JP3073674B2

JP3073674B2 - オフセット印刷装置、およびそのオフセット印刷装置を用いた画像形成装置の製造方法

Info

Publication number: JP3073674B2
Application number: JP22906495A
Authority: JP
Inventors: 康雄向井
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1995-09-06
Filing date: 1995-09-06
Publication date: 2000-08-07
Anticipated expiration: 2015-09-06
Also published as: JPH0971061A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はインクの受理性およ
び転移性を向上させる機能を有するオフセット印刷装
置、印刷物の製造方法およびそれを用いた表面伝導型電
子放出素子の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来オフセット印刷はグラフィックス印
刷用として主に人間の視覚に感知されるパターンの印刷
に多く用いられている。また近年、電子機器への応用と
して記録用サーマルヘッドの電極や液晶表示装置のカラ
ーフィルター等を作製するための技術開発が成されてい
る。

【０００３】図１０は平台校正機型印刷装置を示す図で
ある。本図において１０１はインキローラー１０４でイ
ンキ１０７を展開するインキ練り台であり、１０２は凹
版１０５を固定する版定盤である。また１０３は被印刷
物であるワーク１０６を固定するワーク定盤であり本体
フレーム１０８の上に固定配置されている。この一列に
並んだ３つの定盤の両側に２本のラックギヤー１０９，
１１０を配置し、そのラックギヤー１０９，１１０の上
にピニオンギヤー１１１，１１２を噛み合わせたブラン
ケット１１３が配置されている。ブランケット１１３は
その軸を両端のキャリッジ１１４，１１５で固定され、
このキャリッジ１１４，１１５が本体下部からのクラン
クアーム１１６のクランク動作によって前後進し、ブラ
ンケット１１３はインキ練り台１０１、凹版１０５、ワ
ーク１０６の上を順次回転摺動する。

【０００４】図１１ａ〜ｄはオフセット印刷工程を示す
図である。本図において図１１はインキ練り台、１０５
は凹版、１０６はワークとなるガラス基板であり同一平
面に直列に配置されている。１０４はインキロールであ
りインキ練り台１０１上で練ったインキ１０７を凹版１
０５上に転移させる（図１１ａ）。１１７はブレードで
あり凹版１０５上面を摺動して転移したインキ１０７の
うち、凹部に充填されたインキ以外をかきとる（図１１
ｂ）。１１３はブランケットであり凹版１０５、ガラス
基板１０６上面に順に回転接触することにより、凹版１
０５の凹部に充填されたインキを受理し（図１１ｃ）、
ガラス基板１１７上に凹版１０５の有するパターン状に
インキ１０７を転移する（図１１ｄ）。

【０００５】以上により印刷工程が終了する。印刷イン
キ１０７は作製するパターンの機能によって適宜選択す
ることができる。すなわち記録用サーマルヘッド等の電
極には主にＡｕレジネートペーストと呼ばれる有機Ａｕ
金属から成るインキを用い、また、カラーフィルターで
あればＲ，Ｇ，Ｂ各色の原料を分散したインキや有機色
素を含んだインキ等が用いられる。

【０００６】また従来、平面型表示装置を実現する表示
技術としては、単純マトリックス液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、薄膜トランジスタ液晶表示装置（ＴＦＴ／ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＯ）、低速電子線蛍
光表示管（ＶＦＤ）、マルチ電子源フラットＣＲＴ等の
平面型表示装置技術がある。

【０００７】これらの表示技術の例として、マルチ電子
源を用い蛍光体を発光させる発光素子及びこれを用いた
平面型表示装置について説明する。

【０００８】従来、簡単な構造で電子の放出が得られる
素子として、M.I.Elison, Radio Eng. Electron Pys.,
10,(1965) 等によって発表された表面伝導形電子放出素
子が知られている。

