〜３０％であり、８％未満では
十分な保磁力が得られにくく、３０％を超えると残留磁
束密度が不足気味となる。またＢの好ましい含有率は２
〜２８％であり、２％未満では十分な保磁力が得られ難
く、一方２８％を超えると残留磁束密度が不十分とな
る。Ｆｅは４０〜９０％の範囲が好ましく、４０％未満
では残留磁束密度が不足気味となり、一方９０％を超え
ると高レベルの保磁力が得られ難くなる。
【００１６】尚上記ＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石に
おいては、Ｆｅの一部をＣｏやＮｉで置換することもで
きる。しかしＣｏの置換量が多くなり過ぎると高保磁力
が得られにくくなるので、Ｆｅに対する置換量は５０％
以下に抑えるべきであり、またＮｉ置換量が多くなり過
ぎると残留磁束密度が低下する傾向があるので、Ｆｅに
対する置換量は８％以下とすべきである。更にこの磁石
には、他の元素として以下に示す様な元素の１種以上を
Ｆｅに置換して含有させることによって保磁力を更に高
めることが可能である（但し、２種以上を併用する場合
の許容含有量は、各添加元素のうち最大値を示すものの
含有量を上限とする）。
おいては、Ｆｅの一部をＣｏやＮｉで置換することもで
きる。しかしＣｏの置換量が多くなり過ぎると高保磁力
が得られにくくなるので、Ｆｅに対する置換量は５０％
以下に抑えるべきであり、またＮｉ置換量が多くなり過
ぎると残留磁束密度が低下する傾向があるので、Ｆｅに
対する置換量は８％以下とすべきである。更にこの磁石
には、他の元素として以下に示す様な元素の１種以上を
Ｆｅに置換して含有させることによって保磁力を更に高
めることが可能である（但し、２種以上を併用する場合
の許容含有量は、各添加元素のうち最大値を示すものの
含有量を上限とする）。
【００１７】Ａｌ：９．５％以下、 Ｔｉ：４．５％以
下、 Ｖ：９．５％以下、Ｃｒ：８．５％以下、 Ｍ
ｎ：８．０％以下、 Ｂｉ：５．０％以下、Ｎｂ：９．
５％以下、 Ｔａ：９．５％以下、 Ｍｏ：９．５％以
下、Ｗ： ９．５％以下、 Ｓｂ：２．５％以下、 Ｇ
ｅ：７．０％以下、Ｓｎ：３．５％以下、 Ｚｒ：５．
５％以下、 Ｎｉ：９．０％以下、Ｓｉ：９．０％以
下、 Ｚｎ：１．１％以下、 Ｈｆ：５．５％以下。
下、 Ｖ：９．５％以下、Ｃｒ：８．５％以下、 Ｍ
ｎ：８．０％以下、 Ｂｉ：５．０％以下、Ｎｂ：９．
５％以下、 Ｔａ：９．５％以下、 Ｍｏ：９．５％以
下、Ｗ： ９．５％以下、 Ｓｂ：２．５％以下、 Ｇ
ｅ：７．０％以下、Ｓｎ：３．５％以下、 Ｚｒ：５．
５％以下、 Ｎｉ：９．０％以下、Ｓｉ：９．０％以
下、 Ｚｎ：１．１％以下、 Ｈｆ：５．５％以下。
【００１８】次にＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石
は、Ｙを含む希土類元素（ＲＥ）の少なくとも１種と遷
移元素（ＴＭ）およびＢを必須元素として含むものであ
り、ＲＥとしては前記ＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石
の構成元素として挙げたものが再び例示されるが、これ
らのうち最も高い磁気的性質はＰｒを用いたときに得ら
れ易い。従って実質的にはＰｒのみ、もしくはＲＥのう
ち５０％以上がＰｒであるものが好ましい。またＤｙや
Ｔｂ等の重希土類元素を少量併用することは、保磁力の
向上に有効である。
は、Ｙを含む希土類元素（ＲＥ）の少なくとも１種と遷
移元素（ＴＭ）およびＢを必須元素として含むものであ
り、ＲＥとしては前記ＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石
の構成元素として挙げたものが再び例示されるが、これ
らのうち最も高い磁気的性質はＰｒを用いたときに得ら
れ易い。従って実質的にはＰｒのみ、もしくはＲＥのう
ち５０％以上がＰｒであるものが好ましい。またＤｙや
Ｔｂ等の重希土類元素を少量併用することは、保磁力の
向上に有効である。
【００１９】該ＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石全
量中に占めるＲＥの好ましい含有量は、８〜２５％、よ
り好ましくは１０〜２０％、更に好ましくは１２〜１８
％の範囲である。ＲＥとＴＭおよびＢを基本成分とする
磁石の主相はＲＥ2 ＴＭ14Ｂ（たとえばＰｒ2 Ｆｅ
14Ｂ）であるが、ＲＥが不足すると上記の主相が形成さ
れず、α鉄と同一構造の立方晶組織となるため良好な磁
気的特性（特に保磁率）が得られ難く、他方、ＲＥが多
過ぎると非磁性のＲＥリッチ相が多くなって残留磁束密
度が低下傾向を示す様になる。
