JP3097656B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置及び
その製造方法に関し、特に、広視野角の特性を備えた液
晶表示装置及びその製造方法に関する。
その製造方法に関し、特に、広視野角の特性を備えた液
晶表示装置及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶表示装置は、薄型化及び軽
量化が可能であるため、種々の電子機器等の表示装置と
して用いられている。しかし、液晶表示素子はＣＲＴ等
と比較すると視野角が狭いという欠点を有する。そこ
で、従来から液晶表示装置の視野角を広くする技術が提
案されている。
量化が可能であるため、種々の電子機器等の表示装置と
して用いられている。しかし、液晶表示素子はＣＲＴ等
と比較すると視野角が狭いという欠点を有する。そこ
で、従来から液晶表示装置の視野角を広くする技術が提
案されている。
【０００３】図１０は、特開平７ー１９９１９３号公報
に開示された従来の液晶表示装置を示す斜視図である。
図１０に示すように、従来の液晶表示装置は、一方もし
くは両方の基板５０上の各画素５１に凸凹面５２を備え
ている。電圧が印加されると、基板５０の表面の構造で
決められた角度により基板５０，５０間の液晶分子５３
の立ち上がる方向が決定する。これによって、電圧印加
時に配向方向の異なった領域５４、５５を有し、各領域
５４、５５で互いに視覚特性を補償しあうので、広視野
の液晶表示装置が得られる。
に開示された従来の液晶表示装置を示す斜視図である。
図１０に示すように、従来の液晶表示装置は、一方もし
くは両方の基板５０上の各画素５１に凸凹面５２を備え
ている。電圧が印加されると、基板５０の表面の構造で
決められた角度により基板５０，５０間の液晶分子５３
の立ち上がる方向が決定する。これによって、電圧印加
時に配向方向の異なった領域５４、５５を有し、各領域
５４、５５で互いに視覚特性を補償しあうので、広視野
の液晶表示装置が得られる。
【０００４】図１１は、従来の液晶表示装置に用いられ
る基板の製造方法を工程順に示す断面図である。まず、
電極付き基板６０上に熱可塑性のレジスト６１を塗布す
る（図１１（Ａ）参照）。
る基板の製造方法を工程順に示す断面図である。まず、
電極付き基板６０上に熱可塑性のレジスト６１を塗布す
る（図１１（Ａ）参照）。
【０００５】次いで、レジスト６１の一部の領域を遮蔽
し露光することにより、不要部のレジストを溶解・除去
する。これによって、一部の領域にレジスト６１ａが残
る（図１１（Ｂ）参照）。
し露光することにより、不要部のレジストを溶解・除去
する。これによって、一部の領域にレジスト６１ａが残
る（図１１（Ｂ）参照）。
【０００６】次いで、基板６０を加熱することにより熱
可塑性レジストが変形し、凹凸構造面を備えた熱可塑性
レジスト６１ｂが形成される（図１１（Ｃ）参照）。
可塑性レジストが変形し、凹凸構造面を備えた熱可塑性
レジスト６１ｂが形成される（図１１（Ｃ）参照）。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来の液晶表示装置で
は、感光性のレジストを用いているため、全面露光など
の処置をしても、感光基の含まれていない同様の有機系
材料に比べ、透明性が悪く、表示が暗くなったり、色が
付いたりするという課題がある。
は、感光性のレジストを用いているため、全面露光など
の処置をしても、感光基の含まれていない同様の有機系
材料に比べ、透明性が悪く、表示が暗くなったり、色が
付いたりするという課題がある。
【０００８】また、従来の液晶表示装置に用いられる基
板の製造方法では、熱可塑性のレジストを変形すること
により、広い範囲で傾斜及び凹凸が形成される旨が上記
公報に記載されているが、実際に変形できるのは、レジ
スト６１ｃのようにレジスト残部の端部付近のみであ
り、広い範囲で傾斜及び凹凸を形成するのは困難である
（図１１（Ｄ）参照）。従って、従来の液晶表示装置で
は、均一な立ち上がり方向を保持するには規制力が足り
ず安定した配向状態を得ることができないという課題が
ある。
板の製造方法では、熱可塑性のレジストを変形すること
により、広い範囲で傾斜及び凹凸が形成される旨が上記
公報に記載されているが、実際に変形できるのは、レジ
スト６１ｃのようにレジスト残部の端部付近のみであ
り、広い範囲で傾斜及び凹凸を形成するのは困難である
（図１１（Ｄ）参照）。従って、従来の液晶表示装置で
は、均一な立ち上がり方向を保持するには規制力が足り
ず安定した配向状態を得ることができないという課題が
ある。
【０００９】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、透明性が高く、安定した配向状態を得
ることができる広視野角の特性を備えた液晶表示装置及
びその製造方法を提供することを目的とする。
れたものであり、透明性が高く、安定した配向状態を得
ることができる広視野角の特性を備えた液晶表示装置及
びその製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、一対の基板と、その一対の基板の間に配置される液
晶層と、を備えた液晶表示装置において、一方又は両方
の基板上に、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜
面が形成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決
める有機膜からなる配向制御傾斜部を有する、ことを特
徴とするものである。
は、一対の基板と、その一対の基板の間に配置される液
晶層と、を備えた液晶表示装置において、一方又は両方
の基板上に、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜
面が形成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決
める有機膜からなる配向制御傾斜部を有する、ことを特
徴とするものである。
【００１１】本発明の他の液晶表示装置は、第１の基板
と、第２の基板と、第１の基板及び第２の基板の間に配
置される液晶層と、を備えた液晶表示装置において、第
１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明基板上
に設けられた第１の透明電極と、その第１の透明電極上
に設けられ、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜
面が形成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決
める有機膜からなる配向制御傾斜部と、その配向制御傾
斜部上に被覆された第１の配向層と、を有し、第２の基
板は、第２の透明基板と、その第２の透明基板上に設け
られた第２の透明電極と、その第２の透明電極上に被覆
された第２の配向層と、を有することを特徴とするもの
である。
と、第２の基板と、第１の基板及び第２の基板の間に配
置される液晶層と、を備えた液晶表示装置において、第
１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明基板上
に設けられた第１の透明電極と、その第１の透明電極上
に設けられ、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜
面が形成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決
める有機膜からなる配向制御傾斜部と、その配向制御傾
斜部上に被覆された第１の配向層と、を有し、第２の基
板は、第２の透明基板と、その第２の透明基板上に設け
られた第２の透明電極と、その第２の透明電極上に被覆
された第２の配向層と、を有することを特徴とするもの
である。
【００１２】本発明のさらに他の液晶表示装置は、第１
の基板と、第２の基板と、第１の基板及び第２の基板の
間に配置される液晶層と、を備えた液晶表示装置におい
て、第１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明
基板上に設けられた画素電極と、その画素電極上に設け
