JP3500779B2 - 液晶表示素子とその製造方法 - Google Patents

液晶表示素子とその製造方法

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JP3500779B2
JP3500779B2 JP16156095A JP16156095A JP3500779B2 JP 3500779 B2 JP3500779 B2 JP 3500779B2 JP 16156095 A JP16156095 A JP 16156095A JP 16156095 A JP16156095 A JP 16156095A JP 3500779 B2 JP3500779 B2 JP 3500779B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は広視野角の液晶表示素
子とその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示素子は、薄型軽量化が可能であ
り、種々の電子機器の表示装置として使用されている。
しかし、液晶表示素子は、CRT等に比べて視野角が狭
く、中間調表示時の視角依存性が顕著であるという欠点
を有する。例えば、TN(ツイストネマティック)液晶
セルを一対の偏光板で挟んで構成されるTN液晶表示素
子においては、白黒2値表示時には実用上十分な視野角
を有するものの、多階調表示時には視野角が小さい(狭
い)という欠点を有する。
【0003】視野角を広くする手法として、TFTが形
成された基板上の各画素電極を複数の副画素電極に分割
し、副画素電極に対向する制御コンデンサ電極を配置す
ることにより、液晶容量と直列に電圧降下用の制御コン
デンサを接続する方法が提案されている。この方法で
は、副画素電極毎に液晶に印加する電圧を異ならせて、
異なった配向状態の領域を各画素領域内に形成すること
ができ、視野角を広くすることができる。
【0004】図8及び図9は、上記方法により形成した
通常画素(制御コンデンサを形成しない画素)と電圧降
下画素(制御コンデンサを形成した画素)との印加電圧
(V)と透過率(T)との関係を示す。図8は液晶表示
素子を真正面から見た場合のV−T特性を示し、図9は
液晶表示素子を下方向50゜から見た場合のV−T特性
を示す。実線は通常画素のV−T特性を示し、破線は制
御容量を接続した電圧降下画素のV−T特性を示し、一
点鎖線は画素全体のV−T特性を示す。
【0005】図8に示すように、正面から液晶表示素子
を見た場合、通常画素のV−T特性は、印加電圧Vが大
きくなるに従って透過率が減少する単調減少関数を示
し、制御容量を接続した電圧降下画素は通常画素の印加
電圧よりも高い電圧で同様の単調減少関数を示す。画素
を複数に分割した場合の表示特性は、分割画素の表示特
性の面積平均で定まり、通常画素のV−T特性と電圧降
下画素のV−T特性の中間の一点鎖線で示された単調減
少関数が1画素の表示特性となる。従って、液晶表示素
子を真正面から見た場合においては、階調の反転は起こ
らない。
【0006】また、図9に示すように、下方向50゜か
ら液晶表示素子を見た場合、通常画素及び電圧降下画素
のV−T特性は印加電圧が1.5V以上の領域におい
て、透過率が上下に変動するバンプ特性を示している。
バンプ特性を示すということは、隣接する階調間で階調
が反転するということを意味する。しかし、通常画素と
電圧降下画素のV−T特性が平均化されるため、それぞ
れのバンプが打ち消され、各画素のV−T特性は一点鎖
線で示すように単調減少関数となり、階調の反転が防止
される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述の制御コンデンサ
電極はTFTを形成する過程で形成される。しかし、T
FTの形成は複雑であり、制御コンデンサ電極を形成す
るための製造工程の増加はTFTの欠陥を引き起こしや
