JPH05134244A

JPH05134244A - 液晶表示素子

Info

Publication number: JPH05134244A
Application number: JP3258148A
Authority: JP
Inventors: Seizo Sugawara; 清三菅原; Yoshihiko Ishidaka; 良彦石高; Hiroshi Yamagami; 浩山上; Masahiko Yamaguchi; 雅彦山口; Mitsuru Kano; 満鹿野
Original assignee: Alps Electric Co Ltd
Current assignee: Alps Alpine Co Ltd
Priority date: 1991-10-04
Filing date: 1991-10-04
Publication date: 1993-05-28

Abstract

(57)【要約】【目的】位相差板の取扱いに起因する作業効率の悪
さ、表示品質の悪さを払拭ができる液晶表示素子を提供
することを目的とする。【構成】基板１上に、凹凸形状を有する下地層７を形
成し、その上に高分子液晶膜８を形成したことを特徴と
する液晶表示素子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子（以下、
ＬＣＤと略称する。）、特に色調を調整する必要がある
ＬＣＤに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のスーパーツイスティドネマティッ
ク（以下、ＳＴＮと略称する。）型ＬＣＤは図１２に示
すような構造であった。

【０００３】このＬＣＤの基板１上にはインジウム、ス
ズ酸化物（以下、ＩＴＯと略称する。）からなる膜によ
り透明電極６が形成されている。この透明電極６の上に
は、ラビング処理された酸化シリコンやポリイミド等の
高分子膜が配向膜５として形成されている。そして配向
膜５が形成された二枚の基板１に挟まれた空間には表示
用液晶層２が設けられている。そして二枚ある基板１の
一方の基板１上には位相差板３が設けられ、その上に偏
光板４が位置している。他方残りの基板１上には、偏光
板４のみが設けられている。前記位相差板３は、ＬＣＤ
を正面から見たときの黄色や黄緑等の着色の解消を目的
として設けられるものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この様な従来のＬＣＤ
にあっては、前述したように基板１の一方に位相差板３
を設けなければならず、作業効果の低下を招いていた。
前記従来のＬＣＤではこの位相差板３が微かでも折り曲
げられると、その部分の常光と異常光に対する屈折率の
差が変わってしまい一枚の位相差板３の中でこの屈折率
の差が一定でなくなってしまう。この為前記従来のＬＣ
Ｄでは、位相差板３に起因するＬＣＤの表示品質の低下
を生じる問題があった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明のＬＣＤは前記課
題を解決するためになされたもので、基板上に、凹凸形
状を有する下地層を形成し、その上に高分子液晶からな
る膜（以下、高分子液晶膜と略称する。）を形成するこ
とにより前記課題の解決を図った。

【０００６】

【作用】基板上に、凹凸形状を有する下地層を形成し、
その上に高分子液晶膜を形成したので、下地層の上に形
成された高分子液晶膜を等方性液体まで加熱して、更に
徐々にネマティック相まで除冷すると、前記膜の高分子
液晶の低分子液晶基成分が下地層の凹凸形状の凹部（ま
たは凸部）の延びる方向に沿って配向する。高分子液晶
膜の低分子液晶基成分は一方向に配向するため、この膜
を通過した光は位相差を生じる。その位相差は高分子液
晶膜の膜厚によって制御できる。

【０００７】

【実施例】以下、図面を参照して本発明のＬＣＤを詳し
く説明する。なお前記従来例と同一構成部分には、同一
符号を付して説明を簡略化する。

【０００８】（実施例１）図１は本実施例の白黒方式の
ＳＴＮ型ＬＣＤを示すものである。

【０００９】このＬＣＤの一方の基板１上にはＩＴＯか
らなる透明電極６が形成されている。この透明電極６の
上には耐熱性に優れた高分子であるポリイミド等からな
る下地層７が形成されている。

【００１０】この下地層７の表面は凹凸形状を有してい
る。この凹凸のピッチは０．０２μｍ〜２μｍで形成さ
れている。

【００１１】前記凹凸形状に表面が形成されている下地
層７の上には、高分子液晶膜８が形成されている。この
膜に使用されている高分子液晶は図５に示すように側鎖
に低分子液晶基成分１０をもっているか、図９に示すよ
うに主鎖に低分子液晶基成分１０をもつ高分子液晶であ
る。この高分子液晶膜８は、高分子液晶とヘキサフルオ
ロイソプロピルアルコールとを３：９７割合で混合した
液を下地層７上にスピンコートすることによって形成さ
れたもので、この高分子液晶膜８の表面には下地層７の
凹凸形状が反映されている。