【０００９】これは基板上に形成された小面積の薄膜
に、膜面に平行に電流を流すことにより、電子放出が生
ずる現象を利用するものである。

【００１０】この表面伝導形電子放出素子としては、前
記エリンソン等によるＳｎＯ₂ 薄膜を用いたもの、Ａｕ
薄膜によるもの［G.Dittmer:“Thin Solid Films”, 9,
317(1972)］，Ｉｎ₂ Ｏ₃ ／ＳｎＯ₂ 薄膜によるもの
［M.Hartwell and C.G.Fonstad: “IEEE Trans. ED Con
f.”,519 (1975) ］、カーボン薄膜による［荒木久他：
真空、第２６巻、第１号、２２頁（１９８３）］等が報
告されている。

【００１１】これら表面伝導形電子放出素子の典型的な
素子構成として前述のＭ．ハートウェルの素子構成を図
１２に示す。同図において２０１は絶縁性基板、２０２
は電子放出部形成用薄膜で、スパッタで形成されたＨ型
形状金属酸化物薄膜等からなり、後述のフォーミングと
呼ばれる通電処理により電子放出部２０３が形成され
る。２０４は電子放出部を含む薄膜と呼ぶ。

【００１２】従来、これらの表面伝導形電子放出素子に
おいては、電子放出を行う前に電子放出部形成用薄膜２
０２を予めフォーミングと呼ばれる通電処理によって電
子放出部２０３を形成するのが一般的であった。すなわ
ち、フォーミングとは前記電子放出部形成用薄膜２０２
の両端に電圧を印加通電し、電子放出部形成用薄膜を局
所的に破壊、変形もしくは変質せしめ、電気的に高抵抗
な状態にした電子放出部２０３を形成することである。
なお、電子放出部２０３は電子放出部形成用薄膜２０２
の一部に亀裂が発生しその亀裂付近から電子放出が行わ
れる場合もある。

【００１３】また、本出願人は、ＵＳＰ５，０６６，８
８３において素子電極間に電子を放出せしめる微粒子を
分散配置した新規な表面伝導形電子放出素子を技術開示
した。この電子放出素子は上記従来の表面伝導形電子放
出素子に対し、電子放出位置を精密に制御でき、より高
精密に電子放出素子を配列することができる。この表面
伝導形電子放出素子の典型的な素子構成を図１３に示
す。本図において、３０１は絶縁性基板、３０２，３０
３は電気的接続を得るための素子電極、３０４は分散配
置された微粒子電子放出材からなる薄膜、３０５は電子
放出部である。

【００１４】この表面伝導形電子放出素子において、前
記一対の電極３０２，３０３の電極間隔は０．０１ミク
ロン〜１００ミクロン、薄膜３０４の電子放出部のシー
ト抵抗は１×１０³オーム／□〜１×１０⁹オーム／□が
適当である。

【００１５】以上説明してきた表面伝導形電子放出素子
を電子放出素子として用いる際には、電子ビームを飛翔
させるため真空容器内に配置する必要がある。真空容器
内の本素子の略垂直上にフェースプレートを設けて電子
放出装置とし、電極間に電圧を印加して、電子放出部か
ら得られた電子線を蛍光体に照射することによって蛍光
体を発光させ、発光素子や平面形表示装置として用いる
ことができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上説
明したような画像形成装置の表面伝導形電子放出素子の
一対の素子電極をオフセット印刷法を用いて形成するに
は以下のような問題点が存在する。

【００１７】通常のオフセット印刷法においては、版
（凹版等）からブランケットの表面ゴム上に受理された
インクには、被印刷物（ガラス基板等）転移する場合、
１００％量のインクが転移されるわけではなく、一般に
５０〜９０％量のインキが転移され、１０〜５０％量の
インクはブランケット表面ゴム上に残留したままであ
る。また、高精度に設計されたオフセット印刷装置であ
っても、５〜２０μｍ程度の位置ずれ繰り返し誤差が生
じる。このため、繰り返し印刷作業時には、２回目以降
の印刷物には多少のダブリが生じているのが普通であ
る。

