JPH07331486A - 耐食性磁性合金 - Google Patents
耐食性磁性合金Info
- Publication number
- JPH07331486A JPH07331486A JP6126323A JP12632394A JPH07331486A JP H07331486 A JPH07331486 A JP H07331486A JP 6126323 A JP6126323 A JP 6126323A JP 12632394 A JP12632394 A JP 12632394A JP H07331486 A JPH07331486 A JP H07331486A
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- JP
- Japan
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- layer
- alloy
- magnetic
- magnetic alloy
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/0253—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets
- H01F41/026—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing permanent magnets protecting methods against environmental influences, e.g. oxygen, by surface treatment
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁性合金において、磁性母材合金表面に特定
の金属めっき層を順次積層被覆することにより耐食性を
著しく改善する。 【構成】 磁性合金において、磁性母材合金の表面に下
地皮膜としてＮｉめっき層、中間層としてＣｕめっき
層、更にその上の表層にＮｉ・Ｐ合金めっき層を備え
る。
の金属めっき層を順次積層被覆することにより耐食性を
著しく改善する。 【構成】 磁性合金において、磁性母材合金の表面に下
地皮膜としてＮｉめっき層、中間層としてＣｕめっき
層、更にその上の表層にＮｉ・Ｐ合金めっき層を備え
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐食性磁性合金であっ
て、磁性母材合金表面に特定の金属めっき層を順次積層
被覆することにより、耐食性を著しく改善したものに関
する。
て、磁性母材合金表面に特定の金属めっき層を順次積層
被覆することにより、耐食性を著しく改善したものに関
する。
【０００２】
【従来の技術】電気・電子機器の高性能・小型化に伴っ
てこれら機器に使用される永久磁石にも同様の要求が高
まっている。これらの要求に対応できる高性能永久磁石
として開発されたＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金（ここでは、
ＲはＹを含む希土類元素の１種又は２種以上の組合せで
あり、ＴＭはＦｅ、Ｃｏ等の遷移金属を中心として、一
部を他の金属又は非金属元素で置換したもの。Ｂは硼素
である。）は酸化されやすいＦｅを大量に含有すること
から、磁性合金表面に耐酸化性の被膜層を設ける手段が
とられてきた。被膜層の種類としては、金属めっき、樹
脂、金属蒸着等が提案されており、とりわけ耐酸化性め
っきは簡単な処理でＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金の耐食性を
向上するものとして注目されている（例えば特開昭６０
−５４４０６号）。
てこれら機器に使用される永久磁石にも同様の要求が高
まっている。これらの要求に対応できる高性能永久磁石
として開発されたＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金（ここでは、
ＲはＹを含む希土類元素の１種又は２種以上の組合せで
あり、ＴＭはＦｅ、Ｃｏ等の遷移金属を中心として、一
部を他の金属又は非金属元素で置換したもの。Ｂは硼素
である。）は酸化されやすいＦｅを大量に含有すること
から、磁性合金表面に耐酸化性の被膜層を設ける手段が
とられてきた。被膜層の種類としては、金属めっき、樹
脂、金属蒸着等が提案されており、とりわけ耐酸化性め
