JP3060866B2 - 電子写真感光体および画像形成方法 - Google Patents
電子写真感光体および画像形成方法Info
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐磨耗性に優れ、かつ
残留電位の低い電子写真用感光体およびそれを使用する
画像形成方法に関する。
残留電位の低い電子写真用感光体およびそれを使用する
画像形成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、有機感光体の耐刷性を向上させる
方法として種々の方法が提案されている。その中でも、
感光層上に耐摩耗層を積層して耐摩耗性性能の機能を持
たせた電子写真感光体に関して、特開昭60−3638
号公報には、機能分離により耐刷性の向上がはかられる
ことが記載されている。この公報に記載されている技術
は、導電性微粉末を結着樹脂中に分散させた層を設ける
ことにより、耐久性が顕著に改善されるが、次のような
問題点が内在している。すなわち、抵抗調整用の導電性
微粉末を分散させてはいるが、結着樹脂中に特に低湿下
において電荷が蓄積され、残留電位が高くなるという問
題がある。また、特開平5−45920号公報には、ポ
リテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂微粉末を7重
量%程度まで混合した保護層を有する電子写真感光体が
開示されている。しかしながら、この電子写真感光体
は、耐久性においては優れているが、残留電位に上昇が
見られるという問題がある。
方法として種々の方法が提案されている。その中でも、
感光層上に耐摩耗層を積層して耐摩耗性性能の機能を持
たせた電子写真感光体に関して、特開昭60−3638
号公報には、機能分離により耐刷性の向上がはかられる
ことが記載されている。この公報に記載されている技術
は、導電性微粉末を結着樹脂中に分散させた層を設ける
ことにより、耐久性が顕著に改善されるが、次のような
問題点が内在している。すなわち、抵抗調整用の導電性
微粉末を分散させてはいるが、結着樹脂中に特に低湿下
において電荷が蓄積され、残留電位が高くなるという問
題がある。また、特開平5−45920号公報には、ポ
リテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂微粉末を7重
量%程度まで混合した保護層を有する電子写真感光体が
開示されている。しかしながら、この電子写真感光体
は、耐久性においては優れているが、残留電位に上昇が
見られるという問題がある。
【0003】残留電位低下の対応策としては、特公昭4
4−834号公報および特開平3−280068号公報
には、特定の化学物質を添加することが開示されている
が、経時的変化が生じるという問題を内在しており、抜
本的改善をするまでには至っていない。また、特開平4
−284459号公報には、ホール搬送性の電荷輸送剤
を添加することが開示され、感光体表面クリーニング性
向上のためにフッ素系樹脂微粉末を添加することが記載
されている。それにより、残留、蓄積した電荷を排出
し、チャージアップを防止しようとするものであるが、
十分なものではない。また、保護層用の結着樹脂とし
て、アクリルポリオールを用い、硬化剤としてポリイソ
シアネートを添加することによりウレタン結合により架
橋硬化させたものを使用した場合、ウレタン結合部の窒
素原子に電荷を蓄積している可能性が高く、接触帯電方
式およびコロトロン方式による帯電で低温低湿において
電荷の蓄積が著しいという問題点があった。
4−834号公報および特開平3−280068号公報
には、特定の化学物質を添加することが開示されている
が、経時的変化が生じるという問題を内在しており、抜
本的改善をするまでには至っていない。また、特開平4
−284459号公報には、ホール搬送性の電荷輸送剤
を添加することが開示され、感光体表面クリーニング性
向上のためにフッ素系樹脂微粉末を添加することが記載
されている。それにより、残留、蓄積した電荷を排出
し、チャージアップを防止しようとするものであるが、
十分なものではない。また、保護層用の結着樹脂とし
て、アクリルポリオールを用い、硬化剤としてポリイソ
シアネートを添加することによりウレタン結合により架
橋硬化させたものを使用した場合、ウレタン結合部の窒
素原子に電荷を蓄積している可能性が高く、接触帯電方
式およびコロトロン方式による帯電で低温低湿において
電荷の蓄積が著しいという問題点があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の技術
における上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
って、その目的は、残留電位の高くならない低磨耗性を
有する保護層を設けた電子写真感光体、特に接触帯電方
式による電子写真装置に対して有効な電子写真感光体を
提供することにある。本発明の他の目的は、上記の電子
写真感光体を使用して優れた画質の画像を形成すること
ができる画像形成法を提供することにある。
における上記のような問題点に鑑みてなされたものであ
って、その目的は、残留電位の高くならない低磨耗性を
有する保護層を設けた電子写真感光体、特に接触帯電方
式による電子写真装置に対して有効な電子写真感光体を
提供することにある。本発明の他の目的は、上記の電子
写真感光体を使用して優れた画質の画像を形成すること
ができる画像形成法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の電子写真感光体
は、導電性基体上に感光層、保護層を順次形成してなる
ものであって、その保護層が、結着樹脂としてスチレ
ン、メチルメタアクリレート、ヒドロキシルエチルメタ
アクリレートの共重合体等からなるアクリルポリオール
とポリイソシアネートよりなるポリウレタン樹脂を使用
し、この結着樹脂中に金属酸化物粉末および保護層全重
量に対して10〜40重量%の電荷輸送材料が分散され
たことを特徴とする。本発明の画像形成方法は、電子写
真感光体を帯電し、像露光し、現像し、転写定着する工
程を有するものであって、帯電器を上記の電子写真感光
体に電圧を印加しながら接触させて、該電子写真感光体
を帯電することを特徴とする。
は、導電性基体上に感光層、保護層を順次形成してなる
ものであって、その保護層が、結着樹脂としてスチレ
ン、メチルメタアクリレート、ヒドロキシルエチルメタ
アクリレートの共重合体等からなるアクリルポリオール
とポリイソシアネートよりなるポリウレタン樹脂を使用
し、この結着樹脂中に金属酸化物粉末および保護層全重
量に対して10〜40重量%の電荷輸送材料が分散され
たことを特徴とする。本発明の画像形成方法は、電子写
真感光体を帯電し、像露光し、現像し、転写定着する工
程を有するものであって、帯電器を上記の電子写真感光
体に電圧を印加しながら接触させて、該電子写真感光体
を帯電することを特徴とする。
【0006】まず、本発明の電子写真感光体について詳
細に説明する。本発明の電子写真感光体における導電性
基体としては、電子写真感光体において使用されるもの
であれば、如何なるものでも使用できる。例えば、アル
ミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属
類、およびアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロ
ム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化イン
ジウム、ITO等の薄膜を設けたプラスチックフィルム
等、或いは導電性付与剤を塗布、または含浸させた紙、
およびプラスチックフィルム等があげられる。これらの
導電性支持体は、ドラム状、シート状等、適宜の形状の
ものとして使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。さらに、必要に応じて導電性支持体の表面は、画
質に影響のない範囲で各種の処理を行うことができる。
例えば、表面の酸化処理、薬品処理或いは着色処理な
ど、または、砂目立て等の乱反射処理を行うことができ
る。
細に説明する。本発明の電子写真感光体における導電性
基体としては、電子写真感光体において使用されるもの
であれば、如何なるものでも使用できる。例えば、アル
ミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属
類、およびアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロ
ム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化イン
ジウム、ITO等の薄膜を設けたプラスチックフィルム
等、或いは導電性付与剤を塗布、または含浸させた紙、
およびプラスチックフィルム等があげられる。これらの
導電性支持体は、ドラム状、シート状等、適宜の形状の
ものとして使用されるが、これらに限定されるものでは
ない。さらに、必要に応じて導電性支持体の表面は、画
質に影響のない範囲で各種の処理を行うことができる。
例えば、表面の酸化処理、薬品処理或いは着色処理な
ど、または、砂目立て等の乱反射処理を行うことができ
る。
【0007】導電性基体の上には、所望に応じて下引き
層が形成されてもよい。下引き層に用いられる結着剤と
して、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリ
ビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セ
ルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリ
コーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物のほかに、
ジルコニウム、チタン、アルミニウム、マンガン、シリ
コン等を含有する有機金属化合物等が主として用いられ
る。これらの化合物は単独に或いは複数の化合物の混合
或いは重縮合物として用いることができる。中でも、ジ
ルコニウムまたはシリコンを含有する有機金属化合物は
高い成膜性を有し、かつ残留電位が低く環境による電位
変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少
ない等性能上優れているので好ましい。
層が形成されてもよい。下引き層に用いられる結着剤と
して、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリ
ビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セ
ルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエス
テル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢
酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリ
コーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒ
ド樹脂、メラミン樹脂等の高分子樹脂化合物のほかに、
ジルコニウム、チタン、アルミニウム、マンガン、シリ
コン等を含有する有機金属化合物等が主として用いられ
る。これらの化合物は単独に或いは複数の化合物の混合
或いは重縮合物として用いることができる。中でも、ジ
ルコニウムまたはシリコンを含有する有機金属化合物は
高い成膜性を有し、かつ残留電位が低く環境による電位
変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少
ない等性能上優れているので好ましい。
【0008】シリコンを含有する有機金属化合物の例と
しては、例えば、ビニルメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシ
エチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。これ
らの中でも特に好ましく用いられるシラン化合物は、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシ
エトキシシラン)、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メチル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロルプロピ
ルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤があげ
られる。
しては、例えば、ビニルメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)
シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(ア
ミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N,N−ビス(β−ヒドロキシ
エチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N
−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、
γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。これ
らの中でも特に好ましく用いられるシラン化合物は、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシ
エトキシシラン)、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエ
チル)−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、
γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル
−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メチル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロルプロピ
ルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤があげ
られる。
【0009】チタンを含有する有機金属化合物の例とし
ては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマル
ブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレート等があげられる。
ては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマル
ブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ
(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルア
セトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタン
オクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウ
ム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエス
テル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキ
シチタンステアレート等があげられる。
【0010】アルミニウムを含有する有機金属化合物の
例としては、アルミニウムイソプピレート、モノブトキ
シアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレ
ート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテ
ート)等があげられる。
例としては、アルミニウムイソプピレート、モノブトキ
シアルミニウムイソプロピレート、アルミニウムブチレ
ート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプ
ロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテ
ート)等があげられる。
【0011】ここに示されたジルコニウム、チタン、ア
ルミニウム、シリコンを含有する有機金属化合物は、加
水分解縮合性を有する化合物であり、下引き層にこれら
の化合物を含有させる場合、塗膜を湿潤熱風により加湿
処理を行うことにより極めて優れた電子写真特性の電子
写真感光体が形成される。
ルミニウム、シリコンを含有する有機金属化合物は、加
水分解縮合性を有する化合物であり、下引き層にこれら
の化合物を含有させる場合、塗膜を湿潤熱風により加湿
処理を行うことにより極めて優れた電子写真特性の電子
写真感光体が形成される。
【0012】下引き層中には、干渉縞発生を防止する目
的や電気特性を向上する目的などにより、各種の有機ま
たは無機微粉末を混合することができる。特に、酸化チ
タン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等
の白色顔料、アルミナ、炭酸カルシム、硫酸バリウム等
の体質顔料としての無機顔料、或いはテフロン樹脂粒
子、ベンゾクアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、シ
リコン単結晶微粉末等が有効である。添加する微粉末と
しては、粒径が0.01μm〜2μmの範囲のものが用
いられる。粒径が大きすぎると下引き層の凹凸が激しく
なり、電気的に部分的な不均一性が大きくなって、画質
欠陥を生じやすくなる。また、小粒径すぎると十分な光
散乱効果が得られない。上記微粉末は必要に応じて添加
されるが、添加される場合には下引き層の固形分に対し
て、10〜80重量%、より好ましくは30〜70重量
%の範囲で添加される。
的や電気特性を向上する目的などにより、各種の有機ま
たは無機微粉末を混合することができる。特に、酸化チ
タン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、リトポン等
の白色顔料、アルミナ、炭酸カルシム、硫酸バリウム等
の体質顔料としての無機顔料、或いはテフロン樹脂粒
子、ベンゾクアナミン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、シ
リコン単結晶微粉末等が有効である。添加する微粉末と
しては、粒径が0.01μm〜2μmの範囲のものが用
いられる。粒径が大きすぎると下引き層の凹凸が激しく
なり、電気的に部分的な不均一性が大きくなって、画質
欠陥を生じやすくなる。また、小粒径すぎると十分な光
散乱効果が得られない。上記微粉末は必要に応じて添加
されるが、添加される場合には下引き層の固形分に対し
て、10〜80重量%、より好ましくは30〜70重量
%の範囲で添加される。
【0013】下引き層の膜厚を厚くすると、導電性基体