量中に占めるＲＥの好ましい含有量は、８〜２５％、よ
り好ましくは１０〜２０％、更に好ましくは１２〜１８
％の範囲である。ＲＥとＴＭおよびＢを基本成分とする
磁石の主相はＲＥ2 ＴＭ14Ｂ（たとえばＰｒ2 Ｆｅ
14Ｂ）であるが、ＲＥが不足すると上記の主相が形成さ
れず、α鉄と同一構造の立方晶組織となるため良好な磁
気的特性（特に保磁率）が得られ難く、他方、ＲＥが多
過ぎると非磁性のＲＥリッチ相が多くなって残留磁束密
度が低下傾向を示す様になる。
【００２０】次にＢの含有量は、２〜８％、より好まし
くは４〜６％が適当である。Ｂ量が不足する場合は、Ｒ
Ｅ−Ｆｅ系の菱面体となるため満足な保磁力が得られ難
く、逆に多過ぎるとたとえば非磁性のＲＥ2 Ｆｅ4 Ｂ相
が析出して残留磁束密度が低くなる。
くは４〜６％が適当である。Ｂ量が不足する場合は、Ｒ
Ｅ−Ｆｅ系の菱面体となるため満足な保磁力が得られ難
く、逆に多過ぎるとたとえば非磁性のＲＥ2 Ｆｅ4 Ｂ相
が析出して残留磁束密度が低くなる。
【００２１】ＴＭは４０〜９０％、より好ましくは６５
〜９０％が適当であり、ＴＭ量が不足すると残留磁束密
度が低くなり、また多過ぎると保磁力が不十分となる。
尚、ＴＭのうち最も代表的なものはＦｅであるが、その
一部をＣｏおよび／またはＮｉで代替することができ
る。Ｃｏは磁石のキュリー点を上げるのに有効であり、
基本的には主相のＦｅサイトを置換してＲＥ2 Ｃｏ14Ｂ
を形成するが、この化合物は結晶異方性磁界が小さく、
Ｃｏの代替量が多くなるにつれて磁石全体としての保磁
力が低下するので、Ｆｅの５０％以下、より好ましくは
２０％以下に抑えるのがよい。またＮｉの代替量が多く
なると残留磁束密度が低下する傾向があるので、Ｆｅの
８％程度以下に抑えることが望まれる。
〜９０％が適当であり、ＴＭ量が不足すると残留磁束密
度が低くなり、また多過ぎると保磁力が不十分となる。
尚、ＴＭのうち最も代表的なものはＦｅであるが、その
一部をＣｏおよび／またはＮｉで代替することができ
る。Ｃｏは磁石のキュリー点を上げるのに有効であり、
基本的には主相のＦｅサイトを置換してＲＥ2 Ｃｏ14Ｂ
を形成するが、この化合物は結晶異方性磁界が小さく、
Ｃｏの代替量が多くなるにつれて磁石全体としての保磁
力が低下するので、Ｆｅの５０％以下、より好ましくは
２０％以下に抑えるのがよい。またＮｉの代替量が多く
なると残留磁束密度が低下する傾向があるので、Ｆｅの
８％程度以下に抑えることが望まれる。
【００２２】ＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石の基
本的構成元素は上記の通りであるが、必要により更に他
の元素としてＡｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｓｎ，Ｐ
ｔ，Ｚｎ等の１種以上を含有させることにより保磁力を
更に高めることができ、その効果は0.2 ％以上の添加で
有効に発揮される。しかし多過ぎると非磁性の粒界相が
増加して磁気特性の低下を招くので２％以下に抑えるべ
きである。
本的構成元素は上記の通りであるが、必要により更に他
の元素としてＡｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｓｎ，Ｐ
ｔ，Ｚｎ等の１種以上を含有させることにより保磁力を
更に高めることができ、その効果は0.2 ％以上の添加で
有効に発揮される。しかし多過ぎると非磁性の粒界相が
増加して磁気特性の低下を招くので２％以下に抑えるべ
きである。
【００２３】上記元素の中でも特にＡｇ，Ａｕ，Ａｌ，
Ｃｕ，Ｐｔ，Ｓｎ，Ｚｎは結晶組織を微細化し、後述す
るような異方性付与のための熱間加工に伴う表面劣化層
の生成を抑制する作用があり、例えば３mm程度の薄肉形
状のものであっても優れた磁気特性を持った磁石を与え
るという効果を発揮する。
Ｃｕ，Ｐｔ，Ｓｎ，Ｚｎは結晶組織を微細化し、後述す
るような異方性付与のための熱間加工に伴う表面劣化層
の生成を抑制する作用があり、例えば３mm程度の薄肉形
状のものであっても優れた磁気特性を持った磁石を与え
るという効果を発揮する。
【００２４】かくして得られるＲＥ−ＴＭ−Ｂ系合金
を、好ましくは８００℃以上の温度で熱間加工して配向
させると、異方性の永久磁石が得られる。尚、このＲＥ
−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石は、耐食性や磁気特性
において前述のＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石よりも
優れた効果を有しているので特に好ましい。
