JP2941446B2 - 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 - Google Patents
耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石Info
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Description
石であって、磁石体表面に2層Niめっき層を被覆する
事により耐食性を著しく改善したものに関する。
って、その一部品たる永久磁石にも同様の要求が強まっ
てきた。すなわち以前の最強の永久磁石は希土類・コバ
ルト(R−Co)系であったが、近年、より強力なR−
TM−B系永久磁石が台頭してきた(特開昭59−46
008号)。ここにRはYを含む希土類元素の1種又は
2種以上の組合わせであり、TMはFe、Co等の遷移
金属中心として、一部を他の金属元素又は非金属元素で
置換したもの、Bは硼素である。しかし、R−TM−B
系永久磁石は極めて錆やすいという問題点があった。そ
のため、耐食性を改善するために、永久磁石表面に耐酸
化性の被覆層を設ける手段がとられてきた。被覆層の種
類としては、Niめっき、耐酸化性樹脂、Alイオンプ
レーティング等が提案されており、とりわけNiめっき
は簡易な処理でR−TM−B系永久磁石の耐食性を向上
するものとして注目されている(特開昭60−5440
6号)。Niめっきは、耐酸化性樹脂と比較して表面被
覆層の機械的強度に優れており、また被覆層自体の吸湿
性がほとんどないという長所を有している。しかしなが
ら、耐酸化性樹脂と異なり、Niめっき被覆層表面には
ピンホールが存在するという問題点があった。そのため
被覆層自身の吸湿性の有無にかかわらず、経時変化に伴
い水分がピンホールを通じて磁石体に浸透し、腐食劣化
を引き起こすという問題があった。この問題を解決する
ため、現在までにNiめっき層の上に耐酸化性樹脂を施
し、ピンホールの埋め込みを行う手法が提案されている
(特開昭63−110707号)。
化性樹脂の被覆による手法は、Niめっき層と耐酸化性
樹脂層との密着性ならびに耐酸化性樹脂層自身の耐食性
に関する問題点を有していた。そのため、上記手法では
十分な耐食性改善を図ることができず問題となってい
た。そこで、本発明の目的は、信頼性の高い耐食性を改
善したR−TM−B系永久磁石を提供することにある。
ために鋭意研究の結果、発明者らは著しく耐食性を改善
したR−TM−B系永久磁石に想到したものである。 す
なわち、第1の発明は、重量比でR(ここでRは、Yを
含む希土類元素の1種又は2種以上の組合わせ)5〜4
0%、TM(ここでTMは、Fe、Coを中心とする遷
移金属であって、一部を他の金属元素又は非金属で置換
してよい。)50〜90%、B(硼素)0.2〜8%か
らなるR−TM−B系永久磁石において、該永久磁石の
表面に、0.001〜0.01wt%のSを含有するN
iめっき層を下層として設け、その上に自然電位が前記
Niめっき層よりも卑である金属めっき層を上層として
設け耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石である。
第2の発明は第1の発明において、上層の金属めっき層
を0.011〜1.0wt%のSを含有するNiめっき
層とし耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石であ
る。 第3の発明は重量比でR(ここでRは、Yを含む希
土類元素の1種又は2種以上の組合わせ)5〜40%、
TM(ここでTMは、Fe、Coを中心とする遷移金属
であって一部を他の金属元素又は非金属元素で置換して
よい。)50〜90%、B(硼素)0.2〜8%からな
るR−TM−B系永久磁石において、該永久磁石の表面
に、0.001〜0.01wt%のSを含有するNiめ
っき層を下層として設け、その上に0.011〜1.0
wt%のSを含有するNiめっき層を上層として設け、
当該上層のNiめっきは前記下層のNiめっき層よりも
0.01wt%以上多くSを含有する耐食性を改善した
R−TM−B系永久磁石である。表材表面に、少量のS
を含有するNiめっき層を下層として設け、その上層と
して多層のSを含有するNiめっき層を設けると、上層
の自然電位は下層に対し卑なものとなる。すなわち上層
がアノード化して陽極効果を発生することにより、下層
が防食されるものと考えられる。本発明は、上記2層め
っきの防食作用により、R−TM−B系永久磁石の耐食
性を向上するものである。本発明における、下層Niめ
っき層中のSの含有量は、0.001〜0.01wt%
が良い。0.001wt%未満であると、Niめっき層
は柱状晶組織となってしまい、組織の微細化の面で好ま
しくない。また、0.001wt%未満であると素材と
の自然電位差が極端に大きくなり、Niめっき層の素材
表面への被覆の際にその界面において電気化学的な局部
電池を形成する可能性があることから、下層Niめっき
層中のSの含有量は0.001wt%未満であってはな
らない。上層Niめっき層中のSの含有量は0.011
〜0.1wt%が良い。ここで注意すべき点は、下層N
iめっき層よりも0.01wt%以上多くSを含有する
Niめっき層を上層として設けることである。0.01
wt%未満であると、前述した2層めっきの防食効果を
得ることができないため好ましくない。そのため上層と
しては、下層Niめっき層よりも0.01wt%以上多
くSを含有するNiめっき層を設けることが望ましい。
本発明において、Fe、Co、Ni等のTMの一部を置
換する元素は、その添加目的に応じて、Ga、Al、T
i、V、Cr、Mn、Zr、Hf、Nb、Ta、Mo、