の凹凸の隠蔽性が高まるため、一般に画質欠陥は低減す
る方向にあるが、電気的な繰り返し安定性も悪くなるた
め、下引き層は、膜厚としては0.1〜5μmの範囲に
あることが望ましい。下引き層塗布液の形成において、
上記微粉末は樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散
処理が行われる。微粉末を樹脂中に分散させる方法とし
ては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アト
ライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェー
カー等による方法を用いることができる。
の凹凸の隠蔽性が高まるため、一般に画質欠陥は低減す
る方向にあるが、電気的な繰り返し安定性も悪くなるた
め、下引き層は、膜厚としては0.1〜5μmの範囲に
あることが望ましい。下引き層塗布液の形成において、
上記微粉末は樹脂成分を溶解した溶液中に添加して分散
処理が行われる。微粉末を樹脂中に分散させる方法とし
ては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アト
ライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェー
カー等による方法を用いることができる。
【0014】この下引き層上に形成される感光層は、基
本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷輸送層
とに機能分離された積層構造であってもよい。積層構造
の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが
上層であってもよい。電荷発生層は電荷発生材料を真空
蒸着により形成するか、有機溶剤および結着樹脂ととも
に分散し塗布することにより形成される。電荷発生材料
としては、非晶質セレン、結晶性セレン−テルル合金、
セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物およびセレン
合金、酸化亜鉛・酸化チタン等の無機系光導電性物質、
無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フ
タロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシア
ニン等の各種フタロシアニン顔料、スクエアリウム系、
アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキ
ノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等
の各種有機顔料および染料が用いられる。また、これら
の有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフ
タロシアニン顔料ではα、β等をはじめとして各種の結
晶型が知られているが、目的に適合した感度が得られる
顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いる
ことができる。
本的には単層構造であっても、電荷発生層と電荷輸送層
とに機能分離された積層構造であってもよい。積層構造
の場合、電荷発生層と電荷輸送層の積層順序はいずれが
上層であってもよい。電荷発生層は電荷発生材料を真空
蒸着により形成するか、有機溶剤および結着樹脂ととも
に分散し塗布することにより形成される。電荷発生材料
としては、非晶質セレン、結晶性セレン−テルル合金、
セレン−ヒ素合金、その他のセレン化合物およびセレン
合金、酸化亜鉛・酸化チタン等の無機系光導電性物質、
無金属フタロシアニン、チタニルフタロシアニン、銅フ
タロシアニン、錫フタロシアニン、ガリウムフタロシア
ニン等の各種フタロシアニン顔料、スクエアリウム系、
アントアントロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキ
ノン系、ピレン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等
の各種有機顔料および染料が用いられる。また、これら
の有機顔料は一般に数種の結晶型を有しており、特にフ
タロシアニン顔料ではα、β等をはじめとして各種の結
晶型が知られているが、目的に適合した感度が得られる
顔料であるならば、これらのいずれの結晶型でも用いる
ことができる。
【0015】電荷発生層には、電荷発生材料の凝集防
止、分散性向上、電気特性の向上等、各種の目的でシラ
ンカップリング剤や有機金属アルコキシドを加えること
ができる。これらは、電荷発生材料に予め表面処理を行
った後、分散調液処理を行ってもよく、或いは塗布液中
にシランカップリング剤や有機金属アルコキシドを添加
して塗布乾燥処理を行うことも可能である。これらのシ
ランカップリング剤や有機金属アルコキシドについて
も、その加水分解硬化反応を促進させるために、電荷発
生層を塗布形成した後、湿潤熱風加湿処理を行うことが
望ましい。
止、分散性向上、電気特性の向上等、各種の目的でシラ
ンカップリング剤や有機金属アルコキシドを加えること
ができる。これらは、電荷発生材料に予め表面処理を行
った後、分散調液処理を行ってもよく、或いは塗布液中
にシランカップリング剤や有機金属アルコキシドを添加
して塗布乾燥処理を行うことも可能である。これらのシ
ランカップリング剤や有機金属アルコキシドについて
も、その加水分解硬化反応を促進させるために、電荷発
生層を塗布形成した後、湿潤熱風加湿処理を行うことが
望ましい。
【0016】電荷発生層における結着樹脂としては、以
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールAタイプ或いはビスフェノールZタイプ等のポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−N−ビニルカルアバゾール等である。これ
等の結着樹脂は、単独あるいは2種以上混合して用いる
ことが可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比
(重量比)は、10:1〜1:10の範囲が望ましい。
また、電荷発生層の厚みは、一般には0.01〜5μ
m、好ましくは0.05〜2.0μmの範囲に設定され
る。電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、
ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライタ
ー、サンドミル、コロイドミル等の方法を用いることが
できる。
下のものを例示することができる。すなわち、ビスフェ
ノールAタイプ或いはビスフェノールZタイプ等のポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹
脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエ
ン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共
重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸
樹脂、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェ
ノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド
樹脂、ポリ−N−ビニルカルアバゾール等である。これ
等の結着樹脂は、単独あるいは2種以上混合して用いる
ことが可能である。電荷発生材料と結着樹脂との配合比
(重量比)は、10:1〜1:10の範囲が望ましい。
また、電荷発生層の厚みは、一般には0.01〜5μ
m、好ましくは0.05〜2.0μmの範囲に設定され
る。電荷発生材料を樹脂中に分散させる方法としては、
ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライタ
ー、サンドミル、コロイドミル等の方法を用いることが
できる。
【0017】電荷輸送層に用いられる電荷輸送材料とし
ては、下記に示すものが例示できる。2,5−ビス(p
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリ
フェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、
トリフェニルアミン、トリ(p−メチルフェニル)アミ
ン、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェ
ニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3
級アミノ化合物、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(3−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェニル]
−4,4′−ジアミン等の方向族第3級ジアミノ化合
物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−
ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリア
ジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾ
ン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル
−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−
2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等の
ベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニ
ル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン
誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等の
カルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾールお
よびその誘導体などの正孔輸送物質;クロラニル、ブロ
モアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラ
シアノキノジメタン系化合物,2,4,7−トリニトロ
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合
物、チオフェン化合物等の電子輸送物質;および上記し
た化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する重合体な
どがあげられる。これらの電荷輸送材料は、1種または
2種以上を組み合わせて使用することができる。
ては、下記に示すものが例示できる。2,5−ビス(p
−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジア
ゾール等のオキサジアゾール誘導体、1,3,5−トリ
フェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3
−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、
トリフェニルアミン、トリ(p−メチルフェニル)アミ
ン、N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェ
ニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3
級アミノ化合物、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(3−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェニル]
−4,4′−ジアミン等の方向族第3級ジアミノ化合
物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−
ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリア
ジン等の1,2,4−トリアジン誘導体、4−ジエチル
アミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾ
ン等のヒドラゾン誘導体、2−フェニル−4−スチリル
−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、6−ヒドロキシ−
2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等の
ベンゾフラン誘導体、p−(2,2−ジフェニルビニ
ル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン
誘導体、エナミン誘導体、N−エチルカルバゾール等の
カルバゾール誘導体、ポリ−N−ビニルカルバゾールお
よびその誘導体などの正孔輸送物質;クロラニル、ブロ
モアニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラ
シアノキノジメタン系化合物,2,4,7−トリニトロ
フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フ
ルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合
物、チオフェン化合物等の電子輸送物質;および上記し
た化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する重合体な
どがあげられる。これらの電荷輸送材料は、1種または
2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0018】電荷輸送層に用いられる結着樹脂の例とし
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールAタイプ或いはビスフェノールZタ
イプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリ
ロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブ
タジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリ
アミド、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレ
ン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。電荷輸送
層は、上に示した電荷輸送物質および結着樹脂とを適当
な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾燥することによって
形成することができる。電荷輸送層の形成に使用される
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、2−ブタノン
等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエー
テル等の環状或いは直鎖状エーテル、或いはこれらの混
合溶剤などを用いることができる。電荷輸送材料と上記
結着樹脂との配合比は10:1〜1:5が好ましい。ま
た、電荷輸送層の膜厚は一般に5〜50μm、好ましく
は10〜40μmの範囲に設定される。
ては、アクリル樹脂、ポリアリレート、ポリエステル樹
脂、ビスフェノールAタイプ或いはビスフェノールZタ
イプ等のポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、アクリ
ロニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル・ブ
タジエン共重合体、ポリビニルブチラール、ポリビニル
ホルマール、ポリスルホン、ポリアクリルアミド、ポリ
アミド、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレ
ン等の有機光導電性ポリマー等があげられる。電荷輸送
層は、上に示した電荷輸送物質および結着樹脂とを適当
な溶媒に溶解させた溶液を塗布し乾燥することによって
形成することができる。電荷輸送層の形成に使用される
溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クロルベ
ンゼン等の芳香族炭化水素系、アセトン、2−ブタノン
等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチ
レン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエー
テル等の環状或いは直鎖状エーテル、或いはこれらの混
合溶剤などを用いることができる。電荷輸送材料と上記
結着樹脂との配合比は10:1〜1:5が好ましい。ま
た、電荷輸送層の膜厚は一般に5〜50μm、好ましく
は10〜40μmの範囲に設定される。
【0019】電子写真装置中で発生するオゾンや酸化性
ガス、或いは光・熱による感光体の劣化を防止する目的
で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの
添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれら
の誘導体、有機硫黄化合物、有機リン化合物等があげら
れる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
トリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペ
リジン等の誘導体があげられる。
ガス、或いは光・熱による感光体の劣化を防止する目的
で、感光層中に酸化防止剤・光安定剤・熱安定剤などの
添加剤を添加することができる。例えば、酸化防止剤と
しては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パ
ラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキ
ノン、スピロクロマン、スピロインダノンおよびそれら
の誘導体、有機硫黄化合物、有機リン化合物等があげら
れる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾ
トリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペ
リジン等の誘導体があげられる。
【0020】また、感度の向上、残留電位の低減、繰り
返し使用時の疲労低減などを目的として、少なくとも1
種の電子受容性物質を含有せしめることができる。本発
明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例え