っきは簡単な処理でＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金の耐食性を
向上するものとして注目されている（例えば特開昭６０
−５４４０６号）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、耐酸化
性樹脂と異なり、めっき皮膜面にはピンホールが存在す
るという問題点があった。そのため皮膜自身の吸湿性の
有無にかかわらず、経時変化に伴い水分がピンホールを
通じて合金内に浸透し、耐腐食性劣下を引き起こすとい
う問題点がある。ピンホール対策として特開昭６４−４
２８０５に開示されているように下地皮膜としてＣｕ膜
をつけ、その上にＮｉ・Ｐ膜を形成する方法もあるが、
Ｃｕ膜の形成方法として無電解浴を使用した場合はメッ
キが析出する際にメッキ浴中の還元剤により多量の水素
が発生するため、膜質が粗雑となりピンホールが多発す
ること、また、電気めっき浴を使用する場合には置換め
っき層の生成を抑制するためにめっき浴が青化物浴に限
定されるので、その廃液処理等が煩雑となるという問題
点がある。さらに前記ＣｕとＮｉ・Ｐめっきの２重構造
ではいずれのめっきの析出速度も遅く、厚付けしにくい
ことからピンホールを完全に除去できないという問題点
がある。本発明の目的は、信頼性の高い耐食性を改善し
たＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金を提供することである。
性樹脂と異なり、めっき皮膜面にはピンホールが存在す
るという問題点があった。そのため皮膜自身の吸湿性の
有無にかかわらず、経時変化に伴い水分がピンホールを
通じて合金内に浸透し、耐腐食性劣下を引き起こすとい
う問題点がある。ピンホール対策として特開昭６４−４
２８０５に開示されているように下地皮膜としてＣｕ膜
をつけ、その上にＮｉ・Ｐ膜を形成する方法もあるが、
Ｃｕ膜の形成方法として無電解浴を使用した場合はメッ
キが析出する際にメッキ浴中の還元剤により多量の水素
が発生するため、膜質が粗雑となりピンホールが多発す
ること、また、電気めっき浴を使用する場合には置換め
っき層の生成を抑制するためにめっき浴が青化物浴に限
定されるので、その廃液処理等が煩雑となるという問題
点がある。さらに前記ＣｕとＮｉ・Ｐめっきの２重構造
ではいずれのめっきの析出速度も遅く、厚付けしにくい
ことからピンホールを完全に除去できないという問題点
がある。本発明の目的は、信頼性の高い耐食性を改善し
たＲ−ＴＭ−Ｂ系磁性合金を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記従来の問題点を解決
するために本発明では重量比でＲ（ここでは、Ｙを含む
希土類元素の１種又は２種以上の組合せ）５〜４０％、
ＴＭ（ここでＴＭは、Ｆｅを主体とする遷移金属であっ
て、一部を他の金属又は非金属元素で置換してよい。）
５０〜９０％、Ｂ（硼）０．２〜８％からなる磁性母材
合金の表面に下地皮膜としてＮｉめっき層を有し、次い
でその下地皮膜の上に中間層としてＣｕめっき層を有
し、更に中間層の上の表層Ｎｉ・Ｐ合金めっき層を有す
る三層めっき構造とする、という技術的手段を採用し
た。なお、めっき層の形成手段としては緻密な皮膜が得
られる電気めっきが好ましい。
するために本発明では重量比でＲ（ここでは、Ｙを含む
希土類元素の１種又は２種以上の組合せ）５〜４０％、
ＴＭ（ここでＴＭは、Ｆｅを主体とする遷移金属であっ
て、一部を他の金属又は非金属元素で置換してよい。）
５０〜９０％、Ｂ（硼）０．２〜８％からなる磁性母材
合金の表面に下地皮膜としてＮｉめっき層を有し、次い
でその下地皮膜の上に中間層としてＣｕめっき層を有
し、更に中間層の上の表層Ｎｉ・Ｐ合金めっき層を有す
る三層めっき構造とする、という技術的手段を採用し
た。なお、めっき層の形成手段としては緻密な皮膜が得
られる電気めっきが好ましい。
【０００５】
【作用】磁石の材質と同程度のイオン化傾向を有するＮ
ｉでは置換めっき層が生成しにくいことから密着性の良
好なめっき膜が得られる。また、Ｎｉ電気めっきは膜質
が緻密なことからピンホールの生成も抑制できる。中間
層として銅めっきを形成する理由はＮｉめっきよりさら
に膜質が緻密なのでピンホールを完全に除去できること
による。表層にさらにＮｉ・Ｐめっき層を形成する理由
はＮｉ膜中にＰを含有させて非晶質化させることによ
り、耐食性を向上させることにある。なお、Ｐの含有量
としては非晶質相となる１〜１４％がよい。前記３層構
造を有するめっき層を形成することにより、ピンホール