を、好ましくは８００℃以上の温度で熱間加工して配向
させると、異方性の永久磁石が得られる。尚、このＲＥ
−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石は、耐食性や磁気特性
において前述のＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石よりも
優れた効果を有しているので特に好ましい。
【００２５】本発明では、上記のようなＮｉまたはＮｉ
合金めっきを施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石ま
たはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石を、６００℃
以上８００℃未満の温度において真空加熱することによ
り、高耐食性の永久磁石を簡単な工程で得ることができ
る。以下実施例により本発明を更に詳説するが、下記実
施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨
の範囲内で変更実施することは全て本発明の技術的範囲
に包含される。
合金めっきを施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石ま
たはＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石を、６００℃
以上８００℃未満の温度において真空加熱することによ
り、高耐食性の永久磁石を簡単な工程で得ることができ
る。以下実施例により本発明を更に詳説するが、下記実
施例は本発明を制限するものではなく、前・後記の趣旨
の範囲内で変更実施することは全て本発明の技術的範囲
に包含される。
【００２６】
実施例１ 純度９９．９％の鉄粉、純度９９．９％のフェロボロン
合金および純度99.7％以上のＮｄを原料とし、これらを
配合して高周波溶解した後水冷銅鋳型を用いて鋳造し、
組成がＮｄ14Ｂ7 Ｆｅ79の鋳塊を得た。この鋳塊をスタ
ンプミルで粗粉砕した後ボールミルで微粉砕し、粒径が
２．８〜８μｍの微粉末を得た。この微粉末を金型に装
入して、１０ＫＯｅの磁界中で配向させると共に１．５
ｔ／ｃｍ2 の圧力で成形した。
合金および純度99.7％以上のＮｄを原料とし、これらを
配合して高周波溶解した後水冷銅鋳型を用いて鋳造し、
組成がＮｄ14Ｂ7 Ｆｅ79の鋳塊を得た。この鋳塊をスタ
ンプミルで粗粉砕した後ボールミルで微粉砕し、粒径が
２．８〜８μｍの微粉末を得た。この微粉末を金型に装
入して、１０ＫＯｅの磁界中で配向させると共に１．５
ｔ／ｃｍ2 の圧力で成形した。
【００２７】この成形体を、Ａｒ雰囲気中１０００℃で
１時間焼結した後放冷し、その後Ａｒ雰囲気中６００℃
で２時間時効処理することにより希土類磁石を得た。得
られた磁石より２０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍサイズの試
験片を切り出し、表面研磨（Ｎｏ．１５０）及びアセト
ン脱脂後、表１に示すＮｉめっき及び真空加熱を実施し
た。また電解めっきは従来法に準拠し、ワット浴を用い
て電流密度８Ａ／ｄm2でＮｉめっきを行なった（めっき
厚さ：１３μｍ）。無電解めっきは市販の無電解Ｎｉ−
Ｐめっき浴（奥野製薬製「トップニコロン」）を用いて
行った（めっき厚さ：１２．５μｍ）。
１時間焼結した後放冷し、その後Ａｒ雰囲気中６００℃
で２時間時効処理することにより希土類磁石を得た。得
られた磁石より２０ｍｍ×３０ｍｍ×３ｍｍサイズの試
験片を切り出し、表面研磨（Ｎｏ．１５０）及びアセト
ン脱脂後、表１に示すＮｉめっき及び真空加熱を実施し
た。また電解めっきは従来法に準拠し、ワット浴を用い
て電流密度８Ａ／ｄm2でＮｉめっきを行なった（めっき
厚さ：１３μｍ）。無電解めっきは市販の無電解Ｎｉ−
Ｐめっき浴（奥野製薬製「トップニコロン」）を用いて
行った（めっき厚さ：１２．５μｍ）。
【００２８】上記めっき処理の後夫々着磁処理を行な
い、下記の初期磁気特性を有する供試材を得た。 残留磁束密度（Ｂｒ）＝１２．５ＫＧ 保磁力（ｉＨｃ）＝１２．０ＫＯｅ エネルギー積（ＢＨ）max ＝３５．０ＭＧＯｅ 得られた各供試材について下記の方法で耐食性試験を行
なった。 （耐食性試験）供試材を１２５℃×８５％ＲＨの恒温恒
湿雰囲気に５０時間放置した後、外観（目視観察）、お
よび磁気特性を調べた。結果を表１に一括して示す。
い、下記の初期磁気特性を有する供試材を得た。 残留磁束密度（Ｂｒ）＝１２．５ＫＧ 保磁力（ｉＨｃ）＝１２．０ＫＯｅ エネルギー積（ＢＨ）max ＝３５．０ＭＧＯｅ 得られた各供試材について下記の方法で耐食性試験を行