ば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テト
ラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジ
ニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、
ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピ
クリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、
フタル酸等をあげあることができる。これらのうち、フ
ルオレノン系、キノン系や、Cl、CN、NO2 等の電
子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好まし
い。
返し使用時の疲労低減などを目的として、少なくとも1
種の電子受容性物質を含有せしめることができる。本発
明の感光体に使用可能な電子受容性物質としては、例え
ば無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイ
ン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テト
ラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジ
ニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、クロラニル、
ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピ
クリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、
フタル酸等をあげあることができる。これらのうち、フ
ルオレノン系、キノン系や、Cl、CN、NO2 等の電
子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に好まし
い。
【0021】単層構造または積層構造の感光層の塗工
は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレ
ード塗布法、ローラー塗布法等の塗布法を用いて行うこ
とができる。乾燥は加湿処理方法を用いない場合には、
室温での指触乾燥の後に加熱乾燥するのが好ましい。加
熱乾燥は、30℃〜200℃の温度で5分〜2時間の範
囲の時間で行うことが望ましい。
は、浸漬塗布法、スプレー塗布法、ビード塗布法、ブレ
ード塗布法、ローラー塗布法等の塗布法を用いて行うこ
とができる。乾燥は加湿処理方法を用いない場合には、
室温での指触乾燥の後に加熱乾燥するのが好ましい。加
熱乾燥は、30℃〜200℃の温度で5分〜2時間の範
囲の時間で行うことが望ましい。
【0022】感光層の上には保護層が設けられる。保護
層は、アクリルポリオールとポリイソシアネートとを反
応させて得られたポリウレタン樹脂を含む結着樹脂中
に、金属酸化物粉末と電荷輸送材料とが分散されて構成
される。本発明において使用するポリウレタン樹脂を形
成するアクリルポリオールとしては、例えば下記一般式
で示されるものがあげられる。
層は、アクリルポリオールとポリイソシアネートとを反
応させて得られたポリウレタン樹脂を含む結着樹脂中
に、金属酸化物粉末と電荷輸送材料とが分散されて構成
される。本発明において使用するポリウレタン樹脂を形
成するアクリルポリオールとしては、例えば下記一般式
で示されるものがあげられる。
【0023】
【化1】 (式中、Rはアルキル基を表し、nは10〜1000の
整数を表わす。)
整数を表わす。)
【0024】特にヒドロキシエチルメタクリレートを単
量体成分として含有するアクリル共重合体が好ましく使
用される。具体的には、スチレン−メチルメタクリレー
ト−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ヒドロ
キシエチルメタクリレートとアクリル酸またはメタクリ
ル酸の置換または未置換アルキルエステルまたはフェニ
ルエステルとの共重合体等があげられる。これら共重合
に使用されるアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エ
ステルの具体例としては、例えば、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ペンチルアクリレート、ペンチルメタクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、
ヘプチルアクリレート、ヘプチルメタクリレート、オク
チルアクリレート、オクチルメタクリレート、フェニル
アクリレート、フェニルメタクリレート等があげられ
る。
量体成分として含有するアクリル共重合体が好ましく使
用される。具体的には、スチレン−メチルメタクリレー
ト−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ヒドロ
キシエチルメタクリレートとアクリル酸またはメタクリ
ル酸の置換または未置換アルキルエステルまたはフェニ
ルエステルとの共重合体等があげられる。これら共重合
に使用されるアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エ
ステルの具体例としては、例えば、メチルアクリレー
ト、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、ペンチルアクリレート、ペンチルメタクリレー
ト、ヘキシルアクリレート、ヘキシルメタクリレート、
ヘプチルアクリレート、ヘプチルメタクリレート、オク
チルアクリレート、オクチルメタクリレート、フェニル
アクリレート、フェニルメタクリレート等があげられ
る。
【0025】また、ポリイソシアネートとしては、例え
ば、ヘキサメチレンジイソシアレート、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)、トリレンジイソシアネート
(TDI)、下記式(1)で示されるビウレットタイプ
のイソシアネート、下記式(2)で示されるイソシアヌ
レートタイプのイソシアネート、下記式(3)で示され
るアダクトタイプのイソシアネート等があげられる。
ば、ヘキサメチレンジイソシアレート、キシリレンジイ
ソシアネート(XDI)、トリレンジイソシアネート
(TDI)、下記式(1)で示されるビウレットタイプ
のイソシアネート、下記式(2)で示されるイソシアヌ
レートタイプのイソシアネート、下記式(3)で示され
るアダクトタイプのイソシアネート等があげられる。
【0026】
【化2】
【0027】保護層に含ませる電荷輸送材料としては、
上記電荷輸送層において例示したものが使用できる。電
荷輸送材料の量は、残留電位低減効果の点および相溶
性、高温高湿下での像流れ防止の観点から、保護層全重
量に対し10〜40%の範囲で添加する。
上記電荷輸送層において例示したものが使用できる。電
荷輸送材料の量は、残留電位低減効果の点および相溶
性、高温高湿下での像流れ防止の観点から、保護層全重
量に対し10〜40%の範囲で添加する。
【0028】また、金属酸化物粉末としては、酸化錫、
酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマ
ス、酸化インジウム、それらの混合物および複合酸化物
等があげられる。これら金属酸化物粉末は、106 〜
1.5×108 Ω・cmの範囲の導電率を有するもので
あって、粒径0.01〜0.3μmの範囲のものが好ま
しく使用される。また、これら金属酸化物粉末の配合量
は、結着樹脂100重量部に対して20〜180重量部
の範囲が好ましい。金属酸化物粉末の配合量が、結着樹
脂100重量部に対して20重量部よりも少なくなる
と、低温低湿条件下において残留電位が上昇して低濃度
画像になり、また、180重量部よりも多くなると、高
温高湿環境下において、白ぬけや像にじみが発生する。
保護層は、次のようにして形成することができる。先
ず、上記アクリルポリオールを適当な溶剤に溶解し、金
属酸化物粉末および電荷輸送材料、例えば、N,N−ビ
ス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミ
ンを添加して分散させた分散液に、ポリイソシアネート
を硬化剤として添加し、得られた塗布液を感光層上に、
例えば、スプレー塗布等によって塗布した後、加熱乾燥
して、アクリルポリオールとポリイソシアネートを反応
させればよく、それによって、ポリウレタン樹脂中に電
荷輸送材料と金属酸化物粉末が分散した保護層が形成さ
れる。
酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ビスマ
ス、酸化インジウム、それらの混合物および複合酸化物
等があげられる。これら金属酸化物粉末は、106 〜
1.5×108 Ω・cmの範囲の導電率を有するもので
あって、粒径0.01〜0.3μmの範囲のものが好ま
しく使用される。また、これら金属酸化物粉末の配合量
は、結着樹脂100重量部に対して20〜180重量部
の範囲が好ましい。金属酸化物粉末の配合量が、結着樹
脂100重量部に対して20重量部よりも少なくなる
と、低温低湿条件下において残留電位が上昇して低濃度
画像になり、また、180重量部よりも多くなると、高
温高湿環境下において、白ぬけや像にじみが発生する。
保護層は、次のようにして形成することができる。先
ず、上記アクリルポリオールを適当な溶剤に溶解し、金
属酸化物粉末および電荷輸送材料、例えば、N,N−ビ