のない耐食性に優れた実用的な耐食性磁性合金を提供す
ることができる。
ｉでは置換めっき層が生成しにくいことから密着性の良
好なめっき膜が得られる。また、Ｎｉ電気めっきは膜質
が緻密なことからピンホールの生成も抑制できる。中間
層として銅めっきを形成する理由はＮｉめっきよりさら
に膜質が緻密なのでピンホールを完全に除去できること
による。表層にさらにＮｉ・Ｐめっき層を形成する理由
はＮｉ膜中にＰを含有させて非晶質化させることによ
り、耐食性を向上させることにある。なお、Ｐの含有量
としては非晶質相となる１〜１４％がよい。前記３層構
造を有するめっき層を形成することにより、ピンホール
のない耐食性に優れた実用的な耐食性磁性合金を提供す
ることができる。
【０００６】本発明において、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ等のＴ
Ｍの一部を置換する元素は、その添加目的に応じて、Ｇ
ａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、
Ｔａ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、他を添加でき、本発明
はいかなるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石にも適用できる。ま
た、その製造方法は焼結法、溶湯急冷法あるいはそれら
の変形法のいずれの方法でもよい。製造方法としては、
有機溶剤の脱脂の後、めっきを施す。めっき前処理に関
しては、加工変質層の除去及びめっき前活性化を図る目
的で酸性溶液を用いるのがよい。硫酸や塩酸等の強酸が
めっき前活性化に有効であるが、磁石の材質への悪影響
を極力避けるためには、２〜１０ｖｏｌ％の硝酸による
エッチングが望ましい。
Ｍの一部を置換する元素は、その添加目的に応じて、Ｇ
ａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、
Ｔａ、Ｍｏ、Ｇｅ、Ｓｂ、Ｂｉ、他を添加でき、本発明
はいかなるＲ−ＴＭ−Ｂ系永久磁石にも適用できる。ま
た、その製造方法は焼結法、溶湯急冷法あるいはそれら
の変形法のいずれの方法でもよい。製造方法としては、
有機溶剤の脱脂の後、めっきを施す。めっき前処理に関
しては、加工変質層の除去及びめっき前活性化を図る目
的で酸性溶液を用いるのがよい。硫酸や塩酸等の強酸が
めっき前活性化に有効であるが、磁石の材質への悪影響
を極力避けるためには、２〜１０ｖｏｌ％の硝酸による
エッチングが望ましい。
【０００７】
【実施例】本発明の効果を実施例により具体的に説明す
る。Ｎｄ（Ｆｅ0.7Ｃｏ0.2Ｂ0.07Ｇａ0.03）6.5なる組
成の合金をアーク溶解炉にて作製し、得られたインゴッ
トをスタンプミルおよびディスクミルで粗粉砕した。そ
の後、Ｎ2ガスを粉砕媒体としてジェットミルで微粉砕
を行い、粉砕粒度３．５μｍの微粉砕粉を得た。得られ
た原料粉を成形圧力２ｔｏｎ／ｃｍ2、１５ｋＯｅの磁
場中で横磁場成形した。成形体を真空中１０９０℃で２
時間焼結し、その後、８×１０×６ｍｍの寸法に切り出
し、次いでアルゴン中で９００℃２時間、６００℃１時
間の熱処理を行った。得られた試料をアルカリ液で５分
間脱脂し、その後酸エッチングとして１０％硝酸溶液に
２分浸漬した。その後、表１に示した条件でＮｉ電気め
っき、Ｃｕ電気めっき、Ｎｉ・Ｐ合金電気めっきの順で
めっき層を形成し、これを試験片とした。
る。Ｎｄ（Ｆｅ0.7Ｃｏ0.2Ｂ0.07Ｇａ0.03）6.5なる組
成の合金をアーク溶解炉にて作製し、得られたインゴッ
トをスタンプミルおよびディスクミルで粗粉砕した。そ
の後、Ｎ2ガスを粉砕媒体としてジェットミルで微粉砕
を行い、粉砕粒度３．５μｍの微粉砕粉を得た。得られ
た原料粉を成形圧力２ｔｏｎ／ｃｍ2、１５ｋＯｅの磁
場中で横磁場成形した。成形体を真空中１０９０℃で２
時間焼結し、その後、８×１０×６ｍｍの寸法に切り出
し、次いでアルゴン中で９００℃２時間、６００℃１時
間の熱処理を行った。得られた試料をアルカリ液で５分
間脱脂し、その後酸エッチングとして１０％硝酸溶液に
２分浸漬した。その後、表１に示した条件でＮｉ電気め
っき、Ｃｕ電気めっき、Ｎｉ・Ｐ合金電気めっきの順で
めっき層を形成し、これを試験片とした。
【０００８】
【表１】
【０００９】表２には実施例および比較例のめっきの構
成及び膜厚を示す。
成及び膜厚を示す。
【００１０】
【表２】
【００１１】めっき後、密着性試験は引っ張り試験機