【００１２】この実施例のＬＣＤにおいては、基板１上
に、凹凸形状を有する下地層７を形成し、その上に高分
子液晶膜８を形成したので、下地層７の上に形成された
高分子液晶膜８を等方性液体まで加熱して、更に徐々に
ネマティック相まで除冷すると、高分子液晶膜８をなす
高分子液晶の低分子液晶基成分が下地層７の凹凸形状の
凹部（または凸部）の延びる方向に沿って配向する。

【００１３】このように高分子液晶の低分子液晶基成分
が一方向に配向していると、この高分子液晶膜８を通過
する光は位相差を生じる。この位相差は高分子液晶膜８
の膜厚によって制御可能である。つまり、高分子液晶膜
８は従来のＳＴＮ型のＬＣＤに設けられていた位相差板
３と同一の機能を果たす。従って本実施例のＬＣＤにお
いては、高分子液晶膜８が位相差板３の機能を果たすの
で、位相差板３が不要となった。

【００１４】また、高分子液晶膜８の表面には下地層７
の凹凸形状が反映した凹凸形状となっている為、表示用
液晶層２が配向される。この為、この高分子液晶膜８は
表示用液晶層２の配向膜としての機能も合せもったもの
となる。

【００１５】また従来、位相差板３を基板１上に張り付
ける工程で位相差板３が微かに折り曲げられて常光と異
常光に対する屈折率の差が不均一になることがあり、こ
の結果ＬＣＤの表示品質に悪影響を及ぼすことがあった
が、本実施例のＬＣＤにおいては、基板１の表面に高分
子液晶膜を含有する液体を塗布することによって位相差
板３の役目を果たす高分子液晶膜８を形成できるもの
で、前記のようなトラブルを避けることができた。

【００１６】なお、上記下地層７の凹凸形状は、ルーリ
ングエンジンを使用し形成することもできるが、ホログ
ラフィ技術とイオンビームエッチング技術とを用いても
形成できる。更に、ルーリングエンジンを用いて、表面
に上記下地層７の凹凸形状と対称な形状を形成したマス
ターを作成し、このマスターで下地層７をスタンプし
て、下地層７の表面に凹凸を形成してもよい。あるい
は、ルーリングエンジンを用いて、下地層７の表面の凹
凸と同一の形状が形成されているグレーティングを製作
し、このグレーティングの上に金属めっきしその後この
金属めっきを剥して、これをマスターとして使用しても
よい。

【００１７】（実施例２）本実施例が実施例１と異なる
点は、図２に示した様に、高分子液晶膜８上に、従来配
向膜として使用していたポリイミド等の素材を塗布する
ことによって保護膜９を形成した点である。この保護膜
９の表面にも下地層７の凹凸形状が反映されている。高
分子液晶膜８の上に保護膜９が形成されているので、本
実施例では実施例１で得られる作用効果に加えて高分子
液晶膜８と表示用液晶層２との反応を、この保護膜９に
よって防ぐことができる。従って本実施例のＬＣＤでは
保護膜９によって、高分子液晶膜８の性能を長時間保持
できるという効果が得られた。

【００１８】（実施例３）本実施例は、図３に示した様
に、透明電極６が高分子液晶膜８と保護膜９との間に形
成されている点が実施例２と異なる。従って本実施例で
は、位相差板の折れ曲がりに起因する前記トラブルを防
ぐことが可能となる上に透明電極６が表示用液晶層２の
直近に位置する為、駆動電圧が有効に表示用液晶層２に
作用し、安定な動作特性が得られるという特有の効果を
有する。

【００１９】（実施例４）図４は本実施例のＬＣＤを示
す断面図である。以下このＬＣＤの構成を説明する。

【００２０】ガラスからなる基板１上にはＩＴＯからな
る透明電極６が形成されている。その上には下地層７が
形成されている。この下地層７の素材には、耐熱性に優
れた高分子であるポリイミド（Ａ１−１０５４日本ゴム
社製）を使用してある。

【００２１】下地層７の表面は凹凸形状を有している。
この凹凸は、下地層７を繊維で一方向にこするラビング
処理によって形成された略Ｓｉｎ波形状であり、ピッチ
は（約０．０３μｍから約２μｍ）に形成されている。

【００２２】前記処理により形成された下地層７上には
二色性色素を添加した高分子液晶からなる膜１２を塗布
してある。

【００２３】この膜に使用されている高分子液晶は、化
１で示されるポリメタクリル酸系の高分子液晶である。

【００２４】

【化１】

【００２５】このものは、図５に示すように、側鎖に低
分子液晶基成分１０をもつ高分子液晶である。又二色性
色素には、黄色色素Ｇ２３２（日本感光社製）、赤色色
素ＬＳＲ４０５（三菱化成社製）、青色色素ＬＳＢ（三
菱化成社製）を１：１：１の割合で混合したものを用い
ている。高分子液晶と上記二色性色素との混合割合は、
二色性色素：高分子液晶が１：１００〜１０：１００で
ある。

【００２６】二色性色素の混合割合が前記範囲より低い
と、偏光作用を受けずに透過する光量が増してしまい偏
光板としての機能が不充分となる。逆に二色性色素の混
合割合が前記範囲よりも高いと、透過光量が減少すると
同時に高分子液晶ひいては二色性色素の配向度合が少な
くなり、結果として前記同様、偏光板としての機能が不
充分となる。

【００２７】二色性色素中の各色素の混合割合や高分子
液晶と二色性色素との混合割合は、使用する表示用液晶
層２やＬＣＤの光を透過する表示部分の全構成部材を透
過してきた光の強度スペクトルが平坦になるように設定
されている。

【００２８】二色性色素を添加した高分子液晶からなる
膜１２は、以下の工程より形成されたものである。上述
した二色性色素を添加した高分子液晶とヘキサフルオロ
イソプロピルアルコールとを３：９７の割合で混合した
溶液を５００ｒｐｍで１０秒、続いて３０００ｒｐｍで
３０秒スピンコートすることにより下地層７上に塗布す
る。その後１５０℃で１時間放置乾燥する。充分乾燥し
た後、高分子液晶が等方相になる温度、本実施例では化
１からなる高分子液晶を使用しているため１３５℃以
上、に加熱する。すると高分子液晶の低分子液晶基成分
１０の部分がある程度の自由度をもてるようになり、下
地層７の表面に形成されている凹凸形状の凹部に入り込
み配向する。高分子液晶の低分子液晶基成分１０が配向
したら、その配向状態を崩す事なく冷却する。望ましく
は除冷がよい。

【００２９】上記工程により製造された二枚の基板１
は、ある一定の間隔を保つようにしながらシール剤１３
によって組み合わされ、その間に表示用液晶層２が形成
されている。

【００３０】この実施例のＬＣＤでは、基板１上に凹凸
形状を有する下地層７が形成されその上に二色性色素を
添加した高分子液晶からなる膜１２が塗布されているの
で、実施例１〜３に示した作用効果に加えて、高分子液
晶の低分子液晶基成分１０が下地層７の凹部分に配向
し、これにともない二色性色素の分子が同一方向に並ぶ
ため、二色性色素が添加された高分子液晶からなる膜１
２は、位相差板としての機能に加えて偏光板の機能をも
有するものとなる。下地層７の凹凸は、基板１の端面を
基準として形成することができるので、結果として偏光
軸の方向は基板１の端面を基準として決定することがで
きる。そして、従来表示むらの発生原因であった偏光板
のカッティング工程が不要となる。従ってこのＬＣＤで
は、素子毎の偏光軸のばらつきが小さくなり表示むらの
少ないものとなる。

【００３１】又、本実施例のＬＣＤは凹凸形状の下地層
７の上に二色性色素が添加された高分子液晶からなる膜
１２を形成したものなので、二色性色素が添加された高
分子液晶からなる膜１２の表面には凹凸形状が生じる。
この二色性色素が添加された高分子液晶からなる膜１２
の凹凸形状には表示用液晶分子が入り込み配向するの
で、二色性色素が添加された高分子液晶からなる膜１２
が配向膜の機能をもつことになる。従って、このＬＣＤ
では下地層７の凹凸形状によって、表示用液晶層２の分
子の配向方向が決定されると共に、更に偏光軸も決定さ
れる事になり、表示用液晶層２の配向軸と二色性色素が
添加された高分子液晶からなる膜１２の偏光軸とが自ず
と一致する。よって、このＬＣＤはねじれネマティック
用（ＴＮ用）として好適なものとなる。

【００３２】（実施例５）図６は、本実施例のＬＣＤを
示すものである。このＬＣＤでは、下地層７に凹凸が、
形成されている。下地層７の素材には、耐熱性に優れた
ポリエーテルスルフォン（４１００Ｇ三井東圧社製）を
使用している。又、この凹凸形状は前記高分子からなる
下地層７が耐えうる温度である１８０〜２５０℃の範囲
に下地層７及びスタンプ型を加熱し下地層７を軟化させ
ながら、１０〜５０ｋｇ／ｃｍ²の圧力で下地層７をス
タンプ型で押すことにより形成されたもので、凹部が５
ｎｍ以上の深さに形成されている。５ｎｍより浅いと後
に下地層７の上に形成される膜１２の表面に凹凸形状が
形成されない為である。

【００３３】この下地層７上には二色性色素を添加した
高分子液晶からなる膜１２を塗布してある。この膜１２
に使用されている高分子液晶は、実施例４で用いたもの
と同一のものを用いた。二色性色素には、黄色色素Ｇ２
３２（日本感光社製）、赤色色素ＬＳＲ４０５（三菱化
成社製）、青色色素ＬＳＢ（三菱化成社製）を０．５：
１：０．５の割合で混合したものを用いた。そして高分
子液晶と二色性色素が混合されている割合は、二色性色
素：高分子液晶＝２：１００である。これらは前記実施
例４に示した混合割合の条件を満たす様に設定されてい
る。

【００３４】前記二色性色素を添加した高分子液晶から
なる膜１２の下地層７上への塗布は、実施例４と同様に
行われた。

【００３５】二色性色素が添加された高分子液晶からな
る膜１２の上には保護膜９が形成されている。この保護
膜９は従来配向膜として使用していたポリイミド等の素
材によって形成されている。

【００３６】この実施例のＬＣＤに於いては、実施例４
のＬＣＤと同等の作用効果を得られる他、二色性色素が
添加された高分子液晶からなる膜１２の上に保護膜９が
形成されているので、前記保護膜９によって二色性色素
が添加された高分子液晶からなる膜１２から二色性色素
が表示用液晶層２中へ流失するのを防ぐ。よってこのＬ
ＣＤにおいては、偏光機能をもつ二色性色素が添加され
た高分子液晶からなる膜１２の性能を長時間保持できる
という効果が得られた。

【００３７】なお、本実施例に於いて下地層７の凹凸形
状は、ルーリングエンジンを用いて凹凸形状が作成され
たスタンプ型、あるいは上記凹凸形状を有するグレーテ
ィングへ電鋳を行って作成したスタンプ型を用いて形成
しても良いし、ホログラフィ技術とイオンビーム照射に
よって形成することもできる。

【００３８】（実施例６）本実施例のＬＣＤが実施例５
のＬＣＤと異なる点は、下地層７の形成およびその表面
の凹凸形状を、酸化シリコンを斜方蒸着することにより
形成した点である。この実施例のＬＣＤにおいても実施
例５のＬＣＤと同様の作用効果が得られた。

【００３９】（実施例７）本実施例のＬＣＤが実施例４
と異なる点は図７に示したように、透明電極６を二色性
色素を添加した高分子液晶からなる膜１２と保護膜９と
の間に形成した点である。この実施例のＬＣＤにおいて
も実施例４と同様の作用効果に加え、透明電極６が表示
用液晶層２の直近に位置するため、駆動電圧が有効に表
示用液晶層２作用し、安定な動作特性が得られるという
特有の効果を有する。

【００４０】（実施例８）図８は、本実施例のＬＣＤを
示すもので、前記実施例と同一構成部分には、同一符号
を符して説明を簡略化する。

【００４１】このＬＣＤは、ガラスからなる基板１上に
下地層７と二色性色素が添加された高分子液晶からなる
膜１２と透明電極６と配向層１１とが形成されたもので
ある。