なった。 （耐食性試験）供試材を１２５℃×８５％ＲＨの恒温恒
湿雰囲気に５０時間放置した後、外観（目視観察）、お
よび磁気特性を調べた。結果を表１に一括して示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】表１からも明らかであるように、本発明の
規定要件を満たす実施例１〜５では耐食性試験後の外観
変化及び磁気特性の低下は全く見られないのに対し、比
較例１〜３では外観変化こそ見られないものの、磁気特
性が著しく低下している。
規定要件を満たす実施例１〜５では耐食性試験後の外観
変化及び磁気特性の低下は全く見られないのに対し、比
較例１〜３では外観変化こそ見られないものの、磁気特
性が著しく低下している。
【００３１】実施例２ 純度９９．９％の電解鉄と純度９９．９％のフェロボロ
ンおよび純度９９％以上のＰｒを原料とし、これらを配
合した後高周波溶解し、更に水冷銅鋳型を用いて表２に
示す組成の鋳塊を得た。この鋳塊を切断して鉄製カプセ
ルに封入し、９５０℃にて全圧下率７６％の熱間圧延を
行なった後、１０００℃×６時間および４８０℃×２時
間の条件で熱処理することにより、表２に示す磁気特性
の希土類磁石を得た。この磁石より２０ｍｍ×３０ｍｍ
×３ｍｍの試験片を切り出し、表面研磨（Ｎｏ．１５
０）およびアセトン脱脂の後、実施例１と同様にして表
３に示す様にＮｉまたはＮｉ合金めっき及び真空加熱を
施し、以下実施例１と同様にして着磁処理および耐食性
試験を行なった。結果を表３に示す。
ンおよび純度９９％以上のＰｒを原料とし、これらを配
合した後高周波溶解し、更に水冷銅鋳型を用いて表２に
示す組成の鋳塊を得た。この鋳塊を切断して鉄製カプセ
ルに封入し、９５０℃にて全圧下率７６％の熱間圧延を
行なった後、１０００℃×６時間および４８０℃×２時
間の条件で熱処理することにより、表２に示す磁気特性
の希土類磁石を得た。この磁石より２０ｍｍ×３０ｍｍ
×３ｍｍの試験片を切り出し、表面研磨（Ｎｏ．１５
０）およびアセトン脱脂の後、実施例１と同様にして表
３に示す様にＮｉまたはＮｉ合金めっき及び真空加熱を
施し、以下実施例１と同様にして着磁処理および耐食性
試験を行なった。結果を表３に示す。
【００３２】
【表２】
【００３３】
【表３】
【００３４】表３から明らかなように、本発明の規定要
件を満たす実施例１〜６では耐食性試験後の外観劣化お
よび磁気特性の低下は全く認められないのに対し、真空
加熱条件が本発明の規定要件を満たさない比較例１〜３
では、磁気特性の低下が著しい。
件を満たす実施例１〜６では耐食性試験後の外観劣化お
よび磁気特性の低下は全く認められないのに対し、真空
加熱条件が本発明の規定要件を満たさない比較例１〜３
では、磁気特性の低下が著しい。
【００３５】
【発明の効果】本発明は以上のように構成されており、
ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施した希土類磁石を６００
℃以上８００℃未満の温度にて真空加熱することによっ
て耐食性を著しく高めることができ、優れた磁気特性を
長時間維持する高耐食性の希土類磁石を提供し得ること
になった。
ＮｉまたはＮｉ合金めっきを施した希土類磁石を６００
℃以上８００℃未満の温度にて真空加熱することによっ
て耐食性を著しく高めることができ、優れた磁気特性を
長時間維持する高耐食性の希土類磁石を提供し得ること
になった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｆ 1/08 Ｂ 7371−5Ｅ
Claims (1)
- 【請求項１】 電解もしくは無電解ＮｉまたはＮｉ合金
めっきを施したＲＥ−Ｂ−Ｆｅ系焼結希土類磁石または
ＲＥ−ＴＭ−Ｂ系熱間加工希土類磁石（ＲＥは希土類元
素の１種以上、ＴＭは遷移元素の１種以上をそれぞれ表
わす）を、６００℃以上８００℃未満の温度において真
空加熱することを特徴とする高耐食性希土類磁石の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061449A JPH05226125A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 高耐食性希土類磁石の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061449A JPH05226125A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 高耐食性希土類磁石の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05226125A true JPH05226125A (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=13171381