すい。また、多数の画素電極を分割するため、画素電極
の欠陥も引き起こしやすい。このため、TFT基板、ひ
いては液晶表示素子の歩留まりを低下させる。
【0008】この発明は上記実状に鑑みてなされたもの
で、簡単な構成で、製造が容易な広視野角の液晶表示素
子とその製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の第1の観点にかかる液晶表示素子は、各
画素領域に第1の電極が形成された第1の基板と、前記
第1の基板に対向して配置され、前記第1の基板に対向
する面に各画素領域で前記第1の電極と対向した第2の
電極及び第3の電極が形成された第2の基板と、前記第
1と第2の基板間に封止され、前記第2の電極と前記第
1の電極の間と前記第3の電極と前記第1の電極の間に
異なった電圧を印加した状態で硬化された樹脂が混在さ
れた液晶と、を備えることを特徴とする。
【0010】また、この発明の第2の観点にかかる液晶
表示素子は、各画素領域に第1の電極が形成された第1
の基板と、前記第1の基板に対向して配置され、前記第
1の基板に対向する面に各画素領域で前記第1の電極と
対向した第2の電極及び第3の電極が形成された第2の
基板と、前記第1と第2の基板間に封止され、前記第2
の電極と前記第1の電極の間の配向と前記第3の電極と
前記第1の電極の間の液晶分子の配向が異なった状態で
硬化された樹脂が混在された液晶と、を備えることを特
徴とする。
【0011】また、この発明の第3の観点にかかる液晶
表示素子の製造方法は、各画素領域に第1の電極が形成
された第1の基板と、前記第1の基板に対向する面に各
画素領域で前記第1の電極と対向した第2の電極及び第
3の電極が形成された第2の基板と、を対向して配置す
るステップと、未硬化の樹脂が添加された液晶を前記第
1と第2の基板間に封止するステップと、前記第2の電
極と前記第1の電極の間と前記第3の電極と前記第1の
電極の間に異なった電圧を印加した状態で、前記樹脂を
硬化するステップと、を備えることを特徴とする。
【0012】
【作用】この発明の第1の観点にかかる液晶表示素子に
よれば、前記第2の電極と前記第1の電極の間と前記第
3の電極と前記第1の電極の間に異なった電圧を印加し
た状態、即ち、前記第2の電極と前記第1の電極の間の
液晶のチルト角と前記第3の電極と前記第1の電極の間
の液晶のチルト角が異なった状態で硬化させた樹脂が液
晶に混在している。従って、前記第2の電極と前記第1
の電極の間の液晶と前記第3の電極と前記第1の電極の
間の液晶とでは液晶分子の初期配向状態、即ち、プレチ
ルト角が互いに異なる。従って、通常の駆動状態におい
て、前記第2の電極と前記第1の電極の間及び前記第3
の電極と前記第1の電極の間に同一の駆動電圧(表示階
調に対応する電圧)を印加した場合でも、液晶のチルト
角が異なるため、各画素領域内に配向状態の異なる領域
(ドメイン)が形成される。画素全体の特性としては、
これらのドメインの特性の面積平均となる。従って、画
素を分割しない場合に比較して視野角を広くすることが
できる。
【0013】この発明の第2の観点にかかる液晶表示素
子によれば、前記第2の電極と前記第1の電極の間の液
晶の配向と前記第3の電極と前記第1の電極の間の液晶
の配向が異なった状態で硬化された樹脂が液晶に混在し
ている。従って、前記第2の電極と前記第1の電極の間
の液晶と前記第3の電極と前記第1の電極の間の液晶と
では初期配向状態が互いに異なる。従って、通常の駆動
状態において、前記第2の電極と前記第1の電極の間及
び前記第3の電極と前記第1の電極の間に同一の駆動電
圧を印加した場合でも、液晶の配向状態が異なり、各画
素領域内に配向状態の異なるドメインが形成される。従
って、画素を分割しない場合に比較して視野角を広くす
ることができる。
【0014】また、この発明の第3の観点にかかる液晶
表示素子の製造方法によれば、前記第2の電極と前記第
1の電極の間と前記第3の電極と前記第1の電極の間に
異なった電圧を印加した状態、即ち、前記第2の電極と
前記第1の電極の間の液晶のチルト角と前記第3の電極
と前記第1の電極の間の液晶のチルト角が異なった状態
で液晶に混在されている樹脂が硬化される。従って、液
晶の中に混在する前記樹脂により、液晶分子の初期配向
状態が規制され、異なったプレチルト角で配向する領域
が形成される。そのため、通常の駆動状態において、前
記第2の電極と前記第1の電極の間及び前記第3の電極
と前記第1の電極の間に同一の駆動電圧を印加した場合
でも、両領域は液晶のチルト角が異なる領域となる。従
って、画素を分割しない場合に比較して視野角を広くす
ることができる。
【0015】前記液晶に対する前記硬化性樹脂の割合
は、1重量%乃至10重量%程度が望ましい。前記樹脂
は光硬化性の樹脂等から構成されている。
【0016】
【実施例】以下、この発明の一実施例を、TFT液晶表
示素子を例に図面を参照して説明する。図1は本実施例
にかかるTFT液晶表示素子の断面構造を示し、図2は
TFT基板の平面構造を示し、図3は対向基板の平面構
造を示す。
【0017】図1に示すように、この液晶表示素子は、
液晶セル16と液晶セル16を挟んで配置された偏光板
14、15と、より構成される。液晶セル16は、シー
ル材SCにより接合された一対の透明基板11、12
と、一対の透明基板11、12間に封止された液晶13
とより構成される。
【0018】透明基板11、12はガラス基板等から構
成される。下側の透明基板(以下、TFT基板)11に
は、図1及び図2に示すように、スイッチング素子とし
てのTFT(薄膜トランジスタ)21と画素電極22が
マトリクス状に配置され、これらの上に配向膜23が配
置されている。
【0019】各TFT21のソース電極は対応する透明
電極(画素電極)22に接続され、各行のTFT21の
ゲート電極は対応するゲートラインGLに接続され、外
部のゲートドライバより、順次ゲートパルスが印加され
る。各列のTFT21のドレイン電極は対応するデータ
ラインDLに接続され、外部のデータドライバより信号
電圧(書き込み電圧)が印加される。画素電極22は、
ITO(インジウムとスズの酸化物)等から形成され、
ゲートパルスが印加されてオンしたTFT21を介して
信号電圧が印加される。
【0020】他方の透明基板(以下、対向基板)12上
には図1及び図3に示すように、一方の透明電極(第1
対向電極)31Aと他方の透明電極(第2対向電極)3
1Bが形成されている。第1対向電極31Aと第2対向
電極31Bとは、ITO等から形成され、ストライプ状
の形状を有し、それぞれ複数の画素電極22に対向して
配置されている。第1対向電極31Aは電極端子37A
に接続され、第2対向電極31Bは電極端子37Bに接
続されている。
【0021】図1に示すように、対向基板12上のTF
T21と対向する部分及び画素電極22間の部分と対向
する部分には、光遮蔽性のブラックマスク32が配置さ
れている。第1対向電極31A及び第2対向電極31B
上の各画素領域には、R(赤)G(緑)B(青)各色の
カラーフィルタ33(33R、33G、33B)が配置
されている。カラーフィルタ33(33R、33G、3
3B)の上には、基板全面に、オーバーコート層(保護
層)34が配置されている。オーバーコート層34は、
厚さ1μm程度のアクリル系樹脂、SiO2等から構成
される。オーバーコート層34の上には、ポリイミド等
からなる配向膜36が形成されている。
【0022】図1で下側の配向膜23には、図4の破線
で示す方向(0°の方向)にラビング等の配向処理が施
され、上側の配向膜36には、図4の実線で示す方向
(90°の方向)に配向処理が施されている。
【0023】図4に示すように、下側(光入射側)の偏
光板14は、その透過軸が下側の配向膜23に施された
配向処理の方向に垂直(90°)になるように設定さ
れ、上側(光出射側)の偏光板15は、その透過軸が下
側の偏光板14の透過軸に垂直となるように設定されて
いる。
【0024】液晶13はカイラル剤が添加されたネマテ
ィック液晶(TN液晶)から構成され、配向処理に従っ
て下基板11から上基板12に向けて時計回り方向に9
0°(0°〜−90°)ツイストして配向している。さ
らに、この実施例の液晶13は、1〜10重量(wt)
%程度のUV(紫外線)硬化性樹脂を含む。
【0025】UV硬化性樹脂は、第1対向電極31Aと
全ての画素電極22との間に第1の電圧V1を印加し、
第2対向電極31Bと全ての画素電極22との間に第2
の電圧V2(V1<V2)を印加した状態で、UVを照射
して硬化されている。即ち、UV硬化性樹脂は、図5に
拡大して示すように、対向電極31Aが形成された領域
(分割画素A1)の液晶分子のチルト角θ1が小さく、
対向電極31Bが形成された領域(分割画素A2)の液
晶分子のチルト角θ2が大きい状態で硬化されている。
硬化された樹脂により液晶分子の配向が規制され、印加
電圧を0Vにした後、即ち、液晶13の初期配向状態で
は、分割画素A1の液晶分子のプレチルト角は小さく、
分割画素A2が形成された領域の液晶分子のプレチルト
角は大きくなる。
【0026】このような液晶表示素子の通常の使用時に
は、第1対向電極31Aと第2対向電極31Bには同一
のコモン電圧が印加され、画素電極22にはデータライ
ンDLとオンしたTFT21を介して、表示階調に対応
する信号電圧が印加される。このため、各画素(画素電
極22と第1対向電極31A及び第2対向電極31Bの
対向部分と、これらの間の液晶13により形成される領
域)内の液晶13には同一の駆動電圧(信号電圧とコモ
ン電圧の差)が印加される。しかし、第1の分割画素A
1の液晶13のプレチルト角(初期配向状態)と第2の
分割画素A2の液晶13のプレチルト角(初期配向状
態)が互いに異なるため、分割画素A1とA2の液晶分子
の配向状態が異なる。この分割画素A1とA2の特性が平
均化されるため、各画素の視野角が広くなる。
【0027】図6に液晶表示素子を正面から見た場合の
各分割画素のY−V特性の一例を、図7に液晶表示素子
を下方向50°から見た場合の各分割画素のY−V特性
の一例を示す。図中の実線は5Vの電圧を印加した状態
でUV硬化樹脂を硬化した画素の印加電圧Vに対する透
過率Yを示し、一点鎖線は3Vの電圧を印加した状態で
UV硬化樹脂を硬化した画素の印加電圧Vに対する透過
率Yを示し、破線は0Vの電圧を印加した状態でUV硬
化樹脂を硬化した画素の印加電圧Vに対する透過率Yを
示す。
【0028】この図から明らかなように、UV硬化時の
電圧によりY−V曲線が大きく変化する。また、下方5
0°の方向から液晶表示素子を観察した場合には、個々
の分割画素のY−V曲線にはバンプが生ずる。しかし、
例えば、5Vを印加してUV硬化樹脂を硬化した場合の
Y−V曲線と0Vを印加してUV硬化樹脂を硬化した場
合のY−V曲線とを平均化することにより、図7に二点
鎖線で示す単調減少関数が得られる。
【0029】このように、液晶13にUV硬化性樹脂を
添加し、分割画素の液晶13に異なった電圧を印加した
状態でUVを照射して、一方の分割画素の光学特性のバ
ンプ部分と他方の分割画素の光学特性のバンプ部分が相
殺するように、プレチルト角を調整することにより、視
野角を拡大することができる。
【0030】なお、各分割画素のY−V特性は、液晶1
3及びUV硬化性樹脂の材質、液晶13の層厚、UV硬
化性樹脂の添加量、配向膜23、36の材質等に応じて
変化する。このため、液晶表示素子の仕様毎に、実験等
により、UV硬化性樹脂硬化時の液晶13への印加電圧
の組み合わせの最適値を求め、UV硬化性時に液晶13
にこれらの電圧を印加する。
【0031】このような構成の液晶表示素子は、まず、
電極22、31A,31B等を構成した一対の透明基板
11、12をシール材SCを介して接合して液晶セル1
6を構成する。続いて、シール材SCに形成した液晶注
入口(図示せず)より真空注入法等を用いて液晶セル1
6にUV硬化性樹脂が添加された液晶13を注入する。
液晶注入口をUV硬化性樹脂等により封止する。続い
て、対向電極31Aと31Bに各電圧を印加した状態
で、ゲートラインGLに順次ゲートパルスを印加しデー
タラインDLより所定の電圧を画素電極22に印加す
る。全ての画素(液晶容量)に電圧の書き込みが終了す
ると、液晶セル16にUVを所定時間照射し、UV硬化
性樹脂を硬化する。続いて、偏光板14、15を配置
し、電極37Aと37Bを短絡して素子を完成する。
【0032】この発明は上記実施例に限定されず、種々
の変形及び応用が可能である。例えば、上記実施例にお
いては、紫外線硬化性樹脂を液晶13に添加したが、例
えば、熱硬化性樹脂を液晶13に添加してもよい。この
場合、分割画素A1の液晶13と分割画素A2の液晶13
とに異なった電圧を印加した状態で、液晶セル16を加
熱し、樹脂を硬化する。また、分割画素A1と分割画素
A2の面積は異なってもよい。この場合、各画素の光学
特性は分割画素A1と分割画素A2の光学特性の面積平均
により定まるため、面積平均後の光学特性が単調減少
(単調増加)関数となるように樹脂硬化時の印加電圧を
設定する。
【0033】また、適切な視野角を得るためのプレチル
ト角の組み合わせは、画素の表示色毎に異なる。従っ
て、表示色毎に画素電極22に印加する信号電圧を異な
らせて、表示色毎に分割画素A1のチルト角θ1と分割画
素A2のチルト角θ2の組み合わせを異ならせた状態で、
UV硬化性樹脂を硬化させてもよい。また、画素の色毎
に対向電極を配置し、異なる色の画素毎に分割画素A1
とA2の液晶13に異なった電圧を印加した状態でUV
硬化性樹脂を硬化するようにしてもよい。例えば、Rの
画素の分割画素A1とA2の液晶13にそれぞれ、0Vと
1Vを印加し、G,Bの画素の分割画素A1とA2の液晶
13にそれぞれ、0Vと2Vを印加した状態でUV硬化
性樹脂を硬化するようにしてもよい。
【0034】上記実施例においては、カラーフィルタを
用いたカラー液晶表示素子にこの発明を適用したが、白
黒階調表示の液晶表示素子にも同様に適用可能である。
このような構成とすることにより、視野角が広いモノク
ローム型のTN液晶表示素子を得ることができる。
【0035】上記実施例においては、対向電極を2つの
電極で構成する例を示したが、対向電極を3つ以上の電
極で構成してもよい。
【0036】上下配向膜23、36に施す配向処理の方
向及び偏光板14、15の透過軸の配置は上記実施例に
限定されず、任意に変更可能である。例えば、光入射側
の偏光板14の透過軸を下配向膜23の配向処理と平行
としてもよい。また、光出射側の偏光板15の透過軸を
下偏光板36の透過軸と平行としてもよい。
【0037】上記実施例においては、TFT液晶表示素
子を例にこの発明を説明したが、この発明は、MIMを
アクティブ素子とする液晶表示素子にも適用可能であ
る。また、アクティブ素子を使用しないパッシブマトリ
クス方式の液晶表示素子にも適用可能である。
【0038】この発明は、TN(ツイストネマティッ
ク)液晶表示素子に限らず、STN液晶表示などにも同
様に適用可能である。また、透過型液晶表示素子に限ら
ず、反射膜を備えた反射型液晶表示素子にも適用可能で
ある。この場合、反射膜側の偏光板を省略してもよい。
【0039】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、液晶に硬化性樹脂を添加し、異なった電圧を印加し
た状態で硬化性樹脂を硬化させることにより、各画素内
に特性の異なるドメインが形成され、広視野角の液晶表
示素子が実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例にかかるカラーTN型液晶
表示素子の構成を示す断面図である。
【図2】TFT基板の構成を示す平面図である。
【図3】対向基板の電極の構成を示す平面図である。
【図4】配向処理の方向と液晶の配向方向を説明するた