Ge、Sb、Sn、Bi、Ni他を添加でき、本発明は
いかなるR−TM−B系永久磁石にも適用できる。ま
た、その製造方法は焼結法、溶湯急冷法、あるいはそれ
らの変形法のいずれの方法でもよい。製造方法として
は、有機溶剤による脱脂の後にめっきを施す。電流密度
は1〜2A/dm2が良くめっき層の厚さは5〜20μ
mが好ましい。めっき前処理に関しては、加工変質層の
除去及びめっき前活性化を図る上で、酸性溶液を用いる
のが良い。硫酸や塩酸等の強酸がめっき前活性化にとっ
て有効であるが、めっき前処理の材質への影響を極力避
けるためには、2〜10vol%の硝酸による第1エッ
チング、その後過酸化水素5〜10vol%、酢酸10
〜30vol%の混酸による第2エッチングが最も望ま
しい。次いでNiめっき処理を行う。本発明における2
層めっきに関しては、ワット浴スルファミン酸浴、アン
モン浴いずれでもよい。
なる組成の合金をアーク溶解にて作製し、得られたイン
ゴットをスタンプミル及びディスクミルで粗粉砕した。
その後、N2ガスを粉砕媒体としてジェットミルで微粉
砕を行い、粉砕粒度3.5μm(FSSS)の微粉砕粉
を得た。得られた原料粉を15KOeの磁場中で横磁場
成形した。成形圧力は2Ton/cm2であった。本成
形体を真空中で1090℃×2時間焼結した。焼結体を
18×10×6mm寸法に切り出し、次いで900℃の
アルゴン雰囲気中に2時間加熱保持した後に急冷し温度
を600℃に保持したアルゴンの雰囲気中で1時間保持
した。こうして得られた試料について、めっき前処理と
して5vol%の硝酸による第1エッチング、その後過
酸化水素10vol%、酢酸25vol%の混酸による
第2エッチングを行った。その後、ワット浴により表1
に示したNiめっき層を被覆し、これを試験片とした。
000時間の耐食試験及び35℃5%NaClでの20
0時間の塩水噴霧試験を行った。結果を表2に示す。
噴霧試験結果は赤錆発生時間を示したものである。表2
より、本発明による永久磁石は、従来の磁石と比較し
て、耐食性を著しく向上し得ることがわかる。
磁石において、従来のめっきでは不十分であった耐食性
の顕著な向上が図られた。
Claims (3)
- 【請求項1】 重量比でR(ここでRは、Yを含む希土
類元素の1種又は2種以上の組合わせ)5〜40%、T
M(ここでTMは、Fe、Coを中心とする遷移金属で
あって、一部を他の金属元素又は非金属元素で置換して
よい。)50〜90%、B(硼素)0.2〜8%からな
るR−TM−B系永久磁石において、該永久磁石体の表
面に、0.001〜0.01wt%のSを含有するNi
めっき層を下層として設け、その上に自然電位が前記N
iめっき層よりも卑である金属めっき層を上層として設
けることを特徴とする耐食性を改善したR−TM−B系
永久磁石。 - 【請求項2】 前記上層の金属めっき層がSを0.01
1〜1.0wt%含有するNiめっき層であることを特
徴とする請求項1に記載の耐食性を改善したR−TM−
B系永久磁石。 - 【請求項3】 重量比でR(ここでRは、Yを含む希土
類元素の1種又は2種以上の組合わせ)5〜40%、T
M(ここでTMは、Fe、Coを中心とする遷移金属で
あって、一部を他の金属元素又は非金属元素で置換して
よい。)50〜90%、B(硼素)0.2〜8%からな
るR−TM−B系永久磁石において、該永久磁石の表面
に、0.001〜0.01wt%のSを含有するNiめ
っき層を下層として設け、その上に0.001〜1.0
wt%のSを含有するNiめっき層を上層として設け、
当該上層のNiめっきは前記下層のNiめっき層よりも
0.01wt%以上多くSを含有することを特徴とする
耐食性を改善したR−TM−B系永久磁石。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3027902A JP2941446B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3027902A JP2941446B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04253306A JPH04253306A (ja) | 1992-09-09 |
JP2941446B2 true JP2941446B2 (ja) | 1999-08-25 |
Family
ID=12233820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3027902A Expired - Lifetime JP2941446B2 (ja) | 1991-01-29 | 1991-01-29 | 耐食性を改善したr−tm−b系永久磁石 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2941446B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5850193B1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-02-03 | Tdk株式会社 | 磁石部材 |
US9905345B2 (en) | 2015-09-21 | 2018-02-27 | Apple Inc. | Magnet electroplating |
-
1991
- 1991-01-29 JP JP3027902A patent/JP2941446B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04253306A (ja) | 1992-09-09 |
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