【００１８】しかしながら、上記の一対の素子電極は図
１３に示すように、０．０１〜１００μｍ（より好まし
くは０．１〜３０μｍ）の任意の電極間隔（図中Ｌ）に
管理される必要がある。よって、通常のオフセット印刷
法を用いて一対の素子電極を形成した場合、ブランケッ
ト表面ゴム上に残留した前回印刷時のインクによるダブ
リが発生し、電極間隔（図１３，Ｌ）を一定に管理する
ことが不可能のとなり、最悪の場合は電極間隔が０とな
り素子電極が短絡し、表面伝導形電子素子自身が機能し
なくなる。

【００１９】また、上記のようにブランケット表面上
のインクの被印刷物（ガラス基板等）に対する転移量が
１００％未満のときには、ブランケットが被印刷物を放
れる際にインクの凝集破壊が起こり、印刷面の表層が粗
れる。このため、このような状態で印刷形成した一対の
素子電極（図１３，３０２，３０３）は表面粗度が大き
くなる。

【００２０】上記，のようにインクの転移が１０
０％量でないことに起因する問題点は、ブランケット表
面ゴムに適度な表面張力を有した材料（シリコンゴム
等）を選択使用することで解決できる（特開平６−２５
５２７９、２５５２８０）。

【００２１】しかしながら、シリコンゴムはインクの転
移性に優れるものの、この良好なインク転移性は、シリ
コンゴム内部から表面に徐々にブリージングする低分子
量のシリコンオイルの寄与によるものであるため、印刷
を繰り返した場合の経時変化が大きく、最初はインクが
１００％転移し良好であったものが、回を重ねるごとに
ブランケット表層の低分子量シリコンオイルが減少し、
最後には１００％量のインク転移が不可能となることが
ある。

【００２２】また、上記シリコンゴムは、元来耐溶剤
性には優れないものが多く、そのため印刷を繰り返し行
っていると、インクの含有溶剤により、インクを受理か
つ転移に使用されている画線部に相当するシリコンゴム
ブランケットの表面が膨潤変形してしまう。そのため、
印刷回数を重ねるに従い、電極間隔（図１３，Ｌ）は設
計幅からずれ、かつエッジの直線性も悪くなってくる。

【００２３】本発明の目的は、上記の問題点を全く解決
し、インクの受理性および転移性に優れ、かつ繰り返し
印刷した場合、印刷性能の経時安定性の優れたオフセッ
ト印刷装置を提供し、そのオフセット印刷装置を用いた
画像形成装置の製造方法を提供することにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】上記発明を達成するため
に本発明は、ブランケット表面に撥水剤を塗布する機構
を有することを特徴とするオフセット印刷装置を用いて
表面伝導形電子放出素子の一対の素子電極を印刷形成
し、画像形成装置を製造する。

【００２５】即ち本発明は、ブランケット表面に撥水剤
を塗布する機構である多孔質体に撥水剤を染み込ませた
ものを備えることを特徴とするオフセット印刷装置を提
供することである。また本発明は、前記多孔質体が多孔
質セラミックスであることを特徴とする前記オフセット
印刷装置を提供することである。また本発明は、前記多
孔質体の少なくとも表面の一部にフエルト材を有するこ
とを特徴とする前記いずれか記載のオフセット印刷装置
を提供することである。また本発明は、前記多孔質体に
撥水剤を染み込ませたものが被印刷物と凹版との間に配
されていることを特徴する前記のいずれか記載のオフセ
ット印刷装置を提供することである。また本発明は、前
記多孔質体が円柱状の形状であり、回転してブランケッ
トと接触することにより溌水剤を塗布することを特徴と
する前記のいずれか記載のオフセット印刷装置を提供す
ることである。また本発明は、前記多孔質体が平板状で
あり、溌水剤を内包する容器中に配されていることを特
徴とするオフセット印刷装置を提供することである。さ
らに本発明は、前記撥水剤が１０〜４０℃の範囲で液状
であり、かつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である
ことを特徴とするオフセット印刷装置を提供することで
ある。

【００２６】さらに本発明は、前記のいずれか記載のオ
フセット印刷装置を用いた印刷物の製造方法において、
前記撥水剤が印刷１回ごとにまたは所定回数ごとに、ブ
ランケット表面に塗布され、凹版からのインク受理およ
び被印刷物へのインク転移が撥水剤界面を介して行われ
ることを特徴とする印刷物の製造方法を提供することで
ある。

【００２７】又、本発明は前記ブランケットがゴム材質
を備え、該ゴム材質の表面が、インクの含溶剤及び前記
撥水剤によって膨潤しない材質のものを用いることを特
徴とするオフセット印刷装置を提供することにある。

【００２８】前記いずれか記載のオフセット印刷装置を
用いて、表面伝導型電子放出素子の素子電極を形成する
ことを特徴とする表面伝導型電子放出素子の製造方法を
提供することである。

【００２９】

【発明の実施の態様】図１は本発明のオフセット印刷装
置の特徴を最もよく表わす模式図である。本図において
１は被印刷物であるワーク９を固定するワーク定盤であ
り、２は撥水剤供給塗布装置である８から供給される撥
水剤１２を展開する撥水剤塗布定盤であり、３は凹版１
０を固定する版定盤であり、４はインク１１を展開する
ためのインク練り定盤であり、各定盤は本体フレーム１
２に固定されている。６はインキ練りローラーであり、
インク練り定盤４で展開されたインク１１を凹版１０の
上へ転移させ、ドクターブレード７で凹版１０上を摺動
し、凹部以外の余分なインクをかき取る。８は撥水剤供
給塗布装置であり、撥水剤塗布定盤２の上を摺動し撥水
剤１２を均一に展開する。その後、ブランケット５は、
ワーク定盤１と撥水剤塗布定盤２の中間点で下降し、左
方に回転し、ブランケット表面に撥水剤１２が均一に塗
布される。次にブランケット５はそのまま左方に回転
し、ブランケット表面は撥水剤を介した上で凹版１０の
凹部にあるインク１１を受理し、凹版１０の左端で上昇
する。その後ブランケット５はワーク定盤１の右端まで
移動した後下降し、ワーク９の表面を左へ摺動し、ブラ
ンケット表面に受理されていたインク１１を撥水剤１２
の一部とともにワーク９の表面に転移し、１回の印刷動
作を終える。繰り返し印刷を行うときは、ワーク９を新
しいものに交換し、同じことを繰り返せばよい。上記一
連の印刷動作の中で、本発明による新規な部分は、オフ
セット印刷装置内に、ブランケット表面へ撥水剤を塗布
する機構を有する点であり、図１では２の撥水剤塗布定
盤と８の撥水剤供給塗布装置がこれに該当する。

【００３０】また上記一連の印刷動作において、撥水剤
は印刷毎または所定回数毎にブランケット表面に塗布さ
れるために、ブランケット表面には常に撥水剤が十分な
量存在し、この撥水剤を介してインクが受理および転移
されるため、経時変化のない安定した印刷が常に可能と
なる。

【００３１】本発明に用いる撥水剤には、ポリメチレン
（アルカン類オイル）、ポリアルキルエーテル、ポリシ
ロキサン、ポリフルオロアルキルエーテル等の撥水性の
ある液体であれば何でも使用可能であるが、特に１０〜
４０℃の温度範囲で液体であり（少なくとも１０〜４０
℃の温度範囲で液体の状態が存在すれば良い）、かつ表
面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の物質が好ましく使用
できる。印刷時に使用するインクによって適宜選択すれ
ば、インクの良好な受理をワークに対して１００％量の
転移が可能となる。特に、前記の画像形成装置の表面伝
導形電子放出素子の一対の素子電極を印刷形成する際
に、Ａｕ，Ｐｔ等の貴金属のレジネートペーストをイン
キとして使用する場合は、ポリジメチルシロキサンを撥
水剤として使用すれば良好な受理および転移が可能であ
る。

【００３２】上記におけるブランケットの表面ゴムに使
用できるゴム材質は、前記撥水剤が均一に付着するも
の、すなわち撥水剤の表面張力よりもゴム表面の表面張
力が大きいものであればどのようなゴム材質でも使用可
能である。