めの図である。
【図5】図1に示す液晶表示素子の1画素の構成を示す
拡大断面図である。
【図6】液晶表示素子を正面から見た場合の分割画素の
Y−V特性図である。
【図7】液晶表示素子を下方向約50゜から見た場合の
分割画素のY−V特性図である。
【図8】従来の液晶表示素子を真正面から見た場合のV
−T特性図である。
【図9】従来の液晶表示素子を下方向50゜から見た場
合のV−T特性図である。
【符号の説明】
11・・・TFT基板、12・・・対向基板、13・・・液晶、
14・・・偏光板、15・・・偏光板、16・・・液晶セル、2
1・・・TFT、22・・・画素電極、23・・・配向膜、31
A・・・第1対向電極、31B・・・第2対向電極、32・・・
ブラックマスク、33・・・カラーフィルタ、34・・・オー
バーコート層、36・・・配向膜、37A・・・電極端子、3
7B・・・電極端子、SC・・・シール材、GL・・・ゲートラ
イン、DL・・・データライン、A1・・・分割画素、A2・・・
分割画素
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02F 1/1343 G02F 1/1334 G02F 1/1337

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】各画素領域に第1の電極が形成された第1
    の基板と、 前記第1の基板に対向して配置され、前記第1の基板に
    対向する面に各画素領域で前記第1の電極と対向した第
    2の電極及び第3の電極が形成された第2の基板と、 前記第1と第2の基板間に封止され、前記第2の電極と
    前記第1の電極の間と前記第3の電極と前記第1の電極
    の間に異なった電圧を印加した状態で硬化された樹脂が
    混在された液晶と、 を備えることを特徴とする液晶表示素子。
  2. 【請求項2】各画素領域に第1の電極が形成された第1
    の基板と、 前記第1の基板に対向して配置され、前記第1の基板に
    対向する面に各画素領域で前記第1の電極と対向した第
    2の電極及び第3の電極が形成された第2の基板と、 前記第1と第2の基板間に封止され、前記第2の電極と
    前記第1の電極の間の配向と前記第3の電極と前記第1
    の電極の間の液晶分子の配向が異なった状態で硬化され
    た樹脂が混在された液晶と、 を備えることを特徴とする液晶表示素子。
  3. 【請求項3】前記第2の電極と前記第3の電極に同一の
    コモン電圧が印加され、前記第1の電極に信号電圧が印
    加されることを特徴とする請求項1又は2に記載の液晶
    表示素子。
  4. 【請求項4】前記液晶に対する硬化性の前記樹脂の割合
    は、1重量%乃至10重量%であることを特徴とする請
    求項1、2又は3に記載の液晶表示素子。
  5. 【請求項5】前記樹脂は光硬化性の樹脂から構成されて
    いることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1つに
    記載の液晶表示素子。
  6. 【請求項6】各画素領域に第1の電極が形成された第1
    の基板と、前記第1の基板に対向する面に各画素領域で
    前記第1の電極と対向した第2の電極及び第3の電極が
    形成された第2の基板と、を対向して配置するステップ
    と、 前記第1と第2の基板間に、未硬化の樹脂が添加された
    液晶を封止するステップと、 前記第2の電極と前記第1の電極の間と前記第3の電極
    と前記第1の電極の間に異なった電圧を印加した状態
    で、前記樹脂を硬化するステップと、 を備えることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
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