（セバスチャン１）により測定、恒温恒湿試験は８５℃
８５％湿度中で５００時間行い、プレッシャ−クッカー
試験は１２０℃×２気圧×１００％湿度で１００時間、
塩水噴霧試験は３５℃、５％食塩水で１００時間、フェ
ロキシル試験はＡＳＴＭ Ｂ−６８９に準拠して行っ
た。表３に試験結果を示す。
（セバスチャン１）により測定、恒温恒湿試験は８５℃
８５％湿度中で５００時間行い、プレッシャ−クッカー
試験は１２０℃×２気圧×１００％湿度で１００時間、
塩水噴霧試験は３５℃、５％食塩水で１００時間、フェ
ロキシル試験はＡＳＴＭ Ｂ−６８９に準拠して行っ
た。表３に試験結果を示す。
【００１２】
【表３】
【００１３】表３より、本発明の磁性合金は従来の磁性
合金と比較して、耐食性を著しく向上し得ることがわか
る。
合金と比較して、耐食性を著しく向上し得ることがわか
る。
【００１４】
【発明の効果】本発明により希土類と鉄を主体とした磁
性合金において、従来のめっきでは不十分であった耐食
性の顕著な向上が図られた。
性合金において、従来のめっきでは不十分であった耐食
性の顕著な向上が図られた。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ２３Ｃ 28/02
Claims (1)
- 【請求項１】 重量比でＲ（ここでは、Ｙを含む希土類
元素の１種又は２種以上の組合せ）５〜４０％、ＴＭ
（ここでＴＭは、Ｆｅを主体とする遷移金属であって、
一部を他の金属又は非金属元素で置換してよい。）５０
〜９０％、Ｂ（硼素）０．２〜８％からなる磁性母材合
金の表面に下地皮膜としてＮｉめっき層を有し、次いで
その下地皮膜の上に中間層としてＣｕめっき層を有し、
更にその中間層の上の表層としてＮｉ・Ｐ合金めっき層
を有する三層めっき構造を備えたことを特徴とする耐食
性磁性合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6126323A JPH07331486A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 耐食性磁性合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6126323A JPH07331486A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 耐食性磁性合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07331486A true JPH07331486A (ja) | 1995-12-19 |
Family
ID=14932346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6126323A Pending JPH07331486A (ja) | 1994-06-08 | 1994-06-08 | 耐食性磁性合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07331486A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102586776A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 沈阳中北通磁科技股份有限公司 | 一种钕铁硼永磁材料表面镀层工艺及钕铁硼永磁材料 |
| CN112195489A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-01-08 | 新疆德丰亿升石油防腐工程有限公司 | 一种管壁的防护镀层及电镀方法和应用 |
-
1994
- 1994-06-08 JP JP6126323A patent/JPH07331486A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102586776A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 沈阳中北通磁科技股份有限公司 | 一种钕铁硼永磁材料表面镀层工艺及钕铁硼永磁材料 |
| CN112195489A (zh) * | 2020-09-24 | 2021-01-08 | 新疆德丰亿升石油防腐工程有限公司 | 一种管壁的防护镀层及电镀方法和应用 |
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