【００３３】しかし、ブランケットゴム表面がインキの
含有溶剤によって膨潤してしまっては良好な形状の印刷
ができないため、インクの含溶剤及び前記撥水剤によっ
て膨潤しない材質のものが用いられ、耐溶剤性の優れる
エチレンプロピレンゴム、水素添加ブチルゴム、硬化済
ウレタンゴム等を用いるが好ましい。

【００３４】以上説明したようなオフセット印刷装置を
用い、画像形成装置の表面伝導素子の一対の素子電極を
印刷形成した場合、インクの受理が良好で、繰り返し印
刷を行っても１００％量のインク転移が行われるため印
刷物に全くダブリが発生せず、ブランケットがワークか
ら放れる際のインクの凝集破壊も発生しないため印刷面
表層の表面粗度の小さな良好な素子電極が得られる。ま
た、ブランケットゴム材質がインクの含有溶剤によって
膨潤しないため、印刷回数を重ねても常に安定した電極
間隔を有し、かつエッジ直線性の優れた素子電極が形成
される。

【００３５】

【実施例】

（第１の実施例）図１に示す構造のオフセット印刷装置
を用いて、表面伝導形電子放出素子の一対の素子電極の
印刷形成を行った。この印刷装置の基本動作は前記（課
題を解決するための手段および作用）の項目で詳しく述
べてあるので省略するが、本発明の特徴である８の撥水
剤供給塗布装置の部分についてさらに説明する。図４は
その構成を示す模式図である。８自身は直方体のタンク
形状をしており、内部に８−２の撥水剤が必要量充填さ
れていて、その先端には、ヘラ形状のフェルト８−１が
装着されている。フェルト先端部からは浸透した撥水剤
が、図１の撥水剤塗布定盤２の表面へ供給され、８をこ
の表面上で掃引することによりこの表面には均一厚の撥
水剤膜が形成される。

【００３６】本実施例に使用した撥水剤は、東レダウン
コーニングシリコン（株）製のジメチルシリコーンオイ
ルＳＨ２００（粘度１０００ｃｓ）である。ブランケッ
トには表面粗度（Ｒａ）０．５μｍのエチレンプロピレ
ンゴムを使用した。また、使用した凹版に彫れた、一対
の素子電極の形状は図７に示したように１００×２００
μｍの長方形が２０μｍのギャップを挟んで対向した形
状となっている。また、凹版の深さは約８μｍであっ
た。その他の印刷条件としては、ブランケット５、ドク
タブレ−ド７、撥水剤供給塗布装置８の速度は全て２０
ｍｍ／ｓｅｃとし、ブランケットの押し込み量は、ワー
ク９と凹版１０上では０．２ｍｍ、撥水剤塗布定盤２上
では０．０５ｍｍとした。

【００３７】以上の条件で１回印刷を終えた後、ワーク
９を交換し、以後同様に計５０回、すなわち５０枚のワ
ークの印刷を行った。初回と最終回の印刷に関しては、
ワーク９上とブランケット５上に付着しているインクの
膜厚をレーザー膜厚計で測定し、インク転移率（ワーク
上インク厚／（ワーク上インク厚＋ブランケット上イン
ク厚）×１００％）を算出した。また、上記インクには
Ａｕレジネートペースト（溶剤ターピネオール）を使用
したため、印刷後の５０枚のワークを７０℃・１０分間
の乾燥を経て、５５０℃・３０分間の焼成を行い、金属
Ａｕの薄膜に変換した。その後、各ワークの印刷形成さ
れた一対の素子電極部分のギャップの広さと表面粗度
（Ｒａ）をテンコール社製α−ステップを使用して測定
した。以上の測定結果を表１と図８、図９に示した。こ
れから判断されるように、インク転移率は初回も最終回
も１００％であり、また、ギャップ広さおよび表面粗度
も極めて安定している。

【００３８】（第２の実施例）図２に示す構造のオフセ
ット印刷装置を用いて、表面伝導形電子放出素子の一対
の素子電極の印刷形成を行った。これは第１の実施例に
使用した図１の印刷装置の撥水剤塗布定盤２と撥水剤供
給塗布装置の代わりに、図２、図５のオイルパン１４の
中に多孔質構造体１５を固定し、撥水剤１３を注いだ構
造の撥水剤供給塗布機構を使用したものである。

【００３９】本実施例では、多孔質構造体１５にはブラ
ンケット５と良好な接触が得られるようにポリビニルア
ルコール構造体を使用した。この多孔質構造体の上面に
は常に適量な撥水剤が存在する。以下第１の実施例と同
様な手順で５０枚のワークを印刷し、同様な測定評価を
行った。結果を表１、図８、図９に示すが、第１の実施
例と同じく良好な結果が得られた。

【００４０】（第３の実施例）図３に示す構造のオフセ
ット印刷装置を用いて、表面伝導形電子放出素子の一対
の素子電極の印刷形成を行った。これは図１０に示す従
来型のオフセット印刷装置の構造に、さらに図３の１６
に示す、撥水剤塗布ロールを追加したものである。この
ロールは、図６に示すような構造になっており、１６−
３の撥水剤供給口から供給された撥水剤が１６−２の多
孔質構造体を経て、１６−１フェルト表面へしみ出すよ
うになっている。本実施例では１６−２の多孔質構造体
には機械精度を向上させるために多孔質セラミックを使
用した。この撥水剤塗布ロール１６の動きを説明する
と、ワーク定盤１上でブランケット５が左に動くとき
は、ブランケット５に接触し、撥水剤をブランケット５
に転写しながら、左へ動く、そしてワーク定盤１を放
れ、ブランケット５が版定盤３に進入する際に、撥水剤
塗布ロール１６は開放され、ブランケット５が再度ワー
ク定盤１の右端にきたときに接触し、これを繰り返す。
以上の動作により、ブランケット５の表面には、凹版１
０からのインク受理時には常に撥水剤が存在する。以下
第１の実施例と同様な手順で５０枚のワークを印刷し、
同様な測定評価を行った。結果を表１、図８、図９に示
すが、第１の実施例と同じ良好な結果が得られた。

【００４１】

【表１】（第１の比較例）図１０に示す、撥水剤をブランケット
表面に塗布する機構のないオフセット印刷装置を用い
て、表面伝導形電子放出素子の一対に素子電極の印刷形
成を行った。この際に使用したブランケットの材質に
は、第１、第２、第３の実施例と同じ表面粗度（Ｒａ）
０．５μｍのエチレンプロピレンゴムを使用した、以
下、第１の実施例と同様な手順で５０枚のワークを印刷
し、同様な測定評価を行った。結果を表１、図８、図９
に示す。この結果をみると、インク転移率が悪いため、
表面粗度が常に大きく、ギャップの広さも初回を除いて
ダブリが生じているため、極端に小さくなっていること
がわかる。

【００４２】（第２の比較例）第１の比較例のエチレン
プロピレンゴム製のブランケットに代えて、表面粗度
（Ｒａ）０．５μｍのシリコンゴム製ブランケットを使
用した。それ以外は全て第１の比較例と同様である。同
じく同様な手順で５０枚のワークを印刷し、同様な測定
評価を行った。結果を表１、図８、図９に示す。この結
果をみると、シリコンゴム製のブランケットであるた
め、初期は１００％インク転移可能である。しかし５０
回目には８８％と若干悪化している。またインクの溶剤
を吸収し徐々に膨潤するため、回を重ねるごとにギャッ
プ広さが大きくなっている。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ブランケット表面に撥水剤を塗布する機構を有したオフ
セット印刷装置を使用するため、インクの受理および転
移が撥水剤界面を介して行われ、またインクの含溶剤に
膨潤しないゴム材質のブランケットが使用可能なため、
常に安定したインク受理と１００％のインク転移が可能
となり、繰り返し印刷した場合、印刷性能の経時安定に
優れたオフセット印刷が可能である。また本発明のオフ
セット印刷装置を用いて、表面伝導形電子放出素子を印
刷形成すれば、品質に優れた表面伝導型放出素子の製造
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のオフセット印刷装置の特徴を表す模式
図である。