ス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミ
ンを添加して分散させた分散液に、ポリイソシアネート
を硬化剤として添加し、得られた塗布液を感光層上に、
例えば、スプレー塗布等によって塗布した後、加熱乾燥
して、アクリルポリオールとポリイソシアネートを反応
させればよく、それによって、ポリウレタン樹脂中に電
荷輸送材料と金属酸化物粉末が分散した保護層が形成さ
れる。
【0029】保護層の膜厚は、0.1〜10μmの範囲
が好ましい。膜厚が0.1μmよりも薄い場合には、耐
傷、耐磨耗層としての機能に乏しくなり、また膜面も荒
れる。また、10μmよりも厚くなると、塗膜にだれが
発生し、均一に塗布することができなくなる。上記の保
護層は、低摩擦性であって耐磨耗性に優れたものであ
り、この保護層を設けた本発明の電子写真感光体は、高
湿下で画像にじみの発生を抑制し、かつ、低湿下におい
ても残留電位が上昇しないものとなる。
が好ましい。膜厚が0.1μmよりも薄い場合には、耐
傷、耐磨耗層としての機能に乏しくなり、また膜面も荒
れる。また、10μmよりも厚くなると、塗膜にだれが
発生し、均一に塗布することができなくなる。上記の保
護層は、低摩擦性であって耐磨耗性に優れたものであ
り、この保護層を設けた本発明の電子写真感光体は、高
湿下で画像にじみの発生を抑制し、かつ、低湿下におい
ても残留電位が上昇しないものとなる。
【0030】本発明の電子写真感光体は、帯電ロール等
の帯電部材を感光層に接触して帯電を行う静電複写シス
テムに使用するのに適している。非接触のコロナ帯電方
式では、残留電位が上昇しても接触帯電方式の様に接触
放電による中和解放がなく、本発明のメリットは接触帯
電の場合に比し少ない。
の帯電部材を感光層に接触して帯電を行う静電複写シス
テムに使用するのに適している。非接触のコロナ帯電方
式では、残留電位が上昇しても接触帯電方式の様に接触
放電による中和解放がなく、本発明のメリットは接触帯
電の場合に比し少ない。
【0031】次に、本発明の画像形成方法について説明
する。図1は、本発明の画像形成方法に使用する電子写
真複写装置の一例の概略構成図である。電子写真感光体
1の周囲に、接触帯電器2、露光装置3、現像器4、転
写装置5、クリーニング装置6および除電器7が配設さ
れている。除電器7は設けなくても構わない。電子写真
感光体1は、矢印方向に回転して、接触帯電器2により
一様に帯電された後、露光装置3によって像露光され、
形成された静電潜像は、次いで現像器4でトナーによっ
て顕像化される。次いで、コロナ帯電器等の転写装置5
により転写紙8に転写され、定着装置9によってトナー
像が定着される。電子写真感光体1の表面に残留するト
ナーは、ブレードクリーナー等を備えたクリーニング装
置6によってクリーニングされ、除電器7により除電さ
れる。除電された後の電子写真感光体は、再び次のサイ
クルにおいて接触帯電器2によって一様帯電され、上記
したように画像形成が行われる。本発明において、接触
帯電は、感光体に当接する筒状帯電部材、いわゆる帯電
ロールを用いて行うのが、残留電位上昇の抑制効果が高
いので好ましい。帯電ロールとしては、表面に導電性微
粒子を分散させた弾性ゴム材料によって形成された表面
層を有するものが好ましく使用される。
する。図1は、本発明の画像形成方法に使用する電子写
真複写装置の一例の概略構成図である。電子写真感光体
1の周囲に、接触帯電器2、露光装置3、現像器4、転
写装置5、クリーニング装置6および除電器7が配設さ
れている。除電器7は設けなくても構わない。電子写真
感光体1は、矢印方向に回転して、接触帯電器2により
一様に帯電された後、露光装置3によって像露光され、
形成された静電潜像は、次いで現像器4でトナーによっ
て顕像化される。次いで、コロナ帯電器等の転写装置5
により転写紙8に転写され、定着装置9によってトナー
像が定着される。電子写真感光体1の表面に残留するト
ナーは、ブレードクリーナー等を備えたクリーニング装
置6によってクリーニングされ、除電器7により除電さ
れる。除電された後の電子写真感光体は、再び次のサイ
クルにおいて接触帯電器2によって一様帯電され、上記
したように画像形成が行われる。本発明において、接触
帯電は、感光体に当接する筒状帯電部材、いわゆる帯電
ロールを用いて行うのが、残留電位上昇の抑制効果が高
いので好ましい。帯電ロールとしては、表面に導電性微
粒子を分散させた弾性ゴム材料によって形成された表面
層を有するものが好ましく使用される。
【0032】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明する。なお「部」は全て「重量部」を意味する。 実施例1、参考例1および2 4部のポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−
S、積水化学社製)を溶解したn−ブチルアルコール1
70部に、有機ジルコニウム化合物(アセチルアセトン
ジルコニウムブチレート)30部および有機シラン化合
物(γ−アミノプロピルトリメトキシシラン)3部を添
加して混合撹拌し、下引き層形成用の塗布液を得た。こ
の塗布液を、ホーニング処理により粗面化された30m
mφのED管アルミニウム基体の上に塗布し、室温で5
分間風乾を行った後、基体を10分間で50℃に昇温
し、50℃、85%RH(露点47℃)の恒温恒湿槽中
に入れて、20分間加湿硬化促進処理を行った。その
後、熱風乾燥機に入れて170℃で10分間乾燥を行っ
た。電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニン
を用い、その15部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10部およびn−
ブチルアルコール300部からなる混合物をサンドミル
にて4時間分散した。得られた分散液を、上記下引き層
上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚0.2μmの電荷発生
層を形成した。次に、N,N′−ジフェニル−N,N′
−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェニ
ル]−4,4′−ジアミン4部とビスフェノールZポリ
カーボネート樹脂(分子量40,000)6部とをクロ
ルベンゼン80部を加えて溶解した。得られた溶液を上
記電荷発生層の上に塗布し、乾燥することにより、膜厚
20μmの電荷輸送層を形成した。
明する。なお「部」は全て「重量部」を意味する。 実施例1、参考例1および2 4部のポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−
S、積水化学社製)を溶解したn−ブチルアルコール1
70部に、有機ジルコニウム化合物(アセチルアセトン
ジルコニウムブチレート)30部および有機シラン化合
物(γ−アミノプロピルトリメトキシシラン)3部を添
加して混合撹拌し、下引き層形成用の塗布液を得た。こ
の塗布液を、ホーニング処理により粗面化された30m
mφのED管アルミニウム基体の上に塗布し、室温で5
分間風乾を行った後、基体を10分間で50℃に昇温
し、50℃、85%RH(露点47℃)の恒温恒湿槽中
に入れて、20分間加湿硬化促進処理を行った。その
後、熱風乾燥機に入れて170℃で10分間乾燥を行っ
た。電荷発生材料として、塩化ガリウムフタロシアニン
を用い、その15部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
樹脂(VMCH、日本ユニカー社製)10部およびn−
ブチルアルコール300部からなる混合物をサンドミル
にて4時間分散した。得られた分散液を、上記下引き層
上に浸漬塗布し、乾燥して、膜厚0.2μmの電荷発生
層を形成した。次に、N,N′−ジフェニル−N,N′
−ビス(3−メチルフェニル)−[1,1′−ビフェニ
ル]−4,4′−ジアミン4部とビスフェノールZポリ
カーボネート樹脂(分子量40,000)6部とをクロ
ルベンゼン80部を加えて溶解した。得られた溶液を上
記電荷発生層の上に塗布し、乾燥することにより、膜厚
20μmの電荷輸送層を形成した。
【0033】組成比約4:7:2(重量比)のスチレン
−メチルメタクリレート−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体よりなる加熱残分約38%のアクリルポリ
オール(GR4026C、関西ペイント社製)171重
量部に、酸化錫微粉末(S−1、三菱マテリアル社製)
(粒径1.3μm以下約90%、0.15μm以下約3
0%、0.15〜0.25μm約30%の粒度分布を有
する)99重量部を加え、キシレン−酢酸n−ブチルを
主剤とするシンナー(レタンシンナー、関西ペイント社
製)94重量部、10mm直径のステンレス鋼製球形メ
ディア3750重量部を直径約160mm、高さ170
mmのステンレス鋼製ボールミルポットに入れ、60r
pmにて24時間分散処理を行って混合した。その後、
フィルターを通して、この酸化錫微粉末を分散した結着
樹脂を取り出し、前記したシンナーを更に443重量部
追加し混合した。更にこれに24.4重量部(加熱残分
約65%)のヘキサメチレンジイソシアネートを硬化剤
として加えた。得られた混合物に、電荷輸送層剤である
N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル
−4−アミンを5%、10%、20%、40%、50%
(保護層の全重量に対する割合)とした塗布液を作製し
た。得られた塗布液を、前記のごとく形成した電荷輸送
層の上にスプレー塗布し、膜厚約3μmの保護層を形成