【００４２】下地層７は、耐熱性に優れたポリイミド
（ＡＬ−１０５４日本合成ゴム社製）からなるものであ
る。この下地層７は、凹凸形状を有している。この凹凸
形状は実施例１に示した方法と同様の方法で形成されて
いる。

【００４３】この下地層７上には二色性色素を添加した
高分子液晶からなる膜１２が塗布されている。この膜１
２に使用されている高分子液晶は、化２で示されるポリ
エステル系の高分子液晶である。

【００４４】

【化２】

【００４５】このものは、図９に示すように、主鎖に低
分子液晶基成分１０をもつ高分子液晶である。二色性色
素にはヨウ素を使用した。そして高分子液晶と二色性色
素の混合割合は、二色性色素にはヨウ素を使用した。そ
して高分子液晶と二色性色素の混合割合は、二色性色
素：高分子液晶＝４：１００である。これらの混合割合
も実施例５に示した混合割合の条件を満たす様に設定さ
れている。

【００４６】二色性色素を添加した高分子液晶からなる
膜１２は、実施例４とほぼ同じ条件で形成されたもので
ある。但し本実施例では化２からなる高分子液晶を使用
しているため１４３℃以上に加熱することにより高分子
液晶の配向処理を行った。

【００４７】二色性色素が添加された高分子液晶からな
る膜１２の上には透明電極６が形成されている。この透
明電極６の上面は平らに形成されている。

【００４８】この実施例のＬＣＤに於いては、透明電極
６の上面を平らに形成し、この上に改めて配向層１１を
形成したので偏光軸の方向と配向軸の方向を変えること
ができる。従ってこのＬＣＤは、超捻れネマティック型
（ＳＴＮ型）の液晶素子に適したものとなる。

【００４９】このＬＣＤに於いても偏光軸の方向を配向
軸方向に対して正確に定めることができる。すなわち下
地層７の凹凸形状は、基板１の端面を基準に形成するこ
とができる。そしてこの下地層７の凹凸形状の方向にし
たがって二色性色素が添加された高分子液晶からなる膜
１２の二色性色素分子は配向するので、基板１の端面を
基準にして偏光軸を決定できる。他方配向層１１の凹凸
形状も同様に基板１の端面を基準にして形成できるの
で、配向軸も基板１の端面を基準にして決定することが
できる。このように配向軸も偏光軸も共に基板１の端面
を基準にして決定できるので、このＬＣＤは、実施例４
と同様の作用効果が得られた。

【００５０】（実施例９）図１０は本実施例のＬＣＤを
示す断面図である。このＬＣＤが前記実施例４と異なる
点は、スイッチング素子として薄膜トランジスタ１５が
設けられた点とこの薄膜トランジスタ１５の上方に画素
電極１４が設けられた点である。

【００５１】本実施例のＬＣＤでは、基板１上に薄膜ト
ランジスタ１５が形成されている。その上にはレベリン
グ層１８が形成されている。このレベリング層１８の上
部には、画素電極１４が形成されている。この画素電極
１４と薄膜トランジスタ１５のソース電極１７とはレベ
リング層１８のコンタクトホール１６を介して接続され
ている。そして上記画素電極１４の上には凹凸形状を有
する下地層７が形成され、その上には二色性色素を添加
した高分子液晶からなる膜１２が形成されている。

【００５２】本実施例のＬＣＤに於いては、実施例４と
同様の効果を得られる他以下に示す効果が得られた。従
来の薄膜トランジスタ液晶素子は、図１３に示すように
薄膜トランジスタ１５と画素電極１４とが同一面に設け
られていたので、高密度にするほど画素電極１４の面積
が小さくなり画面の荒いものとなっていたが、本実施例
のＬＣＤに於いては画素電極１４が薄膜トランジスタ１
５の上方に設けられているため、画素数を多くし高密度
化にしても画面に占める画素面積を減らす必要がなく表
示品質の低下を避けることができる。以上示した実施例
４〜９はいずれも偏光機能を有する膜１２が二枚の基板
１の対向する内面側に形成されているために、二枚の偏
光板の機能を有する膜１２の間隔が大幅に狭くなり、表
示の視認性（視角依存性）が著しく向上する。