られ、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形
成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有
機膜からなる第１の配向制御傾斜部と、その第１の配向
制御傾斜部上に被覆された第１の配向層と、を有し、第
２の基板は、第２の透明基板と、その第２の透明基板上
に設けられた対向電極と、その対向電極上に設けられ、
画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる第２の配向制御傾斜部と、その第２の配向制御
傾斜部上に被覆された第２の配向層と、を有し、第１及
び第２の配向制御傾斜部の傾斜面が互いに平行である、
ことを特徴とするものである。
の基板と、第２の基板と、第１の基板及び第２の基板の
間に配置される液晶層と、を備えた液晶表示装置におい
て、第１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明
基板上に設けられた画素電極と、その画素電極上に設け
られ、画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形
成され、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有
機膜からなる第１の配向制御傾斜部と、その第１の配向
制御傾斜部上に被覆された第１の配向層と、を有し、第
２の基板は、第２の透明基板と、その第２の透明基板上
に設けられた対向電極と、その対向電極上に設けられ、
画素内で異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる第２の配向制御傾斜部と、その第２の配向制御
傾斜部上に被覆された第２の配向層と、を有し、第１及
び第２の配向制御傾斜部の傾斜面が互いに平行である、
ことを特徴とするものである。
【００１３】上記配向制御傾斜部の傾斜方向が異なる境
界部分に不透明な遮蔽電極が配置されてもよい。
界部分に不透明な遮蔽電極が配置されてもよい。
【００１４】上記配向層には、液晶分子が基板に対して
ほぼ水平なプレティルト角を得られる配向膜が用いら
れ、液晶層には、誘電率異方性が正の液晶が用いられて
もよい。
ほぼ水平なプレティルト角を得られる配向膜が用いら
れ、液晶層には、誘電率異方性が正の液晶が用いられて
もよい。
【００１５】上記配向層には、液晶分子が基板に対して
ほぼ垂直なプレティルト角を得られる配向膜が用いら
れ、液晶層には、誘電率異方性が負の液晶が用いられて
もよい。
ほぼ垂直なプレティルト角を得られる配向膜が用いら
れ、液晶層には、誘電率異方性が負の液晶が用いられて
もよい。
【００１６】上記配向制御傾斜部を形成する有機膜は、
感光基を含まない有機系材料で作られるのが好ましい。
感光基を含まない有機系材料で作られるのが好ましい。
【００１７】上記配向制御傾斜部を形成する有機膜は、
例えば、アクリル樹脂、ポリシラザン、低温硬化型ポリ
シラザン又はベンゾシクロブテンからなる群から選択さ
れる材料で作られるのが好ましい。
例えば、アクリル樹脂、ポリシラザン、低温硬化型ポリ
シラザン又はベンゾシクロブテンからなる群から選択さ
れる材料で作られるのが好ましい。
【００１８】本発明の液晶表示装置の製造方法は、 （１）一方又は両方の基板の電極上に有機系材料を塗布
して有機膜を形成する工程と、 （２）有機膜上にフォトレジストを被覆する工程と、 （３）フォトレジストを露光する工程と、 （４）基板を現像液に浸して現像を行うとともに、現像
液により有機膜をウェットエッチングする工程と、 （５）フォトレジストを剥離する工程と、 （６）有機膜を加熱することにより有機膜を変形させ、
基板上に、異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる配向制御傾斜部を設ける工程と、 （７）配向制御傾斜部上に配向膜を被覆する工程と、を
有することを特徴とするものである。
して有機膜を形成する工程と、 （２）有機膜上にフォトレジストを被覆する工程と、 （３）フォトレジストを露光する工程と、 （４）基板を現像液に浸して現像を行うとともに、現像
液により有機膜をウェットエッチングする工程と、 （５）フォトレジストを剥離する工程と、 （６）有機膜を加熱することにより有機膜を変形させ、
基板上に、異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる配向制御傾斜部を設ける工程と、 （７）配向制御傾斜部上に配向膜を被覆する工程と、を
有することを特徴とするものである。
【００１９】上記現像液は、アルカリ現像液であり、有
機膜はアルカリ現像液に溶解する物質で作られる。
機膜はアルカリ現像液に溶解する物質で作られる。
【００２０】本発明の他の液晶表示装置の製造方法は、 （１）一方又は両方の基板の電極上に有機系材料を塗布
して有機膜を形成する工程と、 （２）有機膜上にフォトレジストを被覆する工程と、 （３）フォトレジストを露光する工程と、 （４）基板を現像液に浸して現像を行う工程と、 （５）有機膜をウェットエッチングする工程と、 （６）フォトレジストを剥離する工程と、 （７）有機膜を加熱することにより有機膜を変形させ、
基板上に、異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる配向制御傾斜部を設ける工程と、 （８）配向制御傾斜部上に配向膜を被覆する工程と、を
有することを特徴とするものである。
して有機膜を形成する工程と、 （２）有機膜上にフォトレジストを被覆する工程と、 （３）フォトレジストを露光する工程と、 （４）基板を現像液に浸して現像を行う工程と、 （５）有機膜をウェットエッチングする工程と、 （６）フォトレジストを剥離する工程と、 （７）有機膜を加熱することにより有機膜を変形させ、
基板上に、異なる方向に２つの緩やかな傾斜面が形成さ
れ、液晶の立ち上がり方向又は倒れ方向を決める有機膜
からなる配向制御傾斜部を設ける工程と、 （８）配向制御傾斜部上に配向膜を被覆する工程と、を
有することを特徴とするものである。
【００２１】上記現像液は、アルカリ現像液であり、有
機膜はアルカリ現像液に溶解しない物質で作られる。
機膜はアルカリ現像液に溶解しない物質で作られる。
【００２２】本発明の液晶表示装置によれば、配向制御
傾斜部が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形成
されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。また、
配向制御傾斜部は有機膜で形成されるので、透明性が良
好になる。
傾斜部が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形成
されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。また、
配向制御傾斜部は有機膜で形成されるので、透明性が良
好になる。
【００２３】本発明の製造方法によれば、厚膜化の可能
な有機膜をウェットエッチングした後、加熱することに
より配向制御傾斜部を形成するので、画素内で異なる方
向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部を確実に得る
ことができる。
な有機膜をウェットエッチングした後、加熱することに
より配向制御傾斜部を形成するので、画素内で異なる方
向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部を確実に得る
ことができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。図１（Ａ）は、本発明の第
１の実施の形態に係る液晶表示装置を示す断面図であ
る。
面を参照しながら説明する。図１（Ａ）は、本発明の第
１の実施の形態に係る液晶表示装置を示す断面図であ
る。
【００２５】図１（Ａ）に示すように、第１の実施の形
態に係る液晶表示装置は、画素基板１と、対向基板２
と、画素基板１及び対向基板２の間に配置される液晶層
３と、を備えている。
態に係る液晶表示装置は、画素基板１と、対向基板２