した。スプレー塗布には、岩田自動スプレーガンSA−
88(岩田塗装機工業社製)を使用し、空気圧力3kg
/cm2 、塗布液噴出量約110cc/分、パターン開
度約130mmの条件で、約50cmの距離を離して、
アルミニウム基体を70rpmで回転させながら電荷輸
送層の表面にスプレー塗布を行った。その後、この形成
された塗布層を140℃で4時間の硬化、乾燥を行い、
目的の低摩耗性の保護層を有する電子写真感光体を得
た。
−メチルメタクリレート−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート共重合体よりなる加熱残分約38%のアクリルポリ
オール(GR4026C、関西ペイント社製)171重
量部に、酸化錫微粉末(S−1、三菱マテリアル社製)
(粒径1.3μm以下約90%、0.15μm以下約3
0%、0.15〜0.25μm約30%の粒度分布を有
する)99重量部を加え、キシレン−酢酸n−ブチルを
主剤とするシンナー(レタンシンナー、関西ペイント社
製)94重量部、10mm直径のステンレス鋼製球形メ
ディア3750重量部を直径約160mm、高さ170
mmのステンレス鋼製ボールミルポットに入れ、60r
pmにて24時間分散処理を行って混合した。その後、
フィルターを通して、この酸化錫微粉末を分散した結着
樹脂を取り出し、前記したシンナーを更に443重量部
追加し混合した。更にこれに24.4重量部(加熱残分
約65%)のヘキサメチレンジイソシアネートを硬化剤
として加えた。得られた混合物に、電荷輸送層剤である
N,N−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル
−4−アミンを5%、10%、20%、40%、50%
(保護層の全重量に対する割合)とした塗布液を作製し
た。得られた塗布液を、前記のごとく形成した電荷輸送
層の上にスプレー塗布し、膜厚約3μmの保護層を形成
した。スプレー塗布には、岩田自動スプレーガンSA−
88(岩田塗装機工業社製)を使用し、空気圧力3kg
/cm2 、塗布液噴出量約110cc/分、パターン開
度約130mmの条件で、約50cmの距離を離して、
アルミニウム基体を70rpmで回転させながら電荷輸
送層の表面にスプレー塗布を行った。その後、この形成
された塗布層を140℃で4時間の硬化、乾燥を行い、
目的の低摩耗性の保護層を有する電子写真感光体を得
た。
【0034】上記の5条件の含有量で電荷輸送材料を含
む各電子写真感光体を、接触帯電ローラ方式を採用する
プリンター(PC−PR1000/4R、日本電気社
製)(Laser Write Select61C、
マッキントッシュ社製)の一部を改造し、帯電電位を−
800Vとしたものに装着し、低温低湿下および高温高
湿下において、連続して約10000枚の複写操作を行
った。その結果を表1(低温低湿)および表2(高温高
湿)に一覧表として示す。なお、比較のために、電荷輸
送材料を添加しない場合も表1および表2に示す。ま
た、図2に、10重量%の電荷輸送材料を添加した保護
層を有する電子写真感光体について、10000枚複写
操作を行った後における明減衰性能を示す。
む各電子写真感光体を、接触帯電ローラ方式を採用する
プリンター(PC−PR1000/4R、日本電気社
製)(Laser Write Select61C、
マッキントッシュ社製)の一部を改造し、帯電電位を−
800Vとしたものに装着し、低温低湿下および高温高
湿下において、連続して約10000枚の複写操作を行
った。その結果を表1(低温低湿)および表2(高温高
湿)に一覧表として示す。なお、比較のために、電荷輸
送材料を添加しない場合も表1および表2に示す。ま
た、図2に、10重量%の電荷輸送材料を添加した保護
層を有する電子写真感光体について、10000枚複写
操作を行った後における明減衰性能を示す。
【0035】
【表1】
【0036】
【表2】
【0037】表1および表2の結果から明らかなよう
に、電荷輸送剤の含有量の増加に伴い、低温低湿環境下
での残留電位および5mJ/m2 の露光での表面電位は
比例して低減していく。これらの値は、低温低湿環境下
の実機内の値でを10000枚の連続複写を行った後の
電位である。約−800Vに帯電した電位が、5mJ/
m2 の露光により、5%電荷輸送剤添加の場合は−35
0Vに明減衰し、残留電位は−95Vとなるが、10%
の添加の場合は−260V、残留電位は−65Vとな
り、低減の効果が顕著に認められるようになる。さら
に、20%、40%、50%と増加するに従い低減効果
が微増するが、添加量50%では高温高湿下での像流れ
が発生する。したがって、10〜40%が好ましい範囲
である。高温高湿下の残留電位については、保護層の含
水によると考えられるイオン伝導機構によるバルク抵抗
低下のため、残留電位は低減していると考えられ、電荷
輸送材料の添加による効果は、これにより、マスキング
されているものと考えられる。
に、電荷輸送剤の含有量の増加に伴い、低温低湿環境下
での残留電位および5mJ/m2 の露光での表面電位は
比例して低減していく。これらの値は、低温低湿環境下
の実機内の値でを10000枚の連続複写を行った後の
電位である。約−800Vに帯電した電位が、5mJ/
m2 の露光により、5%電荷輸送剤添加の場合は−35
0Vに明減衰し、残留電位は−95Vとなるが、10%
の添加の場合は−260V、残留電位は−65Vとな
り、低減の効果が顕著に認められるようになる。さら
に、20%、40%、50%と増加するに従い低減効果
が微増するが、添加量50%では高温高湿下での像流れ
が発生する。したがって、10〜40%が好ましい範囲
である。高温高湿下の残留電位については、保護層の含
水によると考えられるイオン伝導機構によるバルク抵抗
低下のため、残留電位は低減していると考えられ、電荷
輸送材料の添加による効果は、これにより、マスキング
されているものと考えられる。
【0038】比較例1 実施例1と同様にして下引き層、電荷発生層および電荷
輸送層を形成した。次に、実施例1と同様のスチレン−
メチルメタアクリレート−ヒドロキシルエチルメタアク
リレートからなるアクリルポリオールに、酸化錫微粉末
(S−1)およびシンナーを実施例1と同様の条件で添
加し、ボールミルにて分散した。次いで、フィルターを
通して、この酸化錫微粉末を分散した結着樹脂を取り出
し、実施例1と同じシンナー(レタンシンナー:関西ペ
イント社製)をさらに443重量部追加し混合した。更
にこれに24重量部のヘキサメチレンジイソシアネート
を硬化剤として加えた。酸化錫微粉末の配合割合は、保
護層全重量に対して55%であった。これを実施例1で
使用したと同様のスプレー塗布装置により塗布し、乾燥
硬化して、膜厚約4μmの耐磨耗性の保護層を形成し
た。得られた電子写真感光体を、プリンター(PC−P
R1000/4R、日本電気社製)の一部を改造し、帯
電電位を−800Vとしたものに装着し、低温低湿下、
2500枚連続複写操作を行ったところ、2400枚位
から像濃度の若干の低下が認められた。この時、現像位
置での感光体電位を測定したところ、約−200Vに達
していた。したがって、像濃度の低下は、残留電位の上
昇によるものと考えられる。なお、この電子写真感光体
について、明減衰特性を調査したところ、約−800V
に帯電した感光体に波長780nmの光を5mJ/m2
の露光をした場合に−358Vとなり、さらに残留電位
は−201Vとなった。図3に、10000万枚複写操
作を行った後における明減衰性能を示す。
輸送層を形成した。次に、実施例1と同様のスチレン−
メチルメタアクリレート−ヒドロキシルエチルメタアク
リレートからなるアクリルポリオールに、酸化錫微粉末
(S−1)およびシンナーを実施例1と同様の条件で添
加し、ボールミルにて分散した。次いで、フィルターを
通して、この酸化錫微粉末を分散した結着樹脂を取り出
し、実施例1と同じシンナー(レタンシンナー:関西ペ
イント社製)をさらに443重量部追加し混合した。更
にこれに24重量部のヘキサメチレンジイソシアネート
を硬化剤として加えた。酸化錫微粉末の配合割合は、保
護層全重量に対して55%であった。これを実施例1で
使用したと同様のスプレー塗布装置により塗布し、乾燥
硬化して、膜厚約4μmの耐磨耗性の保護層を形成し
た。得られた電子写真感光体を、プリンター(PC−P
R1000/4R、日本電気社製)の一部を改造し、帯
電電位を−800Vとしたものに装着し、低温低湿下、
2500枚連続複写操作を行ったところ、2400枚位
から像濃度の若干の低下が認められた。この時、現像位
置での感光体電位を測定したところ、約−200Vに達
していた。したがって、像濃度の低下は、残留電位の上
昇によるものと考えられる。なお、この電子写真感光体
について、明減衰特性を調査したところ、約−800V
に帯電した感光体に波長780nmの光を5mJ/m2
の露光をした場合に−358Vとなり、さらに残留電位
は−201Vとなった。図3に、10000万枚複写操
作を行った後における明減衰性能を示す。
【0039】実施例2 実施例1と同様にして下引き層、電荷発生層および電荷
輸送層を形成した。次に、実施例1と同様のスチレン−
メチルメタクリレート−ヒドロキシルエチルメタクリレ
ートからなるアクリルポリオールに酸化錫微粉末(S−
1)を実施例1と同様に添加し、ボールミルにて分散し
た。次いでフィルターを通して、この酸化錫微粉末を分
散した結着樹脂を取り出し、実施例1と同じシンナー
(レタンシンナー:関西ペイント社製)をさらに443
重量部追加し混合した。更にこれに24.4重量部のヘ
キサメチレンジイソシアネートを硬化剤として加えた。
得られた混合物に、電荷輸送材料であるN,N−ビス
(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン
(正孔輸送物質)を10%(保護層全重量に対する割
合)となるように添加して塗布液を作製した。これを実
施例1で使用したスプレー塗布装置により、塗布し、乾
燥硬化して、膜厚約4μmの耐磨耗性の保護層を形成し
た。
輸送層を形成した。次に、実施例1と同様のスチレン−
メチルメタクリレート−ヒドロキシルエチルメタクリレ
ートからなるアクリルポリオールに酸化錫微粉末(S−
1)を実施例1と同様に添加し、ボールミルにて分散し
た。次いでフィルターを通して、この酸化錫微粉末を分
散した結着樹脂を取り出し、実施例1と同じシンナー
(レタンシンナー:関西ペイント社製)をさらに443
重量部追加し混合した。更にこれに24.4重量部のヘ
キサメチレンジイソシアネートを硬化剤として加えた。
得られた混合物に、電荷輸送材料であるN,N−ビス
(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン
(正孔輸送物質)を10%(保護層全重量に対する割
合)となるように添加して塗布液を作製した。これを実
施例1で使用したスプレー塗布装置により、塗布し、乾
燥硬化して、膜厚約4μmの耐磨耗性の保護層を形成し
た。
【0040】得られた電子写真感光体を実施例1と同様
のプリンターに装着して同様に複写操作を行ったとこ
ろ、実施例1と同様に、良好な結果が得られた。また、
上記電子写真感光体をプリンター(PC−PR1000
/4R、日本電気社製)のローラー帯電部分をコロトロ
ン式の帯電器に変更したものに装着し、低温低湿下、2
500枚連続複写操作を行ったところ、2400枚位か
ら像濃度の若干の低下が認められ、この時、現像位置で
の感光体電位を測定したところ、約−220Vに達して
いた。したがって、像濃度の低下は、残留電位の上昇に
よるものと考えられる。なお、この電子写真感光体につ
いて、明減衰特性を調査したところ、約−800Vに帯
電した感光体に波長780nmの光を5mJ/m2 の露
光をした場合には、電位が−358Vに減衰した。さら
に残留電位は−200Vとなった。
のプリンターに装着して同様に複写操作を行ったとこ
ろ、実施例1と同様に、良好な結果が得られた。また、
上記電子写真感光体をプリンター(PC−PR1000
/4R、日本電気社製)のローラー帯電部分をコロトロ
ン式の帯電器に変更したものに装着し、低温低湿下、2
500枚連続複写操作を行ったところ、2400枚位か
ら像濃度の若干の低下が認められ、この時、現像位置で
の感光体電位を測定したところ、約−220Vに達して
いた。したがって、像濃度の低下は、残留電位の上昇に
よるものと考えられる。なお、この電子写真感光体につ
いて、明減衰特性を調査したところ、約−800Vに帯
電した感光体に波長780nmの光を5mJ/m2 の露
光をした場合には、電位が−358Vに減衰した。さら
に残留電位は−200Vとなった。
【0041】以上の実施例1、2と比較例1、参考例1
および2との比較から明らかなように、本来アクリルポ
リウレタン樹脂を結着樹脂とした保護層は残留電荷を低
温低湿で蓄積しやすい性質があったが、金属酸化物粉末
と電荷輸送材料(正孔輸送剤)を10〜40重量%添加
することにより、その性質に改善効果が生じていること
が明らかである。また、この電子写真感光体と帯電方式
との組み合わせについては、接触帯電方式と組合わせた
場合には効果が顕著である。これは接触帯電方式では、
表面の保護層と帯電器(帯電ローラー)間での放電によ
り、バルクに残留している電荷がかなり中和されて低減
しているためと推定される。一方、コロトロンを使用し
た非接触の帯電方式と組合わせた場合には、残留電位は
比較的高いものとなり、残留電位を下げる手段として
は、余り効果は得られない。
および2との比較から明らかなように、本来アクリルポ
リウレタン樹脂を結着樹脂とした保護層は残留電荷を低
温低湿で蓄積しやすい性質があったが、金属酸化物粉末
と電荷輸送材料(正孔輸送剤)を10〜40重量%添加
することにより、その性質に改善効果が生じていること
が明らかである。また、この電子写真感光体と帯電方式
との組み合わせについては、接触帯電方式と組合わせた
場合には効果が顕著である。これは接触帯電方式では、
表面の保護層と帯電器(帯電ローラー)間での放電によ
り、バルクに残留している電荷がかなり中和されて低減
しているためと推定される。一方、コロトロンを使用し
た非接触の帯電方式と組合わせた場合には、残留電位は
比較的高いものとなり、残留電位を下げる手段として
は、余り効果は得られない。
【0042】
【発明の効果】本発明の電子写真感光体は、上記のよう
に、保護層として、アクリルポリオールとポリイソシア
ネートよりなるポリウレタン樹脂に、金属酸化物粉末お
よび電荷輸送材料10〜40重量%が分散して含有され
ているので、残留電位が低く耐磨耗性に優れたものであ
る。したがって、接触帯電方式による電子写真装置に対
して使用するのに適しており、優れた画質の画像を形成
することができる。
に、保護層として、アクリルポリオールとポリイソシア
ネートよりなるポリウレタン樹脂に、金属酸化物粉末お
よび電荷輸送材料10〜40重量%が分散して含有され
ているので、残留電位が低く耐磨耗性に優れたものであ
る。したがって、接触帯電方式による電子写真装置に対
して使用するのに適しており、優れた画質の画像を形成
することができる。
【図1】 本発明の画像形成方法に使用する電子写真複
写装置の概略構成図である。
写装置の概略構成図である。
【図2】 実施例1の電子写真感光体における明減衰性
能を示すグラフである。
能を示すグラフである。
【図3】 比較例1の電子写真感光体における明減衰性
能を示すグラフである。
能を示すグラフである。
1…電子写真感光体、2…接触帯電器、3…露光装置、
4…現像器、5…転写装置、6…クリーニング装置、7
…除電器、8…転写紙、9…定着装置。
4…現像器、5…転写装置、6…クリーニング装置、7
…除電器、8…転写紙、9…定着装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 博史 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼ ロックス株式会社内 (56)参考文献 特開 平4−237061(JP,A) 特開 平4−15659(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03G 5/147
Claims (2)
- 【請求項1】 導電性基体上に感光層および保護層を順
次設けた電子写真感光体において、該保護層がアクリル
ポリオールとポリイソシアネートよりなるポリウレタン
樹脂、金属酸化物粉末および電荷輸送材料を含有し、該
電荷輸送材料が保護層全重量に対して10〜40重量%
含有されることを特徴とする電子写真感光体。 - 【請求項2】 電子写真感光体を帯電し、像露光し、現
像し、転写定着する工程を有する画像形成方法におい
て、帯電器を請求項1に記載の電子写真感光体に電圧を
印加しながら接触させて該電子写真感光体を帯電するこ
とを特徴とする画像形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6330472A JP3060866B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 電子写真感光体および画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6330472A JP3060866B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 電子写真感光体および画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08160649A JPH08160649A (ja) | 1996-06-21 |
JP3060866B2 true JP3060866B2 (ja) | 2000-07-10 |
Family
ID=18233011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6330472A Expired - Fee Related JP3060866B2 (ja) | 1994-12-08 | 1994-12-08 | 電子写真感光体および画像形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3060866B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5412883B2 (ja) * | 2009-03-04 | 2014-02-12 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP5387835B2 (ja) * | 2009-08-10 | 2014-01-15 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
JP5835065B2 (ja) * | 2011-08-24 | 2015-12-24 | コニカミノルタ株式会社 | 有機感光体及び画像形成装置、画像形成方法 |
-
1994
- 1994-12-08 JP JP6330472A patent/JP3060866B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH08160649A (ja) | 1996-06-21 |
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