【００５３】（実施例１０）本実施例のＬＣＤが実施例
８と異なる点は、図１１に示したように、下地層７と二
色性色素が添加された高分子液晶からなる膜１２とが対
向する二枚の基板１の外面側に透明電極６と配向層１１
とが基板１の内面側に形成されている点である。この実
施例のＬＣＤにおいても実施例８同様の作用効果が得ら
れた。

【００５４】以上説明したように実施例４〜１０に示し
たＬＣＤは、基板上に凹凸形状を有する下地層を形成
し、その上に二色性色素を添加した高分子液晶からなる
膜を形成したものなので、高分子液晶の低分子液晶基成
分が下地層の凹部に入り込み配向し、これにともない二
色性色素の分子が同一方向に並ぶ。これにより二色性色
素が添加された高分子液晶からなる膜は偏光板の機能を
有するものとなる。そして、本発明のＬＣＤは製造時、
従来色むらの発生の原因であった偏光板のカッティング
工程が不要となる。しかも下地層７の凹凸は、基板１の
端面を基準として形成することができるので、結果とし
て偏光軸の方向は基板１の端面を基準として決定するこ
とができる。従って、実施例１〜３に示した作用効果の
他に基板の端面を基準にして素子毎にバラ付く事なく偏
光軸を形成でき、表示むらの少ないＬＣＤを実現するこ
とができる。

【００５５】

【発明の効果】本発明のＬＣＤにおいては、基板上に、
凹凸形状を有する下地層を形成し、その上に高分子液晶
膜を形成したので、下地層の上に形成された高分子液晶
膜を等方性液体まで加熱して、更に徐々にネマティック
相まで除冷すると、高分子液晶膜の低分子液晶基成分が
下地層の凹凸形状に沿って配向する。このように高分子
液晶膜の低分子液晶基成分が一方向に配向するので、こ
の膜を通過した光は、位相差を生じる。この位相差は高
分子液晶膜の膜厚によって制御可能である。このように
本発明のＬＣＤにおいては、高分子液晶膜にＳＴＮ型の
ＬＣＤに着色の解消を目的として設けられている位相差
板としての機能を付与することができ、位相差板を基板
上に設ける必要がなくなった。従って本発明のＬＣＤで
は、生産効率を向上させることができた。さらに、前述
したように、本発明のＬＣＤでは、基板表面に高分子液
晶を含有する液体を塗布することにより高分子液晶膜を
形成できるので、従来問題であった位相差板を基板上に
設けるとき微かに折り目が付くということがなくなり、
これに起因する常光と異常光に対する屈折率の差の不均
一という問題を避けることができた。従って本発明のＬ
ＣＤは、表示品質の良好なものとなった。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１のＬＣＤを示す断面図。

【図２】実施例２のＬＣＤを示す断面図。

【図３】実施例３のＬＣＤを示す断面図。

【図４】実施例４のＬＣＤを示す断面図。

【図５】化１からなる高分子液晶を示す模式図。

【図６】実施例５，６のＬＣＤを示す断面図。

【図７】実施例７のＬＣＤを示す断面図。

【図８】実施例８のＬＣＤを示す断面図。

【図９】化２からなる高分子液晶を示す模式図。

【図１０】実施例９のＬＣＤを示す断面図。

【図１１】実施例１０のＬＣＤを示す断面図。

【図１２】従来のＳＴＮ型ＬＣＤを示す断面図。

【図１３】従来の薄膜トランジスタを備えたＬＣＤを示
す模式図。

【符号の説明】

１基板２表示用液晶層４偏光板５配向膜６透明電極７下地層８高分子液晶膜９保護膜１０低分子液晶基成分１１配向層１２二色性色素を添加した高分子液晶からなる膜１３シール剤１４画素電極１５薄膜トランジスタ１６コンタクトホール１７ソース電極１８レベリング層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者山口雅彦東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内 (72)発明者鹿野満東京都大田区雪谷大塚町１番７号アルプス電気株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、凹凸形状を有する下地層を形
成し、その上に高分子液晶からなる膜を形成したことを
特徴とする液晶表示素子。