【図２】実施例２で用いたオフセット印刷装置の図であ
る。

【図３】実施例３で用いたオフセット印刷装置の図であ
る。

【図４】実施例１で用いた溌水剤供給塗布装置の一部を
示す模式図である。

【図５】実施例２で用いた溌水剤供給塗布装置の一部を
示す図である

【図６】実施例３で用いた溌水剤供給塗布装置の一部を
示す図である。

【図７】凹版に彫れた一対の素子電極の形状を示す図で
ある。

【図８】印刷回数とギャップ広さで印刷の評価した結果
を示す図である。

【図９】印刷回数と表面粗さで印刷の評価した結果を示
す図である。

【図１０】従来の平台校正機型印刷装置を示す図であ
る。

【図１１】従来のオフセット印刷工程を示す図である。

【図１２】Ｍ．ハートウェルの素子構成を示す図であ
る。

【図１３】表面伝導型電子放出素子の典型的な素子構成
を示す図である。

【符号の説明】

１ワーク盤２溌水剤塗布定盤３版定盤４インク練り定盤５ブランケット６インク練りローラー７ドクターブレード８溌水剤供給塗布装置８−１フェルト８−２溌水剤９ワーク１０凹版１１インク１２本体フレーム１３溌水剤１４オイルパン１５多孔質構造体１６溌水剤塗布ロール１６−１フェルト１６−２多孔質構造体１６−３溌水剤供給口１０１インキ練り台１０２版定盤１０３ワーク定盤１０４インキローラー１０５凹版１０６ワーク１０７インキ１０８本体フレーム１０９，１１０ラックギヤー１１１，１１２ピニオンギヤー１１３ブランケット１１４，１１５キャリッジ１１６クランクアーム１１６１１７ブレード

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】ブランケット表面に撥水剤を塗布する機
構である多孔質体に撥水剤を染み込ませたものを備える
ことを特徴とするオフセット印刷装置。
【請求項２】多孔質体が多孔質セラミックスであるこ
とを特徴とする請求項１記載のオフセット印刷装置。
【請求項３】多孔質体の少なくとも表面の一部にフエ
ルト材を有することを特徴とする請求項１または２記載
のオフセット印刷装置。
【請求項４】多孔質体に撥水剤を染み込ませたものが
被印刷物と凹版との間に配されていることを特徴する請
求項１に記載のオフセット印刷装置。
【請求項５】多孔質体が円柱状の形状であり、回転し
てブランケットと接触することにより撥水剤を塗布する
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載のオフセ
ット印刷装置。
【請求項６】多孔質体が平板状であり、撥水剤を内包
する容器中に配されていることを特徴とする請求項１も
しくは４に記載のオフセット印刷装置。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか記載のオフセッ
ト印刷装置を用いた印刷物の製造方法において、前記撥
水剤が印刷１回ごとにまたは所定回数ごとに、ブランケ
ット表面に塗布され、凹版からのインク受理および被印
刷物へのインク転移が撥水剤界面を介して行われること
を特徴とする印刷物の製造方法。
【請求項８】前記ブランケットにゴム材質を備え、該
ゴム材質表面が、インクの含溶剤及び前記撥水剤によっ
て膨潤しない材質のものを用いることを特徴とする請求
項１〜６のいずれか記載のオフセット印刷装置。
【請求項９】請求項１〜６または８のいずれか記載の
オフセット印刷装置を用いて、表面伝導型電子放出素子
の素子電極を形成することを特徴とする表面伝導型電子
放出素子の製造方法。
【請求項１０】請求項１記載の撥水剤が１０〜４０℃
の範囲で液状であり、かつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃ
ｍ以下であることを特徴とするオフセット印刷装置。