と、画素基板１及び対向基板２の間に配置される液晶層
３と、を備えている。
【００２６】画素基板１は、ガラス基板等の第１の透明
絶縁基板４と、第１の透明絶縁基板４上に設けられた画
素電極５と、その画素電極５上に設けられ、画素内で異
なる方向に緩やかに凹状に傾斜して形成され、有機膜で
作られた配向制御傾斜部６と、その配向制御傾斜部６上
に被覆された配向層７と、を有する。配向制御傾斜部６
を形成する有機膜は、例えば、アクリル樹脂、ポリシラ
ザン、低温硬化型ポリシラザン又はベンゾシクロブテン
等の材料で作られる。
絶縁基板４と、第１の透明絶縁基板４上に設けられた画
素電極５と、その画素電極５上に設けられ、画素内で異
なる方向に緩やかに凹状に傾斜して形成され、有機膜で
作られた配向制御傾斜部６と、その配向制御傾斜部６上
に被覆された配向層７と、を有する。配向制御傾斜部６
を形成する有機膜は、例えば、アクリル樹脂、ポリシラ
ザン、低温硬化型ポリシラザン又はベンゾシクロブテン
等の材料で作られる。
【００２７】対向基板２は、ガラス基板等の第２の透明
絶縁基板８と、第２の透明絶縁基板８上に設けられた対
向電極９と、その対向電極９上に被覆された配向層１０
と、を有する。
絶縁基板８と、第２の透明絶縁基板８上に設けられた対
向電極９と、その対向電極９上に被覆された配向層１０
と、を有する。
【００２８】画素電極５及び対向電極９は、ＩＴＯ（In
dium-Tin-Oxide 酸化インジウム錫）等の透明導電膜を
用いてスパッタ法等により形成される。
dium-Tin-Oxide 酸化インジウム錫）等の透明導電膜を
用いてスパッタ法等により形成される。
【００２９】画素基板１の配向層７と対向基板２の配向
層１０は、ポリイミド等で作られ、互いに対向するよう
に配置される。また、各配向層７、１０は液晶分子１１
が基板に対しほぼ水平に配向するような性質を持つもの
であり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が正の値を有す
るものである。
層１０は、ポリイミド等で作られ、互いに対向するよう
に配置される。また、各配向層７、１０は液晶分子１１
が基板に対しほぼ水平に配向するような性質を持つもの
であり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が正の値を有す
るものである。
【００３０】図１（Ｂ）は、画素基板１及び対向基板２
上の配向層７、１０に施されるラビングの方向を示す説
明図である。図１（Ｂ）に示すように、画素基板１の配
向層７は、矢印１２で示す方向にラビング処理され、対
向基板２の配向層１０は、矢印１３で示す方向にラビン
グ処理される。
上の配向層７、１０に施されるラビングの方向を示す説
明図である。図１（Ｂ）に示すように、画素基板１の配
向層７は、矢印１２で示す方向にラビング処理され、対
向基板２の配向層１０は、矢印１３で示す方向にラビン
グ処理される。
【００３１】なお、画素基板１には画素電極５を駆動さ
せる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ 図示せず）が設けられ
る。また、画素電極５及び対向電極９間で形成される画
素は、マトリックス状に複数配列される。
せる薄膜トランジスタ（ＴＦＴ 図示せず）が設けられ
る。また、画素電極５及び対向電極９間で形成される画
素は、マトリックス状に複数配列される。
【００３２】図８は、本発明の第１の実施の形態に係る
液晶表示装置の動作を説明するための説明図である。図
８に示すように、配向層７の性質に従い界面付近の液晶
分子１１は界面に対し角度Ｃのプレティルト角を有す
る。また、配向制御傾斜部６の基板４に対する傾斜角度
は角度Ｂとする。一方、配向層１０付近の液晶分子１１
は角度Ａのプレティルト角を有する。これらのような配
向制御力を与えると、配向層７付近での基板４に対し液
晶分子１１が有する角度は、領域αで（Ｂ−Ｃ）、領域
βでは（Ｂ＋Ｃ）となる。Ａにくらべて（Ｂ＋Ｃ）又は
（Ｂ−Ｃ）が大きいと基板に垂直方向の駆動電界１４を
加えたとき、液晶配向は（Ｂ＋Ｃ）又は（Ｂ−Ｃ）の角
度で規制される方向に立ち上がろうとする。
液晶表示装置の動作を説明するための説明図である。図
８に示すように、配向層７の性質に従い界面付近の液晶
分子１１は界面に対し角度Ｃのプレティルト角を有す
る。また、配向制御傾斜部６の基板４に対する傾斜角度
は角度Ｂとする。一方、配向層１０付近の液晶分子１１
は角度Ａのプレティルト角を有する。これらのような配
向制御力を与えると、配向層７付近での基板４に対し液
晶分子１１が有する角度は、領域αで（Ｂ−Ｃ）、領域
βでは（Ｂ＋Ｃ）となる。Ａにくらべて（Ｂ＋Ｃ）又は
（Ｂ−Ｃ）が大きいと基板に垂直方向の駆動電界１４を
加えたとき、液晶配向は（Ｂ＋Ｃ）又は（Ｂ−Ｃ）の角
度で規制される方向に立ち上がろうとする。
【００３３】例えば、Ａが１度、Ｂが５度、Ｃが１度の
場合、図８に示すように、領域αにおいて液晶分子１１
は基板に対し時計回り方向に立ち上がり、領域βでは基
板に対し反時計回り方向に立ち上がることになる。
場合、図８に示すように、領域αにおいて液晶分子１１
は基板に対し時計回り方向に立ち上がり、領域βでは基
板に対し反時計回り方向に立ち上がることになる。
【００３４】領域αと隣接する傾斜のない領域α’、領
域βと隣接する傾斜のない領域β’の分子は、ブレティ
ルト角Ａ及びＢが小さい場合、液晶の弾性力によりそれ
ぞれ領域α及び領域βの立ち上がり方向と同一の方向に
立ち上がる。
域βと隣接する傾斜のない領域β’の分子は、ブレティ
ルト角Ａ及びＢが小さい場合、液晶の弾性力によりそれ
ぞれ領域α及び領域βの立ち上がり方向と同一の方向に
立ち上がる。
【００３５】領域αと領域βで液晶配向方向（立ち上が
り方向）が異なれば、視覚を傾けたときの視野角特性を
画素内の各領域が互いに補い広視野な特性が得られる。
り方向）が異なれば、視覚を傾けたときの視野角特性を
画素内の各領域が互いに補い広視野な特性が得られる。
【００３６】このようにして、画素内で立ち上がり方向
の異なるドメインが形成され、広視野角の液晶表示装置
が得られる。
の異なるドメインが形成され、広視野角の液晶表示装置
が得られる。
【００３７】本発明の液晶表示装置によれば、配向制御
傾斜部６が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形
成されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。
傾斜部６が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形
成されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。
【００３８】また、配向制御傾斜部６は有機膜で形成さ
れるので、透明性が良好になり、表示が暗くなったり、
色が付いたりすることがなくなる。
れるので、透明性が良好になり、表示が暗くなったり、
色が付いたりすることがなくなる。
【００３９】なお、画素基板１の配向制御傾斜部６を凸
状に形成してもよい。
状に形成してもよい。
【００４０】図２は、本発明の液晶表示装置の製造方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【００４１】まず、一方の第１の透明絶縁基板４に、Ｉ
ＴＯ等からなる画素電極５（透明電極）をスパッタ法に
より形成する。
ＴＯ等からなる画素電極５（透明電極）をスパッタ法に
より形成する。
【００４２】次いで、スピンコーティングによって厚さ
が３μｍになるように有機溶剤で希釈された有機膜材料
（例えば、アクリル樹脂）を画素電極５上に塗布する。
そして、摂氏１００℃のホットプレート上で１分間加熱
し仮焼成を行い、有機膜１６を形成する。
が３μｍになるように有機溶剤で希釈された有機膜材料
（例えば、アクリル樹脂）を画素電極５上に塗布する。
そして、摂氏１００℃のホットプレート上で１分間加熱
し仮焼成を行い、有機膜１６を形成する。
【００４３】次いで、有機膜１６の上層にフォトレジス
ト１７をスピンコーティングにより形成し、摂氏８０℃
のホットプレート上で１分間加熱し仮焼成を行う（図２
（Ａ）参照）。
ト１７をスピンコーティングにより形成し、摂氏８０℃
のホットプレート上で１分間加熱し仮焼成を行う（図２
（Ａ）参照）。
【００４４】次いで、ステッパーを用いて１００Ｊ／ｃ
ｍ２程度のエネルギーの光を照射しフォトレジスト１７
を露光する（図２（Ｂ）参照）。
ｍ２程度のエネルギーの光を照射しフォトレジスト１７
を露光する（図２（Ｂ）参照）。
【００４５】次いで、第１の透明絶縁基板４をアルカリ
現像液（ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムオキサイ
ド）：２．３８％含有）中に１４０秒浸し、現像を行
う。ここで用いたフォトレジスト１７はポジ型レジスト
であるので光が照射された部分のレジストが次の工程で
ある現像時に現像液中に溶解する。ここで用いた有機膜
１６は、摂氏１００℃程度で焼成した場合にはアルカリ
現像液に溶解する性質を持つため、現像と同時に有機膜
１６のウェットエッチングが行われる（図２（Ｃ）参
照）。ウェットエッチングは等方性エッチングであるの
でエッチングされた面に傾斜面が形成されるため、後工
程の配向制御傾斜部６を形成する際により広い範囲にわ
たって連続的な配向制御傾斜部６を形成することがで
き、液晶の配向方向を効果的に制御することができる。
現像液（ＴＭＡＨ（テトラメチルアンモニウムオキサイ
ド）：２．３８％含有）中に１４０秒浸し、現像を行
う。ここで用いたフォトレジスト１７はポジ型レジスト
であるので光が照射された部分のレジストが次の工程で
ある現像時に現像液中に溶解する。ここで用いた有機膜
１６は、摂氏１００℃程度で焼成した場合にはアルカリ
現像液に溶解する性質を持つため、現像と同時に有機膜
１６のウェットエッチングが行われる（図２（Ｃ）参
照）。ウェットエッチングは等方性エッチングであるの
でエッチングされた面に傾斜面が形成されるため、後工
程の配向制御傾斜部６を形成する際により広い範囲にわ
たって連続的な配向制御傾斜部６を形成することがで
き、液晶の配向方向を効果的に制御することができる。
【００４６】次いで、現像後、摂氏１３０℃のホットプ
レート上でポストベークを行う。この工程は有機膜１６
の架橋反応を促進し、後のレジスト剥離工程で有機膜１
６が剥離液に溶解しにくくするために行われる。その
後、基板の全面に対して３００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギ
ー密度の光で露光を行う。この工程は後のレジスト剥離
工程で、フォトレジスト１７が剥離されやすくするため
に行われる。
レート上でポストベークを行う。この工程は有機膜１６
の架橋反応を促進し、後のレジスト剥離工程で有機膜１
６が剥離液に溶解しにくくするために行われる。その
後、基板の全面に対して３００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギ
ー密度の光で露光を行う。この工程は後のレジスト剥離
工程で、フォトレジスト１７が剥離されやすくするため
に行われる。
【００４７】次いで、剥離液に９０秒浸すことによりフ
ォトレジスト１７を剥離する（図２（Ｄ）参照）。
ォトレジスト１７を剥離する（図２（Ｄ）参照）。
【００４８】次いで、オーブンによって、有機膜１６の
ガラス転移点摂氏２００℃より高温の雰囲気で、例えば
摂氏３００℃で３０分加熱すると、有機膜１６の形状が
変化し、緩やかな傾斜面が形成され配向制御傾斜部６が
形成される（図２（Ｅ）参照）。傾斜が形成される範囲
は有機膜１６の成膜条件、エッチングの条件を適宜選択
することによりエッチング端部から約１００μｍまでの
領域までは充分に連続した傾斜の形成が可能である。従
って、通常の液晶表示装置の画素サイズが２００〜３５
０μｍであるので、画素内にエッチング部を形成するこ
とにより、画素の大部分を傾斜させることも可能とな
る。
ガラス転移点摂氏２００℃より高温の雰囲気で、例えば
摂氏３００℃で３０分加熱すると、有機膜１６の形状が
変化し、緩やかな傾斜面が形成され配向制御傾斜部６が
形成される（図２（Ｅ）参照）。傾斜が形成される範囲
は有機膜１６の成膜条件、エッチングの条件を適宜選択
することによりエッチング端部から約１００μｍまでの
領域までは充分に連続した傾斜の形成が可能である。従
って、通常の液晶表示装置の画素サイズが２００〜３５
０μｍであるので、画素内にエッチング部を形成するこ
とにより、画素の大部分を傾斜させることも可能とな
る。
【００４９】次いで、配向制御傾斜部６の上部にポリイ
ミド等を塗布焼成し配向層７を形成し、画素基板１が得
られる（図２（Ｆ）参照）。
ミド等を塗布焼成し配向層７を形成し、画素基板１が得
られる（図２（Ｆ）参照）。
【００５０】他方の第２の透明絶縁基板８上には、画素
基板１と同様にＩＴＯ等からなる対向電極９を形成し、
その対向電極９の上部に配向層１０を形成し、対向基板
２が得られる。
基板１と同様にＩＴＯ等からなる対向電極９を形成し、
その対向電極９の上部に配向層１０を形成し、対向基板
２が得られる。
【００５１】次いで、画素基板１の配向層７を図１
（Ｂ）の矢印１２で示す方向にラビング処理し、対向基
板２の配向層１０を図１（Ｂ）の矢印１３で示す方向に
ラビング処理する。
（Ｂ）の矢印１２で示す方向にラビング処理し、対向基
板２の配向層１０を図１（Ｂ）の矢印１３で示す方向に
ラビング処理する。
【００５２】次いで、上下の画素基板１及び対向基板２
を重ねあわせ、基板間に誘電率異方性が正の値をとるネ
マティック液晶を注入する。
を重ねあわせ、基板間に誘電率異方性が正の値をとるネ
マティック液晶を注入する。
【００５３】次いで、重ね合わせた画素基板１及び対向
基板２を、それぞれの偏光軸が図１（Ｂ）の矢印１８で
示すようにラビング方向と４５度になるように互いに９
０度クロスさせた２枚の偏光板で挟む。
基板２を、それぞれの偏光軸が図１（Ｂ）の矢印１８で
示すようにラビング方向と４５度になるように互いに９
０度クロスさせた２枚の偏光板で挟む。
【００５４】本発明の製造方法によれば、厚膜化の可能
な有機膜１６をウェットエッチングした後、加熱するこ
とにより配向制御傾斜部６を形成するので、画素内で異
なる方向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部６を確
実に得ることができる。
な有機膜１６をウェットエッチングした後、加熱するこ
とにより配向制御傾斜部６を形成するので、画素内で異
なる方向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部６を確
実に得ることができる。
【００５５】なお、上記製造方法では、フォトレジスト
１７の現像と有機膜１６のウェットエッチングを同時に
行ったが、アルカリ現像液に溶解しない有機膜１６（例
えば、ポリシラザン、低温硬化型ポリシラザン、ベンゾ
シクロブテン）を用いた場合には現像と有機膜１６のウ
ェットエッチングを別々に行ってもよい。
１７の現像と有機膜１６のウェットエッチングを同時に
行ったが、アルカリ現像液に溶解しない有機膜１６（例
えば、ポリシラザン、低温硬化型ポリシラザン、ベンゾ
シクロブテン）を用いた場合には現像と有機膜１６のウ
ェットエッチングを別々に行ってもよい。
【００５６】また、有機膜１６の材料としてポリシラザ
ン又は低温硬化型ポリシラザンを用いると一般的な有機
系の材料に比べ、熱収縮が少なく、緻密な絶縁膜が得ら
れる。その結果、膜形成時の収縮ストレスによるクラッ
クの発生がなく、しかも緻密な膜を得られるので不純物
による表示不良の少ない高品位な液晶表示装置が得られ
る。
ン又は低温硬化型ポリシラザンを用いると一般的な有機
系の材料に比べ、熱収縮が少なく、緻密な絶縁膜が得ら
れる。その結果、膜形成時の収縮ストレスによるクラッ
クの発生がなく、しかも緻密な膜を得られるので不純物
による表示不良の少ない高品位な液晶表示装置が得られ
る。
【００５７】図３は、本発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示装置を表す断面図である。
液晶表示装置を表す断面図である。
【００５８】第２の実施の形態では、配向層７は液晶分
子１１が基板４に対しほぼ垂直に配向するような性質を
持つものであり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が負の
値を有するものである。なお、その他の画素基板１及び
対向基板２の構造及び製造方法は第１の実施の形態と同
様である。
子１１が基板４に対しほぼ垂直に配向するような性質を
持つものであり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が負の
値を有するものである。なお、その他の画素基板１及び
対向基板２の構造及び製造方法は第１の実施の形態と同
様である。
【００５９】また、それぞれの偏光軸が液晶分子１１の
倒れる方向と４５度になるように９０度クロスさせた２
枚の偏光板で挟んでいる。
倒れる方向と４５度になるように９０度クロスさせた２
枚の偏光板で挟んでいる。
【００６０】図９は、本発明の第２の実施の形態に係る
液晶表示装置の動作を説明するための説明図である。図
９に示すように、配向層７の性質に従い界面付近の液晶
分子１１は界面に対し９０度の角度を有する。また、配
向制御傾斜部６の基板４に対する傾斜角度を角度Ｂとす
る。これらのような配向制御力を与えると、画素基板１
付近で基板４に対し液晶分子１１が有する角度は、図９
の領域αで（９０＋Ｂ）、領域βでは（９０−Ｂ）とな
る。液晶の誘電率異方性が負であるので、電圧印加時に
液晶分子１１は角度（９０＋Ｂ）又は（９０−Ｂ）で規
制される方向に倒れようとする。その結果、液晶配向方
向（倒れ方向）が異なる領域が各画素内に発生し、視覚
を傾けたときの視野角特性を画素内の各領域が互いに補
い広視野な特性が得られる。
液晶表示装置の動作を説明するための説明図である。図
９に示すように、配向層７の性質に従い界面付近の液晶
分子１１は界面に対し９０度の角度を有する。また、配
向制御傾斜部６の基板４に対する傾斜角度を角度Ｂとす
る。これらのような配向制御力を与えると、画素基板１
付近で基板４に対し液晶分子１１が有する角度は、図９
の領域αで（９０＋Ｂ）、領域βでは（９０−Ｂ）とな
る。液晶の誘電率異方性が負であるので、電圧印加時に
液晶分子１１は角度（９０＋Ｂ）又は（９０−Ｂ）で規
制される方向に倒れようとする。その結果、液晶配向方
向（倒れ方向）が異なる領域が各画素内に発生し、視覚
を傾けたときの視野角特性を画素内の各領域が互いに補
い広視野な特性が得られる。
【００６１】第２の実施の形態によれば、配向制御傾斜
部６により液晶の倒れ方向を規制することができるた
め、ラビングの必要がなく、製造工程を短縮できるとい
う効果がある。
部６により液晶の倒れ方向を規制することができるた
め、ラビングの必要がなく、製造工程を短縮できるとい
う効果がある。
【００６２】図４（Ａ）は、本発明の第３の実施の形態
に係る液晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板
１及び対向基板２上の配向層７、１０に施されるラビン
グの方向を示す説明図である。
に係る液晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板
１及び対向基板２上の配向層７、１０に施されるラビン
グの方向を示す説明図である。
【００６３】第３の実施の形態では、一方の第１の透明
絶縁基板４上に不透明な遮蔽電極２０が、液晶分子１１
の配向方向（立ち上がり方向）が変化する部分に設置さ
れる。遮蔽電極２０の上層には画素電極５が電気的に接
続されるように設置される。なお、その他の画素基板
１、対向基板２及び液晶層３の構造及び製造方法は第１
の実施の形態と同様である。
絶縁基板４上に不透明な遮蔽電極２０が、液晶分子１１
の配向方向（立ち上がり方向）が変化する部分に設置さ
れる。遮蔽電極２０の上層には画素電極５が電気的に接
続されるように設置される。なお、その他の画素基板
１、対向基板２及び液晶層３の構造及び製造方法は第１
の実施の形態と同様である。
【００６４】一般に、液晶分子１１は、その分子配向が
不連続に切り替わる部分で欠陥（以下、ディスクリネー
ションという）が生じ、黒表示時には光漏れとして観測
される。このようなディスクリネーションが生じると、
コントラストが低下し、高品位な表示が得られない。
不連続に切り替わる部分で欠陥（以下、ディスクリネー
ションという）が生じ、黒表示時には光漏れとして観測
される。このようなディスクリネーションが生じると、
コントラストが低下し、高品位な表示が得られない。
【００６５】しかし、第３の実施の形態によれば、この
ディスクリネーションが発生する立ち上がり方向の変化
する部分（図４（Ａ）中のＴで示す部分）を不透明な遮
蔽電極２０で遮光できるため、コントラストが低下せ
ず、より高品位な画質を得ることができる。
ディスクリネーションが発生する立ち上がり方向の変化
する部分（図４（Ａ）中のＴで示す部分）を不透明な遮
蔽電極２０で遮光できるため、コントラストが低下せ
ず、より高品位な画質を得ることができる。
【００６６】図５は、本発明の第４の実施の形態に係る
液晶表示装置を示す断面図である。
液晶表示装置を示す断面図である。
【００６７】第４の実施の形態では、対向基板２の対向
電極９上に配向制御傾斜部３０が設けられる。この対向
基板２の配向制御傾斜部３０の傾斜面は、画素基板１の
配向制御傾斜部６の傾斜面と互いに平行になるように形
成される。すなわち、画素基板１の配向制御傾斜部６が
凹状に形成され、対向基板２の配向制御傾斜部３０が凸
状に形成される。なお、画素基板１の配向制御傾斜部６
が凸状に形成され、対向基板２の配向制御傾斜部３０が
凹状に形成されてもよい。対向基板２の配向制御傾斜部
３０の上層には配向層１０が設けられる。
電極９上に配向制御傾斜部３０が設けられる。この対向
基板２の配向制御傾斜部３０の傾斜面は、画素基板１の
配向制御傾斜部６の傾斜面と互いに平行になるように形
成される。すなわち、画素基板１の配向制御傾斜部６が
凹状に形成され、対向基板２の配向制御傾斜部３０が凸
状に形成される。なお、画素基板１の配向制御傾斜部６
が凸状に形成され、対向基板２の配向制御傾斜部３０が
凹状に形成されてもよい。対向基板２の配向制御傾斜部
３０の上層には配向層１０が設けられる。
【００６８】画素基板１と対向基板２は配向層７、１０
同士が向かい合うように設置され、向かい合う配向層
７，１０の間には液晶層３が設けられる。
同士が向かい合うように設置され、向かい合う配向層
７，１０の間には液晶層３が設けられる。
【００６９】なお、第４の実施の形態で用いられる配向
層７，１０は液晶分子１１が基板に対しほぼ平行に配向
するような性質を持つものであり、液晶層３の液晶は誘
電率異方性が正の値を有するものである。
層７，１０は液晶分子１１が基板に対しほぼ平行に配向
するような性質を持つものであり、液晶層３の液晶は誘
電率異方性が正の値を有するものである。
【００７０】また、画素基板１及び対向基板２のそれぞ
れの偏光軸が液晶分子１１の倒れる方向と４５度になる
ように互いに９０度クロスさせた２枚の偏光板で挟んで
いる。
れの偏光軸が液晶分子１１の倒れる方向と４５度になる
ように互いに９０度クロスさせた２枚の偏光板で挟んで
いる。
【００７１】図６は、本発明の第４の実施の形態に係る
液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。図２は、
配向制御傾斜部６が凹状に形成された画素基板１の製造
方法を示したが、図６は、配向制御傾斜部３０が凸状に
形成された対向基板２の製造方法を示す。なお、温度等
の各種条件は図２に示す製造方法の場合と同様である。
液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。図２は、
配向制御傾斜部６が凹状に形成された画素基板１の製造
方法を示したが、図６は、配向制御傾斜部３０が凸状に
形成された対向基板２の製造方法を示す。なお、温度等
の各種条件は図２に示す製造方法の場合と同様である。
【００７２】まず、第２の透明絶縁基板８に、ＩＴＯ等
からなる対向電極９（透明電極）をスパッタ法により形
成する。
からなる対向電極９（透明電極）をスパッタ法により形
成する。
【００７３】次いで、スピンコーティングによって有機
溶剤で希釈された有機膜材料（例えば、アクリル樹脂）
を対向電極９上に塗布する。そして、ホットプレート上
で加熱し仮焼成を行い、有機膜１６を形成する。
溶剤で希釈された有機膜材料（例えば、アクリル樹脂）
を対向電極９上に塗布する。そして、ホットプレート上
で加熱し仮焼成を行い、有機膜１６を形成する。
【００７４】次いで、有機膜１６の上層にフォトレジス
ト１７をスピンコーティングにより形成し、ホットプレ
ート上で加熱し仮焼成を行う（図６（Ａ）参照）。
ト１７をスピンコーティングにより形成し、ホットプレ
ート上で加熱し仮焼成を行う（図６（Ａ）参照）。
【００７５】次いで、ステッパーを用いて光を照射しフ
ォトレジスト１７を露光する（図６（Ｂ）参照）。その
際、画素の両端部を露光する。
ォトレジスト１７を露光する（図６（Ｂ）参照）。その
際、画素の両端部を露光する。
【００７６】次いで、第２の透明絶縁基板８をアルカリ
現像液中に浸し、現像を行う。ここで用いたフォトレジ
スト１７はポジ型レジストであるので光が照射された部
分のレジストが次の工程である現像時に現像液中に溶解
する。ここで用いた有機膜１６は、アルカリ現像液に溶
解する性質を持つため、現像と同時に有機膜１６のウェ
ットエッチングが行われる（図６（Ｃ）参照）。ウェッ
トエッチングは等方性エッチングであるのでエッチング
された面に傾斜面が形成されるため、後工程の配向制御
傾斜部３０を形成する際により広い範囲にわたって連続
的な配向制御傾斜部３０を形成することができ、液晶の
配向方向を効果的に制御することができる。
現像液中に浸し、現像を行う。ここで用いたフォトレジ
スト１７はポジ型レジストであるので光が照射された部
分のレジストが次の工程である現像時に現像液中に溶解
する。ここで用いた有機膜１６は、アルカリ現像液に溶
解する性質を持つため、現像と同時に有機膜１６のウェ
ットエッチングが行われる（図６（Ｃ）参照）。ウェッ
トエッチングは等方性エッチングであるのでエッチング
された面に傾斜面が形成されるため、後工程の配向制御
傾斜部３０を形成する際により広い範囲にわたって連続
的な配向制御傾斜部３０を形成することができ、液晶の
配向方向を効果的に制御することができる。
【００７７】次いで、現像後、ホットプレート上でポス
トベークを行う。この工程は有機膜１６の架橋反応を促
進し、後のレジスト剥離工程で有機膜１６が剥離液に溶
解しにくくするために行われる。その後、基板の全面に
対して露光を行う。この工程は後のレジスト剥離工程
で、フォトレジスト１７が剥離されやすくするために行
われる。
トベークを行う。この工程は有機膜１６の架橋反応を促
進し、後のレジスト剥離工程で有機膜１６が剥離液に溶
解しにくくするために行われる。その後、基板の全面に
対して露光を行う。この工程は後のレジスト剥離工程
で、フォトレジスト１７が剥離されやすくするために行
われる。
【００７８】次いで、剥離液に浸すことによりフォトレ
ジスト１７を剥離する（図６（Ｄ）参照）。
ジスト１７を剥離する（図６（Ｄ）参照）。
【００７９】次いで、オーブンによって加熱すると、有
機膜１６の形状が変化し、緩やかな傾斜面が形成され配
向制御傾斜部３０が形成される（図６（Ｅ）参照）。傾
斜が形成される範囲は有機膜１６の成膜条件、エッチン
グの条件を適宜選択することにより充分に連続した傾斜
の形成が可能である。
機膜１６の形状が変化し、緩やかな傾斜面が形成され配
向制御傾斜部３０が形成される（図６（Ｅ）参照）。傾
斜が形成される範囲は有機膜１６の成膜条件、エッチン
グの条件を適宜選択することにより充分に連続した傾斜
の形成が可能である。
【００８０】次いで、配向制御傾斜部３０の上部にポリ
イミド等を塗布焼成し配向層１０を形成し、対向基板２
が得られる（図６（Ｆ）参照）。
イミド等を塗布焼成し配向層１０を形成し、対向基板２
が得られる（図６（Ｆ）参照）。
【００８１】図７は、本発明の第５の実施の形態に係る
液晶表示装置を示す断面図である。
液晶表示装置を示す断面図である。
【００８２】第５の実施の形態では、配向層７は液晶分
子１１が基板に対しほぼ垂直に配向するような性質を持
つものであり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が負の値
を有するものである。その他の画素基板１及び対向基板
２の構造及び製造方法は第４の実施の形態と同様であ
る。
子１１が基板に対しほぼ垂直に配向するような性質を持
つものであり、液晶層３の液晶は誘電率異方性が負の値
を有するものである。その他の画素基板１及び対向基板
２の構造及び製造方法は第４の実施の形態と同様であ
る。
【００８３】また、それぞれの偏光軸が液晶分子１１の
倒れる方向と４５度になるように互いに９０度クロスさ
せた２枚の偏光板で挟んでいる。
倒れる方向と４５度になるように互いに９０度クロスさ
せた２枚の偏光板で挟んでいる。
【００８４】第４の実施の形態及び第５の実施の形態に
よれば、画素基板１だけでなく対向基板２にも配向制御
傾斜部３０が設けられ、画素基板１及び対向基板２の配
向制御傾斜部６、３０の対向面がそれぞれ平行になるよ
うに配置されているため、液晶層３のバルク中の液晶の
ティルト角が安定する。その結果、液晶の立ち上がり方
向が安定しドメインの配向安定性が高くなる。
よれば、画素基板１だけでなく対向基板２にも配向制御
傾斜部３０が設けられ、画素基板１及び対向基板２の配
向制御傾斜部６、３０の対向面がそれぞれ平行になるよ
うに配置されているため、液晶層３のバルク中の液晶の
ティルト角が安定する。その結果、液晶の立ち上がり方
向が安定しドメインの配向安定性が高くなる。
【００８５】本発明は、上記実施の形態に限定されるこ
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲内において、種々の変更が可能である。
とはなく、特許請求の範囲に記載された技術的事項の範
囲内において、種々の変更が可能である。
【００８６】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、配向制
御傾斜部が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形
成されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。
御傾斜部が、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形
成されるので、ドメインの配向安定性が高くなる。
【００８７】また、配向制御傾斜部は有機膜で形成され
るので、透明性が良好になり、表示が暗くなったり、色
が付いたりすることがなくなる。
るので、透明性が良好になり、表示が暗くなったり、色
が付いたりすることがなくなる。
【００８８】本発明の製造方法によれば、厚膜化の可能
な有機膜をウェットエッチングした後、加熱することに
より配向制御傾斜部を形成するので、画素内で異なる方
向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部を確実に得る
ことができる。
な有機膜をウェットエッチングした後、加熱することに
より配向制御傾斜部を形成するので、画素内で異なる方
向に緩やかに広く傾斜した配向制御傾斜部を確実に得る
ことができる。
【図１】（Ａ）は、本発明の第１の実施の形態に係る液
晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板及び対向
基板上の配向層に施されるラビングの方向を示す説明図
である。
晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板及び対向
基板上の配向層に施されるラビングの方向を示す説明図
である。
【図２】本発明の液晶表示装置の製造方法を工程順に示
す断面図である。
す断面図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置
を表す断面図である
を表す断面図である
【図４】（Ａ）は、本発明の第３の実施の形態に係る液
晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板及び対向
基板上の配向層に施されるラビングの方向を示す説明図
である。
晶表示装置を示す断面図、（Ｂ）は、画素基板及び対向
基板上の配向層に施されるラビングの方向を示す説明図
である。
【図５】本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置
を表す断面図である
を表す断面図である
【図６】本発明の液晶表示装置の製造方法を工程順に示
す断面図である。
す断面図である。
【図７】本発明の第５の実施の形態に係る液晶表示装置
を表す断面図である
を表す断面図である
【図８】本発明の第１の実施の形態に係る液晶表示装置
の動作を説明するための説明図である。
の動作を説明するための説明図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態に係る液晶表示装置
の動作を説明するための説明図である。
の動作を説明するための説明図である。
【図１０】従来の液晶表示装置を示す斜視図である。
【図１１】従来の液晶表示装置に用いられる基板の製造
方法を工程順に示す断面図である。
方法を工程順に示す断面図である。
１：画素基板（第１の基板） ２：対向基板（第２の基板） ３：液晶層 ４：第１の透明絶縁基板（第１の透明基板） ５：画素電極 ６：配向制御傾斜部（第１の配向制御傾斜部） ７：配向層（第１の配向層） ８：第２の透明絶縁基板（第２の透明基板） ９：対向電極 １０：配向層（第２の配向層） １１：液晶分子 １６：有機膜 １７：フォトレジスト ２０：遮蔽電極 ３０：配向制御傾斜部（第２の配向制御傾斜部）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３０８ Ｇ０９Ｆ 9/35 ３０８ ３４５ ３４５ // Ｂ０５Ｄ 1/32 Ｂ０５Ｄ 1/32 Ｚ (56)参考文献 特開 平５−53513（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−134244（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−146095（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−268532（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−64211（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−264998（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−33929（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1337 520 B05D 3/10 B05D 5/06 104 B05D 7/00 G02F 1/1343 G09F 9/35 308 G09F 9/35 345 B05D 1/32
Claims (2)
- 【請求項１】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の
基板及び第２の基板の間に配置される液晶層と、を備え
た液晶表示装置において、 前記第１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明
基板上に設けられた第１の透明電極と、その第１の透明
電極上に設けられ、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜
して形成され、有機膜からなる配向制御傾斜部と、その
配向制御傾斜部上に被覆された第１の配向層と、前記配
向制御傾斜部境界部分に配置した不透明な遮蔽電極を有
し、 前記第２の基板は、第２の透明基板と、その第２の透明
基板上に設けられた第２の透明電極と、その第２の透明
電極上に被覆された第２の配向層と、を有することを特
徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】第１の基板と、第２の基板と、前記第１の
基板及び第２の基板の間に配置される液晶層と、を備え
た液晶表示装置において、 前記第１の基板は、第１の透明基板と、その第１の透明
基板上に設けられた画素電極と、その画素電極上に設け
られ、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形成さ
れ、有機膜からなる第１の配向制御傾斜部と、その第１
の配向制御傾斜部上に被覆された第１の配向層と前記配
向制御傾斜部境界部分に配置した不透明な遮蔽電極を有
し、 前記第２の基板は、第２の透明基板と、その第２の透明
基板上に設けられた対向電極と、その対向電極上に設け
られ、画素内で異なる方向に緩やかに傾斜して形成さ
れ、有機膜からなる第２の配向制御傾斜部と、その第２
の配向制御傾斜部上に被覆された第２の配向層と、を有
し、 前記第１及び第２の配向制御傾斜部の対向面がほぼ平行
である、 ことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP10129379A JP3097656B2 (ja) | 1998-05-13 | 1998-05-13 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US09/307,741 US6476894B1 (en) | 1998-05-13 | 1999-05-10 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| TW088107609A TW476056B (en) | 1998-05-13 | 1999-05-11 | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| KR1019990016763A KR100359353B1 (ko) | 1998-05-13 | 1999-05-11 | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
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| US10/255,682 US6717643B2 (en) | 1998-05-13 | 2002-09-27 | Liquid crystal display device |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10129379A JP3097656B2 (ja) | 1998-05-13 | 1998-05-13 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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| JPH11326910A JPH11326910A (ja) | 1999-11-26 |
| JP3097656B2 true JP3097656B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=15008133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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| KR (1) | KR100359353B1 (ja) |
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| KR100709709B1 (ko) * | 2000-07-27 | 2007-04-19 | 삼성전자주식회사 | 수직 배향형 액정 표시 장치 |
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| KR100431052B1 (ko) * | 2001-10-08 | 2004-05-12 | 주식회사 네오텍리서치 | 표면 굴곡에 의하여 형성된 다중 영역 효과를 가지는 액정표시 장치 |
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| KR100720421B1 (ko) * | 2002-07-13 | 2007-05-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 및 그 제조방법 |
| CN100549770C (zh) * | 2003-12-03 | 2009-10-14 | 三星电子株式会社 | 液晶显示器及其面板 |
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| KR20070003412A (ko) * | 2005-07-01 | 2007-01-05 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
| KR20070008290A (ko) * | 2005-07-13 | 2007-01-17 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 이를 위한 표시판 |
| KR20090082101A (ko) * | 2006-11-21 | 2009-07-29 | 소니 가부시끼 가이샤 | 액정 표시 패널 및 액정 표시 패널의 제조 방법 |
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| CN104460116B (zh) * | 2014-12-19 | 2017-03-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种液晶显示面板、其制作方法及显示装置 |
| CN104765200B (zh) * | 2015-05-06 | 2017-12-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示面板及显示装置 |
| CN104880882B (zh) * | 2015-06-12 | 2018-03-02 | 武汉华星光电技术有限公司 | 一种蓝相液晶显示面板 |
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| CN115202104B (zh) * | 2022-07-29 | 2023-06-16 | 惠科股份有限公司 | 显示面板和显示装置 |
Family Cites Families (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5764211A (en) | 1980-10-08 | 1982-04-19 | Canon Inc | Liquid crystal display device |
| JPH05150244A (ja) * | 1991-02-20 | 1993-06-18 | Canon Inc | 強誘電液晶素子 |
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| JPH05134244A (ja) | 1991-10-04 | 1993-05-28 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示素子 |
| US5438421A (en) | 1991-04-24 | 1995-08-01 | Alps Electric Co., Ltd. | Orientation film of liquid crystal having bilaterally asymmetric ridges separated by grooves |
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| JP2634352B2 (ja) | 1992-03-16 | 1997-07-23 | 東京応化工業株式会社 | 配向膜 |
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| JP2927625B2 (ja) | 1992-10-27 | 1999-07-28 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置およびその製造方法 |
| JPH06160856A (ja) * | 1992-11-17 | 1994-06-07 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
| JP2837084B2 (ja) * | 1993-12-13 | 1998-12-14 | ベターマスク株式会社 | 内燃機関内部の洗浄・コーティング用組成物および同組成物を用いた内燃機関内部の洗浄・コーティング方法 |
| JP2735998B2 (ja) * | 1993-08-17 | 1998-04-02 | スタンレー電気株式会社 | 液晶表示素子と液晶配向処理方法及び液晶表示素子の製造方法 |
| JP3043211B2 (ja) | 1993-12-03 | 2000-05-22 | 富士通株式会社 | 液晶表示装置 |
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| JPH07294937A (ja) * | 1994-04-28 | 1995-11-10 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示素子 |
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| EP0733228B1 (en) * | 1994-10-06 | 2003-04-23 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Display device |
| JPH08114804A (ja) * | 1994-10-14 | 1996-05-07 | Sharp Corp | 液晶表示素子およびその製造方法 |
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| JPH09146095A (ja) | 1995-11-17 | 1997-06-06 | Sharp Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JPH09211458A (ja) * | 1996-02-05 | 1997-08-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示素子 |
| JP3317637B2 (ja) * | 1996-07-30 | 2002-08-26 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置用基板およびその製造方法並びにそれを用いた液晶表示装置 |
| US6344883B2 (en) * | 1996-12-20 | 2002-02-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for producing the same |
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| US5949510A (en) * | 1997-09-12 | 1999-09-07 | Industrial Technology Research Institute | Method for making wide viewing angle LCD and devices made |
| US6188457B1 (en) * | 1999-04-26 | 2001-02-13 | Industrial Technology Research Institute | Multi-domain liquid crystal display having bump structures which uneven height overlaid by a vertically aligned orientation layer |
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1999
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-
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