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4061449A Withdrawn JPH05226125A (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | 高耐食性希土類磁石の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05226125A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5876518A (en) * | 1995-02-23 | 1999-03-02 | Hitachi Metals, Ltd. | R-T-B-based, permanent magnet, method for producing same, and permanent magnet-type motor and actuator comprising same |
| JP2003125562A (ja) * | 1994-06-01 | 2003-04-25 | Seiko Epson Corp | 永久磁石回転子の製造方法 |
| WO2003058648A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Aimant fritte d'element de terre rare et procede de production d'un aimant fritte d'element de terre rare |
| EP2518742A1 (en) | 2003-06-27 | 2012-10-31 | TDK Corporation | R-T-B system permanent magnet |
-
1992
- 1992-02-14 JP JP4061449A patent/JPH05226125A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003125562A (ja) * | 1994-06-01 | 2003-04-25 | Seiko Epson Corp | 永久磁石回転子の製造方法 |
| US5876518A (en) * | 1995-02-23 | 1999-03-02 | Hitachi Metals, Ltd. | R-T-B-based, permanent magnet, method for producing same, and permanent magnet-type motor and actuator comprising same |
| US6254694B1 (en) | 1995-02-23 | 2001-07-03 | Hitachi Metals, Ltd. | R-T-B-based, permanent magnet, method for producing same, and permanent magnet-type motor and actuator comprising same |
| WO2003058648A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Aimant fritte d'element de terre rare et procede de production d'un aimant fritte d'element de terre rare |
| US7438768B2 (en) | 2001-12-28 | 2008-10-21 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Rare earth element sintered magnet and method for producing rare earth element sintered magnet |
| EP2518742A1 (en) | 2003-06-27 | 2012-10-31 | TDK Corporation | R-T-B system permanent magnet |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |